JPH06185499A - 真空発生装置 - Google Patents

真空発生装置

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JPH06185499A
JPH06185499A JP278291A JP278291A JPH06185499A JP H06185499 A JPH06185499 A JP H06185499A JP 278291 A JP278291 A JP 278291A JP 278291 A JP278291 A JP 278291A JP H06185499 A JPH06185499 A JP H06185499A
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JP
Japan
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vacuum
ejector unit
ejector
compressed air
pressure
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JP278291A
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English (en)
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Shigekazu Nagai
茂和 永井
Tetsuo Kukuminato
哲夫 久々湊
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SMC Corp
Original Assignee
SMC Corp
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Publication date
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04FPUMPING OF FLUID BY DIRECT CONTACT OF ANOTHER FLUID OR BY USING INERTIA OF FLUID TO BE PUMPED; SIPHONS
    • F04F5/00Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow
    • F04F5/44Component parts, details, or accessories not provided for in, or of interest apart from, groups F04F5/02 - F04F5/42
    • F04F5/48Control
    • F04F5/52Control of evacuating pumps

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Abstract

(57)【要約】 【目的】低真空から高真空までの広範囲の真空が得ら
れ、加圧流体の消費量が少なく、しかも出力側の圧力変
動に対しても迅速に応答可能な真空発生装置を提供する
こと。 【構成】流量制御弁48によってエゼクタユニット2
2、24に対して加圧流体の供給量を制御する。流量制
御弁48の弁体54の開度は出力側に設けられている圧
力検出手段の負圧検出信号によって制御される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、圧縮空気等の流体の供
給源にエゼクタユニットを流体回路を介して接続すると
ともにその上流側に接続される流量制御弁により前記エ
ゼクタユニットに流れる圧力流体の流量を制御するよう
に構成した真空発生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】蒸気、空気あるいは水をノズルより噴出
させて空気を吸引し真空を得る装置として従来からエゼ
クタが用いられている。この種のエゼクタは一般的にノ
ズル部とディフューザ部とに分けることができ、ノズル
部の出口側の圧力降下および運動のエネルギによって負
圧を発生させるよう構成している。
【0003】ところで、真空発生装置として、従来で
は、エゼクタにおけるノズル部の特性上から、高真空が
得られるもの、または、低真空時において大きな流量特
性を持つもの等種々のものが提案されている。然しなが
ら、近年、装置のコンパクト化あるいはユニット化に伴
い、前記の異なった真空特性を一つの真空発生装置で得
るようにした装置が提案された。この場合、図3に示す
ように、ノズル部10の口径が小さい高真空型の第1の
エゼクタユニット12とノズル部14の口径が大きい低
真空型の第2のエゼクタユニット16とを図外の圧縮空
気等の流体の供給源にシリアルに流体回路を介して接続
し、低真空から高真空までの真空特性を得るように構成
している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
従来の真空発生装置にあっては、前記の構造上、高真空
型の第1エゼクタユニット12を作動させた時には、必
然的に、圧縮空気等の流体の供給量を増大させなければ
ならず、結局、高真空時にはこの流体の消費量が増大す
るという問題点があった。
【0005】従って、本発明の目的は低真空から高真空
までの広範囲にわたる真空特性が得られ且つ圧縮空気等
の流体の消費量が少なくて済む、しかも出力側の圧力変
動に対しても迅速に応答でき、且つ真空圧に応じて連続
的に流体の流量制御が可能な真空発生装置を提供するこ
とを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに、本発明は、加圧流体供給源にエゼクタユニットを
流体回路を介して接続し、前記エゼクタユニットに対す
る加圧流体の供給量を制御する流量制御弁を設け、さら
に、前記流量制御弁を連続的に制御するための信号を発
生させる圧力負圧力検出手段を設けたことを特徴とす
る。
【0007】
【作用】負圧側の圧力が圧力検出手段によって検出され
ると、その検出信号により流量制御弁がエゼクタユニッ
トに対する加圧流体の流量を制御する。エゼクタユニッ
トの真空発生特性に着目して加圧流体を制御することに
より、加圧流体の消費量を可及的に少なくして最適な真
空発生効果が得られる。
【0008】
【実施例】本発明に係る真空発生装置について実施例を
挙げ、添付の図面を参照しながら以下詳細に説明する。
【0009】図1において、参照符号20はコンプレッ
サ等の圧縮空気供給源を示し、この圧縮空気供給源20
に対して第1のエゼクタユニット22および第2のエゼ
クタユニット24が並列に流体回路、すなわち、管路4
6を介して接続される。前記第1エゼクタユニット22
はその本体部分に画成される室26とこの室26に臨設
されるノズル部28およびディフューザ部30と前記室
26に開口される真空ポート32とを含む。この第1エ
ゼクタユニット22はそのノズル部28の口径が小さく
形成されて、所謂、高真空型のエゼクタユニットを構成
する。また、前記第2エゼクタユニット24はその本体
部分に画成される室34とこの室34に臨設されるノズ
ル部36およびディフューザ部38と前記室34に開口
される真空ポート40とを含む。この第2エゼクタユニ
ット24は前記ノズル部36の口径が大きく形成され
て、所謂、低真空型のエゼクタユニットを構成する。さ
らに、前記第1エゼクタユニット22の真空ポート32
と前記第2エゼクタユニット24の真空ポート40とは
両側逆止弁付管継手42を介して真空取出管44に合流
接続される。
【0010】一方、前記圧縮空気供給源20と前記第1
エゼクタユニット22および第2エゼクタユニット24
とを結ぶ管路46の途中には当該管路46の分岐管46
aおよび46bの集合部に位置して前記第1エゼクタユ
ニット22、第2エゼクタユニット24への圧縮空気の
分配量、すなわち、流量を調整する流量制御弁48が配
設される。この流量制御弁48は前記真空取出管44内
の真空圧に直接応動して管路46aと管路46bとを徐
々に切り換えるスプール型の負圧切換弁で構成される。
すなわち、前記流量制御弁48はその本体部分に画成さ
れたシリンダ50内を図1の矢印A、B方向に摺動して
前記管路46aと管路46bとの開閉を徐々に切り換え
る弁体52と、この弁体52と一体的に動作するピスト
ン54によって隔成される圧力室56と、この圧力室5
6に収裝されて前記弁体52を、常時、図中の矢印A方
向に付勢する弁スプリング58とを含む。そして、前記
圧力室56は圧力信号通路60を介して前記真空取出管
44に連通接続される。
【0011】本発明に係る真空発生装置は基本的には以
上のように構成され、次にその作用および効果について
説明する。
【0012】先ず、圧縮空気供給源20より管路46を
介して第1エゼクタユニット22および第2エゼクタユ
ニット24に向けて圧縮空気を供給するが、この時、前
記真空取出管44内の真空圧はまだ小さい。従って、前
記真空圧に応動する流量制御弁48はその弁体52が弁
スプリング58の弾発力により図中の矢印A方向に移動
し、第1エゼクタユニット22に接続する管路46aを
遮断する。これにより、圧縮空気は開状態にある管路4
6bを介して第2エゼクタユニット24のみに供給され
る。この第2エゼクタユニット24においては、前記圧
縮空気がノズル部36によって絞られ、次いでディフュ
ーザ部38に向けて噴流として放出される。この時のノ
ズル部36の出口側の圧力降下および運動のエネルギに
よって室34内には負圧が発生し、この負圧によって真
空ポート40および真空取出管44からの空気も吸引さ
れて、結局、真空取出管44側では所期の目的とする負
圧が得られる。すなわち、この第2エゼクタユニット2
4においては、そのノズル部36の口径が大きく形成さ
れているため大きな流量特性を有した低真空が得られ
る。
【0013】この後、前記真空取出管44内の真空圧が
徐々に増大し、この真空圧が所定値を越えると、前記流
量制御弁48は圧力信号通路60を介して圧力室56に
作用する負圧力の増大により弁体52が弁スプリング5
8の弾発力に抗して図中の矢印B方向に徐々に移動し、
前記管路46aを開き始める。そして、前記真空取出管
44内の負圧がさらに増大すると、前記流量制御弁48
の弁体52はより下方に移動し、最終的には、第2エゼ
クタユニット24に接続する管路46bを全閉する一
方、第1エゼクタユニット22に接続する管路46aを
全開する。すなわち、真空取出管44内の真空圧の高低
によって流量制御弁48は管路46a、46bの開度を
アナログ的に変え圧縮空気の流量制御を行う。そこで、
前記の結果、圧縮空気は第1エゼクタユニット22のみ
に供給され、第2エゼクタユニット24と同様の原理で
真空ポート32および真空取出管44に負圧を発生させ
る。この時、第1エゼクタユニット22はそのノズル部
28の口径が小さく形成されているため小さな流量特性
を有した高真空が得られる。
【0014】このように、本実施例では低真空型の第2
エゼクタユニット24と高真空型の第1エゼクタユニッ
ト22とを個別に作動させるようにしたので、真空度に
対する空気流量特性は図2に示すような特性となり、高
真空時には空気消費量を低減することができる。また、
従来技術に比較して流量制御弁48を新設するだけで済
むので装置のコンパクト化あるいはユニット化は従前通
り可能となる。
【0015】なお、本実施例では前記流量制御弁48を
真空圧に直接応動して管路46aおよび46bの開度を
制御する負圧切換弁で構成したが、出力側の真空圧を検
出する圧力センサからの信号に応動して管路46aおよ
び46bの開度を制御する電磁切換弁で構成してもよい
ことは謂うまでもない。
【0016】さらにまた、本実施例では第1エゼクタユ
ニット22と第2エゼクタユニット24とを並列に接続
しているが、単一のエゼクタユニットによっても同様の
効果が得られることは勿論である。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では圧縮空
気等の加圧流体供給源にエゼクタユニットを流体回路を
介して接続する一方、エゼクタユニットへ流量制御弁を
介して加圧流体を流量制御して供給し、エゼクタユニッ
トを作動させるようにしたので、圧縮空気等の加圧流体
の消費量を増大することなく低真空から高真空までの広
範囲の真空特性を単一の真空発生装置により得られると
いう効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る真空発生装置の一実施例を示す概
略構成図である。
【図2】真空度と空気流量との関係を示す特性図であ
る。
【図3】従来の真空発生装置の概略構成図である。
【符号の説明】
20…圧縮空気供給源 22…第1エゼクタユニット 24…第2エゼクタユニット 26…室 28…ノズル部 30…ディフューザ部 32…真空ポート 34…室 36…ノズル部 38…ディフューザ部 40…真空ポート 42…両側逆止弁付管継手 44…真空取出管 46…管路 48…流量制御弁 50…シリンダ 52…弁体 54…ピストン 56…圧力室 58…弁スプリング 60…圧力信号通路

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】加圧流体供給源にエゼクタユニットを流体
    回路を介して接続し、 前記エゼクタユニットに対する加圧流体の供給量を制御
    する流量制御弁を設け、 さらに、前記流量制御弁を連続的に制御するための信号
    を発生させる圧力検出手段を設けたことを特徴とする真
    空発生装置。
  2. 【請求項2】請求項1記載の装置において、加圧流体供
    給源に二つのエゼクタユニットを夫々接続し、これらの
    エゼクタユニットは夫々ノズル径を異にする低真空型と
    高真空型とからなることを特徴とする真空発生装置。
  3. 【請求項3】請求項1または2記載の装置において、流
    量制御弁は出力の真空圧に直接応動してエゼクタユニッ
    トに加圧流体を供給する負圧切換弁で構成することを特
    徴とする真空発生装置。
  4. 【請求項4】請求項1または2に記載の装置において、
    流量制御弁は出力の真空圧を検出する圧力検出手段から
    の信号に応動して連続的に流体回路を切り換える電磁切
    換弁で構成することを特徴とする真空発生装置。
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