JPH0620931A - 電子ビーム露光方法 - Google Patents
電子ビーム露光方法Info
- Publication number
- JPH0620931A JPH0620931A JP17652092A JP17652092A JPH0620931A JP H0620931 A JPH0620931 A JP H0620931A JP 17652092 A JP17652092 A JP 17652092A JP 17652092 A JP17652092 A JP 17652092A JP H0620931 A JPH0620931 A JP H0620931A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】斜め図形に内接する矩形群を重複を許して生成
し、重複した部分からの近接効果により概略斜め部分を
解像する電子ビーム露光方法。 【効果】斜め図形を描画するのに必要なショット数を低
減して、スループットの低下を防ぐことができる。
し、重複した部分からの近接効果により概略斜め部分を
解像する電子ビーム露光方法。 【効果】斜め図形を描画するのに必要なショット数を低
減して、スループットの低下を防ぐことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電子ビーム描画装置で斜
め図形を描画する場合にも、ショット数を低減させスル
ープットの低下を防止できる露光方法に関する。
め図形を描画する場合にも、ショット数を低減させスル
ープットの低下を防止できる露光方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、可変成形方式の電子ビーム描画装
置を用いて斜め図形を描画する場合には、斜め部分を細
い短冊状の矩形に分解して描画していた。これは、矩形
分解の結果生じる階段状の段差がレジストの解像性以下
の大きさであれば、滑らかとなり描画結果には反映しな
いことを利用するものである。しかし、斜め図形描画に
は多数の細い矩形ビームを必要とするためショット数が
増大し、これがスループットを低下させる原因となって
いた。
置を用いて斜め図形を描画する場合には、斜め部分を細
い短冊状の矩形に分解して描画していた。これは、矩形
分解の結果生じる階段状の段差がレジストの解像性以下
の大きさであれば、滑らかとなり描画結果には反映しな
いことを利用するものである。しかし、斜め図形描画に
は多数の細い矩形ビームを必要とするためショット数が
増大し、これがスループットを低下させる原因となって
いた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、図１（ａ）
に示したように、斜め図形を描画する場合にも多数の短
冊状のビームを必要とせず、ショット数の増大を防止し
て、スループットの低下を防止する電子ビーム露光方法
を提供することにある。
に示したように、斜め図形を描画する場合にも多数の短
冊状のビームを必要とせず、ショット数の増大を防止し
て、スループットの低下を防止する電子ビーム露光方法
を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】斜め図形を短冊状に分割
する代わりに、斜め部に内接する縦横比の異なる矩形で
多重露光することにより、近接効果によって生じるパタ
ンのふくらみを利用し斜め部分を解像させ、描画に要す
るショット数を低減させスループットの低下を防止す
る。
する代わりに、斜め部に内接する縦横比の異なる矩形で
多重露光することにより、近接効果によって生じるパタ
ンのふくらみを利用し斜め部分を解像させ、描画に要す
るショット数を低減させスループットの低下を防止す
る。
【０００５】
【作用】電子ビーム描画装置では、試料に照射した電子
ビームがレジストや基板の中で散乱するため描画図形が
所望の形状から変化する近接効果の存在が知られてい
る。これは、電子ビームの基板やレジスト内での散乱の
ため、所望の描画図形の外側にも電子ビームのエネルギ
が蓄積されることが原因で、特にこの領域に同じ露光量
で更に図形を描画すると露光量過多となり、図形にふく
らみを生じる。例えば、図１（ｂ）に示した階段状の図
形を描画する際に、図中の斜線部の露光量を意図的に高
めれば近接効果により段差部になまりを生じさせること
ができ、しかも、この露光量を制御することにより、な
まり具合を制御することができる。このため、図１
（ａ）に示した短冊ビームによる描画に代用することが
できる。
ビームがレジストや基板の中で散乱するため描画図形が
所望の形状から変化する近接効果の存在が知られてい
る。これは、電子ビームの基板やレジスト内での散乱の
ため、所望の描画図形の外側にも電子ビームのエネルギ
が蓄積されることが原因で、特にこの領域に同じ露光量
で更に図形を描画すると露光量過多となり、図形にふく
らみを生じる。例えば、図１（ｂ）に示した階段状の図
形を描画する際に、図中の斜線部の露光量を意図的に高
めれば近接効果により段差部になまりを生じさせること
ができ、しかも、この露光量を制御することにより、な
まり具合を制御することができる。このため、図１
（ａ）に示した短冊ビームによる描画に代用することが
できる。
【０００６】
【実施例】図２は、本発明の一実施例を示す露光図形で
ある。斜め図形は電子ビーム露光装置により基本的な矩
形部分（図示せず）と残りの三角形の部分１に分割され
る。この時、斜め部の解像性の劣化を最小限に抑制しつ
つ、ショット数を低減させるため、従来法で用いる短冊
状ビーム２′〜１２′よりも幅の大きな図形２〜７で描
画するときに、図２（ｂ）の斜線部は必ず二つの図形の
重なり部分では露光量が階段状の部分より大きくなって
いるので、この部分からの電子ビームの散乱の影響で階
段状の図形に図１（ｂ）に示したようなふくらみを生じ
る。これは、電子ビームの近接効果によるものであり、
この近接効果による図形の変形を利用して、概略斜め図
形部を解像すればショット数を低減することが可能とな
り、スループットの低下を防止できる。
ある。斜め図形は電子ビーム露光装置により基本的な矩
形部分（図示せず）と残りの三角形の部分１に分割され
る。この時、斜め部の解像性の劣化を最小限に抑制しつ
つ、ショット数を低減させるため、従来法で用いる短冊
状ビーム２′〜１２′よりも幅の大きな図形２〜７で描
画するときに、図２（ｂ）の斜線部は必ず二つの図形の
重なり部分では露光量が階段状の部分より大きくなって
いるので、この部分からの電子ビームの散乱の影響で階
段状の図形に図１（ｂ）に示したようなふくらみを生じ
る。これは、電子ビームの近接効果によるものであり、
この近接効果による図形の変形を利用して、概略斜め図
形部を解像すればショット数を低減することが可能とな
り、スループットの低下を防止できる。
【０００７】ここで、矩形の分割方法は、横方向に最大
で短冊１２′と等価な図形２を求め、次に予め定めてお
いた階段幅で残りの三角形に内接する最大横幅を持った
矩形３を決める。更に、同様の手続で矩形４を定める。
で短冊１２′と等価な図形２を求め、次に予め定めてお
いた階段幅で残りの三角形に内接する最大横幅を持った
矩形３を決める。更に、同様の手続で矩形４を定める。
【０００８】今度は縦方向に上記の手続に準じて矩形
５，６，７を定めていけば、図２(ｂ)に示したような重
複を許した横長と縦長の矩形群２〜７が得られる。ここ
で、これらを露光すると、両者が重畳する図中の斜線部
の露光量がそれ以外の部分の２倍となるので、近接効果
により階段状図形を所望の斜め図形に近付けることがで
きる。また、それぞれの矩形の露光量を基準値に対して
変化させることで仕上がり形状を制御することができ
る。
５，６，７を定めていけば、図２(ｂ)に示したような重
複を許した横長と縦長の矩形群２〜７が得られる。ここ
で、これらを露光すると、両者が重畳する図中の斜線部
の露光量がそれ以外の部分の２倍となるので、近接効果
により階段状図形を所望の斜め図形に近付けることがで
きる。また、それぞれの矩形の露光量を基準値に対して
変化させることで仕上がり形状を制御することができ
る。
【０００９】図２の実施例で、ショット数の低減効果を
見積もると、短冊状ビームの２倍の段差を持つように横
方向と縦方向に長さの異なる矩形ビームで重複を許して
分解した例では、ショット数は従来の短冊状ビームで分
解した時に比べて６／１１とおよそ半分に低減できるこ
とがわかる。この低減率は短冊幅に対する階段状図形の
段差幅で決まり、段差幅が大きいほど低減効果は大きい
が、斜め部の解像性が劣化するので許容する寸法精度に
よって最適低減率が決まる。図２（ｃ）は矩形に重なり
が３重以上にならないような矩形群に分割した例であ
る。
見積もると、短冊状ビームの２倍の段差を持つように横
方向と縦方向に長さの異なる矩形ビームで重複を許して
分解した例では、ショット数は従来の短冊状ビームで分
解した時に比べて６／１１とおよそ半分に低減できるこ
とがわかる。この低減率は短冊幅に対する階段状図形の
段差幅で決まり、段差幅が大きいほど低減効果は大きい
が、斜め部の解像性が劣化するので許容する寸法精度に
よって最適低減率が決まる。図２（ｃ）は矩形に重なり
が３重以上にならないような矩形群に分割した例であ
る。
【００１０】図３は、本発明の他の実施例を示す露光図
形であり、特に、スルーホールのような孤立した多角形
３１を描画する場合である。図３（ａ）は、従来法では
矩形３２′〜３６′の５ショットを必要とする例を示し
ている。図３（ｂ）に示したように、多角形に内接する
最大の矩形３２，３３を求めて、その矩形群３２，３３
を描画データとして生成し、互いに重複を許して描画す
る。重複する矩形３２，３３の露光量は、斜め部の形状
精度によって予め決められる。この時のショット数の低
減率は２／５となり、スループットの低下を防止でき
る。図３(ｃ)は図３（ｂ）と同様に矩形３４，３５を求
めた後、矩形ビーム３６を補助的に描画して形状精度を
向上させる場合を示している。この場合のショット数低
減率は３／５となっている。
形であり、特に、スルーホールのような孤立した多角形
３１を描画する場合である。図３（ａ）は、従来法では
矩形３２′〜３６′の５ショットを必要とする例を示し
ている。図３（ｂ）に示したように、多角形に内接する
最大の矩形３２，３３を求めて、その矩形群３２，３３
を描画データとして生成し、互いに重複を許して描画す
る。重複する矩形３２，３３の露光量は、斜め部の形状
精度によって予め決められる。この時のショット数の低
減率は２／５となり、スループットの低下を防止でき
る。図３(ｃ)は図３（ｂ）と同様に矩形３４，３５を求
めた後、矩形ビーム３６を補助的に描画して形状精度を
向上させる場合を示している。この場合のショット数低
減率は３／５となっている。
【００１１】図４は、本発明のさらに他の実施例であ
る。斜め部の形状精度を向上させるため、矩形ビーム４
２，４３の描画で生じた描画すべき図形３１の未露光部
に、内接する最大の矩形ビーム４７，４８を求め補助的
に描画するもので、ショット数の低減率は４／５とな
る。本実施例では、ショット数の低減率は実施例に比べ
てて劣るが、形状精度を確保できる利点を有する。
る。斜め部の形状精度を向上させるため、矩形ビーム４
２，４３の描画で生じた描画すべき図形３１の未露光部
に、内接する最大の矩形ビーム４７，４８を求め補助的
に描画するもので、ショット数の低減率は４／５とな
る。本実施例では、ショット数の低減率は実施例に比べ
てて劣るが、形状精度を確保できる利点を有する。
【００１２】
【発明の効果】本発明は、斜め図形を描画する際にも、
従来よりショット数を低減できるのでスループットの低
下を防ぐことができる。
従来よりショット数を低減できるのでスループットの低
下を防ぐことができる。
【図１】本発明の原理を示す説明図。
【図２】本発明の第１の実施例の露光図形の説明図。
【図３】本発明の第２の実施例の露光図形の説明図。
【図４】本発明の第３の実施例の露光図形の説明図。
１…描画すべき斜め図形、２…短冊状ビーム、２〜７，
３３…重複を許して生成した矩形群。
３３…重複を許して生成した矩形群。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河野 利彦 東京都小平市上水本町五丁目20番１号 株 式会社日立製作所武蔵工場内
Claims (3)
- 【請求項１】描画される図形を矩形単位に分割する手段
と、分割された前記矩形に対応した断面形状を有する電
子ビームを発生させる手段とを具備する、いわゆる可変
成形方式の電子ビーム描画装置において、斜め図形を矩
形分割した結果生じる三角形を、これに内接し縦横比の
異なる複数の矩形として描画データを生成し、これらを
その一部が重復することを許して描画することを特徴と
する電子ビーム露光方法。 - 【請求項２】矩形を除く孤立した多角形を描画する際
に、前記多角形に内接する一つ以上の横長の矩形群と、
同じく前記多角形に内接する一つ以上の縦長の前記矩形
群とを描画データとして生成し、これらをその一部が重
復することを許して描画することを特徴とする電子ビー
ム露光方法。 - 【請求項３】請求項１または２において、重複を許して
生成した矩形群によって形成される多角形と本来描画す
べき描画図形との重畳しない部分のそれぞれに、内接し
うる最大面積の矩形を生成し、別に定める露光量で描画
する電子ビーム露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17652092A JPH0620931A (ja) | 1992-07-03 | 1992-07-03 | 電子ビーム露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17652092A JPH0620931A (ja) | 1992-07-03 | 1992-07-03 | 電子ビーム露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0620931A true JPH0620931A (ja) | 1994-01-28 |
Family
ID=16015064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17652092A Pending JPH0620931A (ja) | 1992-07-03 | 1992-07-03 | 電子ビーム露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0620931A (ja) |
Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07187342A (ja) * | 1994-12-22 | 1995-07-25 | Kawamoto Kogyo Kk | 耐摩耗性の回動部材 |
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| US9400857B2 (en) | 2011-09-19 | 2016-07-26 | D2S, Inc. | Method and system for forming patterns using charged particle beam lithography |
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| US9859100B2 (en) | 2012-04-18 | 2018-01-02 | D2S, Inc. | Method and system for dimensional uniformity using charged particle beam lithography |
-
1992
- 1992-07-03 JP JP17652092A patent/JPH0620931A/ja active Pending
Cited By (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07187342A (ja) * | 1994-12-22 | 1995-07-25 | Kawamoto Kogyo Kk | 耐摩耗性の回動部材 |
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