JPH0621775B2 - 表面検査装置 - Google Patents

表面検査装置

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JPH0621775B2
JPH0621775B2 JP7676286A JP7676286A JPH0621775B2 JP H0621775 B2 JPH0621775 B2 JP H0621775B2 JP 7676286 A JP7676286 A JP 7676286A JP 7676286 A JP7676286 A JP 7676286A JP H0621775 B2 JPH0621775 B2 JP H0621775B2
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slit light
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正博 足立
基之 鈴木
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    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/9515Objects of complex shape, e.g. examined with use of a surface follower device

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、例えば自動車の車体パネル塗装面や圧延さ
れた帯鋼板などの被検査物の表面欠陥及び写像鮮映性を
検査するための表面検査装置に関する。
〔従来の技術〕
上記のような被検査物の表面における傷,突起,ブツ,
汚れ等の欠陥の検査は、非能率で個人差のある作業員に
よる目視検査から、例えば指向性の強いレーザ光を利用
した自動検査に移行する傾向にある。
このようなレーザ光を利用した表面欠陥検査装置とし
て、第2図に示すように、レーザスリツト光発生器1か
ら被検査物の表面である被検査面2にレーザスリツト光
LSTを投射して、その反射光LST′を一担拡散板に
よるスクリーン3に投影し、そのスクリーン上のスリッ
ト像をカメラ部の集光レンズ4によつて集光してCCD
等のラインセンサ5により検出することによつて、表面
欠陥を検出するようにした表面欠陥検査装置を本出願人
が先に提案している(特願昭59−83890号)。
この表面欠陥検査装置によれば、例えば第3図に示すよ
うに、被検査面2上のレーザスリツト光投射位置に傷や
ブツ等の欠陥aがあると、レーザスリツト光LSTがそ
こで散乱するため、被検査面2からの正反射光LST′
を受けるスクリーン3上には図示のように欠陥aに対応
するところで切れたスリツト像SLが投影されることに
なる。
したがつて、このスクリーン3上のスリツト像SLが投
影される位置を常時撮影している第2図のラインセンサ
5のビデオ出力信号は、第4図(a)に示すようになり、
同図(b)に示すその包絡線信号Vsとそれを平均化した
比較信号Vr(スレツシヨルドレベル)とを比較して、
同図(c)に示すようにVs<Vrでのみハイレベル
“H”になり、それ以外ではローレベル“L”になる2
値化信号を形成すれば、被検査面2上の欠陥(第3図の
a)をこの2値化信号のレベルが“H”になることによ
つて検出することができる。
この場合、第2図のラインセンサ5は集光レンズ4の合
焦位置に配置したスクリーン3で拡散された散乱光SC
を受光することによつて、スクリーン3上の投影スリツ
ト像SLを撮影しているため、集光レンズ4の焦点を常
時固定にすることができ、しかも拡散によつて投影スリ
ツト像SLが拡大されるため、表面欠陥の検出分解能が
向上する。
一方、車体パルス等の表面には僅かな凹凸によるうねり
があり、その度合を示す写像鮮映性(以下単に「鮮映
性」という)を測定するのに、従来は検査員が目視に頼
つていたが、上述した表面欠陥の検査と同時に、はやり
レーザスリツト光を利用して被検査面の鮮映性の測定を
もできるようにした表面検査装置も本出願人が既に特許
出願している(特願昭60−251137号)。
なお、この鮮映性測定手段については、この発明の実施
例の説明中で述べるので、ここでは説明を省略する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、このような先に出願した表面欠陥検査手
段と鮮映性測定手段とを備えた表面検査装置にあつて
は、上記各手段がそれぞれ表面欠陥の検出と鮮映性の測
定を個別に行なうだけであつたので、表面欠陥検出手段
の検出感度を上げて小さな欠陥まで検出しようとする
と、被検査面の鮮映性が悪い場合には、表面のうねりに
よつて欠陥と区別しにくいノイズ波形が発生するため、
誤検出し易くなるという問題点があつた。
この問題点について第5図及び第6図によつて説明す
る。
第5図に示すように、レーザスリツト光発生器1から被
検査面(以下「パネル面」ともいう)2にレーザスリツ
ト光LSTを投射すると、その反射光LST′によつて
図示しないスクリーン及び集光レンズを介してラインセ
ンサ5の受光面5a上に太線で示すようなスリツト像が
結像され、パネル面2に欠陥a,b(bはaより小さ
い)があると、スリツト像のそれに対応する部分a′,
b′がその欠陥の大きさに応じて欠けるが、そのほか
に、パネル面のうねりによつてラインセンサ5上のスリ
ツト像にも図示のようにうねりが生じ、受光面5aに当
る光量に変動が生じる。このうねりはパネル面2の鮮映
性が悪い程大きくなる。
そのため、ラインセンサ5によるビデオ出力信号は、第
6図に示すように欠陥a,bに対応する部分以外でも落
込みのあるノイズ成分を含む波形となり、パネル面の鮮
映性が良い場合は破線で示すようにその落込みが比較的
小さいが、鮮映性が悪い場合には実線で示すように大き
くなつて、小さい欠陥による落込みと判別しにくくな
る。
したがつて、鮮映性の悪いパネル面の検査時に、欠陥b
のような小さい欠陥まで検出しようとすると、うねりに
よるノイズを誤検出してしまう。
逆に、誤検出を防ぐために検出感度を下げて小さな欠陥
は検出しないようにすると、鮮映性の良いパネル面では
小さな欠陥でも目立つにも係わらず、それを検出できな
くなるという不都合が生ずる。
この発明は、このような問題を解決することを目的とす
る。
〔問題点を解決するための手段〕
そのため、この発明による表面欠陥検査装置は、第1図
にその基本構成を示すように、被検査面2に第1のレー
ザスリット光を投射して、その反射光をスクリーン上に
投影させ、そのスリット像から被検査面2の表面欠陥を
検出する表面欠陥検査手段Aと、前記第1のレーザスリ
ット光の投射位置の一端に隣接して、その延長線に直行
する方向に互いに平行な2本のレーザスリット光を第2
のレーザスリット光として前記被検査面2に投射して、
前記被検査面2のわずかな凹凸によるうねりによって変
化する反射光を該平行な2本のレーザスリット光の間隔
の変化として検出することにより、前記表面欠陥検査手
段Aによる前記被検査面2上の検査位置付近の鮮映性を
測定する鮮映性測定手段Bとを備えた表面検査装置にお
いて、前記鮮映性測定手段Bによる鮮映性の測定値に応
じて、前記欠陥検査手段Aによって検出する最小欠陥サ
イズを変更する最小検出サイズ変更手段Cを設けたこと
を特徴とするものである。
〔作 用〕
表面検査時に、鮮映性測定手段Bによる鮮映性の測定値
が鮮映性が悪いことを示す値の時には、最小検出サイズ
変更手段Cが表面欠陥検出手段Aによつて検出する最小
欠陥サイズを大きくするように変更し、鮮映性の測定値
が鮮映性が良いことを示す値の時には、表面欠陥検出手
段Aが検出する最小欠陥サイズを小さくするように変更
することにより、鮮映性の悪いパネル面等を検査した時
には、比較的大きな欠陥のみを誤検出なく検出でき、鮮
映性の良いパネル面等を検査した時には、比較的小さな
欠陥まで精度よく検出できる。
〔実施例〕
以下、この発明の実施例を図面の第7図以降に基づいて
説明する。
第7図はこの発明による表面検査装置の検出ヘツドの正
面図、第8図は第7図の矢示A方向から見た側面図であ
る。
10は検出器、11は表面欠陥検査用のレーザスリツト
光発生器であり、このレーザスリツト光発生器11は、
レーザ発振管11aと、それが発生するレーザ光束をス
リツト光に変換するためのシリンドリカルレンズを含む
レンズ系11bと、そのスリツト光を長手方向に広がら
ない平行なスリツト光にするためのフレネルレンズを先
端に装着したフード部11cとから構成されており、被
検査面2に第1のレーザスリツト光を投射する。
このレーザスリツト光発生器11のフード部11cの1
側面先端部に、ブラケツト16によつて鮮映性測定用の
レーザスリツト光発生器12を、光軸をレーザスリツト
光発生器11の光軸Oと平行にして取付けてある。
このレーザスリツト光発生器12は、2個の半導体レー
ザ発生器12a,12bと、それによつて発生される2
本のレーザビームをスリツト光に変換するための共通の
シリンドリカルレンズ12cからなり、被検査面2に第
1のレーザスリツト光の投射位置の一端に隣接して、そ
の延長線に直交する方向に互いに平行する2本のレーザ
スリツト光を第2のレーザスリツト光として投射する。
一方、検出器10は、先端にスリガラス等の拡散板によ
るスクリーン13を装着し、内面に2枚のミラー(平面
鏡)17,18を取付けた検出筒10aと、集光レンズ
14を装着してその後方にラインセンサ15を内蔵した
カメラ部10bとからなる。
なお、第8図に示すように、検出筒10aの先端面にお
けるレーザスリツト光発生器12からの第2のレーザス
リツト光の被検査面2による反射光が通過する部分は、
スクリーン13を切り欠して開口19を形成してある。
この検出器10とレーザスリツト光発生器11は、両者
の光軸O,Oが所定の角度δ(この例では60゜)
で交差するように、フレーム21によつて保持されてい
る。
なお、この実施例では、検出器10を小型にして且つ縮
小倍率をかせぐために、検出筒10aを折り曲げた形状
にして、第1のレーザスリツト光の反射光がスクリーン
13に投影されて形成されるスリツト像及び第2のレー
ザスリツト光の被検査面2による反射光を2枚のミラー
17,18に反射させて、集光レンズ14によつて1個
のラインセンサ15の検出ライン上に結像させるように
している。
そして、検出器10はホーク状のフレーム21の基端部
に固着されているが、レーザスリツト光発生器11はフ
レーム21の先端部に枢軸22によつて第2図の矢示θ
y方向に回動可能に軸支されており、検出器10の光軸
とレーザスリツト光発生器11の光軸Oとの交差
角度δを図示しない機構により自動的に調整できるよう
になつている。
また、フレーム21は、この検出ヘツド20を図示しな
いロボツト等の走査装置あるいは固定部に取付けるため
のブラケツト25に、図示しない調整機構を介して矢示
θx方向へ揺動可能に取付けられており、光軸O,O
によつて作られる面が被検査面2に対して常に垂直
(90゜)になるように調整される。
第7図における23は欠陥マーカ(ノズル)であり、被
検査面2の第1のレーザスリツト光の照射された位置に
ブツや傷等の欠陥があつてその存在が検出された時に、
そのレーザスリツト光と干渉しない欠陥近傍に拭き取り
可能なコンパウンド等のマーキング材を吹きつけて、欠
陥の存在を示す目印を付けるための装置であり、検出器
10と一体のブラケツト24に所定角度首振り可能に取
付けてある。
そして、走査方向に応じてこの欠陥マーカ23の吹き付
け方向を切換え、矢示A方向に走査する時に図示の向き
にする。
ここで、第9図の原理図によつてこの検出ヘツド20の
作用を説明する。なお、この第9図においては、図を判
り易くするために第7図に示した集光レンズ14とミラ
ー17,18を省略しており、ラインセンサ15のサイ
ズが非常に大きくなつているが、実際には集光レンズ1
4の縮少倍率により大幅に縮少されると共に、左右の結
像位置関係も逆になる。
欠陥検査用レーザスリツト光発生器11によつて第1の
レーザスリツト光LSTが発生して被検査面2に投射
され、その反射光LST′がスクリーン13に投影さ
れてスリツト像SLを形成する。このスリツト像SLの
散乱光が図示しない集光レンズによつて集光され、ライ
ンセンサ15の受光面である検出ライン15a上にスリ
ツト像SL′として結像される。
一方、鮮映性測定用のレーザスリツト光発生器12によ
つて、第1のレーザスリツト光LSTの延長面に直交
し、間隔dを置いて互いに平行な2本の第2のレーザス
リツト光LST,LSTが発生して被検査面2に投
射される。
そして、その各反射光LST′,LST′は、スク
リーン13に投影されることなく、直接図示しない集光
レンズによつてラインセンサ15上の検出ライン15a
の先端部付近に、その検出ライン15aと交差する2本
のスリツト像SLa,SLbとして結像される。
このスリツト像SLa,SLbは、被検査面2の細かい
凹凸等によつて各反射光LST,LSTがそれぞれ
スリツト幅方向に若干振られるため、図示のようにラン
ダムなうねりを生ずる。
ところで、この実施例では、ラインセンサ15として2
048ビツトのCCD,PDA,又はPCD(Plasma C
oupled Device)ラインセンサを使用し、その1〜25
6ビツトを鮮映性測定エリアとして使用し、257〜2
048ビツトを欠陥検査エリアとして使用する。
次に、このラインセンサ15からビデオ出力信号を読出
して、表面欠陥の検出と鮮映性を示すデータを得るため
の図示しないコントロールユニツト内の回路について、
第10図によつて説明する。
クロツクジエネレータ30によつてクロツクパルスCP
を発生し、ラインセンサ15からその検出ライン15a
(第1図)の各ビツトに受光量に応じて蓄積される電荷
によるビデオ信号を、1ビツトから2048ビツトまで
順次読出す。
それをビデオアンプ35によつて増幅したビデオ出力信
号の包絡線波形は、例えば第11図に示すようになる。
この時、鮮映性用ウインドパルス発生回路31で1〜2
56ビツトのウインドパルスを発生し、欠陥検出用ウイ
ンドバルス発生回路32で257〜2048ビツトのウ
インドパルスを発生して、それぞれビデオスイツチ回路
33,34を制御する。
そして、ビデオスイツチ回路33はラインセンサ15の
鮮映性測定エリアからのビデオ出力信号のみを通過さ
せ、第2のレーザスリツト光の反射光LST′,LS
′の受光位置で2つのパルス状にレベルが高くなる
信号が抽出される。
一方、ビデオスイツチ回路34はラインセンサ15の欠
陥検出エリアのビデオ信号のみを通過させ、被検査面2
上の第1のレーザスリツト光LSTの投射位置に欠陥
が在つた場合、その欠陥に対応する位置でレベルが急激
に低下するビデオ信号Vsaが抽出される。
このビデオ信号Vsaを2値化回路36に入力して2値化
処理を行ない、欠陥検出信号Saを得る。
この2値化回路36は、積分回路37,オフセツト回路
38及びアナログ比較回路39からなるオフセツト電圧
可変型2値化回路であり、ビデオスイツチ回路34から
のビデオ信号Vsaを積分回路37で積分して、第12図
に破線で示すような波形の信号を作り、これをオフセツ
ト回路38によつて鮮映性の測定値に応じてオフセツト
して比較信号Vrとする。
すなわち、後述する鮮映性度の測定値をD/A変換回路
47によつてアナログ信号に変換して、最小検出サイズ
変更手段であるオフセツト回路38に入力し、鮮映性が
非常によい場合には第12図に破線で示す信号をそのま
ま比較信号Vrとし、鮮映性が悪い場合にはその度合に
応じて第13図に示すように、積分回路37によつて平
均化された信号のレベルを下げるようにオフセツトして
比較信号Vrとする。
そして、アナログ比較回路39がこの比較信号Vrとビ
デオ信号Vsaとを比較して、Vsa<Vrの時にのみハイ
レベル“H”になるパルス状の欠陥検出信号Saを出力
する。
したがつて、被検査面2の鮮映性がよい場合には第12
図に示すように小さなサイズの欠陥をも正確に検出で
き、鮮映性が悪い場合には第13図に示すように比較的
大きなサイズの欠陥のみを検出して、ノイズ波形による
誤検出を防ぐことができる。
この欠陥検出信号Saを欠陥表示回路40に入力して、
欠陥表示ユニツト41によつて例えばデイスプレイ上に
欠陥位置を表示する。
また、欠陥マーカ駆動回路42によつて欠陥マーカ23
を作動させ、検出された欠陥部の近傍にマーキング材を
塗布して目印を付ける。
なお、この実施例では比較電圧Vrを鮮映度に応じてオ
フセツトするようにしたが、比較電圧Vrは一定にし
て、ビデオ信号Vsaの方を鮮映度に応じてオフセツトす
るようにしてもよい。
ここで、検出ヘツド20と被検査面2との相対位置を第
9図の矢示B方向(第1のレーザスリツト光LST
直交する方向)に移動させるようにスキヤニングし、1
回のスキヤニング終了後第1のスリツト光LSTのス
リツト長方向に位置をずらして同様なスキヤニングを繰
返すことにより、被検査面全面の表面欠陥を検出して表
示することができる。
一方、ビデオスイツチ回路33によつて抽出されたビデ
オ信号Vsbは、2値化回路43によつて2値化され、そ
の2値化信号Dvによつて鮮映性演算処理回路44が被
検査面2の鮮映性を示すデータを算出し、それを鮮映度
表示回路45にに入力して、鮮映度表示ユニツト46に
鮮映度を表示させる。
鮮映性演算処理回路44は、例えば第14図に示すよう
に、2値化回路43から順次入力する各ビツトの2値化
信号のパルス間隔をクロツクパルスによりカウントする
位置カウンタ47と、そのカウント結果を演算処理する
ためのCPU,RAM,ROM及びI/Oポートを備え
たマイクロコンピユータ48とからなり、このマイクロ
コンピユータ48からの出力データを鮮映度表示回路4
5に入力して、鮮映性を示すデータを表示ユニツト46
にデジタル表示する。
なお、このマイクロコンピユータ48は、前述の検出ヘ
ツド20を取付けたロボツト等の走査装置50によるス
キヤニング動作も制御する。
次に、これらの回路による鮮映性測定機能について第1
5図乃至第18図も参照して説明する。
第10図のビデオスイツチ回路33によつて抽出された
第15図(a)に示すようなビデオ信号Vsbを2値化回路
43に入力して、所定レベルの比較信号Vrbと比較し、
Vsb>Vrbの時にのみハイレベル“H”となり、それ以
外ではローレベル“L”となるように2値化して、第1
5図(b)に示すような二値化信号Dvを得る。
第14図の位置カウンタ47は、この2値化信号Dvを
各ビツト毎にカウントして、最初に“H”になつてから
“L”に戻るまでのカウント値T、その後再び“H”
になるまでのカウント値T、及びその後“L”に戻る
までのカウント値T(第15図(b)参照)を出力す
る。
これを受けるマイクロコンピユータ48は、第16図の
フローチヤートに従つて動作する。
先ず、ステツプで位置カウンタ47によるカウント値
,T,Tを読込み、ステツプでP=T
(T+T)/2の演算を行なつて、第15図(a)に
示すビデオ信号Vsbの2つのピーク点の間隔に相当する
データ、すなわちラインセンサ15による第2のレーザ
スリツト光LST,LSTの反射光LST′,L
ST′の受光位置間隔を示すデータPを求めてそれを
記憶する。
次に、ステツプで記憶したデータPが所要数N個にな
つたかどうかを判断し、N個になつていなければステツ
プで走査装置50に起動信号を出力して、検出ヘツド
20をスキヤン方向(第9図の矢示B方向)へ1ピツチ
移動させる。
そして、再びステツプで新たなカウント値T
,Tを読込んで、ステツプでデータPを求めて
記憶する。このステツプ〜の動作をデータPの記憶
数がN個になるまで繰返し、N個になるとステツプへ
進む。
第2のレーザスリツト光の反射光LST′,LS
′は、被測定面2の凹凸等によつて若干偏向され
て、第9図に示したようにそれぞれ不規則な「うねり」
を生ずる。また、検出ヘツド20と被測定面2との相対
位置が変化すると、ラインセンサ15によつて受光され
る部分の各スリツト光の反射位置が変化する。
そのため、ラインセンサ15によつて検出されるビデオ
信号Vsbの2つのピーク位置が不規則に偏位し、ステツ
プで算出する各回毎のピーク位置間隔を示すデータP
の値も第17図(a)に示すよにそれぞれ若干異なる。
そこで、ステツプでは、ある回のデータPをPiとす
ると、その前後M/2個づつ(合計M個)のデータを平
均して平均値▲▼を算出する。但し、記憶したN個
のデータのうち最初からM/2個と最後からM/2個
(合計M個)のデータについては、前後M/2個づつの
平均値算出用データがとれないので、N−M個のデータ
Piについて平均値▲▼を算出する。
次に、ステツプで第17図(b)に示すようにN−M個
の各データPi毎の平均値に対する変動量(偏差)ΔP
iを、ΔPi=▲▼−Piの演算を行なつて求め
る。そして、ステツプで の演算を行なつて二乗平均値σを求める。
このσの値が、第18図に示すように従来から用いられ
ている鮮映度の値と極めてよく対応しているので、この
σの値をそのまま表示するようにしてもよく、その場合
にはその表示値が小さい程鮮映性が良く、大きい程鮮映
性が悪いことを示す。
この実施例では、予め第18図に示すような鮮映度変換
テーブルをメモリに格納しておいて、ステツプでその
テーブルによりσを鮮映度に変換した値を表示ユニツト
46に表示するようにしている。
なお、この実施例によれば、上述のようにラインセンサ
による一対の反射スリツト光の検出位置間隔の変動量に
よつて鮮映性を示すデータを得るようにし、且つ各デー
タPiの変動量(偏差)ΔPiを、各データの前後所定
個づつのデータの平均値との差によつて求めるようにし
たので、検出ヘツド20と被検査面2との相対的な傾き
等によつて、反射スリツト光の検出位置が全体的に変化
したような場合にもその影響を受けることなく、常に精
度の良い鮮映性測定ができる。
このようにして鮮映性演算処理回路44によつて算出さ
れた値σを、第10図のD/A変換回路47によつてア
ナログ信号に変換してオフセツト回路38のオフセツト
電圧を制御する。
第19図は、この発明の他の実施例を示す第10図と同
様なブロツク図である。
この実施例で第10図と異なるのは、オフセツト電圧可
変型2値化回路36に代えて、従来と同様な2値化回路
51と、欠陥サイズカウント回路52及びデジタル比較
回路53を設け、D/A変換回路47に代えて比較値設
定回路54を設けたことである。
2値化回路51は、第10図の2値化回路36における
オフセツト回路38を省いた回路であり、鮮映度に係わ
らず、ビデオ信号Vsaとそれを積分して平均化した比較
信号とを比較して、第12図に示したような欠陥検出信
号Saを出力する。
欠陥サイズカウント回路52は、この欠陥検出信号Sa
がハイレベル“H”の間、例えばクロツクジエネレータ
30が発生するクロツクパルスCPをカウントしてその
パルス幅Wを計測することにより、欠陥サイズに応じた
デジタル値Daを出力する。
デジタル比較回路53は、このデジタル値Daを比較値
設定回路54によつて設定されたデジタル値Drと比較
し、Dr≦Daの時にのみ検出信号Spを出力する。こ
の信号Spが出力された時に欠陥表示ユニツト41によ
つて欠陥位置を表示し、欠陥マーカ23を作動させるの
は前述の実施例と同様である。
ここで、比較値設定回路54は、鮮映性演算処理回路4
4によつて算出された鮮映度を示すデータσに応じて、
σが小さい程比較値Drを小さく設定し、σが大きい程
比較値Drを大きく設定する。
このようにしても、被検査面の鮮映性がよい(σが小さ
い)時にはサイズの小さい欠陥まで正確に検出でき、鮮
映性が悪い(σが大きい)時には、比較的大きなサイズ
の欠陥のみを誤検出なく検出できる。
なお、これらの実施例では、鮮映性測定用のレーザスリ
ツト光発生器12が互いに平行する2本のレーザスリツ
ト光を発生して第2のレーザスリツト光として被検査面
に投射するようにしたが、これを1本のレーザスリツト
光にしても鮮映性を示すデータを算出することは可能で
ある。
また、表面欠陥検出用と鮮映性測定用に1個のラインセ
ンサをエリア分けして使用する例について説明したが、
これを別々にして2個のラインセンサを使用するように
してもよい。
〔発明の効果〕
以上説明してきたように、この発明による表面検査装置
を使用して被検査物の表面を走査すれば、その表面に存
在する欠陥を確実に検出することができると同時に、そ
の表面の写像鮮映性をも自動的に精度よく測定すること
ができ、さらにその鮮映性の測定値に応じて検出する最
小欠陥サイズを変更するので、鮮映性の悪いパネル面等
を検査する場合にも誤検出を防止できる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明による表面検査装置の基本構成を示す
ブロツク図、 第2図は先に出願した表面欠陥検査装置の原理説明図、 第3図は同じくその作用説明図、 第4図は同じくそのラインセンサによるビデオ出力信号
の2値化処理を説明するための波形図、 第5図及び第6図はこの発明が解決しようとする問題点
を説明するための説明図及びラインセンサからのビデオ
出力信号の波形図、 第7図はこの発明の一実施例における検出ヘツドの構造
例を示す正面図、 第8図は第7図の矢示A方向から見た側面図、 第9図は同じくその検出ヘツドの原理図、 第10図はコントロールユニツト内のこの発明に係わる
信号処理回路の構成を示すブロツク図、 第11図はラインセンサ15から出力されるビデオ出力
信号の包絡線波形と鮮映性測定エリア及び欠陥検出エリ
アを示す波形図、 第12図及び第13図は第10図における2値化回路3
6の作用を説明するための波形図、 第14図は第10図における鮮映性演算処理回路44の
構成及びその関連回路を示すブロツク図、 第15図は第10図のビデオスイツチ回路33から出力
されるビデオ信号と2値化回路43から出力される2値
化信号の波形を示す波形図、 第16図は第14図のマイクロコンピユータ48が実行
する処理動作のフロー図、 第17図はマイクロコンピユータ48によるデータPの
平均値P及び変動量ΔPの算出方法及び算出結果を示す
説明図、 第18図は演算によつて求めた二乗平均値σと鮮映度と
の関係を示す線図、 第19図はこの発明の他の実施例を示す第10図と同様
なブロツク図である。 2……被検査面(パネル面)、10……検出器 11……表面欠陥検査用のレーザスリツト光発生器 12……鮮映性測定用のレーザスリツト光発生器 13……スクリーン、14……集光レンズ 15……ラインセンサ、17,18……ミラー 20……検出ヘツド、21……フレーム 33,34……ビデオスイツチ回路 36,43,51……2値化回路 38……オフセツト回路(最小検出サイズ変更手段) 40……欠陥表示ユニツト 44……鮮映度表示ユニツト 53……デジタル比較回路(最小検出サイズ変更手段)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−93934(JP,A) 特開 昭62−112003(JP,A) 特開 昭62−233712(JP,A)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被検査面に第1のレーザスリット光を投射
    して、その反射光をスクリーン上に投影させ、そのスリ
    ット像から被検査面の表面欠陥を検出する表面欠陥検査
    手段と、 前記第1のレーザスリット光の投射位置の一端に隣接し
    て、その延長線に直行する方向に互いに平行な2本のレ
    ーザスリット光を第2のレーザスリット光として前記被
    検査面に投射して、前記被検査面のわずかな凹凸による
    うねりによって変化する反射光を該平行な2本のレーザ
    スリット光の間隔の変化として検出することにより、前
    記表面欠陥検査手段による前記被検査面上の検査位置付
    近の鮮映性を測定する鮮映性測定手段とを備えた表面検
    査装置において、 前記鮮映性測定手段による鮮映性の測定値に応じて、前
    記欠陥検査手段によって検出する最小欠陥サイズを変更
    する最小検出サイズ変更手段を設けたことを特徴とする
    表面検査装置。
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