JPH06204176A - プラズマ処理装置の制御方法 - Google Patents
プラズマ処理装置の制御方法Info
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- JPH06204176A JPH06204176A JP4360773A JP36077392A JPH06204176A JP H06204176 A JPH06204176 A JP H06204176A JP 4360773 A JP4360773 A JP 4360773A JP 36077392 A JP36077392 A JP 36077392A JP H06204176 A JPH06204176 A JP H06204176A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 マイクロ波自動整合器を用いてプラズマを
起動させた後、自動整合動作を開始させるプラズマ処理
装置の制御方法を提供する。 【構成】 マイクロ波発生源と、プラズマ生成室と、
マイクロ波自動整合器とを具備し、マイクロ波自動整合
器を構成するインピーダンス変換器のスタブを所望のス
タブ挿入量に移動させて、マイクロ波発生源とプラズマ
生成室とのインピーダンス整合を自動的に行うプラズマ
処理装置を対象とし、スタブをマイクロ波自動整合器よ
りプラズマ生成室側で共振状態となるスタブ挿入量に移
動させてプラズマを起動し、プラズマが起動した後に自
動整合動作を開始させることを特徴としている。
起動させた後、自動整合動作を開始させるプラズマ処理
装置の制御方法を提供する。 【構成】 マイクロ波発生源と、プラズマ生成室と、
マイクロ波自動整合器とを具備し、マイクロ波自動整合
器を構成するインピーダンス変換器のスタブを所望のス
タブ挿入量に移動させて、マイクロ波発生源とプラズマ
生成室とのインピーダンス整合を自動的に行うプラズマ
処理装置を対象とし、スタブをマイクロ波自動整合器よ
りプラズマ生成室側で共振状態となるスタブ挿入量に移
動させてプラズマを起動し、プラズマが起動した後に自
動整合動作を開始させることを特徴としている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、マイクロ波自動整合器
を有するプラズマ処理装置の制御方法に関するものであ
る。
を有するプラズマ処理装置の制御方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】プラズマ生成にマイクロ波を用いて所望
のプラズマ処理を行う場合、マイクロ波発生源から所定
のマイクロ波電力がプラズマ生成室（以下、負荷ともい
う。）のプラズマ発生空間に供給され、この空間でプラ
ズマが発生する。
のプラズマ処理を行う場合、マイクロ波発生源から所定
のマイクロ波電力がプラズマ生成室（以下、負荷ともい
う。）のプラズマ発生空間に供給され、この空間でプラ
ズマが発生する。
【０００３】プラズマ処理毎または処理中に、例えばプ
ラズマ生成室内における汚れ等の経時変化やガス流量や
圧力等の処理条件またはガスの種類等の処理雰囲気の変
動により、負荷のインピーダンスが変動する場合には、
負荷へマイクロ波電力を有効に送り込み、かつプラズマ
の安定性を良好にするために、マイクロ波自動整合器を
用いてマイクロ波発生源と負荷とのインピーダンス整合
が自動的に行われる。
ラズマ生成室内における汚れ等の経時変化やガス流量や
圧力等の処理条件またはガスの種類等の処理雰囲気の変
動により、負荷のインピーダンスが変動する場合には、
負荷へマイクロ波電力を有効に送り込み、かつプラズマ
の安定性を良好にするために、マイクロ波自動整合器を
用いてマイクロ波発生源と負荷とのインピーダンス整合
が自動的に行われる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、プラズマ発
生空間に供給されるガスの種類や圧力等の処理条件によ
り、プラズマ発生空間内のガスがプラズマ化され難く、
プラズマの起動が困難になることがあった。またプラズ
マが一旦発生しても、プラズマがプラズマ発生空間内で
偏ったり、不安定になったりして、プラズマの起動に失
敗することがあった。
生空間に供給されるガスの種類や圧力等の処理条件によ
り、プラズマ発生空間内のガスがプラズマ化され難く、
プラズマの起動が困難になることがあった。またプラズ
マが一旦発生しても、プラズマがプラズマ発生空間内で
偏ったり、不安定になったりして、プラズマの起動に失
敗することがあった。
【０００５】そこで、プラズマの起動を容易にさせるた
めに、圧力を高くしたり、また紫外線、電子銃などによ
りガスを電離したり、さらにマイクロ波発生源の容量を
アップすることが行われているが、作業が繁雑になり、
また製品コストがアップするという問題があった。
めに、圧力を高くしたり、また紫外線、電子銃などによ
りガスを電離したり、さらにマイクロ波発生源の容量を
アップすることが行われているが、作業が繁雑になり、
また製品コストがアップするという問題があった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の問題を
解決するために、請求項１に記載のプラズマ処理装置の
制御方法においては、マイクロ波発生源と、プラズマ生
成室と、マイクロ波自動整合器とを具備し、マイクロ波
自動整合器を構成するインピーダンス変換器のスタブを
所望のスタブ挿入量に移動させて、マイクロ波発生源と
プラズマ生成室とのインピーダンス整合を自動的に行う
プラズマ処理装置を対象とし、スタブをマイクロ波自動
整合器よりプラズマ生成室側で共振状態となるスタブ挿
入量に移動させてプラズマを起動し、プラズマが起動し
た後に自動整合動作を開始させることを特徴とする。
解決するために、請求項１に記載のプラズマ処理装置の
制御方法においては、マイクロ波発生源と、プラズマ生
成室と、マイクロ波自動整合器とを具備し、マイクロ波
自動整合器を構成するインピーダンス変換器のスタブを
所望のスタブ挿入量に移動させて、マイクロ波発生源と
プラズマ生成室とのインピーダンス整合を自動的に行う
プラズマ処理装置を対象とし、スタブをマイクロ波自動
整合器よりプラズマ生成室側で共振状態となるスタブ挿
入量に移動させてプラズマを起動し、プラズマが起動し
た後に自動整合動作を開始させることを特徴とする。
【０００７】また、請求項２に記載のプラズマ処理装置
の制御方法においては、マイクロ波発生源と、プラズマ
生成室と、マイクロ波が通過する導波管内の定在波を検
出する電圧定在波検出器，インピーダンス変換器及び制
御装置からなるマイクロ波自動整合器とを具備し、イン
ピーダンス変換器を構成するスタブを所望のスタブ挿入
量に移動させて、マイクロ波発生源とプラズマ生成室と
のインピーダンス整合を自動的に行うプラズマ処理装置
を対象とし、電圧定在波検出器の出力を用いてマイクロ
波の有無を制御装置により判断させ、マイクロ波が無い
ときに、スタブを制御装置に予め記憶させたマイクロ波
自動整合器よりプラズマ生成室側で共振状態となるスタ
ブ挿入量に移動させておき、マイクロ波が出力されたと
きに、プラズマを起動させ、プラズマが起動した後に自
動整合動作を開始させることを特徴とする。
の制御方法においては、マイクロ波発生源と、プラズマ
生成室と、マイクロ波が通過する導波管内の定在波を検
出する電圧定在波検出器，インピーダンス変換器及び制
御装置からなるマイクロ波自動整合器とを具備し、イン
ピーダンス変換器を構成するスタブを所望のスタブ挿入
量に移動させて、マイクロ波発生源とプラズマ生成室と
のインピーダンス整合を自動的に行うプラズマ処理装置
を対象とし、電圧定在波検出器の出力を用いてマイクロ
波の有無を制御装置により判断させ、マイクロ波が無い
ときに、スタブを制御装置に予め記憶させたマイクロ波
自動整合器よりプラズマ生成室側で共振状態となるスタ
ブ挿入量に移動させておき、マイクロ波が出力されたと
きに、プラズマを起動させ、プラズマが起動した後に自
動整合動作を開始させることを特徴とする。
【０００８】さらに、請求項３に記載のプラズマ処理装
置の制御方法においては、マイクロ波発生源と、プラズ
マ生成室と、マイクロ波が通過する導波管内の定在波を
検出する電圧定在波検出器，インピーダンス変換器及び
制御装置からなるマイクロ波自動整合器とを具備し、イ
ンピーダンス変換器を構成するスタブを所望のスタブ挿
入量に移動させて、マイクロ波発生源とプラズマ生成室
とのインピーダンス整合を自動的に行うプラズマ処理装
置を対象とし、電圧定在波検出器の出力を用いてマイク
ロ波の有無を制御装置により判断させ、マイクロ波が無
いときに、スタブを制御装置に予め記憶させたマイクロ
波自動整合器よりプラズマ生成室側で共振状態となるス
タブ挿入量に移動させておき、マイクロ波が出力された
ときに、プラズマを起動させ、プラズマの起動に伴う反
射係数の変化により自動整合動作を開始させることを特
徴とする。
置の制御方法においては、マイクロ波発生源と、プラズ
マ生成室と、マイクロ波が通過する導波管内の定在波を
検出する電圧定在波検出器，インピーダンス変換器及び
制御装置からなるマイクロ波自動整合器とを具備し、イ
ンピーダンス変換器を構成するスタブを所望のスタブ挿
入量に移動させて、マイクロ波発生源とプラズマ生成室
とのインピーダンス整合を自動的に行うプラズマ処理装
置を対象とし、電圧定在波検出器の出力を用いてマイク
ロ波の有無を制御装置により判断させ、マイクロ波が無
いときに、スタブを制御装置に予め記憶させたマイクロ
波自動整合器よりプラズマ生成室側で共振状態となるス
タブ挿入量に移動させておき、マイクロ波が出力された
ときに、プラズマを起動させ、プラズマの起動に伴う反
射係数の変化により自動整合動作を開始させることを特
徴とする。
【０００９】
【作用】上記した請求項１の発明によれば、マイクロ波
自動整合器を用いてプラズマを起動させることを見い出
したことにより、他のプラズマ起動手段を用いることな
く、容易にプラズマを起動させることができ、かつ、プ
ラズマ起動後は通常の自動整合動作に移行させることが
できる。
自動整合器を用いてプラズマを起動させることを見い出
したことにより、他のプラズマ起動手段を用いることな
く、容易にプラズマを起動させることができ、かつ、プ
ラズマ起動後は通常の自動整合動作に移行させることが
できる。
【００１０】また、請求項２の発明によれば、マイクロ
波自動整合器よりプラズマ生成室側で共振状態となるよ
うに、整合器のスタブを所定位置に予め移動させている
ので、マイクロ波発生源からマイクロ波が出力される
と、即座にプラズマを起動させることができ、かつ、プ
ラズマ起動後は通常の自動整合動作に移行させることが
できる。
波自動整合器よりプラズマ生成室側で共振状態となるよ
うに、整合器のスタブを所定位置に予め移動させている
ので、マイクロ波発生源からマイクロ波が出力される
と、即座にプラズマを起動させることができ、かつ、プ
ラズマ起動後は通常の自動整合動作に移行させることが
できる。
【００１１】さらに、請求項３の発明によれば、マイク
ロ波電力が徐々に増加するなど、マイクロ波の入射に対
しプラズマの起動が時間的に遅れる場合、プラズマが起
動したことを確認してから、通常の自動整合動作に移行
させることができる。
ロ波電力が徐々に増加するなど、マイクロ波の入射に対
しプラズマの起動が時間的に遅れる場合、プラズマが起
動したことを確認してから、通常の自動整合動作に移行
させることができる。
【００１２】
【実施例】実施例１ 図１は本発明の方法を実施するためのプラズマ処理装置
の要部構成図、図２はこのプラズマ処理装置に用いたマ
イクロ波自動整合器を構成するインピーダンス変換器を
示す説明図であり、図１に示すプラズマ処理装置として
は、例えばＥＣＲプラズマ・ドライエッチング装置であ
る。
の要部構成図、図２はこのプラズマ処理装置に用いたマ
イクロ波自動整合器を構成するインピーダンス変換器を
示す説明図であり、図１に示すプラズマ処理装置として
は、例えばＥＣＲプラズマ・ドライエッチング装置であ
る。
【００１３】プラズマ処理装置は、高圧電源１と、マイ
クロ波発生源２と、アイソレータ３と、方向性結合器４
と、導波管５と、マイクロ波自動整合器６と、プラズマ
生成室７と、石英等からなるベルジャ８と、電磁コイル
９と、下部ステージ１０とを有しており、下部ステージ
１０上には、例えばサブミクロンの設計ルールの半導体
集積回路が形成されるシリコン（Ｓｉ）からなる半導体
ウエハ（被処理物）１１が載置されている。なお、マイ
クロ波自動整合器６は、電圧定在波検出器６１，インピ
ーダンス変換器６２及びコンピュータ（制御装置）６３
から構成されている。
クロ波発生源２と、アイソレータ３と、方向性結合器４
と、導波管５と、マイクロ波自動整合器６と、プラズマ
生成室７と、石英等からなるベルジャ８と、電磁コイル
９と、下部ステージ１０とを有しており、下部ステージ
１０上には、例えばサブミクロンの設計ルールの半導体
集積回路が形成されるシリコン（Ｓｉ）からなる半導体
ウエハ（被処理物）１１が載置されている。なお、マイ
クロ波自動整合器６は、電圧定在波検出器６１，インピ
ーダンス変換器６２及びコンピュータ（制御装置）６３
から構成されている。
【００１４】マイクロ波発生源２には、図示しないマグ
ネトロンが設置されている。マグネトロンは、高圧電源
１から高電圧が印加されると、例えば２．４５ＧHzのマ
イクロ波を発生するようになっている。マイクロ波発生
源２から発生したマイクロ波は、導波管５を通じてプラ
ズマ生成室７内へ伝搬されるようになっている。
ネトロンが設置されている。マグネトロンは、高圧電源
１から高電圧が印加されると、例えば２．４５ＧHzのマ
イクロ波を発生するようになっている。マイクロ波発生
源２から発生したマイクロ波は、導波管５を通じてプラ
ズマ生成室７内へ伝搬されるようになっている。
【００１５】電圧定在波検出器６１は、導波管５内の例
えば電圧定在波の振幅等の定在波を検出するための検出
部であり、マイクロ波の導波管内波長をλｇとすると、
例えばλｇ／４，λｇ／６，λｇ／８おきに配置された
少なくとも３本の探針（図示せず）によって構成されて
いる。また、コンピュータ６３と電気的に接続されてお
り、検出された定在波信号等をコンピュータ６３に伝送
するようになっている。
えば電圧定在波の振幅等の定在波を検出するための検出
部であり、マイクロ波の導波管内波長をλｇとすると、
例えばλｇ／４，λｇ／６，λｇ／８おきに配置された
少なくとも３本の探針（図示せず）によって構成されて
いる。また、コンピュータ６３と電気的に接続されてお
り、検出された定在波信号等をコンピュータ６３に伝送
するようになっている。
【００１６】ところで、本発明者の検討によれば、マイ
クロ波発生源２からマイクロ波を出力させた状態で、イ
ンピーダンス変換器６２のスタブ挿入量を種々変化させ
ると、プラズマ生成室（負荷）７で反射して戻ってきた
マイクロ波がスタブの所で再び反射して負荷側に進行す
るために、あるスタブ挿入量にすれば、マイクロ波自動
整合器６と負荷７との間が共振状態またはそれに近い状
態、すなわちプラズマ生成室７内の電界が強大になるこ
とが見い出された。したがって、本実施例のプラズマ処
理装置におけるマイクロ波自動整合器６においては、マ
イクロ波発生源２と負荷７とのインピーダンスを整合す
る機能を備えるとともに、プラズマ処理装置の立ち上げ
時に、プラズマを容易に起動させることができる機能も
備えている。
クロ波発生源２からマイクロ波を出力させた状態で、イ
ンピーダンス変換器６２のスタブ挿入量を種々変化させ
ると、プラズマ生成室（負荷）７で反射して戻ってきた
マイクロ波がスタブの所で再び反射して負荷側に進行す
るために、あるスタブ挿入量にすれば、マイクロ波自動
整合器６と負荷７との間が共振状態またはそれに近い状
態、すなわちプラズマ生成室７内の電界が強大になるこ
とが見い出された。したがって、本実施例のプラズマ処
理装置におけるマイクロ波自動整合器６においては、マ
イクロ波発生源２と負荷７とのインピーダンスを整合す
る機能を備えるとともに、プラズマ処理装置の立ち上げ
時に、プラズマを容易に起動させることができる機能も
備えている。
【００１７】インピーダンス変換器６２は、図２に示す
ように、例えば３本のスタブ６２a1〜６２a3と各スタブ
６２a1〜６２a3毎に配置されたパルスモータ６２b1〜６
２b3とから構成され、電圧定在波検出器６１より負荷７
側に設けられており、電圧定在波検出器６１を構成する
探針から、例えば電圧定在波検出器６１へスタブによる
乱れが生じない程度に離れた位置に配置されている。ま
た、各スタブ６２a1〜６２a3は、導波管５内に例えばλ
ｇ／４，λｇ／６，λｇ／８おきに配置されている。そ
して、各スタブ６２a1〜６２a3の挿入、抜き出し動作
は、各パルスモータ６２b1〜６２b3によって独立して制
御されるようになっており、このパルスモータ６２b1〜
６２b3はコンピュータ６３と電気的に接続されており、
コンピュータ６３によって、その動作が制御されるよう
になっている。
ように、例えば３本のスタブ６２a1〜６２a3と各スタブ
６２a1〜６２a3毎に配置されたパルスモータ６２b1〜６
２b3とから構成され、電圧定在波検出器６１より負荷７
側に設けられており、電圧定在波検出器６１を構成する
探針から、例えば電圧定在波検出器６１へスタブによる
乱れが生じない程度に離れた位置に配置されている。ま
た、各スタブ６２a1〜６２a3は、導波管５内に例えばλ
ｇ／４，λｇ／６，λｇ／８おきに配置されている。そ
して、各スタブ６２a1〜６２a3の挿入、抜き出し動作
は、各パルスモータ６２b1〜６２b3によって独立して制
御されるようになっており、このパルスモータ６２b1〜
６２b3はコンピュータ６３と電気的に接続されており、
コンピュータ６３によって、その動作が制御されるよう
になっている。
【００１８】さて、上記のプラズマ処理装置において、
プラズマを生成する際には、プラズマ生成室７内に、例
えばＯ2 ガスを１５０ml／min 程度導入し、ロータリー
ポンプ（図示せず）によりプラズマ生成室７内の圧力
を、例えば１．６×10-3Torr程度とする。この際、半導
体ウエハ１１と下部ステージ１０との間に、例えばウエ
ハ冷却用のヘリウム（Ｈｅ）を７ml／min 程度導入す
る。
プラズマを生成する際には、プラズマ生成室７内に、例
えばＯ2 ガスを１５０ml／min 程度導入し、ロータリー
ポンプ（図示せず）によりプラズマ生成室７内の圧力
を、例えば１．６×10-3Torr程度とする。この際、半導
体ウエハ１１と下部ステージ１０との間に、例えばウエ
ハ冷却用のヘリウム（Ｈｅ）を７ml／min 程度導入す
る。
【００１９】この状態で高圧電源１からマイクロ波発生
源２のマグネトロンに、例えば８５０Ｗ程度の電力を供
給して、例えば２．４５ＧHzのマイクロ波を発生させ、
インピーダンス変換器６２の各スタブ６２a1〜６２a3
を、コンピュータ６３の記憶部６３ｍに前述した共振状
態を生じさせる予め設定されたスタブ挿入量に移動させ
ると、プラズマがプラズマ生成室７のプラズマ発生空間
で容易に起動させることができる。
源２のマグネトロンに、例えば８５０Ｗ程度の電力を供
給して、例えば２．４５ＧHzのマイクロ波を発生させ、
インピーダンス変換器６２の各スタブ６２a1〜６２a3
を、コンピュータ６３の記憶部６３ｍに前述した共振状
態を生じさせる予め設定されたスタブ挿入量に移動させ
ると、プラズマがプラズマ生成室７のプラズマ発生空間
で容易に起動させることができる。
【００２０】このようにして、プラズマが起動したと同
時または起動して直ぐに、電圧定在波検出器６１は、定
在波信号等を検出し、その信号をコンピュータ６３に伝
送する。コンピュータ６３は、伝送された定在波信号に
基づいて、例えば電圧定在波の振幅と位相とを算出し、
さらにその値に基づいて負荷のインピーダンス値を算出
するとともに、例えば本実施例においては、その算出値
に基づいて反射波が零（０）となるように、インピーダ
ンス変換器６２に制御信号を伝送し、通常の自動整合動
作に移行する。
時または起動して直ぐに、電圧定在波検出器６１は、定
在波信号等を検出し、その信号をコンピュータ６３に伝
送する。コンピュータ６３は、伝送された定在波信号に
基づいて、例えば電圧定在波の振幅と位相とを算出し、
さらにその値に基づいて負荷のインピーダンス値を算出
するとともに、例えば本実施例においては、その算出値
に基づいて反射波が零（０）となるように、インピーダ
ンス変換器６２に制御信号を伝送し、通常の自動整合動
作に移行する。
【００２１】実施例２ ところで、上記の実施例においては、マイクロ波発生源
２からマイクロ波を出力させた状態で、各スタブを予め
設定された挿入量に移動させて、プラズマを起動させた
が、マイクロ波発生源からマイクロ波を出力させる前
に、インピーダンス変換器６２の各スタブ６２a1〜６２
a3を予め設定されたスタブ挿入量に移動させておく。す
なわち、本実施例２においては、マイクロ波発生源２の
電源投入と同時に、プラズマを即座に起動させることが
でき、その後は、前述したように、通常の自動整合動作
に移行させることができる。
２からマイクロ波を出力させた状態で、各スタブを予め
設定された挿入量に移動させて、プラズマを起動させた
が、マイクロ波発生源からマイクロ波を出力させる前
に、インピーダンス変換器６２の各スタブ６２a1〜６２
a3を予め設定されたスタブ挿入量に移動させておく。す
なわち、本実施例２においては、マイクロ波発生源２の
電源投入と同時に、プラズマを即座に起動させることが
でき、その後は、前述したように、通常の自動整合動作
に移行させることができる。
【００２２】実施例３ ところで、上記の実施例１，２においては、各スタブを
予め設定された挿入量に移動させることにより、プラズ
マが起動したと同時または起動して直ぐに、自動整合動
作を開始させていたが、プラズマが起動したことを確認
してから、整合動作に移行させる。すなわち、本実施例
３においては、マイクロ波電力が徐々に増加するなど、
マイクロ波の入射に対しプラズマの起動が時間的に遅れ
る場合、プラズマの起動に伴って電圧定在波検出器６１
によって検出された定在波量等に基づいて、例えば電圧
定在波の振幅と位相とを算出し、その値に基づいて算出
した反射係数の変化を捕えた後に、前述したように、通
常の自動整合動作に移行させることができる。
予め設定された挿入量に移動させることにより、プラズ
マが起動したと同時または起動して直ぐに、自動整合動
作を開始させていたが、プラズマが起動したことを確認
してから、整合動作に移行させる。すなわち、本実施例
３においては、マイクロ波電力が徐々に増加するなど、
マイクロ波の入射に対しプラズマの起動が時間的に遅れ
る場合、プラズマの起動に伴って電圧定在波検出器６１
によって検出された定在波量等に基づいて、例えば電圧
定在波の振幅と位相とを算出し、その値に基づいて算出
した反射係数の変化を捕えた後に、前述したように、通
常の自動整合動作に移行させることができる。
【００２３】以上の実施例においては、ＥＣＲプラズマ
処理装置を例示したが、他の方式のプラズマ処理装置に
本発明の方法が適用できるのは言うまでもない。
処理装置を例示したが、他の方式のプラズマ処理装置に
本発明の方法が適用できるのは言うまでもない。
【００２４】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、特別の
プラズマ起動手段を用いることなく、また処理条件を変
えることなく、容易かつ確実にプラズマを起動させるこ
とができる。さらに、プラズマに効率的にマイクロ波電
力が供給でき、プラズマ起動も最小のマイクロ波電力で
行えるので、必要なマイクロ波発生源の容量を最小限に
抑えることができる。
プラズマ起動手段を用いることなく、また処理条件を変
えることなく、容易かつ確実にプラズマを起動させるこ
とができる。さらに、プラズマに効率的にマイクロ波電
力が供給でき、プラズマ起動も最小のマイクロ波電力で
行えるので、必要なマイクロ波発生源の容量を最小限に
抑えることができる。
【００２５】特に請求項２によれば、プラズマを起動さ
せる時間が短縮される。
せる時間が短縮される。
【００２６】また請求項３によれば、プラズマに限ら
ず、マイクロ波の供給によりインピーダンスが別の値に
遷移するような負荷に対して有効である。
ず、マイクロ波の供給によりインピーダンスが別の値に
遷移するような負荷に対して有効である。
【図１】本発明の方法を実施するためのプラズマ処理装
置の要部構成図である。
置の要部構成図である。
【図２】図１のプラズマ処理装置に用いたマイクロ波自
動整合器を構成するインピーダンス変換器を示す説明図
である。
動整合器を構成するインピーダンス変換器を示す説明図
である。
２ マイクロ波発生源 ５ 導波管 ６ マイクロ波自動整合器 ６１ 電圧定在波検出器 ６２ インピーダンス変換器 ６３ コンピュータ（制御装置） ７ プラズマ生成室 ６２a1〜６２a3 スタブ
Claims (3)
- 【請求項１】マイクロ波発生源と、プラズマ生成室と、
マイクロ波自動整合器とを具備し、前記マイクロ波自動
整合器を構成するインピーダンス変換器のスタブを所望
のスタブ挿入量に移動させて、前記マイクロ波発生源と
プラズマ生成室とのインピーダンス整合を自動的に行う
プラズマ処理装置において、 前記スタブを前記マイクロ波自動整合器よりプラズマ生
成室側で共振状態となるスタブ挿入量に移動させてプラ
ズマを起動し、前記プラズマが起動した後に自動整合動
作を開始させるプラズマ処理装置の制御方法。 - 【請求項２】マイクロ波発生源と、プラズマ生成室と、
マイクロ波が通過する導波管内の定在波を検出する電圧
定在波検出器，インピーダンス変換器及び制御装置から
なるマイクロ波自動整合器とを具備し、前記インピーダ
ンス変換器を構成するスタブを所望のスタブ挿入量に移
動させて、前記マイクロ波発生源とプラズマ生成室との
インピーダンス整合を自動的に行うプラズマ処理装置に
おいて、 前記電圧定在波検出器の出力を用いてマイクロ波の有無
を前記制御装置により判断させ、マイクロ波が無いとき
に、前記スタブを前記制御装置に予め記憶させた前記マ
イクロ波自動整合器よりプラズマ生成室側で共振状態と
なるスタブ挿入量に移動させておき、マイクロ波が出力
されたときに、プラズマを起動させ、前記プラズマが起
動した後に自動整合動作を開始させるプラズマ処理装置
の制御方法。 - 【請求項３】マイクロ波発生源と、プラズマ生成室と、
マイクロ波が通過する導波管内の定在波を検出する電圧
定在波検出器，インピーダンス変換器及び制御装置から
なるマイクロ波自動整合器とを具備し、前記インピーダ
ンス変換器を構成するスタブを所望のスタブ挿入量に移
動させて、前記マイクロ波発生源とプラズマ生成室との
インピーダンス整合を自動的に行うプラズマ処理装置に
おいて、 前記電圧定在波検出器の出力を用いてマイクロ波の有無
を前記制御装置により判断させ、マイクロ波が無いとき
に、前記スタブを前記制御装置に予め記憶させた前記マ
イクロ波自動整合器よりプラズマ生成室側で共振状態と
なるスタブ挿入量に移動させておき、マイクロ波が出力
されたときに、プラズマを起動させ、前記プラズマの起
動に伴う反射係数の変化により自動整合動作を開始させ
るプラズマ処理装置の制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36077392A JP3287041B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | プラズマ処理装置の制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36077392A JP3287041B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | プラズマ処理装置の制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06204176A true JPH06204176A (ja) | 1994-07-22 |
| JP3287041B2 JP3287041B2 (ja) | 2002-05-27 |
Family
ID=18470860
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36077392A Expired - Lifetime JP3287041B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | プラズマ処理装置の制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3287041B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100775881B1 (ko) * | 2002-07-24 | 2007-11-13 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 플라즈마 처리 장치 및 그 제어 방법 |
| KR100789796B1 (ko) * | 2000-03-30 | 2007-12-31 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 플라즈마 처리 장치 |
| JP2013098054A (ja) * | 2011-11-01 | 2013-05-20 | Ulvac Japan Ltd | マイクロ波導入装置 |
-
1992
- 1992-12-28 JP JP36077392A patent/JP3287041B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100789796B1 (ko) * | 2000-03-30 | 2007-12-31 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 플라즈마 처리 장치 |
| KR100775881B1 (ko) * | 2002-07-24 | 2007-11-13 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 플라즈마 처리 장치 및 그 제어 방법 |
| JP2013098054A (ja) * | 2011-11-01 | 2013-05-20 | Ulvac Japan Ltd | マイクロ波導入装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3287041B2 (ja) | 2002-05-27 |
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