JPH06187450A - パターン認識方法と認識装置 - Google Patents
パターン認識方法と認識装置Info
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- JPH06187450A JPH06187450A JP4340814A JP34081492A JPH06187450A JP H06187450 A JPH06187450 A JP H06187450A JP 4340814 A JP4340814 A JP 4340814A JP 34081492 A JP34081492 A JP 34081492A JP H06187450 A JPH06187450 A JP H06187450A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 画像から切り出された被識別パターンを基準
パターンと比較し同定するパターン認識方法および認識
装置に関し、基準パターンとフレームパターンの照合時
間を短縮可能なパターン認識装置の提供を目的とする。 【構成】 フレームパターン３と基準パターン４の比較
に際し基準パターン４との照合位置を複数画素間隔で移
動せしめ、基準パターン４との不一致画素が最小になる
領域およびその近傍の画素を含む精密照合領域を設定す
ると共に、精密照合領域の内部においてフレームパター
ン３と基準パターン４の照合位置を１画素ずつ移動せし
め、精密照合領域内の不一致画素が最小になる領域とそ
の領域の不一致画素数を検出するように構成する。
パターンと比較し同定するパターン認識方法および認識
装置に関し、基準パターンとフレームパターンの照合時
間を短縮可能なパターン認識装置の提供を目的とする。 【構成】 フレームパターン３と基準パターン４の比較
に際し基準パターン４との照合位置を複数画素間隔で移
動せしめ、基準パターン４との不一致画素が最小になる
領域およびその近傍の画素を含む精密照合領域を設定す
ると共に、精密照合領域の内部においてフレームパター
ン３と基準パターン４の照合位置を１画素ずつ移動せし
め、精密照合領域内の不一致画素が最小になる領域とそ
の領域の不一致画素数を検出するように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はカメラを通して入力され
た画像から電子部品等に表示された文字や記号を読み取
り識別する装置に係り、特に画像から切り出された被識
別パターンを基準パターンと比較し同定するパターン認
識方法および認識装置に関する。
た画像から電子部品等に表示された文字や記号を読み取
り識別する装置に係り、特に画像から切り出された被識
別パターンを基準パターンと比較し同定するパターン認
識方法および認識装置に関する。
【０００２】近年、電子部品の製造工程やプリント板の
組立工程等において文字や記号を読み取り識別する装置
が利用されているが、かかる製造工程における文字や記
号の識別は表示された部品の移動速度を遅滞させないよ
う速やかに行う必要がある。
組立工程等において文字や記号を読み取り識別する装置
が利用されているが、かかる製造工程における文字や記
号の識別は表示された部品の移動速度を遅滞させないよ
う速やかに行う必要がある。
【０００３】しかし、カメラを通して入力された被識別
パターンを数多くの基準パターンと比較し同定するパタ
ーン認識方法は、一般に識別の対象となる文字や記号が
増加するに伴い基準パターンの数が増加し基準パターン
と比較する時間が長くなる。
パターンを数多くの基準パターンと比較し同定するパタ
ーン認識方法は、一般に識別の対象となる文字や記号が
増加するに伴い基準パターンの数が増加し基準パターン
と比較する時間が長くなる。
【０００４】そこで基準パターンとフレームパターンの
照合時間を短縮可能なパターン認識装置の開発が要望さ
れている。
照合時間を短縮可能なパターン認識装置の開発が要望さ
れている。
【０００５】
【従来の技術】図３は従来のパターン認識装置を示すブ
ロック図、図４は従来のパターン認識方法を示す模式図
である。
ロック図、図４は従来のパターン認識方法を示す模式図
である。
【０００６】図３において従来のパターン認識装置はカ
メラ１から入力された画像信号をデジタル信号化するＡ
Ｄ変換回路21を有し、デジタル信号化された画像信号は
２値化回路22で画素毎に信号レベルが２値化されフレー
ムメモリ23に記憶される。
メラ１から入力された画像信号をデジタル信号化するＡ
Ｄ変換回路21を有し、デジタル信号化された画像信号は
２値化回路22で画素毎に信号レベルが２値化されフレー
ムメモリ23に記憶される。
【０００７】フレームメモリ23に記憶された前記画像信
号からパターン切出回路24によって切り出されたフレー
ムパターンと、記憶装置26に予め記憶され比較に際し順
次呼び出された基準パターンはパターン照合回路25にお
いて画素毎に比較される。
号からパターン切出回路24によって切り出されたフレー
ムパターンと、記憶装置26に予め記憶され比較に際し順
次呼び出された基準パターンはパターン照合回路25にお
いて画素毎に比較される。
【０００８】フレームパターンと基準パターンの画素数
が同じであれば対応する位置にある画素を比較すること
で照合できるが、画像信号からフレームパターンを切り
出す際に被識別パターンの位置が所定の位置からずれて
いる場合は誤判定される。
が同じであれば対応する位置にある画素を比較すること
で照合できるが、画像信号からフレームパターンを切り
出す際に被識別パターンの位置が所定の位置からずれて
いる場合は誤判定される。
【０００９】そこで通常のパターン認識方法では図４に
示す如くパターン切出回路が画像信号からフレームパタ
ーンを切り出す際に、被識別パターンを含み画素31の数
が基準パターン４の画素41より遙かに多いフレームパタ
ーン３を切り出している。
示す如くパターン切出回路が画像信号からフレームパタ
ーンを切り出す際に、被識別パターンを含み画素31の数
が基準パターン４の画素41より遙かに多いフレームパタ
ーン３を切り出している。
【００１０】しかし、画素31が基準パターン４より多い
フレームパターン３上の被識別パターンと基準パターン
４を照合するには、フレームパターン３上の基準パター
ン４と照合する位置をずらして被識別パターンと重なる
位置を見いだす必要がある。
フレームパターン３上の被識別パターンと基準パターン
４を照合するには、フレームパターン３上の基準パター
ン４と照合する位置をずらして被識別パターンと重なる
位置を見いだす必要がある。
【００１１】従来のパターン認識装置は図３に示す如く
パターン切出回路24とパターン照合回路25の間に照合位
置走査回路27を設け、フレームパターン３の全画素が基
準パターン４と照合されるように照合する位置を所定の
順序に従ってずらしている。
パターン切出回路24とパターン照合回路25の間に照合位
置走査回路27を設け、フレームパターン３の全画素が基
準パターン４と照合されるように照合する位置を所定の
順序に従ってずらしている。
【００１２】例えば、図４に示す如く先ずフレームパタ
ーン３と基準パターン４の左上隅にある画素31、41を重
ねて照合を行い、基準パターン４の全画素がフレームパ
ターン３の画素と照合されると基準パターン４の位置を
１画素分右に移動させる。
ーン３と基準パターン４の左上隅にある画素31、41を重
ねて照合を行い、基準パターン４の全画素がフレームパ
ターン３の画素と照合されると基準パターン４の位置を
１画素分右に移動させる。
【００１３】フレームパターン３の右端の画素31と基準
パターン４との照合が終わると基準パターン４を１画素
下の左端に移動し、基準パターン４の全画素がフレーム
パターン３の画素と照合されると基準パターン４の位置
を１画素分右に移動させる。
パターン４との照合が終わると基準パターン４を１画素
下の左端に移動し、基準パターン４の全画素がフレーム
パターン３の画素と照合されると基準パターン４の位置
を１画素分右に移動させる。
【００１４】基準パターン４と照合する位置を移動させ
ることによりフレームパターン３上の全画素が基準パタ
ーン４と照合され、それぞれの位置で検出された全ての
不一致画素データがパターン照合回路25からパターン判
別回路28に入力される。
ることによりフレームパターン３上の全画素が基準パタ
ーン４と照合され、それぞれの位置で検出された全ての
不一致画素データがパターン照合回路25からパターン判
別回路28に入力される。
【００１５】フレームパターン３上の全画素が基準パタ
ーン４と照合された時点でパターン判別回路28は不一致
画素データから、不一致画素が最小になるフレームパタ
ーン３上の位置とそのときの不一致画素数を選び照合結
果出力回路29に入力する。
ーン４と照合された時点でパターン判別回路28は不一致
画素データから、不一致画素が最小になるフレームパタ
ーン３上の位置とそのときの不一致画素数を選び照合結
果出力回路29に入力する。
【００１６】被識別パターンの対象となる全ての文字や
記号について基準パターン４をフレームパターン３上の
全画素と照合し、同一位置において不一致画素数が最小
になる基準パターンをもって被識別パターンに対応する
文字や記号と同定される。
記号について基準パターン４をフレームパターン３上の
全画素と照合し、同一位置において不一致画素数が最小
になる基準パターンをもって被識別パターンに対応する
文字や記号と同定される。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、被識別パター
ンを含み画素数が基準パターンより多いフレームパター
ンと基準パターンの照合に際して、基準パターンとの照
合位置を１画素ずつ移動させる従来のパターン認識方法
は照合に長い時間を要するという問題があった。
ンを含み画素数が基準パターンより多いフレームパター
ンと基準パターンの照合に際して、基準パターンとの照
合位置を１画素ずつ移動させる従来のパターン認識方法
は照合に長い時間を要するという問題があった。
【００１８】本発明の目的は基準パターンとフレームパ
ターンの照合時間を短縮可能なパターン認識装置を提供
することにある。
ターンの照合時間を短縮可能なパターン認識装置を提供
することにある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】図１は本発明になるパタ
ーン認識方法を示す模式図である。なお全図を通し同じ
対象物は同一記号で表している。
ーン認識方法を示す模式図である。なお全図を通し同じ
対象物は同一記号で表している。
【００２０】上記課題はマトリクス状に配列された画素
からなり被識別パターンを含むフレームパターンと基準
パターンを比較し、不一致画素の最も少ない基準パター
ンをもって被識別パターンと同定するパターン認識方法
において、フレームパターン３と基準パターン４の比較
に際し基準パターン４との照合位置を複数画素間隔で移
動せしめ、基準パターン４との不一致画素が最小になる
領域およびその近傍の画素を含む精密照合領域を設定す
ると共に、精密照合領域の内部においてフレームパター
ン３と基準パターン４の照合位置を１画素ずつ移動せし
め、不一致画素が最小になる領域とその領域の不一致画
素数を検出する本発明になるパターン認識方法によって
達成される。
からなり被識別パターンを含むフレームパターンと基準
パターンを比較し、不一致画素の最も少ない基準パター
ンをもって被識別パターンと同定するパターン認識方法
において、フレームパターン３と基準パターン４の比較
に際し基準パターン４との照合位置を複数画素間隔で移
動せしめ、基準パターン４との不一致画素が最小になる
領域およびその近傍の画素を含む精密照合領域を設定す
ると共に、精密照合領域の内部においてフレームパター
ン３と基準パターン４の照合位置を１画素ずつ移動せし
め、不一致画素が最小になる領域とその領域の不一致画
素数を検出する本発明になるパターン認識方法によって
達成される。
【００２１】
【作用】フレームパターンと基準パターンの比較に際し
図１に示す如く基準パターンとの照合位置を複数画素間
隔で移動し、基準パターンとの不一致画素が最小になる
領域およびその近傍の画素を含む精密照合領域を設定す
ると共に、図１に示す如く精密照合領域の内部において
フレームパターンと基準パターンの照合位置を１画素ず
つ移動せしめ、不一致画素が最小になる領域とその領域
における不一致画素数を検出することによって、フレー
ムパターン上の基準パターンと照合する位置を１画素ず
つ移動せしめる領域が少なくなり、基準パターンとフレ
ームパターンの照合時間を短縮可能なパターン認識装置
を実現することができる。
図１に示す如く基準パターンとの照合位置を複数画素間
隔で移動し、基準パターンとの不一致画素が最小になる
領域およびその近傍の画素を含む精密照合領域を設定す
ると共に、図１に示す如く精密照合領域の内部において
フレームパターンと基準パターンの照合位置を１画素ず
つ移動せしめ、不一致画素が最小になる領域とその領域
における不一致画素数を検出することによって、フレー
ムパターン上の基準パターンと照合する位置を１画素ず
つ移動せしめる領域が少なくなり、基準パターンとフレ
ームパターンの照合時間を短縮可能なパターン認識装置
を実現することができる。
【００２２】
【実施例】以下添付図により本発明の実施例について説
明する。なお、図２は本発明になるパターン認識装置を
示すブロック図である。
明する。なお、図２は本発明になるパターン認識装置を
示すブロック図である。
【００２３】本発明になるパターン認識装置は図２に示
す如くパターン照合回路25の前に照合に際し走査弁別回
路51により選択され、照合位置を複数画素間隔で移動さ
せる粗走査回路52と照合位置を１画素ずつ移動させる精
密走査回路53を具えている。
す如くパターン照合回路25の前に照合に際し走査弁別回
路51により選択され、照合位置を複数画素間隔で移動さ
せる粗走査回路52と照合位置を１画素ずつ移動させる精
密走査回路53を具えている。
【００２４】走査弁別回路51が粗走査回路52を選択する
とフレームパターン３と基準パターン４の照合位置が複
数画素間隔で移動し、パターン照合回路25がフレームパ
ターン３と基準パターン４を照合しそれぞれの位置にお
ける不一致画素を検出する。
とフレームパターン３と基準パターン４の照合位置が複
数画素間隔で移動し、パターン照合回路25がフレームパ
ターン３と基準パターン４を照合しそれぞれの位置にお
ける不一致画素を検出する。
【００２５】それぞれの位置において検出された不一致
画素データはパターン照合回路25からパターン判別回路
28に入力され、かかるデータから不一致画素が最小にな
るフレームパターン３上の領域とその近傍の画素を含む
精密照合領域が設定される。
画素データはパターン照合回路25からパターン判別回路
28に入力され、かかるデータから不一致画素が最小にな
るフレームパターン３上の領域とその近傍の画素を含む
精密照合領域が設定される。
【００２６】次いで、走査弁別回路51が精密走査回路53
を選択すると前の粗走査によって設定された精密照合領
域の内部において、フレームパターン３と基準パターン
４の照合位置が１画素ずつ移動しパターン照合回路25が
両方のパターンを照合する。
を選択すると前の粗走査によって設定された精密照合領
域の内部において、フレームパターン３と基準パターン
４の照合位置が１画素ずつ移動しパターン照合回路25が
両方のパターンを照合する。
【００２７】それぞれの位置で検出された全ての不一致
画素データがパターン照合回路25からパターン判別回路
28に入力されており、不一致画素が最小になるフレーム
パターン３上の位置とそのときの不一致画素数が照合結
果出力回路29に入力される。
画素データがパターン照合回路25からパターン判別回路
28に入力されており、不一致画素が最小になるフレーム
パターン３上の位置とそのときの不一致画素数が照合結
果出力回路29に入力される。
【００２８】ここで本発明になるパターン認識方法を図
１により詳細に説明するとフレームパターンと基準パタ
ーンの照合に際し、図１に示す如く粗く照合する粗パタ
ーン照合工程と図１に示す如く詳細に照合する精密照合
工程を具えている。
１により詳細に説明するとフレームパターンと基準パタ
ーンの照合に際し、図１に示す如く粗く照合する粗パタ
ーン照合工程と図１に示す如く詳細に照合する精密照合
工程を具えている。
【００２９】例えば、図１に示す如くフレームパターン
３と基準パターン４の左上隅にある画素31、41を重ねて
照合を行い、基準パターン４の全画素をフレームパター
ン３の画素と照合すると基準パターン４の位置をｎ画素
跳ばし右に移動させる。
３と基準パターン４の左上隅にある画素31、41を重ねて
照合を行い、基準パターン４の全画素をフレームパター
ン３の画素と照合すると基準パターン４の位置をｎ画素
跳ばし右に移動させる。
【００３０】基準パターン４がフレームパターン３の右
端近傍に到達すると基準パターン４を下方にｎ画素跳ば
した左端に移動し、基準パターン４の全画素がフレーム
パターン３と照合されると基準パターン４の位置をｎ画
素跳ばして右に移動させる。
端近傍に到達すると基準パターン４を下方にｎ画素跳ば
した左端に移動し、基準パターン４の全画素がフレーム
パターン３と照合されると基準パターン４の位置をｎ画
素跳ばして右に移動させる。
【００３１】前述の如くそれぞれの位置において検出さ
れた不一致画素データはパターン照合回路からパターン
判別回路に入力され、不一致画素データに基づいて基準
パターン４との不一致画素が最小になるフレームパター
ン３上の領域が検知される。
れた不一致画素データはパターン照合回路からパターン
判別回路に入力され、不一致画素データに基づいて基準
パターン４との不一致画素が最小になるフレームパター
ン３上の領域が検知される。
【００３２】検知された不一致画素が最小になるフレー
ムパターン３上の領域とその近傍の画素を含む精密照合
領域内において、図１に示す如く前記領域の左上隅にあ
る画素31に基準パターン４の左上隅にある画素41を重ね
てパターンを照合する。
ムパターン３上の領域とその近傍の画素を含む精密照合
領域内において、図１に示す如く前記領域の左上隅にあ
る画素31に基準パターン４の左上隅にある画素41を重ね
てパターンを照合する。
【００３３】基準パターン４の全画素がフレームパター
ン３の画素と照合されると基準パターン４の位置を１画
素分右に移動せしめ、同領域の右端の画素31と基準パタ
ーン４との照合が終わると基準パターン４を１画素下の
同領域の左端に移動させる。
ン３の画素と照合されると基準パターン４の位置を１画
素分右に移動せしめ、同領域の右端の画素31と基準パタ
ーン４との照合が終わると基準パターン４を１画素下の
同領域の左端に移動させる。
【００３４】基準パターン４の全画素がフレームパター
ン３の画素と照合されると基準パターン４の位置を１画
素分右に移動せしめ、基準パターン４と照合する位置を
１画素ずつ移動させることにより同領域内の全画素が基
準パターン４と照合される。
ン３の画素と照合されると基準パターン４の位置を１画
素分右に移動せしめ、基準パターン４と照合する位置を
１画素ずつ移動させることにより同領域内の全画素が基
準パターン４と照合される。
【００３５】前述の如くそれぞれの位置において検出さ
れた不一致画素データはパターン照合回路からパターン
判別回路に入力され、不一致画素が最小になるフレーム
パターン３上の位置とそのときの不一致画素数が照合結
果出力回路に入力される。
れた不一致画素データはパターン照合回路からパターン
判別回路に入力され、不一致画素が最小になるフレーム
パターン３上の位置とそのときの不一致画素数が照合結
果出力回路に入力される。
【００３６】例えば、フレームパターンのＸＹ方向の大
きさをａ画素分、基準パターンのＸＹ方向の大きさをｂ
画素分とすると、従来のパターン認識装置においてパタ
ーン照合に際し基準パターンの照合位置を移動させる回
数ＮO は（ａ−ｂ)2になる。
きさをａ画素分、基準パターンのＸＹ方向の大きさをｂ
画素分とすると、従来のパターン認識装置においてパタ
ーン照合に際し基準パターンの照合位置を移動させる回
数ＮO は（ａ−ｂ)2になる。
【００３７】本発明のパターン認識装置において粗走査
時に跳ばす画素の数をｎとし、パターンの大きさの差ａ
−ｂ＝ｍとすると、パターンを照合するに際して基準パ
ターンの照合位置を移動させる回数Ｎ＝（ｍ／ｎ＋１)2
＋（２ｎ＋１)2になる。
時に跳ばす画素の数をｎとし、パターンの大きさの差ａ
−ｂ＝ｍとすると、パターンを照合するに際して基準パ
ターンの照合位置を移動させる回数Ｎ＝（ｍ／ｎ＋１)2
＋（２ｎ＋１)2になる。
【００３８】従来のパターン認識装置における移動回数
ＮO は（ａ−ｂ)2＝ｍ2 であり本発明になるパターン認
識装置との差は、ｍ2 −〔（ｍ／ｎ＋１)2＋（２ｎ＋
１)2〕になってｍ＞ｎ＞０なる関係が成り立てば移動回
数を少なくすることができる。
ＮO は（ａ−ｂ)2＝ｍ2 であり本発明になるパターン認
識装置との差は、ｍ2 −〔（ｍ／ｎ＋１)2＋（２ｎ＋
１)2〕になってｍ＞ｎ＞０なる関係が成り立てば移動回
数を少なくすることができる。
【００３９】このように基準パターンとの比較に際し図
１に示す如く基準パターンとの照合位置を複数画素間隔
で移動し、基準パターンとの不一致画素が最小になる領
域およびその近傍の画素を含む精密照合領域を設定する
と共に、図１に示す如く精密照合領域の内部においてフ
レームパターンと基準パターンの照合位置を１画素ずつ
移動せしめ、不一致画素が最小になる領域とその領域に
おける不一致画素数を検出することによって、フレーム
パターン上の基準パターンと照合する位置を１画素ずつ
移動せしめる領域が少なくなり、基準パターンとフレー
ムパターンの照合時間を短縮可能なパターン認識装置を
実現することができる。
１に示す如く基準パターンとの照合位置を複数画素間隔
で移動し、基準パターンとの不一致画素が最小になる領
域およびその近傍の画素を含む精密照合領域を設定する
と共に、図１に示す如く精密照合領域の内部においてフ
レームパターンと基準パターンの照合位置を１画素ずつ
移動せしめ、不一致画素が最小になる領域とその領域に
おける不一致画素数を検出することによって、フレーム
パターン上の基準パターンと照合する位置を１画素ずつ
移動せしめる領域が少なくなり、基準パターンとフレー
ムパターンの照合時間を短縮可能なパターン認識装置を
実現することができる。
【００４０】
【発明の効果】上述の如く本発明によれば基準パターン
とフレームパターンの照合時間を短縮可能なパターン認
識装置を提供することができる。
とフレームパターンの照合時間を短縮可能なパターン認
識装置を提供することができる。
【図１】 本発明になるパターン認識方法を示す模式図
である。
である。
【図２】 本発明になるパターン認識装置を示すブロッ
ク図である。
ク図である。
【図３】 従来のパターン認識装置を示すブロック図で
ある。
ある。
【図４】 従来のパターン認識方法を示す模式図であ
る。
る。
３ フレームパターン ４ 基準パターン 25 パターン照合回路 28 パターン判別回路 29 照合結果出力回路 31、41 画素 51 走査弁別回路 52 粗走査回路 53 精密走査回路
Claims (2)
- 【請求項１】 マトリクス状に配列された画素からなり
被識別パターンを含むフレームパターンと基準パターン
を比較し、不一致画素の最も少ない該基準パターンをも
って被識別パターンと同定するパターン認識方法におい
て、 フレームパターン(3) と基準パターン(4) の比較に際し
該基準パターン(4) との照合位置を複数画素間隔で移動
せしめ、該基準パターン(4) との不一致画素が最小にな
る領域およびその近傍の画素を含む精密照合領域を設定
すると共に、 該精密照合領域の内部において該フレームパターン(3)
と該基準パターン(4)の照合位置を１画素ずつ移動せし
め、不一致画素が最小になる領域およびその領域におけ
る不一致画素数の検出を行うことを特徴としたパターン
認識方法。 - 【請求項２】 マトリクス状に配列された画素からなり
被識別パターンを含むフレームパターンと基準パターン
を比較し、不一致画素の最も少ない該基準パターンをも
って被識別パターンと同定するパターン認識装置におい
て、 パターン照合回路(25)の前にフレームパターン(3) と基
準パターン(4) の比較に際し走査弁別回路(51)により選
択され、照合位置を複数画素間隔で移動させる粗走査回
路(52)と該照合位置を１画素ずつ移動させる精密走査回
路(53)を有し、 該照合位置を複数画素間隔で移動させて該基準パターン
(4) と該フレームパターン(3) の全画素を照合すること
により、該基準パターン(4) との不一致画素が最小にな
る該フレームパターン(3) 上の領域を検知して精密照合
領域を設定し、 該基準パターン(4) との不一致画素が最小になる領域お
よびその近傍の画素を含む該精密照合領域の内部におい
て、該照合位置を１画素ずつ移動せしめパターンの照合
を行うよう構成されてなることを特徴とするパターン認
識装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4340814A JPH06187450A (ja) | 1992-12-22 | 1992-12-22 | パターン認識方法と認識装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4340814A JPH06187450A (ja) | 1992-12-22 | 1992-12-22 | パターン認識方法と認識装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06187450A true JPH06187450A (ja) | 1994-07-08 |
Family
ID=18340542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4340814A Pending JPH06187450A (ja) | 1992-12-22 | 1992-12-22 | パターン認識方法と認識装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06187450A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008217206A (ja) * | 2007-03-01 | 2008-09-18 | Fujifilm Corp | 画像識別装置，画像識別方法，撮像装置 |
| WO2022180792A1 (ja) * | 2021-02-26 | 2022-09-01 | 株式会社日立ハイテク | 位置特定方法、位置特定プログラムおよび検査装置 |
-
1992
- 1992-12-22 JP JP4340814A patent/JPH06187450A/ja active Pending
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