JPH06224000A - 粒子加速器におけるビームシャッタ - Google Patents
粒子加速器におけるビームシャッタInfo
- Publication number
- JPH06224000A JPH06224000A JP866193A JP866193A JPH06224000A JP H06224000 A JPH06224000 A JP H06224000A JP 866193 A JP866193 A JP 866193A JP 866193 A JP866193 A JP 866193A JP H06224000 A JPH06224000 A JP H06224000A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shutter
- main body
- shutter main
- frame
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 シャッタチェンバ１２内にシャッタ本体１３
を駆動源１４により上下動可能に設ける。シャッタ本体
を降下させた状態においてそのシャッタ本体を下方から
支持するための架台２４をシャッタチェンバ内の底部に
設ける。架台としては上下方向に弾性的に変形可能なも
のを採用して緩衝機能をもたせることが好ましい。 【効果】シャッタ本体を降下させた状態においてはその
荷重が駆動源にかかることが回避され、駆動源の耐久性
を向上させ得るとともに保守を軽減することができる。
架台に緩衝機能をもたせれば、シャッタ本体が架台に衝
突したような場合にもシャッタ本体や架台自身が損傷を
受けてしまうようなことを防止できる。
を駆動源１４により上下動可能に設ける。シャッタ本体
を降下させた状態においてそのシャッタ本体を下方から
支持するための架台２４をシャッタチェンバ内の底部に
設ける。架台としては上下方向に弾性的に変形可能なも
のを採用して緩衝機能をもたせることが好ましい。 【効果】シャッタ本体を降下させた状態においてはその
荷重が駆動源にかかることが回避され、駆動源の耐久性
を向上させ得るとともに保守を軽減することができる。
架台に緩衝機能をもたせれば、シャッタ本体が架台に衝
突したような場合にもシャッタ本体や架台自身が損傷を
受けてしまうようなことを防止できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、シンクロトロン等の粒
子加速器におけるビームラインに設置されるビームシャ
ッタに関する。
子加速器におけるビームラインに設置されるビームシャ
ッタに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、直径が１０ｍ以下の比較的小型の
粒子加速器としてシンクロトロンが開発されつつあり、
そのようなシンクロトロンから放射される放射光である
シンクロトロン放射光（ＳＯＲ光）を利用して、たとえ
ば超ＬＳＩの製造、医療分野における診断、分子解析、
構造解析等の様々な分野への適用が期待されている。
粒子加速器としてシンクロトロンが開発されつつあり、
そのようなシンクロトロンから放射される放射光である
シンクロトロン放射光（ＳＯＲ光）を利用して、たとえ
ば超ＬＳＩの製造、医療分野における診断、分子解析、
構造解析等の様々な分野への適用が期待されている。
【０００３】図４は小型シンクロトロンの概要を示すも
のであって、電子銃等の電子発生装置１で発生させた電
子ビームを直線加速器（ライナック）２で光速近くに加
速し、偏向電磁石３で偏向させてインフレクタ４を介し
て蓄積リング５に入射する。蓄積リング５に入射した電
子ビームは高周波加速空洞６によりエネルギを与えられ
ながら収束電磁石７で収束され、偏向電磁石８で偏向さ
れて蓄積リング５内を周回し続ける。そして、偏向電磁
石８で偏向される際にＳＯＲ光が放射され、それが光取
り出しラインであるビームライン９を通してたとえば露
光装置１０に出射されて利用されるのである。
のであって、電子銃等の電子発生装置１で発生させた電
子ビームを直線加速器（ライナック）２で光速近くに加
速し、偏向電磁石３で偏向させてインフレクタ４を介し
て蓄積リング５に入射する。蓄積リング５に入射した電
子ビームは高周波加速空洞６によりエネルギを与えられ
ながら収束電磁石７で収束され、偏向電磁石８で偏向さ
れて蓄積リング５内を周回し続ける。そして、偏向電磁
石８で偏向される際にＳＯＲ光が放射され、それが光取
り出しラインであるビームライン９を通してたとえば露
光装置１０に出射されて利用されるのである。
【０００４】上記のような粒子加速器におけるビームラ
イン９には、必要に応じてＳＯＲ光の出射を停止するた
めのビームシャッタ１１が設置されている。図５は従来
一般に採用されているビームシャッタ１１を示すもので
あり、このビームシャッタ１１は、ビームライン９の途
中に組み込まれるシャッタチェンバ１２の内部にシャッ
タ本体１３を上下動可能に設けるとともに、そのシャッ
タ本体１３を上下動させるための駆動源としての空気圧
シリンダ１４をシャッタチャンバ１２の上部に設けたも
のである。
イン９には、必要に応じてＳＯＲ光の出射を停止するた
めのビームシャッタ１１が設置されている。図５は従来
一般に採用されているビームシャッタ１１を示すもので
あり、このビームシャッタ１１は、ビームライン９の途
中に組み込まれるシャッタチェンバ１２の内部にシャッ
タ本体１３を上下動可能に設けるとともに、そのシャッ
タ本体１３を上下動させるための駆動源としての空気圧
シリンダ１４をシャッタチャンバ１２の上部に設けたも
のである。
【０００５】シャッタ本体１３は、ＳＯＲ光に対する遮
光性を有する鉛等の金属材料によってビームライン９の
径寸法に相当する直径を有する横置き円柱状の形態とさ
れたもので、ＳＯＲ光を取り出す通常運転時には鎖線で
示す如くシャッタチェンバ１２内の上部に引き上げられ
ているが、ＳＯＲ光の出射を停止する際には空気圧シリ
ンダ１４の作動により実線で示す位置に引き下げられて
ＳＯＲ光を遮るようになっている。
光性を有する鉛等の金属材料によってビームライン９の
径寸法に相当する直径を有する横置き円柱状の形態とさ
れたもので、ＳＯＲ光を取り出す通常運転時には鎖線で
示す如くシャッタチェンバ１２内の上部に引き上げられ
ているが、ＳＯＲ光の出射を停止する際には空気圧シリ
ンダ１４の作動により実線で示す位置に引き下げられて
ＳＯＲ光を遮るようになっている。
【０００６】なお、図５における符号１５は空気圧シリ
ンダ１４のロッド１４ａとシャッタ本体１３との間に設
けられたシャフト、１６はシャフト１５の上端部に固定
されたガイドプレート、１７はガイドプレート１６を挿
通していてシャッタ本体１３の上下動を案内するガイド
ロッド、１８はシャッタチェンバ１２とガイドプレート
１６との間に介装されてシャッタ本体１３の昇降に伴っ
て伸縮することによりシャッタチェンバ１２内の超真空
を保持しつつシャフト１５の上下動を許容するためのベ
ローズ、１９はビームライン９とシャッタチェンバ１２
との間に介装されたベローズである。
ンダ１４のロッド１４ａとシャッタ本体１３との間に設
けられたシャフト、１６はシャフト１５の上端部に固定
されたガイドプレート、１７はガイドプレート１６を挿
通していてシャッタ本体１３の上下動を案内するガイド
ロッド、１８はシャッタチェンバ１２とガイドプレート
１６との間に介装されてシャッタ本体１３の昇降に伴っ
て伸縮することによりシャッタチェンバ１２内の超真空
を保持しつつシャフト１５の上下動を許容するためのベ
ローズ、１９はビームライン９とシャッタチェンバ１２
との間に介装されたベローズである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
なビームシャッタ１１におけるシャッタ本体１３の重量
は通常数十Ｋｇにも及ぶものであるが、従来においては
そのような大重量のシャッタ本体１３をシャフト１５を
介して空気圧シリンダ１４により吊り下げた形態で支持
するようにしていることから、空気圧シリンダ１４には
シャッタ本体１３の全重量が常時かかってしまうもので
ある。このため、空気圧シリンダ１４の耐久性が損われ
るとともに空気圧シリンダ１４に対する頻繁な保守が必
要なものであり、有効な改善策が要望されていた。
なビームシャッタ１１におけるシャッタ本体１３の重量
は通常数十Ｋｇにも及ぶものであるが、従来においては
そのような大重量のシャッタ本体１３をシャフト１５を
介して空気圧シリンダ１４により吊り下げた形態で支持
するようにしていることから、空気圧シリンダ１４には
シャッタ本体１３の全重量が常時かかってしまうもので
ある。このため、空気圧シリンダ１４の耐久性が損われ
るとともに空気圧シリンダ１４に対する頻繁な保守が必
要なものであり、有効な改善策が要望されていた。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、粒子加速器の
ビームラインに設置されてそのビームラインを通して取
り出す放射光の出射を停止させるためのビームシャッタ
であって、ビームラインの途中に設けられるシャッタチ
ェンバ内にシャッタ本体を駆動源により上下動自在に設
け、そのシャッタ本体をビームラインの位置に降下させ
ることで放射光を遮蔽するとともに上方に引き上げるこ
とで出射を許容するようになし、かつ、シャッタチェン
バ内の底部に、シャッタ本体が降下した際にそれを下方
から支持するための架台を設置してなることを特徴とし
ている。前記架台としては、シャッタ本体を支持した際
に上下方向に弾性的に変形することにより緩衝機能を有
する形態のものを採用することが好ましい。
ビームラインに設置されてそのビームラインを通して取
り出す放射光の出射を停止させるためのビームシャッタ
であって、ビームラインの途中に設けられるシャッタチ
ェンバ内にシャッタ本体を駆動源により上下動自在に設
け、そのシャッタ本体をビームラインの位置に降下させ
ることで放射光を遮蔽するとともに上方に引き上げるこ
とで出射を許容するようになし、かつ、シャッタチェン
バ内の底部に、シャッタ本体が降下した際にそれを下方
から支持するための架台を設置してなることを特徴とし
ている。前記架台としては、シャッタ本体を支持した際
に上下方向に弾性的に変形することにより緩衝機能を有
する形態のものを採用することが好ましい。
【０００９】
【作用】本発明のビームシャッタにおいては、従来のも
のと同様にシャッタ本体を駆動源により降下させること
で放射光を遮蔽してその出射を停止するが、その状態に
おいては架台がシャッタ本体を下方から支持することに
よりシャッタ本体の全重量が駆動源に直接的にかかって
しまうことを防止し、駆動源に対する負担を軽減させ
る。
のと同様にシャッタ本体を駆動源により降下させること
で放射光を遮蔽してその出射を停止するが、その状態に
おいては架台がシャッタ本体を下方から支持することに
よりシャッタ本体の全重量が駆動源に直接的にかかって
しまうことを防止し、駆動源に対する負担を軽減させ
る。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図１は本発明の一実施例であるビームシャッタ２
１の概略構成図であるが、上述した従来のビームシャッ
タ１１と同一の構成要素には同一符号を付してそれらに
ついての詳細な説明は省略する。
する。図１は本発明の一実施例であるビームシャッタ２
１の概略構成図であるが、上述した従来のビームシャッ
タ１１と同一の構成要素には同一符号を付してそれらに
ついての詳細な説明は省略する。
【００１１】本実施例のビームシャッタ２１において
は、シャッタチェンバ１２内の底部に、支柱２２と支持
テーブル２３から構成される架台２４が設けられてお
り、ＳＯＲ光の出射を停止するべくシャッタ本体１３が
下降したときには、その架台２４によりシャッタ本体１
３を下方から支持するように構成されている。したがっ
て、本実施例のビームシャッタ２１では、シャッタ本体
１３を降下させてＳＯＲ光の出射を停止している状態に
おいては、空気圧シリンダ（駆動源）１４にシャッタ本
体１３の全重量がかかることが回避され、その結果、空
気圧シリンダ１４の耐久性を向上させることができると
ともにそれに対する保守を軽減することができるものと
なっている。
は、シャッタチェンバ１２内の底部に、支柱２２と支持
テーブル２３から構成される架台２４が設けられてお
り、ＳＯＲ光の出射を停止するべくシャッタ本体１３が
下降したときには、その架台２４によりシャッタ本体１
３を下方から支持するように構成されている。したがっ
て、本実施例のビームシャッタ２１では、シャッタ本体
１３を降下させてＳＯＲ光の出射を停止している状態に
おいては、空気圧シリンダ（駆動源）１４にシャッタ本
体１３の全重量がかかることが回避され、その結果、空
気圧シリンダ１４の耐久性を向上させることができると
ともにそれに対する保守を軽減することができるものと
なっている。
【００１２】図２は本発明の他の実施例を示すものであ
る。図２に示すビームシャッタ３１における架台３４
は、支持テーブル３３を支える支柱３２としてコイルバ
ネを採用することにより緩衝機能を有するものとされて
いる。すなわち、シャッタ本体１３を引き上げていると
きには支持テーブル３３は実線で示す位置にあるが、シ
ャッタ本体１３が降下して架台３４がシャッタ本体１３
を支持した際には、シャッタ本体１３の荷重によりコイ
ルバネからなる支柱３２が弾性的に縮んで支持テーブル
３３が鎖線で示す位置まで若干沈み込むようにされてい
る。したがって、本実施例のビームシャッタ３１におい
ては、仮にシャッタ本体１３が急速に降下して支持テー
ブル３２に衝突したような場合であっても、架台３４の
緩衝作用によりシャッタ本体１３や架台３４自体が損傷
を受けることが防止されるものとなっている。
る。図２に示すビームシャッタ３１における架台３４
は、支持テーブル３３を支える支柱３２としてコイルバ
ネを採用することにより緩衝機能を有するものとされて
いる。すなわち、シャッタ本体１３を引き上げていると
きには支持テーブル３３は実線で示す位置にあるが、シ
ャッタ本体１３が降下して架台３４がシャッタ本体１３
を支持した際には、シャッタ本体１３の荷重によりコイ
ルバネからなる支柱３２が弾性的に縮んで支持テーブル
３３が鎖線で示す位置まで若干沈み込むようにされてい
る。したがって、本実施例のビームシャッタ３１におい
ては、仮にシャッタ本体１３が急速に降下して支持テー
ブル３２に衝突したような場合であっても、架台３４の
緩衝作用によりシャッタ本体１３や架台３４自体が損傷
を受けることが防止されるものとなっている。
【００１３】図３は本発明のさらに他の実施例を示すも
のである。図３に示すビームシャッタ４１における架台
４４も緩衝機能を有するものであるが、本実施例におい
ては支柱４２は剛性を有するものとされ、支持テーブル
４３が若干上方に湾曲している板バネとされ、その支持
テーブル４３がシャッタ本体１３を支持したときにその
荷重によって鎖線で示す如く弾性的に変形して平面状に
なるものとされている。この実施例のビームシャッタ４
１も図２に示したビームシャッタ３１と同様の緩衝効果
を発揮し得るとともに、コイルバネからなる支柱３２の
弾性変形量に比して板バネからなる支持テーブル４３の
方が変形量が小さいので発塵量を少なくでき、超高真空
を維持する必要のあるビームライン９に設置するものと
してより好適である。
のである。図３に示すビームシャッタ４１における架台
４４も緩衝機能を有するものであるが、本実施例におい
ては支柱４２は剛性を有するものとされ、支持テーブル
４３が若干上方に湾曲している板バネとされ、その支持
テーブル４３がシャッタ本体１３を支持したときにその
荷重によって鎖線で示す如く弾性的に変形して平面状に
なるものとされている。この実施例のビームシャッタ４
１も図２に示したビームシャッタ３１と同様の緩衝効果
を発揮し得るとともに、コイルバネからなる支柱３２の
弾性変形量に比して板バネからなる支持テーブル４３の
方が変形量が小さいので発塵量を少なくでき、超高真空
を維持する必要のあるビームライン９に設置するものと
してより好適である。
【００１４】なお、本発明は上記各実施例に限定される
ものではなく、シャッタチェンバやシャッタ本体の形態
や寸法、架台に緩衝機能をもたせるための構成も種々の
変形や応用が可能である。
ものではなく、シャッタチェンバやシャッタ本体の形態
や寸法、架台に緩衝機能をもたせるための構成も種々の
変形や応用が可能である。
【００１５】
【発明の効果】以上で説明したように、本発明のビーム
シャッタは、シャッタ本体を下方から支持するための架
台を設けたので、シャッタ本体を降下させた状態におい
てはその荷重が空気圧シリンダ等の駆動源にかかること
が回避され、したがって、駆動源の耐久性を向上させ得
るとともに保守を軽減することができるという効果をす
る。また、上下方向に弾性変形可能な形態の架台を採用
することによって架台に緩衝機能をもたせれば、仮にシ
ャッタ本体が架台に衝突したような場合にもシャッタ本
体や架台自身が損傷を受けてしまうようなことを有効に
防止することができるという利点がある。
シャッタは、シャッタ本体を下方から支持するための架
台を設けたので、シャッタ本体を降下させた状態におい
てはその荷重が空気圧シリンダ等の駆動源にかかること
が回避され、したがって、駆動源の耐久性を向上させ得
るとともに保守を軽減することができるという効果をす
る。また、上下方向に弾性変形可能な形態の架台を採用
することによって架台に緩衝機能をもたせれば、仮にシ
ャッタ本体が架台に衝突したような場合にもシャッタ本
体や架台自身が損傷を受けてしまうようなことを有効に
防止することができるという利点がある。
【図１】本発明の一実施例であるビームシャッタの概略
構成図である。
構成図である。
【図２】本発明の他の実施例であるビームシャッタの概
略構成図である。
略構成図である。
【図３】本発明のさらに他の実施例であるビームシャッ
タの概略構成図である。
タの概略構成図である。
【図４】シンクロトロンの概要を示す平面図である。
【図５】従来一般のビームシャッタの概略構成図であ
る。
る。
９ ビームライン １２ シャッタチェンバ １３ シャッタ本体 １４ 空気圧シリンダ（駆動源） ２１ ビームシャッタ ２２ 支柱 ２３ 支持テーブル ２４ 架台 ３１ ビームシャッタ ３２ 支柱 ３３ 支持テーブル ３４ 架台 ４１ ビームシャッタ ４２ 支柱 ４３ 支持テーブル ４４ 架台。
Claims (2)
- 【請求項１】 粒子加速器のビームラインに設置されて
そのビームラインを通して取り出す放射光の出射を停止
させるためのビームシャッタであって、ビームラインの
途中に設けられるシャッタチェンバ内にシャッタ本体を
駆動源により上下動自在に設け、そのシャッタ本体をビ
ームラインの位置に降下させることで放射光を遮蔽する
とともに上方に引き上げることで出射を許容するように
なし、かつ、シャッタチェンバ内の底部に、シャッタ本
体が降下した際にそれを下方から支持するための架台を
設置してなることを特徴とする粒子加速器におけるビー
ムシャッタ。 - 【請求項２】 前記架台は、シャッタ本体を支持した際
に上下方向に弾性的に変形することにより緩衝機能を有
するものであることを特徴とする請求項１に記載の粒子
加速器におけるビームシャッタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP866193A JPH06224000A (ja) | 1993-01-21 | 1993-01-21 | 粒子加速器におけるビームシャッタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP866193A JPH06224000A (ja) | 1993-01-21 | 1993-01-21 | 粒子加速器におけるビームシャッタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06224000A true JPH06224000A (ja) | 1994-08-12 |
Family
ID=11699124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP866193A Withdrawn JPH06224000A (ja) | 1993-01-21 | 1993-01-21 | 粒子加速器におけるビームシャッタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06224000A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100982433B1 (ko) * | 2008-09-08 | 2010-09-15 | 주식회사 대성지티 | 방사선 조사기의 차폐셔터 제어장치 |
| CN102222534A (zh) * | 2011-03-10 | 2011-10-19 | 中国原子能科学研究院 | 一种单粒子效应地面加速器模拟试验用束流快门 |
-
1993
- 1993-01-21 JP JP866193A patent/JPH06224000A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100982433B1 (ko) * | 2008-09-08 | 2010-09-15 | 주식회사 대성지티 | 방사선 조사기의 차폐셔터 제어장치 |
| CN102222534A (zh) * | 2011-03-10 | 2011-10-19 | 中国原子能科学研究院 | 一种单粒子效应地面加速器模拟试验用束流快门 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6674085B2 (en) | Gas-actuated stages including reaction-force-canceling mechanisms for use in charged-particle-beam microlithography systems | |
| US4352643A (en) | Structure for vibration isolation in an apparatus with a vacuum system | |
| JP2012094531A (ja) | Ｘ線源 | |
| JPH0896735A (ja) | 長く延びた陽極に沿って電子ビーム束を放射するための電子源を有するｘ線放射器 | |
| JP2001126651A5 (ja) | ||
| JP2014238402A (ja) | 荷電粒子ビームリソグラフィシステム及びターゲット位置決め装置 | |
| CN110325919B (zh) | 调整组件和包括该调整组件的衬底曝光*** | |
| JPH06224000A (ja) | 粒子加速器におけるビームシャッタ | |
| US2922904A (en) | Target window for x-ray microscopes | |
| US6794665B2 (en) | Electron beam drawing apparatus | |
| JP2001516129A (ja) | リニア気体軸受け及びアクティブカウンターバランスオプションを有するスキャニングシステム | |
| KR102292249B1 (ko) | 입자가속시스템 및 입자가속시스템의 조정방법 | |
| US6770890B2 (en) | Stage devices including linear motors that produce reduced beam-perturbing stray magnetic fields, and charged-particle-beam microlithography systems comprising same | |
| JPWO2017022669A1 (ja) | 挿入光源 | |
| CN109449072B (zh) | 一种用于射线源的浮动靶机构 | |
| US20020088949A1 (en) | Semiconductor processing apparatus having a moving member and a force compensator therefor | |
| US10048599B2 (en) | Adjustment assembly and substrate exposure system comprising such an adjustment assembly | |
| JP2007245313A (ja) | 往復動機構を備えた真空装置 | |
| JPH01181522A (ja) | 半導体素子製造用ｘ線露光装置 | |
| TWI643531B (zh) | Particle acceleration system and method for adjusting particle acceleration system | |
| US9298106B1 (en) | Wafer stage with reciprocating wafer stage actuation control | |
| JP2020057680A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
| JP7151127B2 (ja) | 挿入光源 | |
| JP7279207B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び振動抑制機構 | |
| CN210143151U (zh) | 一种位置和角度可调的静电切割器总成 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000404 |