JPH06189B2 - 分配グリツド支持装置 - Google Patents

分配グリツド支持装置

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JPH06189B2
JPH06189B2 JP59093828A JP9382884A JPH06189B2 JP H06189 B2 JPH06189 B2 JP H06189B2 JP 59093828 A JP59093828 A JP 59093828A JP 9382884 A JP9382884 A JP 9382884A JP H06189 B2 JPH06189 B2 JP H06189B2
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JP
Japan
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reactor
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ring portion
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JP59093828A
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マルコ−ム・ダヴリユ−・クラ−ク
ハロルド・ビ−・コ−ン
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EE BII BII RUUMASU KURESUTO Inc
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EE BII BII RUUMASU KURESUTO Inc
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/24—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
    • B01J8/44—Fluidisation grids
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
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    • B01J8/1872—Details of the fluidised bed reactor

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  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
  • Glanulating (AREA)
  • Production Of Liquid Hydrocarbon Mixture For Refining Petroleum (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は高圧反応装置に関するもので、より特別には高
圧反応装置用の流れ分配器支持装置に関するものであ
る。
ジヨンソンへの米国特許第２９８７４６５号には、接触
粒子らをランダム運動させる傾向のある状況下の反応帯
域を通じてガスや流体が上方へ流れる反応装置内のいわ
ゆる“沸騰床”内での液体、固体およびガスの間の反応
装置が開示されている。触媒または接触床が少なくとも
１０％、そして一般的には３００％以上ではなく膨張さ
れるときに、殆ど等温状況となる結果であることが見出
された。かつまた、液体中での粒子のランダム運動が磨
耗を避け、かつ、反応帯域からほぼ何らの固体も運び去
られないように制御することを出来るようにすることを
も発見された。各沸騰系内では、望む沸騰（液中での粒
子のランダム運動）を達成するのに調整しうる変数には
液体およびガス状材料の流速、密度および粘度、および
粒状材料の大きさ、形状および密度が含まれる。
沸騰床効果は、バブルキヤツプの如き複数個の分配装置
で、反応装置の内部表面へ内部で溶接されている支持リ
ングにより反応装置内に位置づけられているものを備え
ている反応装置内で側方に拡がつている分配グリツドに
よつて達成される。構成、特に反応装置の内部表面の材
料、例えば、ステンレス・スチールで蔽われた低合金炭
素鋼については、溶接のところで、または溶接の下で、
溶接破損が屡々起つたが、そうした破損は検出が困難で
あつたし、また、反応効力減少の結果になつた。
本発明は反応装置の分配グリツド用の改良された支持装
置を提供する。改良分配器支持グリツド装置は反応装置
内に一体に形成される。
本発明の利点は、改良された強度と熱的応力の減少され
た、改良分配器支持グリツド装置を提供することであ
る。
溶接取付けは従来状の放射線技法で直ちに調べることが
できる。
従つて、本発明は反応装置中に装着さるべき分配グリツ
ド用の支持装置を提供するもので、それでは反応装置は
内向きに拡がつている環状肩部分をつけて形成されてい
て、それには溶接などによつて、リング部材が装着さ
れ、それにより分配グリツドはそうした支持装置上に装
着されている。
本発明をより良く理解することは、特に付図と共にそれ
の詳細な開示を考慮すれば明白になるであろう。
さて第１図を参照すると、全体的に１０として示され
て、沸騰床中で高圧反応を行なう型の反応装置が描かれ
ている。反応装置１０は筒状裾部材１８上に装着された
半球形頂頭１４と半球状形底頭１６により囲まれた筒状
側壁１２からなつている。
反応装置１０は液−固−ガス接触、例えば、触媒の存在
における炭化水素の水素化の如きものに対し適合してい
る厚壁の鑵であり、その中では圧力に通常１０００乃至
５０００ｐ．ｓ．ｉ．ｇの範囲であり、またその中では
温度は通常７５０〜８５０゜Fの範囲である。しかしなが
ら、以下の発明は液−固−ガス接触過程の多くの形に適
しており、その過程内では、温度と圧力と接触粒子とは
非常に広汎な範囲をとりうる。
反応装置１０の頂頭１４には、マンホールカバー２２で
閉じられたマンホール開孔２０と、固体入口２１と、複
数個の温度計保護管（図示せず）を位置付ける複数本の
導管２４（一本を示した）が設けられている。底部１６
には供給入口管２６と反応物流出口２８と、再循環ポン
プ装置３２用の中央に置かれた開孔３０が備えられてい
る。
反応装置１０内に同軸に置かれて、円錐形上部部分３６
と下部再循環分配管装置３８とを含む細長い下降管３４
が設けられている。反応装置１０の下方部分には今後も
つと充分に論ずる円盤形分配グリツド装置４０が横に装
着されている。円盤形の分配ブリッド装置４０は、webe
r外の米国特許第３４７５１３４号に記述されている如
き、バブルキヤツプ装置の如き、流体−ガス混合装置
（図示せず）を含んでいる。分配グリツド装置４０は反
応装置１０を下部充満室４２と、元来は反応帯域として
機能する上部室４４とに分割している。
さて、第２図を参照すると、本発明の分配グリツド支持
装置５０が、円盤形分配グリツド装置４０の装着用とし
て描かれている。分配グリツド支持装置５０は反応装置
１１０の側壁と一体に形成されている内向きに拡がつて
いる環状リング部分５２からなり、その環状リング部分
５２には溶接などによつて円盤状リング部材５４が取付
けられている。円盤状リング部材５４は複数個の溶接沈
積５６を設けて取付けてもよく、または代わりに、円盤
状リング部材５４を環状リング部分５２に直接に溶接し
て取付けてもよい。なるべくは円盤状リング部材５４は
反応装置１０を構成するものと同じ構成材料で形成し、
それにより熱的応力を減ずるようにする。
一旦、円盤状リング部材５４が環状リング部分５２上に
装着されると、ステンレス・スチールの第一層５８が反
応装置１０の内部表面上への連続層として沈積される。
なるべくはその後に、ステンレス・スチールの第二層６
０が第一層５８の上への環状リング５２と反応装置１０
との接合部のところで沈積される。かくの如くにして、
ステンレス・スチール層と反応装置１０との間の如何な
る結合も円盤状リング部材５４に対する内向きに拡がつ
ている環状リング部分５２に構造的に影響することはな
い。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の分配グリツド支持装置を使用する反応
装置の立面略図である。 第２図は支持装置の拡大、部分的切断図である。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】内部表面を有し、容器を下部充満室４２と
    上部反応帯域４４とに分ける分配グリツト４０を有した
    反応装置において、 前記分配グリッドのための支持装置を具備し、この支持
    装置は前記反応装置に一体に形成されて内向きに拡がっ
    ている環状リング部分５２と、この環状リング部分５２
    に取り付けられた円盤状リング部材５４とからなり、前
    記円盤状リング部材５４と、前記反応装置の前記内部表
    面と、前記環状リング部分５２とを金属性材料の層５８
    で被覆したことを特徴とする反応装置。
  2. 【請求項２】前記円盤状リング部材が前記環状リング部
    分へ溶接されている特許請求の範囲第１項記載の反応装
    置。
  3. 【請求項３】前記円盤状リング部材が前記反応装置と同
    じ金属性材料で形成されている特許請求の範囲第１項記
    載の反応装置。
  4. 【請求項４】前記円盤状リング部材と前記内部表面と前
    記環状リング部分の上に被覆された前記金属性材料がス
    テンレス・スチールである特許請求の範囲第１項記載の
    反応装置。
  5. 【請求項５】前記ステンレス・スチール製第一層上で環
    状リング部分と前記反応装置との接合部に、第二のステ
    ンレス・スチール製の層を含んでいるところの特許請求
    の範囲第４項記載の反応装置。
  6. 【請求項６】前記円盤状リング部材５４は前記環状リン
    グ部分５２と共面である特許請求の範囲第１項乃至第４
    項のいずれか一項に記載の反応装置。
JP59093828A 1983-05-13 1984-05-10 分配グリツド支持装置 Expired - Lifetime JPH06189B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US494169 1983-05-13
US06/494,169 US4539183A (en) 1983-05-13 1983-05-13 Distribution grid support structure

Publications (2)

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JPS59216621A JPS59216621A (ja) 1984-12-06
JPH06189B2 true JPH06189B2 (ja) 1994-01-05

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ID=23963336

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JP59093828A Expired - Lifetime JPH06189B2 (ja) 1983-05-13 1984-05-10 分配グリツド支持装置

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JP (1) JPH06189B2 (ja)
AU (1) AU2793584A (ja)
CA (1) CA1207133A (ja)
DE (1) DE3412840A1 (ja)
FR (1) FR2548922B1 (ja)
GB (1) GB2139521B (ja)
IT (1) IT1177713B (ja)
NL (1) NL8401108A (ja)
ZA (1) ZA842623B (ja)

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FR2548922A1 (fr) 1985-01-18
ZA842623B (en) 1985-02-27
CA1207133A (en) 1986-07-08
AU2793584A (en) 1984-11-15
US4539183A (en) 1985-09-03
FR2548922B1 (fr) 1991-05-03
IT8448170A0 (it) 1984-05-10
DE3412840A1 (de) 1984-11-15
GB2139521B (en) 1987-05-20
GB8410376D0 (en) 1984-05-31
NL8401108A (nl) 1984-12-03
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