JPH06195705A - Method and apparatus for manufacturing magnetic recording medium - Google Patents
Method and apparatus for manufacturing magnetic recording mediumInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、磁性層となる磁性薄膜
を真空蒸着やＣＶＤ、スパッタ等の真空薄膜形成手段に
より非磁性支持体上に形成した磁気記録媒体の、該磁性
薄膜上に真空蒸着、ＣＶＤ、スパッタ等の真空薄膜形成
法により保護膜を形成する磁気記録媒体の製造方法、及
び、この磁気記録媒体の製造過程に於て、保護膜の膜厚
を光線反射率の変化を用いて測定する光線反射率測定計
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium in which a magnetic thin film to be a magnetic layer is formed on a non-magnetic support by a vacuum thin film forming means such as vacuum deposition, CVD, sputtering or the like. A method of manufacturing a magnetic recording medium in which a protective film is formed by a vacuum thin film forming method such as vapor deposition, CVD, sputtering, etc., and in the manufacturing process of this magnetic recording medium, the thickness of the protective film is changed by changing the light reflectance. The present invention relates to a light reflectance measuring instrument for measuring by.
【０００２】[0002]
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、磁気記録媒体としては、非磁性支持体上に酸化物磁
性粉末あるいは合金磁性粉末等の粉末磁性材料を塩化ビ
ニル−酢酸ビニル系共重合体、ポリエステル樹脂、ウレ
タン樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機バインダ−中に分
散せしめた磁性塗料を塗布、乾燥することにより作成さ
れる塗布型の磁気記録媒体が広く使用されている。2. Description of the Related Art Conventionally, as a magnetic recording medium, a powder magnetic material such as an oxide magnetic powder or an alloy magnetic powder is placed on a non-magnetic support in a vinyl chloride-vinyl acetate based copolymer. A coating type magnetic recording medium prepared by coating and drying a magnetic coating material dispersed in an organic binder such as coalesced polyester resin, urethane resin or polyurethane resin is widely used.
【０００３】これに対して、高密度磁気記録への要求の
高まりと共に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ
−Ｏ等の金属磁性材料を、メッキや真空薄膜形成手段
（真空蒸着法やスパッタリング法、イオンプレ−ティン
グ法等）によってポリエステルフィルムやポリアミド、
ポリイミドフィルム等の非磁性支持体上に直接被着し
た、いわゆる金属磁性薄膜型の磁気記録媒体が提案され
注目を集めている。この金属磁性薄膜型の磁気記録媒体
は抗磁力や角形比等に優れ、短波長での電磁変換特性に
優れるばかりでなく、磁性層の厚さをきわめて薄くでき
る為、記録減磁や再生時の厚さ損失が著しく小さいこ
と、磁性層中に非磁性材であるそのバインダ−を混入す
る必要が無いため磁性材料の充填密度を高めることが出
来ることなど、数々の利点を有している。On the other hand, with the increasing demand for high-density magnetic recording, Co--Ni alloys, Co--Cr alloys, Co
A metal magnetic material such as -O is coated with a polyester film or polyamide by plating or vacuum thin film forming means (vacuum vapor deposition method, sputtering method, ion plating method, etc.).
A so-called metal magnetic thin film type magnetic recording medium, which is directly deposited on a non-magnetic support such as a polyimide film, has been proposed and attracts attention. This metal magnetic thin film type magnetic recording medium is not only excellent in coercive force and squareness ratio and excellent in electromagnetic conversion characteristics at short wavelengths, but also can make the thickness of the magnetic layer extremely thin, so that recording demagnetization or reproduction The thickness loss is extremely small, and it is not necessary to mix the binder, which is a non-magnetic material, into the magnetic layer, so that the packing density of the magnetic material can be increased, and so on.
【０００４】更に、この種の磁気記録媒体の電磁変換特
性を向上させ、より大きな出力を得ることが出来るよう
にするために、該磁気記録媒体の磁性層を形成する場
合、磁性層を斜めに蒸着するいわゆる斜方蒸着が提案さ
れ実用化されている。Further, in order to improve the electromagnetic conversion characteristics of this kind of magnetic recording medium and to obtain a larger output, when forming the magnetic layer of the magnetic recording medium, the magnetic layer is slanted. So-called oblique vapor deposition for vapor deposition has been proposed and put to practical use.
【０００５】これら、金属薄膜型の磁気記録媒体は耐久
性、耐錆性に問題があると言われており、従来よりコ−
ティングによる潤滑剤、防錆剤などの有機材料の検討や
微粒子を磁性層形成前に非磁性支持体上に塗布するいわ
ゆる下塗技術の検討がなされてきた。しかし、これらの
技術では、特殊な環境下に於ける使用や業務用のような
苛酷な仕様に充分に満足できる特性を実現できないた
め、新たな手法として真空蒸着、スパッタ、プラズマＣ
ＶＤ等の真空薄膜形成手段による表面保護膜の検討が行
われてきた。It is said that these metal thin film type magnetic recording media have problems in durability and rust resistance.
Investigations have been made on organic materials such as lubricants and rust preventives by coating, and on so-called undercoating technology for coating fine particles on a non-magnetic support before forming a magnetic layer. However, with these technologies, it is not possible to achieve the characteristics that can be fully satisfied with the harsh specifications for use in a special environment or for commercial use, so vacuum deposition, sputtering, plasma C
A surface protective film has been studied by a vacuum thin film forming means such as VD.
【０００６】このような状況の中で我々は、スパッタ法
による保護膜作成技術により耐久性、耐蝕性にすぐれた
磁気記録媒体の開発に成功したが量産時の保護膜の品質
の安定性に欠け問題となっていた。Under these circumstances, we have succeeded in developing a magnetic recording medium excellent in durability and corrosion resistance by the protective film forming technique by the sputtering method, but lack the stability of the quality of the protective film during mass production. It was a problem.
【０００７】この原因を調査した結果、スパッタ時のエ
ロ−ジョン形状の変化に伴う形成時の厚さむらにあるこ
とが判明し、この現象の対策を実施する必要が発生し
た。従来の厚さ測定法は、光線透過率を測定しその値か
ら換算する方法や、Ｘ線を利用する方法などがあるが、
前者は多層の場合に下層の厚さのむらにより上層の保護
膜厚の結果が影響され、保護膜の制御の安定性に欠け
る。後者は設備が高価でかつ大規模になり、大面積の保
護膜厚の平均値しか得られない点からインラインで真空
中の巻取り走行系に設置することは不適当である。As a result of investigating the cause of this, it was found that there was unevenness in the thickness at the time of formation due to a change in the erosion shape at the time of sputtering, and it was necessary to take measures against this phenomenon. Conventional thickness measurement methods include a method of measuring light transmittance and converting from the value, a method of using X-rays, etc.
In the case of the former, in the case of a multi-layer, the result of the protective film thickness of the upper layer is affected by the unevenness of the thickness of the lower layer, and the stability of control of the protective film is lacking. The latter is expensive and large-scale equipment, and only an average value of the protective film thickness of a large area can be obtained, so that it is inappropriate to install it inline in a winding traveling system in vacuum.
【０００８】そこで、本発明はかかる従来の実情に鑑み
て提案されたものであり、真空薄膜形成手段により非磁
性支持体上に磁性膜、中間膜、保護膜等の積層膜を形成
する磁気記録媒体の製造方法において、前記保護膜形成
後あるいは形成前後の磁気記録媒体の光線反射率から保
護膜の膜厚測定することにより、Therefore, the present invention has been proposed in view of such conventional circumstances, and magnetic recording in which a laminated film such as a magnetic film, an intermediate film and a protective film is formed on a non-magnetic support by vacuum thin film forming means. In the method for producing a medium, by measuring the film thickness of the protective film from the light reflectance of the magnetic recording medium after or before the formation of the protective film,
【０００９】または、前記磁気記録媒体の製造装置にお
いて、保護膜形成後あるいは形成前後の磁気記録媒体の
光線反射率から保護膜の膜厚を測定するための光線反射
率測定計を備えてなることにより、前記保護膜の膜厚の
測定精度の向上を図ることが可能となり、安定した前記
保護膜の膜厚が得られ、電磁変換特性及び信頼性の安定
した「ばらつき」の少ない磁気記録媒体を提供する。Alternatively, the magnetic recording medium manufacturing apparatus is provided with a light reflectance measuring instrument for measuring the film thickness of the protective film from the light reflectance of the magnetic recording medium after or before the formation of the protective film. This makes it possible to improve the measurement accuracy of the film thickness of the protective film, obtain a stable film thickness of the protective film, and provide a magnetic recording medium having stable electromagnetic conversion characteristics and reliability and less "variation". provide.
【００１０】一方、上述したように、磁気記録媒体の電
磁変換特性を向上させ、より大きな出力を得ることが出
来るようにするために、該磁気記録媒体の磁性層を形成
する場合、磁性層を斜めに蒸着するいわゆる斜方蒸着が
提案され実用化されている。On the other hand, as described above, when the magnetic layer of the magnetic recording medium is formed in order to improve the electromagnetic conversion characteristics of the magnetic recording medium and obtain a larger output, the magnetic layer is A so-called oblique vapor deposition method of oblique vapor deposition has been proposed and put into practical use.
【００１１】これら、金属薄膜型の磁気記録媒体は耐久
性に問題があると言われており、従来から、磁性薄膜形
成時に酸素を導入して磁性薄膜表面に酸化層を形成する
ことにより耐久性を改善する技術の検討がなされてき
た。It is said that these metal thin film type magnetic recording media have a problem in durability. Conventionally, when a magnetic thin film is formed, oxygen is introduced to form an oxide layer on the surface of the magnetic thin film. Techniques for improving the above have been studied.
【００１２】しかし、この磁性薄膜表面の酸化層の厚さ
が適正値以上であるとスペ−シングロスが増加して磁気
記録媒体の電磁変換特性を劣化させることがわかってい
る。そこで、製造時にこの磁性薄膜表面の酸化層の厚さ
を測定管理する必要が発生した。従来は酸化層の厚さの
測定法としては、ＡＥＳ（オ−ジェ電子分光分析）によ
る方法があるが、非破壊検査ではなく、またリアルタイ
ムの測定も不可能である。これよりインラインの走行系
に設置することは不適当である。However, it has been known that when the thickness of the oxide layer on the surface of the magnetic thin film is more than an appropriate value, the spacing loss increases and the electromagnetic conversion characteristics of the magnetic recording medium deteriorate. Therefore, it became necessary to measure and control the thickness of the oxide layer on the surface of the magnetic thin film during manufacturing. Conventionally, as a method for measuring the thickness of the oxide layer, there is a method by AES (Auger electron spectroscopy), but it is not a nondestructive inspection and real-time measurement is impossible. Therefore, it is inappropriate to install it in the in-line traveling system.
【００１３】そこで、本発明はかかる従来の実情に鑑み
て提案されたものであり、真空薄膜形成手段により非磁
性支持体上に磁性薄膜を形成する磁気記録媒体の製造方
法において、前記磁性薄膜の形成後の磁気記録媒体の光
線反射率から磁性薄膜表面の酸化層の厚さを測定するこ
とにより、Therefore, the present invention has been proposed in view of such conventional circumstances, and in the method of manufacturing a magnetic recording medium in which a magnetic thin film is formed on a non-magnetic support by a vacuum thin film forming means, By measuring the thickness of the oxide layer on the surface of the magnetic thin film from the light reflectance of the magnetic recording medium after formation,
【００１４】または、前記磁気記録媒体の製造装置にお
いて、磁性薄膜の形成後の磁気記録媒体の光線反射率か
ら磁性薄膜表面の酸化層の厚さを測定するための光線反
射率測定計を備えてなることにより、前記磁性薄膜表面
の酸化層の厚さの測定精度の向上を図ることが可能とな
り、安定した前記磁性薄膜表面の酸化層の厚さが得ら
れ、電磁変換特性及び信頼性の安定した「ばらつき」の
少ない磁気記録媒体を提供する。Alternatively, the magnetic recording medium manufacturing apparatus is provided with a light reflectance measuring instrument for measuring the thickness of the oxide layer on the surface of the magnetic thin film from the light reflectance of the magnetic recording medium after the magnetic thin film is formed. By so doing, it is possible to improve the accuracy of measurement of the thickness of the oxide layer on the surface of the magnetic thin film, obtain a stable thickness of the oxide layer on the surface of the magnetic thin film, and stabilize the electromagnetic conversion characteristics and reliability. A magnetic recording medium with less "variation" is provided.
【００１５】また、上述したように、我々は、スパッタ
法による保護膜作成技術により耐久性、耐蝕性にすぐれ
た磁気記録媒体の開発に成功したが、量産時の保護膜の
品質の安定性に欠け問題となっていた。Further, as described above, we have succeeded in developing a magnetic recording medium excellent in durability and corrosion resistance by the technique of forming a protective film by the sputtering method. However, the quality of the protective film is stable during mass production. It was a lacking problem.
【００１６】この原因を調査した結果、スパッタ時のエ
ロ−ジョン形状の変化に伴う形成時の厚さむらにあるこ
とが判明し、この現象の対策を実施する必要が発生し
た。従来の厚さ測定法は、光線透過率を測定しその値か
ら換算する方法や、Ｘ線を利用する方法などがあるが、
前者は多層の場合に下層の厚さのむらにより上層の保護
膜厚の結果が影響され、保護膜の制御の安定性に欠け
る。後者は設備が高価でかつ大規模になり、大面積の保
護膜厚の平均値しか得られない点からインラインで真空
中の巻取り走行系に設置することは不適当である。As a result of investigating the cause of this, it was found that there was unevenness in the thickness at the time of formation due to a change in the erosion shape at the time of sputtering, and it was necessary to take measures against this phenomenon. Conventional thickness measurement methods include a method of measuring light transmittance and converting from the value, a method of using X-rays, etc.
In the case of the former, in the case of a multi-layer, the result of the protective film thickness of the upper layer is affected by the unevenness of the thickness of the lower layer, and the stability of control of the protective film is lacking. The latter is expensive and large-scale equipment, and only an average value of the protective film thickness of a large area can be obtained, so that it is inappropriate to install it inline in a winding traveling system in vacuum.
【００１７】そこで、本発明はかかる従来の実情に鑑み
て提案されたものであり、真空薄膜形成手段により非磁
性支持体上に金属磁性薄膜、中間膜、保護膜等の積層膜
を形成する製造方法において、保護膜の形成後、または
保護膜の形成前後に透明焦点補償板を持った光学ピック
アップを有する光線反射率測定計を設置し、磁気記録媒
体の光線反射率を計測することにより、保護膜厚を測定
する膜厚測定方法及び装置を提供するものである。Therefore, the present invention has been proposed in view of such conventional circumstances, and is a manufacturing method for forming a laminated film such as a metal magnetic thin film, an intermediate film, and a protective film on a non-magnetic support by a vacuum thin film forming means. In the method, after the protective film is formed or before and after the protective film is formed, a light reflectivity measuring instrument having an optical pickup having a transparent focus compensating plate is installed, and the light reflectivity of the magnetic recording medium is measured to protect it. The present invention provides a film thickness measuring method and device for measuring the film thickness.
【００１８】また、本発明は、真空薄膜形成手段により
金属磁性薄膜媒体上に磁性膜、中間膜、保護膜等の積層
膜を形成する製造方法において、保護膜の形成前後に光
線反射率測定装置を設置し、磁気記録媒体の光線反射率
で膜厚を測定する保護膜の膜厚測定装置、さらに測定値
を用いることにより作成された保護膜層の厚さの安定性
に優れた磁気記録媒体を実現する為の製造装置を提供す
るものである。Further, the present invention is a manufacturing method for forming a laminated film such as a magnetic film, an intermediate film and a protective film on a metal magnetic thin film medium by means of a vacuum thin film forming means, and a light reflectance measuring device before and after forming the protective film. And a magnetic recording medium excellent in the stability of the thickness of the protective film formed by using the measurement value of the protective film for measuring the film thickness by the light reflectance of the magnetic recording medium. A manufacturing apparatus for realizing the above is provided.
【００１９】[0019]
【課題を解決するための手段】本発明は、非磁性支持体
上に真空中での薄膜形成法により磁性薄膜を形成し、そ
の後保護膜を形成する磁気記録媒体の製造方法におい
て、前記保護膜の形成後あるいは形成前後の磁気記録媒
体の光線反射率から保護膜の膜厚を測定することを特徴
とする。The present invention provides a method of manufacturing a magnetic recording medium, comprising forming a magnetic thin film on a non-magnetic support by a thin film forming method in vacuum, and then forming a protective film. The film thickness of the protective film is measured from the light reflectance of the magnetic recording medium after or before and after the formation.
【００２０】または、非磁性支持体上に真空中での薄膜
形成法により磁性薄膜を形成し、その後保護膜を形成す
る磁気記録媒体の製造装置において、前記保護膜の形成
後あるいは形成前後の磁気記録媒体の光線反射率から保
護膜の膜厚を測定するための光線反射率測定計を備える
ことを特徴とする。Alternatively, in a magnetic recording medium manufacturing apparatus in which a magnetic thin film is formed on a non-magnetic support by a thin film forming method in a vacuum, and then a protective film is formed, a magnetic film is formed after or before and after the formation of the protective film. It is characterized by comprising a light reflectance measuring device for measuring the film thickness of the protective film from the light reflectance of the recording medium.
【００２１】本発明に係わる保護膜の厚さ測定は、保護
膜形成後に、光線反射率測定計を用い、磁気記録媒体の
光線反射率を測定し、その値により保護膜厚を測定する
ことを特徴とする。また、さらに精度を安定させる手段
としては、保護膜形成前後に、光線反射率測定計を用
い、保護膜形成前の磁気記録媒体の光線反射率と保護膜
形成後の磁気記録媒体の光線反射率の比較から保護膜厚
を測定することを特徴とする。To measure the thickness of the protective film according to the present invention, after forming the protective film, the light reflectance of the magnetic recording medium is measured using a light reflectance measuring instrument, and the thickness of the protective film is measured. Characterize. Further, as a means for further stabilizing the accuracy, a light reflectance meter is used before and after the formation of the protective film, and the light reflectance of the magnetic recording medium before the formation of the protective film and the light reflectance of the magnetic recording medium after the formation of the protective film. The protective film thickness is measured by comparing
【００２２】本発明が適用される磁気記録媒体の製造方
法としては、前記膜厚測定方法により測定された保護膜
厚値を利用して保護膜形成条件を制御することを特徴と
する。本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性支持
体上に磁性層として金属磁性薄膜を設けてなる金属薄膜
型の磁気記録媒体に関する方法である。A method of manufacturing a magnetic recording medium to which the present invention is applied is characterized in that the protective film forming condition is controlled by utilizing the protective film thickness value measured by the film thickness measuring method. The method for producing a magnetic recording medium of the present invention relates to a metal thin film type magnetic recording medium in which a metal magnetic thin film is provided as a magnetic layer on a non-magnetic support.
【００２３】該非磁性支持体上には、強磁性金属材料を
直接被着することにより金属磁性薄膜が磁性層として形
成されているがこの金属磁性材料としては通常の蒸着テ
−プに使用されるものであれば如何なるものであっても
よい。例示すれば、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉなどの強磁性金
属、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ
−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｍｎ−
Ｂｉ、Ｍｎ−Ａｌ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃ
ｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｃｒ等の強磁性合金があげられる。これらの単
層膜であってもよいし多層膜であってもよい。さらに
は、非磁性支持体と金属磁性薄膜間、あるいは多層膜の
場合には、各層間の付着力向上、並びに抗磁力の制御等
のため、下地層または、中間層を設けてもよい。また、
例えば磁性層表面近傍が耐蝕性改善等のために酸化物と
なっていてもよい。A metal magnetic thin film is formed as a magnetic layer by directly depositing a ferromagnetic metal material on the non-magnetic support, and this metal magnetic material is used for ordinary vapor deposition tape. Anything may be used as long as it is one. For example, ferromagnetic metals such as Fe, Co, Ni, Fe-Co, Co-Ni, Fe-Co-Ni, Fe
-Cu, Co-Cu, Co-Au, Co-Pt, Mn-
Bi, Mn-Al, Fe-Cr, Co-Cr, Ni-C
r, Fe-Co-Cr, Co-Ni-Cr, Fe-Co
Examples include ferromagnetic alloys such as -Ni-Cr. These may be a single layer film or a multilayer film. Further, an underlayer or an intermediate layer may be provided between the non-magnetic support and the metal magnetic thin film, or in the case of a multilayer film, for improving the adhesive force between the layers and controlling the coercive force. Also,
For example, the vicinity of the surface of the magnetic layer may be an oxide to improve the corrosion resistance.
【００２４】金属磁性薄膜形成の手段としては、真空下
で強磁性材料を加熱蒸発させ非磁性支持体上に沈着させ
る真空蒸着法や、強磁性金属材料の蒸発を放電中で行う
イオンプレ−ティング法、アルゴンを主成分とする雰囲
気中でグロ−放電を起こし生じたアルゴンイオンでタ−
ゲット表面の原子をたたき出すスパッタ法等、いわゆる
ＰＶＤ技術によればよい。As a means for forming the metal magnetic thin film, a vacuum vapor deposition method of heating and evaporating a ferromagnetic material under vacuum to deposit it on a non-magnetic support, or an ion plating method of evaporating a ferromagnetic metal material in a discharge. , Argon ions generated by causing a glow discharge in an atmosphere containing argon as a main component
A so-called PVD technique such as a sputtering method for knocking out atoms on the surface of the get may be used.
【００２５】また、該非磁性支持体上に形成された強磁
性金属材料上には保護膜層が形成されているがこの材料
としては、通常の金属磁性薄膜用保護膜として一般に使
用されるものであれば如何なるものであってもよい。例
示すれば、カ−ボン、ＣｒＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、ＢＮ、Ｃ
ｏ酸化物、ＭｇＯ、ＳｉＯ2 、Ｓｉ3 Ｏ4 、ＳｉＮX、
ＳｉＣ、ＳｉＮX −ＳｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｔ
ｉＣ等があげられる。これらの単層膜であってもよいし
多層膜であってもよい。A protective film layer is formed on the ferromagnetic metal material formed on the non-magnetic support, and this material is generally used as a protective film for ordinary metal magnetic thin films. It may be any one as long as it is available. For example, carbon, CrO2, Al2 O3, BN, C
o Oxide, MgO, SiO2, Si3 O4, SiNX,
SiC, SiNX-SiO2, ZrO2, TiO2, T
iC and the like. These may be a single layer film or a multilayer film.
【００２６】もちろん、本発明にかかる磁気記録媒体の
構成はこれに限定されるものではなく、本発明の要旨を
逸脱しない範囲での変更、例えば必要に応じてバックコ
−ト層を形成したり、非磁性支持体上に下塗層を形成し
たり、潤滑剤、防錆剤などの層を形成することは何等差
し支えない。この場合、バックコ−ト層に含まれる非磁
性顔料、樹脂結合剤あるいは潤滑剤、防錆剤層に含まれ
る材料としては従来公知のものがいずれも使用できる。Of course, the structure of the magnetic recording medium according to the present invention is not limited to this, and changes may be made without departing from the scope of the present invention, for example, a back coat layer may be formed, if necessary. There is no problem in forming an undercoat layer or forming a layer of a lubricant, an anticorrosive agent or the like on the non-magnetic support. In this case, as the material contained in the non-magnetic pigment, the resin binder or the lubricant, and the rust preventive agent layer contained in the back coat layer, any conventionally known materials can be used.
【００２７】光線反射率測定計としては、光源装置及び
受光装置からなり、被測定物への投光量と反射光量の比
から反射率を測定する装置で、光ファイバ−方式や焦点
光学系方式など従来公知の装置を利用することができ
る。The light reflectance measuring device is a device which comprises a light source device and a light receiving device and measures the reflectance from the ratio of the amount of light projected onto the object to be measured and the amount of reflected light, such as an optical fiber system or a focus optical system system. A conventionally known device can be used.
【００２８】また、本発明は、真空薄膜形成手段により
非磁性支持体上に磁性薄膜を形成する磁気記録媒体の製
造方法において、前記磁性薄膜の形成後の磁気記録媒体
の光線反射率から磁性薄膜表面の酸化層の厚さを測定す
ることを特徴とする。The present invention also provides a method of manufacturing a magnetic recording medium in which a magnetic thin film is formed on a non-magnetic support by a vacuum thin film forming means, wherein the magnetic thin film is formed from the light reflectance of the magnetic recording medium after the magnetic thin film is formed. It is characterized in that the thickness of the oxide layer on the surface is measured.
【００２９】または、真空薄膜形成手段により非磁性支
持体上に磁性薄膜を形成する磁気記録媒体の製造装置に
おいて、磁性薄膜の形成後の磁気記録媒体の光線反射率
から磁性薄膜表面の酸化層の厚さを測定するための光線
反射率測定計を備えてなるものである。Alternatively, in an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium in which a magnetic thin film is formed on a non-magnetic support by a vacuum thin film forming means, the light reflectance of the magnetic recording medium after the magnetic thin film is formed is used to determine the oxide layer on the surface of the magnetic thin film. It is provided with a light reflectance measuring device for measuring the thickness.
【００３０】本発明に係わる磁性薄膜表面の酸化層の厚
さの測定は、磁性薄膜形成後に、光線反射率測定計を用
い、磁気記録媒体の光線反射率を測定し、その値により
磁性薄膜表面の酸化層の厚さを測定することを特徴とす
る。To measure the thickness of the oxide layer on the surface of the magnetic thin film according to the present invention, the light reflectance of the magnetic recording medium is measured using a light reflectance measuring instrument after the formation of the magnetic thin film. It is characterized in that the thickness of the oxide layer is measured.
【００３１】本発明が適用される磁気記録媒体の製造方
法としては、前記酸化層の厚さ測定方法により測定され
た酸化層の厚さの値を利用して磁性薄膜形成条件を制御
することを特徴とする。本発明の磁気記録媒体の製造方
法は、非磁性支持体上に磁性層として金属磁性薄膜を設
けてなる金属薄膜型の磁気記録媒体に関する方法であ
る。As a method of manufacturing a magnetic recording medium to which the present invention is applied, the condition of forming a magnetic thin film is controlled by using the value of the thickness of the oxide layer measured by the method for measuring the thickness of the oxide layer. Characterize. The method for producing a magnetic recording medium of the present invention relates to a metal thin film type magnetic recording medium in which a metal magnetic thin film is provided as a magnetic layer on a non-magnetic support.
【００３２】また、本発明に係わる保護膜の厚さ測定方
法は、保護膜形成後に透明焦点補償板を持った光学ピッ
クアップを有する光線反射率測定計を配設し、磁気記録
媒体の光線反射率を測定し、その値により保護膜厚を測
定することを特徴とする。In addition, the method for measuring the thickness of the protective film according to the present invention is arranged such that after the protective film is formed, a light reflectance measuring instrument having an optical pickup having a transparent focus compensating plate is provided to measure the light reflectance of the magnetic recording medium. Is measured, and the protective film thickness is measured by the value.
【００３３】また、さらに精度を安定させる手段として
は、保護膜形成前後に透明焦点補償板を持った光学ピッ
クアップを有する光線反射率測定計を配し、保護膜形成
前の磁気記録媒体の光線反射率と保護膜形成後の磁気記
録媒体の光線反射率の比較から保護膜厚を測定すること
を特徴とする。As a means for further stabilizing the accuracy, a light reflectivity measuring instrument having an optical pickup having a transparent focus compensating plate is arranged before and after the formation of the protective film to reflect the light beam of the magnetic recording medium before the formation of the protective film. The protective film thickness is measured by comparing the reflectance and the light reflectance of the magnetic recording medium after forming the protective film.
【００３４】本発明が適用される磁気記録媒体の製造方
法は、非磁性支持体上に磁性層として金属磁性薄膜を設
けてなる金属薄膜型の磁気記録媒体に関する方法であ
る。The method of manufacturing a magnetic recording medium to which the present invention is applied is a method of a metal thin film type magnetic recording medium in which a metal magnetic thin film is provided as a magnetic layer on a non-magnetic support.
【００３５】金属磁性薄膜形成の手段としては、真空下
で強磁性材料を加熱蒸発させ非磁性支持体上に沈着させ
る真空蒸着法や、強磁性金属材料の蒸発を放電中で行う
イオンプレ−ティング法、アルゴンを主成分とする雰囲
気中でグロ−放電を起こし生じたアルゴンイオンでタ−
ゲット表面の原子をたたき出すスパッタ法等、いわゆる
ＰＶＤ技術によればよい。また、化学的な金属磁性薄膜
形成の手段として、いわゆるＣＶＤ技術を利用してもよ
い。As a means for forming the metal magnetic thin film, a vacuum evaporation method in which a ferromagnetic material is heated and evaporated under vacuum to deposit it on a non-magnetic support, or an ion plating method in which a ferromagnetic metal material is evaporated in a discharge. , Argon ions generated by causing a glow discharge in an atmosphere containing argon as a main component
A so-called PVD technique such as a sputtering method for knocking out atoms on the surface of the get may be used. Also, so-called CVD technology may be used as a means for chemically forming the metal magnetic thin film.
【００３６】また、本発明に係わる保護膜の厚さ測定方
法は、保護膜形成前後に光線反射率測定装置を配し、保
護膜形成前の磁気記録媒体の光線反射率と保護膜形成後
の磁気記録媒体の光線反射率の比較から保護膜厚を測定
することを特徴とする。Further, in the method for measuring the thickness of the protective film according to the present invention, a light reflectance measuring device is arranged before and after the formation of the protective film, and the light reflectance of the magnetic recording medium before the formation of the protective film and after the formation of the protective film. It is characterized in that the protective film thickness is measured by comparing the light reflectance of the magnetic recording medium.
【００３７】製造方法としては、上記膜厚測定方法によ
り測定された保護膜厚値を利用して保護膜形成条件を制
御することを特徴とする。The manufacturing method is characterized in that the protective film forming condition is controlled by utilizing the protective film thickness value measured by the above film thickness measuring method.
【００３８】本発明が適用される磁気記録媒体の製造方
法は、非磁性支持体上に磁性層として金属磁性薄膜を設
けてなる金属薄膜型の磁気記録媒体に関する方法であ
る。The method of manufacturing a magnetic recording medium to which the present invention is applied is a method relating to a metal thin film type magnetic recording medium in which a metal magnetic thin film is provided as a magnetic layer on a non-magnetic support.
【００３９】光線反射率測定装置としては、光源装置及
び導光用光ファイバ、受光装置からなり、被測定物への
投光量と反射光量の比から反射率を測定する装置であ
る。The light reflectance measuring device comprises a light source device, a light guiding optical fiber, and a light receiving device, and measures the reflectance from the ratio of the projected light amount to the object to be measured and the reflected light amount.
【００４０】[0040]
【作用】本発明は、非磁性支持体上に真空中での薄膜形
成法により磁性薄膜を形成し、その後保護膜を形成する
磁気記録媒体の製造方法において、前記保護膜形成後あ
るいは形成前後の磁気記録媒体の光線反射率から保護膜
の膜厚測定することにより、または、前記磁気記録媒体
の製造装置において、保護膜形成後あるいは形成前後の
磁気記録媒体の光線反射率から保護膜の膜厚を測定する
ための光線反射率測定計を備えてなることにより、前記
保護膜の膜厚の測定精度の向上を図ることが可能とな
り、安定した前記保護膜の膜厚が得られ、電磁変換特性
及び信頼性の安定した「ばらつき」の少ない磁気記録媒
体が得られる。The present invention provides a method of manufacturing a magnetic recording medium, comprising forming a magnetic thin film on a non-magnetic support by a thin film forming method in a vacuum, and then forming a protective film. By measuring the film thickness of the protective film from the light reflectance of the magnetic recording medium, or in the manufacturing apparatus of the magnetic recording medium, from the light reflectance of the magnetic recording medium after or before the formation of the protective film, the film thickness of the protective film. By providing a light reflectance measuring instrument for measuring the, it is possible to improve the measurement accuracy of the film thickness of the protective film, a stable film thickness of the protective film is obtained, electromagnetic conversion characteristics Also, a magnetic recording medium with stable reliability and less "variation" can be obtained.
【００４１】また、本発明は、真空薄膜形成手段により
非磁性支持体上に磁性薄膜を形成する磁気記録媒体の製
造方法において、前記磁性薄膜の形成後の磁気記録媒体
の光線反射率から磁性薄膜表面の酸化層の厚さを測定す
ることにより、または、真空薄膜形成手段により非磁性
支持体上に磁性薄膜を形成する磁気記録媒体の製造装置
において、磁性薄膜の形成後の磁気記録媒体の光線反射
率から磁性薄膜表面の酸化層の厚さを測定するための光
線反射率測定計を備えてなることにより、前記磁性薄膜
表面の酸化層の厚さの測定精度の向上を図ることが可能
となり、安定した前記磁性薄膜表面の酸化層の厚さが得
られ、電磁変換特性及び信頼性の安定した「ばらつき」
の少ない磁気記録媒体が得られる。The present invention also provides a method of manufacturing a magnetic recording medium in which a magnetic thin film is formed on a non-magnetic support by a vacuum thin film forming means, wherein the magnetic thin film is formed from the light reflectance of the magnetic recording medium after the magnetic thin film is formed. In a magnetic recording medium manufacturing apparatus for forming a magnetic thin film on a non-magnetic support by measuring the thickness of an oxide layer on the surface or by vacuum thin film forming means, the light beam of the magnetic recording medium after the magnetic thin film is formed. By providing a light reflectance measuring instrument for measuring the thickness of the oxide layer on the surface of the magnetic thin film from the reflectance, it is possible to improve the measurement accuracy of the thickness of the oxide layer on the surface of the magnetic thin film. A stable oxide layer thickness on the surface of the magnetic thin film is obtained, and stable "variation" of electromagnetic conversion characteristics and reliability is obtained.
It is possible to obtain a magnetic recording medium having a small amount of noise.
【００４２】また、本発明は、非磁性支持体上に真空中
での薄膜形成法により磁性薄膜を形成し、その後保護膜
を形成する磁気記録媒体の製造装置において、保護膜形
成後あるいは形成前後の磁気記録媒体の光線反射率から
保護膜の膜厚を測定するための透明焦点補償板を持った
光学ピックアップを有する光線反射率測定計を備えてな
ることにより、前記保護膜の膜厚の測定精度の向上を図
ることが可能となり、安定した前記保護膜の膜厚が得ら
れ、電磁変換特性及び信頼性の安定した「ばらつき」の
少ない磁気記録媒体が得られる。Further, the present invention is a magnetic recording medium manufacturing apparatus for forming a magnetic thin film on a non-magnetic support by a thin film forming method in a vacuum, and then forming a protective film, after or before and after forming the protective film. Measuring the thickness of the protective film by comprising a light reflectance measuring instrument having an optical pickup having a transparent focus compensating plate for measuring the thickness of the protective film from the light reflectance of the magnetic recording medium. The accuracy can be improved, a stable film thickness of the protective film can be obtained, and a magnetic recording medium having stable "electromagnetic conversion characteristics and reliability and less" variation "can be obtained.
【００４３】また、本発明は、非磁性支持体上に真空中
での薄膜形成法により磁性薄膜を形成し、その後保護膜
を形成する磁気記録媒体の製造装置において、保護膜形
成後あるいは形成前後の磁気記録媒体の光線反射率から
保護膜の膜厚を測定するための光線反射率測定計を備
え、この光線反射率測定計の磁気記録媒体に相対する端
面には光ファイバ束を備え、また、この光ファイバ端面
には防塵キャップを取り付けることにより、保護膜の膜
厚の測定精度の向上を図ることが可能となり、安定した
前記保護膜の膜厚が得られ、電磁変換特性及び信頼性の
安定した「ばらつき」の少ない磁気記録媒体が得られ
る。Further, the present invention is a magnetic recording medium manufacturing apparatus for forming a magnetic thin film on a non-magnetic support by a thin film forming method in vacuum, and then forming a protective film, after or before and after forming the protective film. A light reflectance measuring instrument for measuring the film thickness of the protective film from the light reflectance of the magnetic recording medium is provided, and an optical fiber bundle is provided on the end face of the light reflectance measuring instrument facing the magnetic recording medium. By attaching a dustproof cap to the end face of this optical fiber, it is possible to improve the measurement accuracy of the thickness of the protective film, and to obtain a stable thickness of the protective film, and to improve electromagnetic conversion characteristics and reliability. A stable magnetic recording medium with less "variation" can be obtained.
【００４４】[0044]
【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について説明
するが、本発明がこの実施例に限定されるものではな
い。EXAMPLES Hereinafter, specific examples of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these examples.
【００４５】実施例１Example 1
【００４６】本実施例において使用したスパッタ製造装
置の構成について説明する。図１に示すように、この製
造装置においては、頭部と底部にそれぞれ設けられた排
気口１３から排気されて内部が真空状態となされた真空
室１内に、図中の時計回り方向に回転する送りロ−ル３
と、図中の時計回り方向に回転する巻取りロ−ル４とが
設けられ、これら送りロ−ル３から巻取りロ−ル４にフ
ィルムテ−プ状の非磁性支持体２が順次走行するように
なされている。The structure of the sputtering manufacturing apparatus used in this embodiment will be described. As shown in FIG. 1, in this manufacturing apparatus, the interior of the vacuum chamber 1 is evacuated from the exhaust ports 13 provided at the head and the bottom, respectively, and is rotated in the clockwise direction in the drawing. Feed roll 3
And a take-up roll 4 which rotates in the clockwise direction in the figure, and a non-magnetic support 2 in the form of a film tape sequentially runs from the feed roll 3 to the take-up roll 4. It is done like this.
【００４７】これら送りロ−ル３から巻取りロ−ル４側
に該非磁性支持体２が走行する中途部には、該送りロ−
ル３、巻取りロ−ル４の径よりも大径となされた円筒キ
ャン５が設けられている。この円筒キャン５は、該非磁
性支持体２を図中下方に引き出すように設けられ、図中
の時計回り方向に回転する構成とされる。尚、該送りロ
−ル３、巻取りロ−ル４、及び、円筒キャン５は、それ
ぞれ非磁性支持体２の幅と略同じ長さからなる円筒状を
なすものであり、また該円筒キャン５には、内部に図示
しない冷却装置が設けられ、該非磁性支持体２の温度上
昇による変形等を抑制し得るようになされている。The feed roll is provided at a midpoint where the non-magnetic support 2 travels from the feed roll 3 to the take-up roll 4 side.
A cylindrical can 5 having a diameter larger than that of the roll 3 and the winding roll 4 is provided. The cylindrical can 5 is provided so as to pull out the non-magnetic support 2 downward in the figure, and is configured to rotate in the clockwise direction in the figure. The feed roll 3, the winding roll 4, and the cylindrical can 5 each have a cylindrical shape having a length substantially equal to the width of the non-magnetic support 2, and the cylindrical can. A cooling device (not shown) is provided inside the device 5 so as to suppress deformation and the like of the non-magnetic support 2 due to temperature rise.
【００４８】従って、該非磁性支持体２は、送りロ−ル
３から順次送り出され、さらに該円筒キャン５の周面を
通過し、巻取りロ−ル４に巻取られていくようになされ
ている。尚、該送りロ−ル３と該円筒キャン５との間及
び該円筒キャン５と該巻取りロ−ル４との間にはそれぞ
れガイドロ−ル６、７、８、９が配設され、該送りロ−
ル３から円筒キャン５、及び該円筒キャン５から巻取り
ロ−ル４にわたって走行する非磁性支持体２に所定のテ
ンションをかけ、該非磁性支持体２が円滑に走行するよ
うになされている。また、該真空室内には、該円筒キャ
ン５の下方にスパッタカソ−ド１０が設けられ、このス
パッタカソ−ド１０表面に保護膜材料タ−ゲット１１が
接着されている。このスパッタカソ−ド１０は、該円筒
キャン５の長手方向の幅と略同一の幅を有してなる。
尚、本実施例では、円筒キャン５は冷却されているが、
保護膜と磁性膜の接着強度をあげるため、適宜加熱した
状態でもよい。Therefore, the non-magnetic support 2 is sequentially fed from the feed roll 3, passes through the peripheral surface of the cylindrical can 5, and is wound up by the winding roll 4. There is. Guide rolls 6, 7, 8 and 9 are provided between the feed roll 3 and the cylindrical can 5 and between the cylindrical can 5 and the take-up roll 4, respectively. The feed roll
A predetermined tension is applied to the non-magnetic support 2 that runs from the roll 3 to the cylindrical can 5 and from the cylindrical can 5 to the winding roll 4, so that the non-magnetic support 2 runs smoothly. A sputter cathode 10 is provided below the cylindrical can 5 in the vacuum chamber, and a protective film material target 11 is adhered to the surface of the sputter cathode 10. The sputter cathode 10 has a width substantially the same as the longitudinal width of the cylindrical can 5.
Although the cylindrical can 5 is cooled in this embodiment,
In order to increase the adhesive strength between the protective film and the magnetic film, it may be heated appropriately.
【００４９】ここで非磁性体２の走行速度を制御するこ
とにより、保護膜厚を制御することができる。また該ガ
イドロ−ル６、９の周面を観察する位置には、光線反射
率測定計１５が設置されている。この光線反射率測定計
１５により保護膜形成前の該非磁性支持体２の光線反射
率を測定できるようになっている。また光線反射率測定
計１６により形成後の該非磁性支持体２の光線反射率を
測定できるようになっている。Here, the protective film thickness can be controlled by controlling the traveling speed of the non-magnetic body 2. A light reflectance measuring instrument 15 is installed at a position where the peripheral surfaces of the guide rolls 6 and 9 are observed. The light reflectance measuring instrument 15 can measure the light reflectance of the non-magnetic support 2 before forming the protective film. Further, the light reflectance of the non-magnetic support 2 after formation can be measured by the light reflectance measuring device 16.
【００５０】本実施例において使用した、測定した光線
反射率により保護膜厚を制御するための制御系の構成に
ついて説明する。図２に該制御系のブロック図を示す。
光線反射率測定計１５から保護膜形成前の光線反射率信
号１７が出力されている。光線反射率測定計１６から保
護膜形成後の光線反射率信号１８が出力されている。The structure of the control system used in this example for controlling the protective film thickness based on the measured light reflectance will be described. FIG. 2 shows a block diagram of the control system.
A light reflectance signal 17 before forming a protective film is output from the light reflectance measuring instrument 15. A light reflectance signal 18 after forming the protective film is output from the light reflectance measuring meter 16.
【００５１】保護膜形成前の光線反射率信号１７は信号
遅延回路１９に入力される。信号遅延回路１９は、該真
空室１内の該非磁性支持体２の走行速度を制御する走行
制御装置２０より走行速度信号２１を入力して、光線反
射率計１５と光線反射率計１６の間を該非磁性支持体２
が走行する時間だけ保護膜形成前の光線反射率信号１７
を遅延させて信号比較回路２２へ出力する。これにより
信号比較回路２２は、該非磁性支持体２の同じ場所の保
護膜形成前の光線反射率信号１７と保護膜形成後の光線
反射率信号１８を比較する。The light reflectance signal 17 before the formation of the protective film is input to the signal delay circuit 19. The signal delay circuit 19 inputs a traveling speed signal 21 from a traveling control device 20 for controlling the traveling speed of the non-magnetic support 2 in the vacuum chamber 1, and outputs the signal between the light reflectance meter 15 and the light reflectance meter 16. The non-magnetic support 2
Light reflectance signal 17 before the formation of the protective film
Is delayed and output to the signal comparison circuit 22. Accordingly, the signal comparison circuit 22 compares the light reflectance signal 17 before the formation of the protective film and the light reflectance signal 18 after the formation of the protective film at the same location of the non-magnetic support 2.
【００５２】信号比較回路２２は保護膜形成前の光線反
射率信号１７と保護膜形成後の光線反射率信号１８を比
較して、検量線に基づき保護膜厚信号２３を走行制御装
置２０に出力する。走行制御装置２０は保護膜厚信号２
３に基づき、適切な保護膜厚が形成されるように走行制
御信号２４を出力することにより、該真空室１内の該非
磁性支持体２の走行速度を制御する。The signal comparison circuit 22 compares the light reflectance signal 17 before the protection film is formed with the light reflectance signal 18 after the protection film is formed, and outputs the protection film thickness signal 23 to the traveling control device 20 based on the calibration curve. To do. The traveling control device 20 uses the protective film thickness signal 2
Based on 3, the traveling speed of the nonmagnetic support 2 in the vacuum chamber 1 is controlled by outputting the traveling control signal 24 so that an appropriate protective film thickness is formed.
【００５３】本実施例において使用した光線反射率測定
計の構成について説明する。図３に示すように、この測
定計については光源装置２５から発せられた光線が、投
光用光ファイバ−２６により該非磁性支持体２の保護膜
形成面に照射される。また該非磁性支持体２の保護膜形
成面における反射光線が、受光用光ファイバ−２７によ
り受光装置２８に導かれる。この受光装置２８は光源光
量と反射光線光量の比較により、光線反射率信号を電気
信号として出力する構造を持つ。The configuration of the light reflectance measuring meter used in this embodiment will be described. As shown in FIG. 3, in this measuring instrument, the light beam emitted from the light source device 25 is applied to the protective film formation surface of the non-magnetic support 2 by the light projecting optical fiber 26. Further, the reflected light beam on the surface of the nonmagnetic support 2 on which the protective film is formed is guided to the light receiving device 28 by the light receiving optical fiber 27. The light receiving device 28 has a structure for outputting a light ray reflectance signal as an electric signal by comparing the light source light quantity and the reflected light ray quantity.
【００５４】光線反射率の測定値と保護膜厚は実用的な
範囲において相関を持っているので、検量線を用いるこ
とにより光線反射率の測定から保護膜厚を測定すること
が可能である。この光線反射率と保護膜厚の相関につい
ての実測例を表１に示す。Since the measured value of the light reflectance and the protective film thickness have a correlation in a practical range, it is possible to measure the protective film thickness from the measurement of the light reflectance by using a calibration curve. Table 1 shows an actual measurement example of the correlation between the light reflectance and the protective film thickness.
【００５５】[0055]
【表１】 蒸着層 ：Ｃｏ100 単層 スパッタパワ− ：４ｋＷ キャリアガス ：Ａｒガス 流量 ３００ｃｃｍ 光源 ：ハロゲンランプ・コ−ルドライト 多成分ガラスライトガイド 使用 検出素子 ：フォトダイオ−ド 保護膜厚 反射率 ０ｎｍ ３４％ １０ｎｍ ２８％ ２０ｎｍ ２３％ ３０ｎｍ １８％[Table 1] Evaporation layer: Co 100 single layer Sputter power: 4 kW Carrier gas: Ar gas Flow rate 300 ccm Light source: Halogen lamp / cold light Multi-component glass light guide used Detection element: Photodiode Protected film thickness Reflectance 0 nm 34 % 10nm 28% 20nm 23% 30nm 18%
【００５６】この光線反射率を測定することから保護膜
厚の変化を検出して、これを補正するように該非磁性支
持体２の走行速度を制御する制御系を構成する。この装
置により、保護膜層の厚さの安定性に優れた磁気記録媒
体を製造することが可能となる。A control system for detecting a change in the protective film thickness by measuring the light reflectance and controlling the traveling speed of the non-magnetic support 2 so as to correct this is constructed. With this apparatus, it becomes possible to manufacture a magnetic recording medium having an excellent thickness stability of the protective film layer.
【００５７】実施例２Example 2
【００５８】本実施例において使用した蒸着製造装置の
構成について説明する。図４に示す様に、この製造装置
においては、頭部と底部にそれぞれ設けられた排気口１
７から排気されて内部が真空状態となされた真空室１内
に、図中の時計回り方向に回転する送りロ−ル３と、図
中の時計回り方向に回転する巻取りロ−ル４とが設けら
れ、これら送りロ−ル３から巻取りロ−ル４にフィルム
テ−プ状の非磁性支持体２が順次走行するようになされ
ている。The structure of the vapor deposition manufacturing apparatus used in this embodiment will be described. As shown in FIG. 4, in this manufacturing apparatus, the exhaust ports 1 provided at the head and the bottom, respectively.
In the vacuum chamber 1 which has been evacuated from 7 and has a vacuum inside, a feed roll 3 rotating clockwise in the drawing, and a winding roll 4 rotating clockwise in the drawing. Are provided, and the film tape-shaped non-magnetic support 2 is sequentially run from these feed rolls 3 to the winding rolls 4.
【００５９】これら送りロ−ル３から巻取りロ−ル４側
に該非磁性支持体２が走行する中途部には、該送りロ−
ル３、巻取りロ−ル４の径よりも大径となされた冷却キ
ャン５が設けられている。この冷却キャン５は、該非磁
性支持体２を図中下方に引き出す様に設けられ、図中の
時計回り方向に回転する構成とされる。尚、該送りロ−
ル３、巻取りロ−ル４、及び、冷却キャン５は、それぞ
れ非磁性支持体２の幅と略同じ長さからなる円筒状をな
すものであり、また該冷却キャン５には、内部に図示し
ない冷却装置が設けられ、該非磁性支持体２の温度上昇
による変形等を抑制し得るようになされている。In the middle of the non-magnetic support 2 traveling from the feed roll 3 to the winding roll 4 side, the feed roll is provided.
A cooling can 5 having a diameter larger than those of the roll 3 and the winding roll 4 is provided. The cooling can 5 is provided so as to pull out the non-magnetic support 2 downward in the figure, and is configured to rotate in the clockwise direction in the figure. The feed roll
The roll 3, the winding roll 4, and the cooling can 5 each have a cylindrical shape having a length substantially the same as the width of the non-magnetic support 2, and the cooling can 5 has an internal structure. A cooling device (not shown) is provided so that deformation of the non-magnetic support 2 due to temperature rise can be suppressed.
【００６０】従って、該非磁性支持体２は、送りロ−ル
３から順次送り出され、さらに該冷却キャン５の周面を
通過し、巻取りロ−ル４に巻取られていくようになされ
ている。尚、該送りロ−ル３と該冷却キャン５との間及
び該冷却キャン５と該巻取りロ−ル４との間にはそれぞ
れガイドロ−ル６、７、８、９が配設され、該送りロ−
ル３から冷却キャン５、及び該冷却キャン５から巻取り
ロ−ル４にわたって走行する非磁性支持体２に所定のテ
ンションをかけ、該非磁性支持体２が円滑に走行するよ
うになされている。また、該真空室内には、該冷却キャ
ン５の下方にルツボ１０が設けられ、このルツボ１０に
金属磁性材料１１がおさめられている。このルツボ１０
は、該冷却キャン５の長手方向の幅と略同一の幅を有し
てなる。Therefore, the non-magnetic support 2 is sequentially sent out from the feed roll 3, passes through the peripheral surface of the cooling can 5, and is wound up by the winding roll 4. There is. Guide rolls 6, 7, 8 and 9 are provided between the feed roll 3 and the cooling can 5 and between the cooling can 5 and the winding roll 4, respectively. The feed roll
A predetermined tension is applied to the non-magnetic support 2 that runs from the roll 3 to the cooling can 5 and from the cooling can 5 to the winding roll 4 so that the non-magnetic support 2 runs smoothly. A crucible 10 is provided below the cooling can 5 in the vacuum chamber, and a metal magnetic material 11 is stored in the crucible 10. This crucible 10
Has substantially the same width as the longitudinal width of the cooling can 5.
【００６１】該金属磁性材料１１に電子銃１２より電子
ビ−ム１３をあてることにより、該金属磁性材料１１を
加熱蒸発させ該非磁性支持体２に蒸着させる。この際に
シャッタ１５により斜方蒸着条件の制御等を行なう。ま
たガス導入口１６より酸素ガスを導入することにより、
磁性薄膜表面に酸化層を形成する。By applying an electron beam 13 from the electron gun 12 to the metallic magnetic material 11, the metallic magnetic material 11 is heated and evaporated to be deposited on the non-magnetic support 2. At this time, the shutter 15 controls the oblique deposition conditions and the like. By introducing oxygen gas from the gas inlet 16,
An oxide layer is formed on the surface of the magnetic thin film.
【００６２】ここでガス導入口１６において酸素ガス導
入量を制御することにより、磁性薄膜表面の酸化層の厚
さを制御することができる。By controlling the amount of oxygen gas introduced at the gas inlet 16, the thickness of the oxide layer on the surface of the magnetic thin film can be controlled.
【００６３】また該ガイドロ−ル９の周面を観察する位
置には、光線反射率測定計１８が設置されている。この
光線反射率測定計１８により磁性薄膜形成後の該非磁性
支持体２の光線反射率を測定できるようになっている。At the position where the peripheral surface of the guide roll 9 is observed, a light reflectance measuring instrument 18 is installed. The light reflectance measuring instrument 18 can measure the light reflectance of the non-magnetic support 2 after the magnetic thin film is formed.
【００６４】本実施例において使用した光線反射率測定
計の構成について説明する。図３に示すように、この測
定計については光源装置２５から発せられた光線が、投
光用光ファイバ−２６により該非磁性支持体２の磁性薄
膜形成面に照射される。また該非磁性支持体２の磁性薄
膜形成面における反射光線が、受光用光ファイバ−２７
により受光装置２８に導かれる。この受光装置２８は光
源光量と反射光線光量の比較により、光線反射率信号を
電気信号として出力する構造を持つ。The configuration of the light reflectance measuring meter used in this embodiment will be described. As shown in FIG. 3, in this measuring instrument, the light beam emitted from the light source device 25 is applied to the surface of the nonmagnetic support 2 on which the magnetic thin film is formed by the light projecting optical fiber 26. Further, the reflected light beam on the surface of the non-magnetic support 2 on which the magnetic thin film is formed,
Is guided to the light receiving device 28. The light receiving device 28 has a structure for outputting a light ray reflectance signal as an electric signal by comparing the light source light quantity and the reflected light ray quantity.
【００６５】光線反射率の測定値と磁性薄膜表面の酸化
層の厚さは実用的な範囲において相関を持っているの
で、検量線を用いることにより光線反射率の測定から磁
性薄膜近傍の酸化層の厚さを測定することが可能であ
る。この光線反射率と磁性薄膜表面の酸化層の厚さの相
関についての実測例を表２に示す。Since the measured value of the light reflectance and the thickness of the oxide layer on the surface of the magnetic thin film have a correlation in a practical range, the calibration curve is used to measure the light reflectance from the oxide layer near the magnetic thin film. It is possible to measure the thickness of the. Table 2 shows an actual measurement example of the correlation between the light reflectance and the thickness of the oxide layer on the surface of the magnetic thin film.
【００６６】[0066]
【表２】 蒸着層 ：Ｃｏ100 単層 厚さ２００ｎｍ 光源 ：ハロゲンランプ・コ−ルドライト 多成分ガラスライトガイド 使用 検出素子 ：フォトダイオ−ド 酸素導入量 ＡＥＳによる測定から推測される 反射率 （ｌ／ｍｉｎ） 磁性層表面の酸化層の厚さ ０．０ ３ｎｍ ５９％ ０．３ ９ｎｍ ４２％ ０．６ ２６ｎｍ ２５％ １．０ ６８ｎｍ ８％[Table 2] Deposition layer: Co 100 single layer Thickness 200 nm Light source: Halogen lamp / cold light Multi-component glass light guide used Detection element: Photodiode oxygen introduction amount Reflectance estimated from AES measurement (l / min) Thickness of oxide layer on magnetic layer surface 0.0 3 nm 59% 0.3 9 nm 42% 0.6 26 nm 25% 1.0 68 nm 8%
【００６７】この光線反射率を測定することから磁性薄
膜表面の酸化層の厚さの変化を検出して、これを補正す
るように酸素導入量を制御する制御系を構成する。この
装置により、磁性薄膜表面の酸化層の厚さの安定性に優
れた磁気記録媒体を製造することが可能となる。By measuring the light reflectance, a change in the thickness of the oxide layer on the surface of the magnetic thin film is detected, and a control system for controlling the oxygen introduction amount to correct this is constructed. With this apparatus, it becomes possible to manufacture a magnetic recording medium having excellent stability of the thickness of the oxide layer on the surface of the magnetic thin film.
【００６８】実施例３Example 3
【００６９】本実施例において使用したスパッタ製造装
置の構成について説明する。図５に示すスパッタ製造装
置のうち実施例１と重複する部分については説明を省略
する。The structure of the sputtering manufacturing apparatus used in this embodiment will be described. Description of parts of the sputtering manufacturing apparatus shown in FIG. 5 that are the same as those of the first embodiment will be omitted.
【００７０】ここで、ガイドロ−ル６、９の周面を観察
する位置には、光学ピックアップ１５が設置されてい
る。この光学ピックアップ１５により、保護膜形成前の
該非磁性支持体２の光線反射率を測定できるようになっ
ている。また、光学ピックアップ１６により保護膜形成
後の該非磁性支持体２の光線反射率を測定できるように
なっている。Here, an optical pickup 15 is installed at a position where the peripheral surfaces of the guide rolls 6 and 9 are observed. The optical pickup 15 can measure the light reflectance of the non-magnetic support 2 before forming the protective film. Further, the optical pickup 16 can measure the light reflectance of the non-magnetic support 2 after forming the protective film.
【００７１】本実施例において使用した、測定した光線
反射率により保護膜厚を制御するための制御系の構成に
ついて説明する。図６に該制御系のブロック図を示す。
光学ピックアップ１５から保護膜形成前の光線反射率信
号１７が出力されている。光線反射率測定計１６から保
護膜形成後の光線反射率信号１８が出力されている。The configuration of the control system used in this example for controlling the protective film thickness based on the measured light reflectance will be described. FIG. 6 shows a block diagram of the control system.
The optical pickup 15 outputs a light reflectance signal 17 before forming the protective film. A light reflectance signal 18 after forming the protective film is output from the light reflectance measuring meter 16.
【００７２】保護膜形成前の光線反射率信号１７は信号
遅延回路１９に入力される。信号遅延回路１９は、該真
空室１内の該非磁性支持体２の走行速度を制御する走行
制御装置２０より走行速度信号２１を入力して、光ピッ
クアップ１５と光ピックアップ１６の間を該非磁性支持
体２が走行する時間だけ保護膜形成前の光線反射率信号
１７を遅延させて信号比較回路２２へ出力する。これに
より信号比較回路２２は、該非磁性支持体２の同じ場所
の保護膜形成前の光線反射率信号１７と保護膜形成後の
光線反射率信号１８を比較する。信号比較回路２２は保
護膜形成前の光線反射率信号１７と保護膜形成後の光線
反射率信号１８を比較して、検量線に基づき保護膜厚信
号２３を走行制御装置２０に出力する。走行制御装置２
０は保護膜厚信号２３に基づき、適切な保護膜厚が形成
されるように走行制御信号２４を出力することにより、
該真空室１内の該非磁性支持体２の走行速度を制御す
る。The light reflectance signal 17 before the formation of the protective film is input to the signal delay circuit 19. The signal delay circuit 19 inputs a traveling speed signal 21 from a traveling control device 20 for controlling the traveling speed of the non-magnetic support 2 in the vacuum chamber 1 to input the non-magnetic support between the optical pickup 15 and the optical pickup 16. The light reflectance signal 17 before the formation of the protective film is delayed by the time the body 2 travels and is output to the signal comparison circuit 22. Accordingly, the signal comparison circuit 22 compares the light reflectance signal 17 before the formation of the protective film and the light reflectance signal 18 after the formation of the protective film at the same location of the non-magnetic support 2. The signal comparison circuit 22 compares the light reflectance signal 17 before the formation of the protective film with the light reflectance signal 18 after the formation of the protective film, and outputs the protective film thickness signal 23 to the travel control device 20 based on the calibration curve. Travel control device 2
Based on the protective film thickness signal 23, 0 outputs the traveling control signal 24 so that an appropriate protective film thickness is formed,
The traveling speed of the non-magnetic support 2 in the vacuum chamber 1 is controlled.
【００７３】本実施例において使用した光線反射率測定
計の構成について説明する。図７に光線反射率測定計と
して使用した光学ピックアップ１５（１６）の構造につ
いて示す。光学ピックアップ１５（１６）としては、通
常のＣＤ（コンパクト・ディスク）プレ−ヤ搭載のＣＤ
ピックアップを使用した。レ−ザ−ダイオ−ド２５より
発したレ−ザ光はハ−フミラ−２８を通って対物レンズ
２６で集光され透明焦点補償板２７を通って磁気記録媒
体２の表面に合焦する。透明焦点補償板２７は屈折率：
ｎ＝１．５のポリカ−ボネ−ト（ＰＣ）製で１．２ｍｍ
厚さであり、磁気記録媒体２と対物レンズ２６との間に
配設される。これはＣＤの光路設計上、対物レンズ２６
を通過した光が１．２ｍｍ厚のポリカ−ボネ−ト基板を
通り抜けて、焦点面で収差が出ないように対物レンズ設
計されているためで、本発明の場合、適切にフォ−カス
を合わせるため、透明焦点補償板２７を挿入した。本発
明の透明焦点補償板２７はポリカ−ボネ−トの板を円形
に加工して、対物レンズを有する２軸アクチュエ−タの
カバ−に取り付けたが、透明焦点補償板２７の材質とし
ては屈折率が約ｎ＝１．５程度の透明体であれば何でも
よく、例えば１．２ｍｍ厚のＢＫ−７などのガラスであ
ってもよい。The configuration of the light reflectance measuring meter used in this embodiment will be described. FIG. 7 shows the structure of the optical pickup 15 (16) used as the light reflectance measuring instrument. As the optical pickup 15 (16), a CD equipped with a normal CD (compact disc) player
I used a pickup. The laser light emitted from the laser diode 25 passes through the half mirror 28, is focused by the objective lens 26, passes through the transparent focus compensation plate 27, and is focused on the surface of the magnetic recording medium 2. The transparent focus compensator 27 has a refractive index:
Made of polycarbonate (PC) with n = 1.5, 1.2 mm
It has a thickness and is arranged between the magnetic recording medium 2 and the objective lens 26. This is the objective lens 26 because of the optical path design of the CD.
This is because the objective lens is designed so that the light passing through the lens passes through a polycarbonate substrate having a thickness of 1.2 mm and no aberration occurs in the focal plane. In the case of the present invention, the focus is properly adjusted. Therefore, the transparent focus compensation plate 27 is inserted. The transparent focus compensating plate 27 of the present invention is formed by processing a polycarbonate plate into a circular shape and mounting it on the cover of a biaxial actuator having an objective lens. Any transparent material having a ratio of about n = 1.5 may be used, for example, glass such as BK-7 having a thickness of 1.2 mm may be used.
【００７４】磁気記録媒体２から反射した光は、ハ−フ
ミラ−２８で反射され集光レンズ２９、シリンドリカル
レンズ３０を通ってサ−ボディテクタ３１に入射する。
サ−ボディテクタ３１より出た信号は、サ−ボアンプ３
２内で演算され、焦点合わせのためフォ−カスコイル３
４を駆動するフォ−カスコイル駆動信号３３と、光線反
射率信号１７（１８）として出力される。レ−ザダイオ
−ド２５は、ＬＤ駆動部３５によって駆動されており、
レ−ザ出力を一定に保つためリアＡＰＣ（オ−ト・パワ
−・コントロ−ル Auto Power Control ）回路が付属し
ている。以上により、光学ピックアップ１５（１６）を
磁気記録媒体２に対して適当な位置に配設しフォ−カス
サ−ボをかけることにより、磁気記録媒体上の保護膜厚
さに起因する光線反射率を、電圧として計測することが
可能となる。The light reflected from the magnetic recording medium 2 is reflected by the half mirror 28, passes through the condenser lens 29 and the cylindrical lens 30, and enters the body protector 31.
The signal output from the servo body detector 31 is transmitted to the servo amplifier 3
The focus coil 3 is calculated in 2 for focusing.
4 is output as a focus coil drive signal 33 for driving 4 and a light reflectance signal 17 (18). The laser diode 25 is driven by the LD drive unit 35,
A rear APC (auto power control Auto Power Control) circuit is attached to keep the laser output constant. As described above, by disposing the optical pickup 15 (16) at an appropriate position with respect to the magnetic recording medium 2 and applying a focus servo, the light reflectance due to the protective film thickness on the magnetic recording medium can be measured. , And can be measured as a voltage.
【００７５】図８にサ−ボディテクタ３１の構造につい
て示す。サ−ボディテクタ３１は４分割ディテクタ３６
で構成されており、対物レンズ２６が磁気記録媒体２の
表面に合焦するようフォ−カスサ−ボをかけるため、非
点収差法を利用している。図８（ａ）のように対角の出
力の和のそれぞれの差分、つまり｛（Ａ＋Ｃ）−（Ｂ＋
Ｄ）｝を測定する。対物レンズ２６が焦点外れの状態に
ある時にはレ−ザスポット３７の形状が楕円形になり、
合焦した位置にある時には４分割ディテクタ３６上のレ
−ザスポット３７の形状が円形になる。よって、焦点外
れの状態にある場合には、上記｛（Ａ＋Ｃ）−（Ｂ＋
Ｄ）｝出力が０ではなくなり、例えば正の電圧であれば
対物レンズ２６が磁気記録媒体２より離れており、反対
にレ−ザスポット３７の形状が９０゜傾いた状態であれ
ば、負の電圧出力となり対物レンズ２６が磁気記録媒体
２に近づき過ぎているとサ−ボアンプ３２で判断され、
フォ−カスコイル３４で対物レンズ２６を駆動して合焦
するように動かす。また、図８（ｂ）のようにサ−ボデ
ィテクタの４つの出力の総和（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ）が光線
反射率として出力される。FIG. 8 shows the structure of the body protector 31. The body detector 31 is a four-divided detector 36.
The astigmatism method is used to apply the focus servo so that the objective lens 26 focuses on the surface of the magnetic recording medium 2. As shown in FIG. 8A, each difference of the sums of the diagonal outputs, that is, {(A + C) − (B +
D)} is measured. When the objective lens 26 is out of focus, the laser spot 37 has an elliptical shape,
At the focused position, the laser spot 37 on the four-division detector 36 has a circular shape. Therefore, in the case of being out of focus, the above {(A + C)-(B +
D)} output is not 0, for example, if the voltage is positive, the objective lens 26 is far from the magnetic recording medium 2, and conversely, if the shape of the laser spot 37 is tilted by 90 °, a negative The servo amplifier 32 determines that the objective lens 26 is too close to the magnetic recording medium 2 due to the voltage output,
The objective lens 26 is driven by the focus coil 34 and moved so as to be in focus. Further, as shown in FIG. 8B, the total sum (A + B + C + D) of the four outputs of the body protector is output as the light reflectance.
【００７６】光学ピックアップ１５（１６）はＳＯＮＹ
製ＣＤプレ−ヤ：ＣＤＰ−５５５ＥＳの光学ピックアッ
プをサ−ボアンプも含めて流用したが、光学ピックアッ
プとしてはＭＯ（光磁気）ピックアップやＷＯ（ライト
・ワンス Write Once ）ピックアップを使用してもよ
い。保護膜の形成された磁気記録媒体の反射率は２０％
程度あり、本発明に使用した光学ピックアップも出力ゲ
インの調整により、十分なフォ−カスサ−ボ特性と光線
反射率信号を得ることができた。光学ピックアップ１５
（１６）は非常に小型であり、光ファイバ束を使った光
線反射率測定装置と比較して非常に安価に装置を構成す
ることができた。The optical pickup 15 (16) is SONY
Although an optical pickup of CD player made by CDP-555ES including a servo amplifier was used, an MO (magneto-optical) pickup or a WO (write once write once) pickup may be used as the optical pickup. The reflectance of the magnetic recording medium on which the protective film is formed is 20%.
The optical pickup used in the present invention can obtain sufficient focus servo characteristics and a light reflectance signal by adjusting the output gain. Optical pickup 15
(16) is very small, and the device can be constructed at a very low cost as compared with the light reflectance measuring device using the optical fiber bundle.
【００７７】光線反射率の測定値と保護膜厚は実用的な
範囲において相関を持っているので、検量線を用いるこ
とにより光線反射率の測定から保護膜厚を測定すること
が可能である。この光線反射率と保護膜厚の相関につい
ての実測例を表３に示す。Since the measured value of the light reflectance and the protective film thickness have a correlation within a practical range, it is possible to measure the protective film thickness from the measurement of the light reflectance by using a calibration curve. Table 3 shows an actual measurement example of the correlation between the light reflectance and the protective film thickness.
【００７８】[0078]
【表３】 蒸着層 ：Ｃｏ100 単層 スパッタパワ− ：４ｋＷ キャリアガス ：Ａｒガス 流量 ３００ｃｃｍ 光源 ：レ−ザダイオ−ド λ＝７８０ｎｍ 検出素子 ：ＰＩＮフォトダイオ−ド（４分割） 保護膜厚 反射率 ０ｎｍ ３４％ １０ｎｍ ２８％ ２０ｎｍ ２３％ ３０ｎｍ １８％[Table 3] Deposition layer: Co 100 single layer Sputter power: 4 kW Carrier gas: Ar gas Flow rate 300 ccm Light source: Laser diode λ = 780 nm Detection element: PIN photo diode (4 divisions) Protective film thickness Reflectance 0 nm 34% 10nm 28% 20nm 23% 30nm 18%
【００７９】この光線反射率を測定することから保護膜
厚の変化を検出して、これを補正するように磁気記録媒
体２の走行速度を制御する制御系を構成する。この装置
により、保護膜層の厚さの安定性に優れた磁気記録媒体
を製造することが可能となる。A control system for detecting the change in the protective film thickness by measuring the light reflectance and controlling the traveling speed of the magnetic recording medium 2 so as to correct this is constructed. With this apparatus, it becomes possible to manufacture a magnetic recording medium having an excellent thickness stability of the protective film layer.
【００８０】実施例４Example 4
【００８１】本実施例において使用したスパッタ製造装
置、並びに、本実施例において使用した、測定した光線
反射率により保護膜厚を制御するための制御系の構成に
ついては、実施例１と同様であるので説明を省略する。The structure of the sputter manufacturing apparatus used in this embodiment and the control system used in this embodiment for controlling the protective film thickness based on the measured light reflectance are the same as in the first embodiment. Therefore, the description is omitted.
【００８２】本実施例において使用した光線反射率測定
計の構成について説明する。図９に示すように、この測
定計については光源装置２５から発せられた光線が、投
光用光ファイバ２６に入り、円筒状にまとめられた光フ
ァイバ端２９より非磁性支持体２の保護膜形成面に照射
される。また該非磁性支持体２の保護膜形成面における
反射光線が光ファイバ端２９に戻り、受光用光ファイバ
２７から出射して受光装置２８に導かれる。この受光装
置２８は光源光量と反射光線光量の比較により、光線反
射率信号を電気信号として出力する構造を持つ。The structure of the light reflectance measuring meter used in this embodiment will be described. As shown in FIG. 9, in this measuring instrument, a light beam emitted from a light source device 25 enters a light projecting optical fiber 26, and a protective film for the non-magnetic support 2 is introduced from an end 29 of the optical fiber arranged in a cylindrical shape. The formation surface is irradiated. Further, the reflected light beam on the protective film forming surface of the non-magnetic support 2 returns to the optical fiber end 29, is emitted from the light receiving optical fiber 27, and is guided to the light receiving device 28. The light receiving device 28 has a structure for outputting a light ray reflectance signal as an electric signal by comparing the light source light quantity and the reflected light ray quantity.
【００８３】本実施例における光ファイバ端２９の構造
を図１０に示す。該光ファイバ端２９は、中心部光ファ
イバ束２７、その外周の不感帯３０、最外周の光ファイ
バ層２６の同心円３重リング構造を成す。本実施例にお
いては、該中心部光ファイバ束２７を受光ファイバ、最
外周光ファイバ層２６を投光ファイバとしたが、投受光
ファイバを逆にして用いてもよい。また、該光ファイバ
端２９を同心円構造にすることにより、機械のメンテナ
ンス時に光ファイバを取り外し、光ファイバが多少回転
して取り付けても光ファイバ内を透過する光量に異方性
がでない利点を有する。The structure of the optical fiber end 29 in this embodiment is shown in FIG. The optical fiber end 29 forms a concentric triple ring structure of the central optical fiber bundle 27, the dead zone 30 on the outer circumference thereof, and the optical fiber layer 26 on the outermost circumference. In the present embodiment, the central optical fiber bundle 27 is the light receiving fiber and the outermost optical fiber layer 26 is the light projecting fiber, but the light projecting and receiving fiber may be reversed. Further, the concentric structure of the optical fiber end 29 has an advantage that the amount of light transmitted through the optical fiber does not have anisotropy even if the optical fiber is detached at the time of maintenance of the machine and the optical fiber is slightly rotated and attached. .
【００８４】本実施例で使用された中心部光ファイバ束
２７と最外周の光ファイバ層２６は、クラッド径φ２３
０μｍ、コア径φ２００μｍの三菱電線工業（株）製Ｈ
ＰＣＳハ−ドクラッド石英光ファイバを、中心部光ファ
イバ束２７、最外周の光ファイバ層２６ともそれぞれ数
百本束ねて使用した。また、光ファイバの開口数（Ｎ．
Ａ．＝Numerical Aperture）は０．３７である。光ファ
イバ束全体は耐真空構造になっており、光ファイバ束の
中間に日電アネルバ規格のＩＣＦ７０フランジを配し、
耐真空性は真空度５×１０-5Ｐａに於て漏洩度１０-6ａ
ｔｍ・ｃｃ／秒以下を保証している。The center optical fiber bundle 27 and the outermost optical fiber layer 26 used in the present embodiment have a cladding diameter φ23.
H of 0 μm and core diameter φ200 μm manufactured by Mitsubishi Cable Industries, Ltd.
Several hundred PCS hard-clad quartz optical fibers were bundled together in the central optical fiber bundle 27 and the outermost optical fiber layer 26. In addition, the numerical aperture (N.
A. = Numerical Aperture) is 0.37. The entire optical fiber bundle has a vacuum resistant structure, and an ICF70 flange of the Nidec Anerva standard is placed in the middle of the optical fiber bundle.
Vacuum resistance is 10 -6 a at a vacuum of 5 x 10 -5 Pa
Guaranteed to be less than tm · cc / sec.
【００８５】磁気記録媒体の製造上、磁気記録媒体２を
ガイドロ−ラ６、９に通し易くするため、磁気記録媒体
２と光ファイバ端２９の間隔は１０ｍｍ程度離す必要が
ある（図１１参照）。このため、中心部光ファイバ束２
７のバンドル径はφ２ｍｍ、中間の不感帯３０のバンド
ル径はφ７ｍｍ（材質はＳＵＳ３０４）、最外周の光フ
ァイバ層２６のバンドル径はφ１０ｍｍのものを使用し
た。中間の不感帯３０の幅を増加させると該磁気記録媒
体２と該光ファイバ端２９の間隔を広げられるが、光フ
ァイバの芯数が減り透過光量が減少して外乱光に弱くな
る。また、透過光量を増加させるため光ファイバ束の各
バンドル径を太くすると、光ファイバの芯数が増加し光
ファイバ自体が高価になる。以上より、本光ファイバ束
はコストと実用光量域を考慮して上記のバンドル径とし
た。なお、図１２に示すように、光ファイバ端２９にお
ける、投光ファイバと受光ファイバとの組み合わせの仕
方は、３重リング型構造が最も適している。すなわちフ
ァイバ先端とワークまでの距離を１０ｍｍ確保するのに
最も適したものといえるのである。In manufacturing the magnetic recording medium, it is necessary to separate the magnetic recording medium 2 and the optical fiber end 29 by about 10 mm in order to easily pass the magnetic recording medium 2 through the guide rollers 6 and 9 (see FIG. 11). . Therefore, the central optical fiber bundle 2
7 had a bundle diameter of 2 mm, the dead zone 30 in the middle had a bundle diameter of 7 mm (the material was SUS304), and the outermost optical fiber layer 26 had a bundle diameter of 10 mm. If the width of the intermediate dead zone 30 is increased, the distance between the magnetic recording medium 2 and the optical fiber end 29 can be widened, but the number of cores of the optical fiber is reduced, the amount of transmitted light is reduced, and it becomes weak against ambient light. In addition, if the diameter of each bundle of the optical fiber bundle is increased in order to increase the amount of transmitted light, the number of cores of the optical fiber increases and the optical fiber itself becomes expensive. From the above, the bundle diameter of the present optical fiber bundle is set in consideration of the cost and the practical light amount range. As shown in FIG. 12, the triple ring structure is most suitable for the method of combining the light projecting fiber and the light receiving fiber at the optical fiber end 29. That is, it can be said that it is most suitable for ensuring a distance of 10 mm from the fiber tip to the work.
【００８６】次に、真空室１は仕切板１４でスパッタカ
ソ−ド１０のあるスパッタ室と、送りロ−ル３、巻取り
ロ−ル４のある巻き取り室に分けられるが、仕切板１４
と円筒キャン５の間が１ｍｍ程度空いてスパッタ室と巻
き取り室の差圧を確保している。前記隙間が存在するた
め、巻き取り室側にスパッタ金属が飛散する可能性があ
る。また、光ファイバ端２９の端面はスパッタ粒子など
で汚れた場合、アセトン、アルコ−ル、水などで洗浄を
行うが、光ファイバを充填しているシリコン樹脂は溶剤
に弱く、水などでも膨潤することが考えられ、前記のよ
うな湿式の洗浄はできない。そのため、図１１に示され
るように光ファイバ端２９にスパッタ粒子が付着しない
ように、防塵キャップ３１をかぶせてネジで固定した。
防塵キャップ３１の先端に取り付けてある防塵ガラス３
２は、ＢＫ−７のφ１５ｍｍ、厚さ１ｍｍのものを使用
した。防塵ガラス３２が汚れた場合は防塵キャップ３１
を取り外し、前記のような湿式の洗浄を行って光ファイ
バ端２９に再装着する。Next, the vacuum chamber 1 is divided by a partition plate 14 into a sputter chamber having a sputter cathode 10 and a winding chamber having a feed roll 3 and a winding roll 4.
A space of about 1 mm is provided between the cylindrical can 5 and the cylindrical can 5 to secure a differential pressure between the sputtering chamber and the winding chamber. Due to the presence of the gap, sputtered metal may be scattered on the winding chamber side. When the end face of the optical fiber end 29 is contaminated with sputtered particles or the like, it is washed with acetone, alcohol, water or the like, but the silicone resin filling the optical fiber is weak against solvent and swells even with water. Therefore, the wet cleaning as described above cannot be performed. Therefore, as shown in FIG. 11, a dustproof cap 31 was put on and fixed with a screw so that sputtered particles would not adhere to the optical fiber end 29.
Dustproof glass 3 attached to the tip of dustproof cap 31
For No. 2, BK-7 having a diameter of 15 mm and a thickness of 1 mm was used. If the dustproof glass 32 gets dirty, the dustproof cap 31
Is removed, the wet cleaning as described above is performed, and the optical fiber end 29 is reattached.
【００８７】光線反射率の測定値と保護膜厚は実用的な
範囲において相関を持っているので、検量線を用いるこ
とにより光線反射率の測定から保護膜厚を測定すること
が可能である。この光線反射率と保護膜厚の相関につい
ての実測例は、実施例１の表１に示す通りである。Since the measured value of the light reflectance and the protective film thickness have a correlation within a practical range, it is possible to measure the protective film thickness from the measurement of the light reflectance by using a calibration curve. An actual measurement example of the correlation between the light reflectance and the protective film thickness is as shown in Table 1 of Example 1.
【００８８】この光線反射率を測定することから保護膜
厚の変化を検出して、これを補正するように該非磁性支
持体２の走行速度を制御する制御系を構成する。この装
置により、保護膜層の厚さの安定性に優れた磁気記録媒
体を製造することが可能となる。A control system for detecting the change in the protective film thickness by measuring the light reflectance and controlling the traveling speed of the non-magnetic support 2 so as to correct this is constructed. With this apparatus, it becomes possible to manufacture a magnetic recording medium having an excellent thickness stability of the protective film layer.
【００８９】ここで、光線反射率と膜厚の関係について
考えてみる。図１４は、磁性層の上に酸化層を形成させ
た場合の反射光（Ｒ）の様子を模式的に示したものであ
る。図１４に示すように、Ｒ（酸化層）は、酸化層より
もほんの少し入った磁性層における反射光が主成分であ
ると考えられる。実際には、この反射光の他に、酸化層
の表面における反射光も加わり、これらの複合反射と考
えられる。よって、磁性層が２００ｎｍと酸化層（２０
ｎｍ）に対して、十分厚いため、磁性層膜厚が多少変化
してもＲ（酸化層）には影響がなく、また磁性膜質の変
化は無視できるものと考えられる。Now, let us consider the relationship between the light reflectance and the film thickness. FIG. 14 schematically shows a state of reflected light (R) when an oxide layer is formed on the magnetic layer. As shown in FIG. 14, it is considered that the R (oxidized layer) is mainly composed of the reflected light in the magnetic layer that is slightly contained in the R (oxidized layer). Actually, in addition to this reflected light, reflected light on the surface of the oxide layer is also added, and it is considered to be a composite reflection of these. Therefore, the magnetic layer is 200 nm and the oxide layer (20
Since it is sufficiently thick with respect to (nm), even if the thickness of the magnetic layer is changed to some extent, R (oxide layer) is not affected, and it is considered that the change in magnetic film quality can be ignored.
【００９０】また、図１５に示すように、カ−ボン保護
膜厚は２０ｎｍと光にとっても十分薄いので、保護層と
酸化層の膜厚が変化するとＲ（保護層＋酸化層）が変化
するものと考えられる。実際には、この反射光の他に、
酸化層の表面における反射光も加わり、これらの複合反
射と考えられる。カ−ボン保護層の厚さまたは酸化層の
厚さと、反射率Ｒとの関係は図１６に示すとおりであ
る。Further, as shown in FIG. 15, since the carbon protective film thickness is 20 nm, which is sufficiently thin for light, when the film thicknesses of the protective layer and the oxide layer change, R (protective layer + oxide layer) changes. It is considered to be a thing. In fact, in addition to this reflected light,
The reflected light on the surface of the oxide layer is also added, and it is considered that these are combined reflection. The relationship between the thickness of the carbon protective layer or the thickness of the oxide layer and the reflectance R is as shown in FIG.
【００９１】[0091]
【発明の効果】非磁性支持体上に真空中での薄膜形成法
により単層または多層構造の磁性薄膜を形成し、その後
保護膜を形成する磁気記録媒体の製造方法において、保
護膜の形成後または形成前後に光線反射率測定計を設置
し、光線反射率の測定により膜厚を測定制御する保護膜
の膜厚測定方法を用いることにより、膜厚の「ばらつ
き」の少ない品質の安定した磁気記録媒体を製造するこ
とが出来る。INDUSTRIAL APPLICABILITY In a method for manufacturing a magnetic recording medium, a magnetic thin film having a single-layer or multi-layer structure is formed on a non-magnetic support by a thin film forming method in a vacuum, and then a protective film is formed. Alternatively, a light reflectivity meter is installed before and after the formation, and by using the film thickness measuring method of the protective film that measures and controls the film thickness by measuring the light reflectivity, it is possible to obtain a stable magnetic film with little variation in film thickness. A recording medium can be manufactured.
【００９２】また、非磁性支持体上に真空中での薄膜形
成法により単層または多層構造の磁性薄膜を形成する磁
気記録媒体の製造方法において、磁性薄膜の形成後に光
線反射率測定計を設置し、光線反射率の測定により磁性
薄膜表面の酸化層の厚さを測定制御する酸化層の厚さの
測定方法を用いることにより、磁性薄膜表面の酸化層の
厚さの「ばらつき」の少ない品質の安定した磁気記録媒
体を製造することが出来る。In addition, in a method of manufacturing a magnetic recording medium in which a magnetic thin film having a single-layer or multi-layer structure is formed on a non-magnetic support by a thin film forming method in vacuum, a light reflectance measuring instrument is installed after the magnetic thin film is formed. However, by using the method of measuring the thickness of the oxide layer on the surface of the magnetic thin film to measure and control the thickness of the oxide layer on the surface of the magnetic thin film by measuring the light reflectance, there is little "variation" in the thickness of the oxide layer on the surface of the magnetic thin film. It is possible to manufacture a stable magnetic recording medium.
【００９３】また、非磁性支持体上に真空中での薄膜形
成法により単層または多層構造の磁性薄膜を形成し、そ
の後保護膜を形成する磁気記録媒体の製造方法におい
て、保護膜の形成後または形成前後に透明焦点補償板を
持った光学ピックアップを有する光線反射率測定計を設
置し、光線反射率の測定により膜厚を測定制御する保護
膜の膜厚測定方法を用いることにより、膜厚のばらつき
の少ない品質の安定した磁気記録媒体を製造することが
出来る。In the method of manufacturing a magnetic recording medium, a magnetic thin film having a single-layer or multi-layer structure is formed on a non-magnetic support by a thin film forming method in vacuum, and then a protective film is formed. Alternatively, before and after formation, a light reflectivity meter having an optical pickup having a transparent focus compensating plate is installed, and the film thickness is measured by controlling the film thickness by measuring the light reflectivity. It is possible to manufacture a stable magnetic recording medium of which quality is stable.
【００９４】また、非磁性支持体上に真空中での薄膜形
成法により単層または多層構造の磁性薄膜を形成し、保
護膜の形成前後で保護膜の膜厚を測定する光線反射率測
定装置において、磁気記録媒体に相対する端面がファイ
バ束を有し、この光ファイバ端面に防塵キャップを取り
付けた保護膜の光線反射率測定装置を設置し、光線反射
率の測定により膜厚を測定制御する保護膜の測定方法を
用いることにより、保護膜厚のばらつきの少ない品質の
安定した磁気記録媒体を製造することが出来る。A light reflectance measuring device for forming a magnetic thin film having a single-layer or multi-layer structure on a non-magnetic support by a thin film forming method in vacuum and measuring the thickness of the protective film before and after the formation of the protective film. In, the end surface facing the magnetic recording medium has a fiber bundle, a light reflectance measuring device for a protective film with a dustproof cap attached to the end surface of the optical fiber is installed, and the film thickness is measured and controlled by measuring the light reflectance. By using the method for measuring the protective film, it is possible to manufacture a stable magnetic recording medium with a small variation in the protective film thickness.
【図１】本発明を適用した製造装置の一実施例に使用し
たスパッタ製造装置の要部構成を示す概略前面図であ
る。FIG. 1 is a schematic front view showing a main configuration of a sputtering manufacturing apparatus used in an embodiment of a manufacturing apparatus to which the present invention is applied.
【図２】本発明を適用した製造装置の一実施例の保護膜
厚を制御するための制御系のブロック図である。FIG. 2 is a block diagram of a control system for controlling a protective film thickness of an embodiment of a manufacturing apparatus to which the present invention is applied.
【図３】本発明を適用した製造装置の一実施例の光線反
射率測定計の概略構成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a light reflectance measuring instrument of an embodiment of a manufacturing apparatus to which the present invention is applied.
【図４】本発明を適用した製造装置の一実施例の要部構
成を示す概略前面図である。FIG. 4 is a schematic front view showing a main part configuration of an embodiment of a manufacturing apparatus to which the present invention is applied.
【図５】本発明を適用した製造装置の一実施例の要部構
成を示す概略前面図である。FIG. 5 is a schematic front view showing the main configuration of an embodiment of a manufacturing apparatus to which the present invention is applied.
【図６】本発明を適用した製造装置の一実施例の保護膜
厚を制御するための制御系のブロック図である。FIG. 6 is a block diagram of a control system for controlling a protective film thickness of an embodiment of a manufacturing apparatus to which the present invention is applied.
【図７】本発明を適用した製造装置の一実施例の光学ピ
ックアップの概略構成図である。FIG. 7 is a schematic configuration diagram of an optical pickup of an embodiment of a manufacturing apparatus to which the present invention is applied.
【図８】本発明を適用した製造装置の一実施例の光学ピ
ックアップ内のサ−ボディテクタの概略構成図である。FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a body protector in an optical pickup of an embodiment of a manufacturing apparatus to which the present invention is applied.
【図９】本発明を適用した製造装置の光線反射率測定装
置の概略構成図である。FIG. 9 is a schematic configuration diagram of a light reflectance measuring apparatus of a manufacturing apparatus to which the present invention is applied.
【図１０】本発明を適用した製造装置の光ファイバ端面
の概略構成図である。FIG. 10 is a schematic configuration diagram of an optical fiber end surface of a manufacturing apparatus to which the present invention is applied.
【図１１】本発明を適用した製造装置の光ファイバ端と
円筒キャンの概略構成図である。FIG. 11 is a schematic configuration diagram of an optical fiber end and a cylindrical can of a manufacturing apparatus to which the present invention is applied.
【図１２】本発明を適用した製造装置の光ファイバ端の
構成による反射受光光量の変化を示した説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram showing changes in the amount of reflected and received light depending on the configuration of the optical fiber end of the manufacturing apparatus to which the present invention is applied.
【図１３】本発明を適用した製造装置の防塵キャップの
概略構成図である。FIG. 13 is a schematic configuration diagram of a dustproof cap of a manufacturing apparatus to which the present invention is applied.
【図１４】本発明を適用した製造装置における反射光の
説明図である。FIG. 14 is an explanatory diagram of reflected light in a manufacturing apparatus to which the present invention has been applied.
【図１５】本発明を適用した製造装置における反射光の
説明図である。FIG. 15 is an explanatory diagram of reflected light in the manufacturing apparatus to which the present invention is applied.
【図１６】本発明を適用した製造装置のカ−ボン保護層
厚さと反射率の関係を示す図である。FIG. 16 is a diagram showing the relationship between the carbon protective layer thickness and the reflectance of the manufacturing apparatus to which the present invention is applied.
１ 真空室 ２ 非磁性支持体 （非磁性支持体上には、磁性層が形成されている。） ３ 送りロ−ル ４ 巻取りロ−ル ５ 円筒キャン ６〜９ ガイドロ−ル １０ スパッタカソ−ド １１ タ−ゲット １２ キャリアガス導入口 １３ 排気口 １４ 仕切板 １５、１６ 光線反射率測定計 １７ 保護膜形成前の光線反射率信号 １８ 保護膜形成後の光線反射率信号 １９ 信号遅延回路 ２０ 走行制御装置 ２１ 走行速度信号 ２２ 信号比較回路 ２３ 保護膜厚信号 ２４ 走行制御信号 ２５ 光源装置 ２６ 投光用光ファイバ− ２７ 受光用光ファイバ− ２８ 受光装置 1 vacuum chamber 2 non-magnetic support (a magnetic layer is formed on the non-magnetic support) 3 feed roll 4 winding roll 5 cylindrical can 6-9 guide roll 10 sputter cathode 11 Target 12 Carrier Gas Inlet 13 Exhaust Port 14 Partition Plates 15 and 16 Light Reflectance Measuring Meter 17 Light Reflectance Signal Before Protective Film Formation 18 Light Reflectance Signal After Protective Film Formation 19 Signal Delay Circuit 20 Travel Control Device 21 Travel speed signal 22 Signal comparison circuit 23 Protective film thickness signal 24 Travel control signal 25 Light source device 26 Light emitting optical fiber-27 Light receiving optical fiber-28 Light receiving device
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 研一 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Kenichi Sato 6-735 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation
Claims (7)
により磁性薄膜を形成し、その後保護膜を形成する磁気
記録媒体の製造方法において、 前記保護膜の形成後あるいは形成前後の磁気記録媒体の
光線反射率から保護膜の膜厚を測定することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。1. A method for manufacturing a magnetic recording medium, comprising forming a magnetic thin film on a non-magnetic support by a thin film forming method in a vacuum, and then forming a protective film on the magnetic recording medium after or before and after the formation of the protective film. A method of manufacturing a magnetic recording medium, which comprises measuring the film thickness of a protective film from the light reflectance of the recording medium.
により磁性薄膜を形成する磁気記録媒体の製造方法にお
いて、 前記磁性薄膜の形成後の磁気記録媒体の光線反射率から
磁性薄膜表面の酸化層の厚さを測定することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。2. A method of manufacturing a magnetic recording medium in which a magnetic thin film is formed on a non-magnetic support by a thin film forming method in a vacuum, wherein the surface of the magnetic thin film is determined from the light reflectance of the magnetic recording medium after the magnetic thin film is formed. A method for manufacturing a magnetic recording medium, characterized in that the thickness of the oxide layer is measured.
により磁性薄膜を形成し、その後保護膜を形成する磁気
記録媒体の製造装置において、 前記保護膜の形成後あるいは形成前後の磁気記録媒体の
光線反射率から保護膜の膜厚を測定するための光線反射
率測定計を備えてなることを特徴とする磁気記録媒体の
製造装置。3. A magnetic recording medium manufacturing apparatus for forming a magnetic thin film on a non-magnetic support by a thin film forming method in a vacuum, and then forming a protective film, wherein the magnetic film is formed after or before and after the formation of the protective film. An apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, comprising a light reflectance measuring instrument for measuring the film thickness of a protective film from the light reflectance of a recording medium.
により磁性薄膜を形成する磁気記録媒体の製造装置にお
いて、 前記磁性薄膜の形成後の磁気記録媒体の光線反射率から
磁性薄膜表面の酸化層の厚さを測定するための光線反射
率測定計を備えてなることを特徴とする磁気記録媒体の
製造装置。4. A magnetic recording medium manufacturing apparatus for forming a magnetic thin film on a non-magnetic support by a thin film forming method in vacuum, wherein the surface of the magnetic thin film is determined from the light reflectance of the magnetic recording medium after the magnetic thin film is formed. An apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, comprising: a light reflectance measuring instrument for measuring the thickness of the oxide layer.
持った光学ピックアップを有する請求項３または請求項
４記載の磁気記録媒体の製造装置。5. The apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 3, wherein the light reflectance measuring meter has an optical pickup having a transparent focus compensating plate.
対する端面が光ファイバ束を有する請求項３または請求
項４記載の磁気記録媒体の製造装置。6. The apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 3, wherein the light reflectance measuring instrument has an end face facing the magnetic recording medium having an optical fiber bundle.
ップを取り付けた請求項６記載の磁気記録媒体の製造装
置。7. The apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 6, wherein a dustproof cap is attached to an end surface facing the magnetic recording medium.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9753993A JPH06195705A (en) | 1992-10-27 | 1993-04-23 | Method and apparatus for manufacturing magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4-288589 | 1992-10-27 | ||
| JP28858992 | 1992-10-27 | ||
| JP9753993A JPH06195705A (en) | 1992-10-27 | 1993-04-23 | Method and apparatus for manufacturing magnetic recording medium |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06195705A true JPH06195705A (en) | 1994-07-15 |
Family
ID=26438699
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9753993A Pending JPH06195705A (en) | 1992-10-27 | 1993-04-23 | Method and apparatus for manufacturing magnetic recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06195705A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000311334A (en) * | 1999-04-27 | 2000-11-07 | Victor Co Of Japan Ltd | Magnetic recording medium and method for evaluating characteristic of the same |
| JP2012132876A (en) * | 2010-12-24 | 2012-07-12 | Ihi Corp | Thickness evaluation method and apparatus for carbon thin film |
| JP5319856B1 (en) * | 2012-06-13 | 2013-10-16 | 株式会社シンクロン | Film thickness measuring apparatus and film forming apparatus |
-
1993
- 1993-04-23 JP JP9753993A patent/JPH06195705A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000311334A (en) * | 1999-04-27 | 2000-11-07 | Victor Co Of Japan Ltd | Magnetic recording medium and method for evaluating characteristic of the same |
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| JP5319856B1 (en) * | 2012-06-13 | 2013-10-16 | 株式会社シンクロン | Film thickness measuring apparatus and film forming apparatus |
| WO2013186879A1 (en) * | 2012-06-13 | 2013-12-19 | 株式会社シンクロン | Device for measuring film thickness and device for forming film |
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