JPH0618446A - Adjustment method for x-ray optical system - Google Patents
Adjustment method for x-ray optical systemInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は実装部品の検査装置，特
に表面実装部品の半田付け工程後の検査装置に用いるＸ
線光学系の調整方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for inspecting mounted parts, and more particularly to an apparatus for inspecting surface mounted parts after a soldering process.
The present invention relates to a method of adjusting a linear optical system.
【０００２】近年，電子機器の小型化に伴い，使用する
プリント板の実装密度が高くなっており，また，フリッ
プチップ実装の場合のように外観では検査ができない影
の部分の検査を行う必要が生じている。In recent years, with the miniaturization of electronic devices, the mounting density of printed boards to be used has become higher, and it is necessary to inspect the shaded areas that cannot be visually inspected as in the case of flip-chip mounting. Has occurred.
【０００３】通常のＸ線システムは，Ｘ線を蛍光板等で
光に変換した後，光学的センサによって検出する方法が
とられている。この方法は，光学系の光軸に対する垂直
出し，レンズの中心出し，フォーカスの調整等の操作が
必要である。In a normal X-ray system, a method is used in which X-rays are converted into light by a fluorescent plate or the like and then detected by an optical sensor. This method requires operations such as vertical alignment with respect to the optical axis of the optical system, centering of the lens, and focus adjustment.
【０００４】[0004]
【従来の技術】図９(A),(B) はＸ線検査システムの説明
図である。図９(A) において，Ｘ線源１からＸ線を円錐
状に照射する。ＦはＸ線焦点位置である。Ｘ線はサンプ
ルの透過率が異なるため，Ｘ線センサ（Ｘ線 I.I. ；Ｘ
線イメージインテンシファイヤ）91上にＸ線の強度分布
をつくる。このとき, 影絵の原理によりサンプルの像は
センサ上に拡大投影される。2. Description of the Related Art FIGS. 9A and 9B are explanatory views of an X-ray inspection system. In FIG. 9 (A), the X-ray source 1 irradiates the X-ray in a conical shape. F is the X-ray focal point position. Since X-rays have different sample transmittances, X-ray sensors (X-ray II; X-ray
X-ray intensity distribution on line image intensifier 91. At this time, the image of the sample is enlarged and projected on the sensor by the principle of shadow drawing.
【０００５】いま，Ｘ線源からサンプルまでの距離を
ａ，サンプルからセンサまでの距離をｂとすると，投影
される像の幾何学的拡大率Ｍは Ｍ＝（ａ＋ｂ）／ａ となる。これより分かるように，サンプルをＸ線源に近
づけるほど拡大率は大きくなる。Now, assuming that the distance from the X-ray source to the sample is a and the distance from the sample to the sensor is b, the geometrical enlargement ratio M of the projected image is M = (a + b) / a. As can be seen, the closer the sample is to the X-ray source, the greater the magnification.
【０００６】従来のＸ線検査システムは分解能が低く数
10μｍの程度であり，幾何学的拡大率が小さく, 高精度
の光学系の調整を必要としなかった。ところが，プリン
ト板の高密度化に伴って, 被検査部品が小型化し，微小
な分解能を必要とするようになってきた。The conventional X-ray inspection system has a low resolution and a few
The size was about 10 μm, the geometric magnification was small, and it was not necessary to adjust the optical system with high precision. However, as the density of printed circuit boards has increased, the parts to be inspected have become smaller and require fine resolution.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】図９(B) は高分解能Ｘ
線検査システム（理想的な系）の説明図である。図にお
いて，Ｘ線像を大きな拡大率で蛍光板に投影し，その像
を光学的 I.I.(イメージインテンシファイヤ）92で増幅
した後, 光学的センサ（CCD カメラ)７に入力する。FIG. 9B shows high resolution X.
It is an explanatory view of a line inspection system (ideal system). In the figure, an X-ray image is projected on a fluorescent screen at a large magnification, the image is amplified by an optical II (image intensifier) 92, and then input to an optical sensor (CCD camera) 7.
【０００８】このような光学系では以下の条件が必要と
なる。図10(A) 〜(C) は光学系の調整条件の説明図であ
る。 図10(A) ：蛍光面全体での幾何学的拡大率を同一にする
必要があるため，被検査サンプル平面とＸ線センサ（蛍
光板）とを平行にする。In such an optical system, the following conditions are required. 10 (A) to 10 (C) are explanatory views of the adjustment conditions of the optical system. Fig. 10 (A): Since it is necessary to make the geometrical enlargement ratio of the entire phosphor screen the same, the inspected sample plane and the X-ray sensor (fluorescent plate) are made parallel.
【０００９】図10(B) ：解像度の低下を抑えるためレン
ズの中心軸と光学軸を一致させる。 図10(C) ：(C) Ｘ線量の効率を向上し，Ｘ線強度のばら
つき等の影響を抑えるため，Ｘ線照射の強度分布におけ
るＸ線量が最も強い点を光学系の中心にする。FIG. 10 (B): The central axis of the lens is aligned with the optical axis in order to suppress the deterioration of resolution. Figure 10 (C): (C) In order to improve the efficiency of X-ray dose and suppress the influence of variations in X-ray intensity, the point where the X-ray dose is the strongest in the intensity distribution of X-ray irradiation is the center of the optical system.
【００１０】ところが，従来のＸ線光学系においては，
精度良く上記の条件を満たすように調整する方法はなか
った。また，透過型Ｘ線源のターゲットは反射効率が悪
く，レーザ光を反射させることが困難であった。そこ
で，ターゲット付近にミラーを設置することが考えられ
るがターゲット面に平行に精度よく設置しなければなら
ず，また，ミラー自身の吸収，散乱があるため，Ｘ線照
射強度の分布を乱す原因となり，Ｘ線を照射してＸ線照
射強度の分布を観測しながら，その分布の中心に光軸を
とることは困難であった。However, in the conventional X-ray optical system,
There was no method for adjusting the above condition with high accuracy. Further, the target of the transmission type X-ray source has a low reflection efficiency, and it is difficult to reflect the laser light. Therefore, it is conceivable to install a mirror near the target, but it must be installed accurately parallel to the target surface, and because the mirror itself absorbs and scatters, it may disturb the distribution of X-ray irradiation intensity. , It was difficult to set the optical axis at the center of the X-ray irradiation intensity while observing the distribution of the X-ray irradiation intensity.
【００１１】本発明は高分解能Ｘ線検査システムにおい
て上記の光学系の調整条件を満たした高精度の調整方法
の提供を目的とする。It is an object of the present invention to provide a highly accurate adjustment method which satisfies the above adjustment conditions of the optical system in a high resolution X-ray inspection system.
【００１２】[0012]
【課題を解決するための手段】上記課題の解決は， １）Ｘ線非破壊検査システムにおいて，Ｘ線焦点位置を
通りＸ線源のターゲットに垂直にレーザビームをセッテ
ィングし，該レーザビームを光軸として光学系の調整を
行うＸ線光学系の調整方法，あるいは ２）センサの中心にレーザビームが入射するように光学
部品をセッティングする前記１）記載のＸ線光学系の調
整方法，あるいは ３）光軸上にセッティングした物体にミラーを貼付する
か，またはその物体の代わりにダミーのミラーを設置し
て，レーザビームが該ミラーで反射し，もとの発射した
位置に戻るように該物体の傾きを調整して光軸に垂直に
セッティングする前記１）記載のＸ線光学系の調整方
法，あるいは ４）前記ターゲット表面に金属膜を被着した前記１）記
載のＸ線光学系の調整方法，あるいは ５）前記ターゲット表面に金属膜を被着し，その上に透
過型蛍光板を貼付した前記１記載のＸ線光学系の調整方
法により達成される。To solve the above-mentioned problems, 1) in an X-ray non-destructive inspection system, a laser beam is set perpendicularly to a target of an X-ray source through an X-ray focal point position, and the laser beam is optically emitted. 2. An X-ray optical system adjusting method for adjusting an optical system as an axis, or 2) an X-ray optical system adjusting method according to 1), wherein an optical component is set so that a laser beam is incident on the center of the sensor. ) A mirror is attached to the object set on the optical axis, or a dummy mirror is installed in place of the object so that the laser beam is reflected by the mirror and returns to the original emission position. 1) The method of adjusting the X-ray optical system according to 1) above, wherein the tilt is adjusted to be perpendicular to the optical axis, or 4) The X-ray according to 1), wherein a metal film is deposited on the target surface. This is accomplished by the method of adjusting the optical system, or 5) the method of adjusting the X-ray optical system described in the above item 1, in which a metal film is deposited on the surface of the target and a transmissive fluorescent plate is attached thereon.
【００１３】[0013]
【作用】本発明では，Ｘ線検査システムの光学系の光軸
を合わせるときに，Ｘ線焦点位置からターゲットに垂直
な軸をレーザで求め，これを基にして光軸を合わせる。
すなわち，センサ，レンズ等の中心をこの軸上に置き，
且つ各々をこの軸に垂直になるように調整する。In the present invention, when the optical axis of the optical system of the X-ray inspection system is aligned, the axis perpendicular to the target is obtained from the X-ray focal point position by the laser, and the optical axis is aligned based on this.
That is, the center of the sensor, lens, etc. is placed on this axis,
And adjust each to be perpendicular to this axis.
【００１４】この際，図７のようにターゲットの表面に
金属膜を被着し，反射率を上げ，ここにレーザを垂直に
照射することにより光軸を得ている。At this time, an optical axis is obtained by depositing a metal film on the surface of the target as shown in FIG. 7 to increase the reflectance and irradiating the laser perpendicularly thereto.
【００１５】[0015]
【実施例】図１は本発明の実施例全体の構成図である。
図において，１はＸ線源，２はHeNeレーザ, ３はハーフ
ミラー，４は観測カメラ，５は蛍光板，６はレンズ，７
はCCD カメラ, ８は蛍光板，レンズ，CCD カメラのステ
ージコントローラ，９はI/O 回路, 10は画像入力(2)
部, 11は画像入力(1) 部, 12はメモリ, 13はCPU, 14は
バスである。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a block diagram of the entire embodiment of the present invention.
In the figure, 1 is an X-ray source, 2 is a HeNe laser, 3 is a half mirror, 4 is an observation camera, 5 is a fluorescent screen, 6 is a lens, and 7
Is a CCD camera, 8 is a fluorescent screen, a lens, a CCD camera stage controller, 9 is an I / O circuit, and 10 is an image input (2).
Section, 11 is an image input (1) section, 12 is a memory, 13 is a CPU, and 14 is a bus.
【００１６】上記構成の光学系において，光軸のセッテ
ィングおよび光学系の調整方法を以下に説明する。図２
(A) 〜(D) は本発明の第１の実施例の説明図である。A method of setting the optical axis and adjusting the optical system in the optical system having the above-mentioned structure will be described below. Figure 2
(A)-(D) is explanatory drawing of the 1st Example of this invention.
【００１７】この実施例は，光学部品を中心軸に垂直に
設置するため，センサの中心にレーザビームが入射する
ように光学系を調整する方法である。 (1) まず，Ｘ線検査システムのセンサ（CCD エリアセン
サ) にレーザビームが入射するようにセンサを設置す
る。 (2) ここで, センサからの画像入力を行い, 入力画像の
最大値がセンサ内のどの座標（ｘ，ｙ）であるかを検出
する。 (3）この最大値の座標（ｘ，ｙ）がセンサの中心座標
（ｘ0 ，ｙ0 ）からずれている場合には，最大値がセン
サの中心にくるように，センサをステージにより移動さ
せる。This embodiment is a method of adjusting the optical system so that the laser beam is incident on the center of the sensor because the optical parts are installed perpendicularly to the central axis. (1) First, install the sensor so that the laser beam is incident on the sensor (CCD area sensor) of the X-ray inspection system. (2) Here, an image is input from the sensor to detect which coordinate (x, y) in the sensor the maximum value of the input image is. (3) When the coordinates (x, y) of the maximum value are deviated from the center coordinates (x 0 , y 0 ) of the sensor, the sensor is moved by the stage so that the maximum value comes to the center of the sensor. .
【００１８】以上の光軸調整のフロー図を図３に示す。
次に, このシステムにおいて，レンズをその中心を光軸
上に且つ光軸に垂直に設置する方法を説明する。A flow chart of the above optical axis adjustment is shown in FIG.
Next , in this system, a method of disposing the lens with its center on the optical axis and perpendicular to the optical axis will be described.
【００１９】図２(A) ：上記光軸調整により, センサの
中心にレーザビームが入力するようにセットされてい
る。 図２(B) ：光軸上にレンズを移動する。レンズの中心と
光軸が大きく離れているときはレーザビームはセンサエ
リアから外れてしまうため, ビームの位置はつかめない
が, このときはレンズを同じ方向に移動し続ける。FIG. 2 (A): The optical axis is adjusted so that the laser beam is input to the center of the sensor. Figure 2 (B): Move the lens along the optical axis. When the optical axis is far away from the center of the lens, the laser beam is out of the sensor area, so the position of the beam cannot be grasped, but at this time the lens continues to move in the same direction.
【００２０】図２(C) ：レーザビームがセンサエリア内
に入力された場合は，センサのセット時と同様に, その
画像中の最大値の座標（ｘ，ｙ）を求める。このとき,
最大値の座標（ｘ，ｙ）がセンサエリアの中心座標（ｘ
0 ，ｙ0 ）からずれている場合には，最大値がセンサエ
リアの中心にくるように，レンズを移動させる。FIG. 2 (C): If the laser beam is inputted in the sensor area, as in the case of a set of sensors to determine the coordinates of the maximum value in the image (x, y). At this time ,
The maximum coordinate (x, y) is the center coordinate of the sensor area (x
If it deviates from 0 , y 0 ), the lens is moved so that the maximum value comes to the center of the sensor area.
【００２１】図２(D) ：レーザビームがセンサエリアの
中心にくると, レーザビームは真っ直ぐにセンサの中心
に入力する。このレンズの調整方法のフローも図３と略
同様である。FIG. 2 (D): When the laser beam reaches the center of the sensor area , the laser beam enters the center of the sensor straight. The flow of this lens adjustment method is substantially the same as that in FIG.
【００２２】図４は本発明の第２の実施例の説明図であ
る。この実施例は蛍光板（または蛍光板ホルダ）の垂直
出しを行っている。図ではハーフミラー３を使ってＸ線
源のターゲットに垂直なレーザ光がセットされている。
まず，垂直出しを行う光学部品（図では蛍光板ホルダ）
にミラーを貼付する。 次に，観測カメラによりハーフ
ミラーを観測し，初めにハーフミラーを透過して蛍光板
方向に進むレーザビームがハーフミラー中の位置Ｐ1 か
ら発射していることを検出する。このレーザビームがミ
ラーから反射してハーフミラー中の位置Ｐ2 に到達して
いることを観測する。このＰ1 とＰ2 が重なるように蛍
光板ホルダの水平垂直両方向の傾きを調整する。FIG. 4 is an explanatory view of the second embodiment of the present invention. In this embodiment, the fluorescent plate (or the fluorescent plate holder) is vertically extended. In the figure, a laser beam perpendicular to the target of the X-ray source is set using the half mirror 3.
First of all, the optical parts for vertical alignment (fluorescent plate holder in the figure)
Attach the mirror to. Next, the observation camera observes the half mirror, and it is detected that the laser beam which first passes through the half mirror and advances in the fluorescent plate direction is emitted from the position P 1 in the half mirror. It is observed that this laser beam is reflected from the mirror and reaches the position P 2 in the half mirror. The inclination of the fluorescent plate holder in both the horizontal and vertical directions is adjusted so that P 1 and P 2 overlap.
【００２３】以上により, 蛍光板の垂直度を精度よくと
ることができる。図５は本発明の第３の実施例の説明図
である。図において，Ｘ線源は透過型を用い，図７に示
されるようにターゲット（ベリリウム）表面には金属膜
を被着し，反射効率を良くしたものを使用している。As described above , the verticality of the fluorescent plate can be accurately obtained. FIG. 5 is an explanatory diagram of the third embodiment of the present invention. In the figure, a transmission type X-ray source is used, and as shown in FIG. 7, a target (beryllium) surface is coated with a metal film to improve the reflection efficiency.
【００２４】HeNeレーザから照射されたレーザ光はハー
フミラーを通してその半分はターゲット面に照射され
る。ターゲット面に照射されたレーザ光は金属膜により
効率良く反射した後，ハーフミラーを介してそのレーザ
光の半分はレーザ照射口の方に戻り，他の光は光学系セ
ンサの方向に照射する。The laser light emitted from the HeNe laser passes through the half mirror and half of the laser light is emitted to the target surface. The laser light irradiated on the target surface is efficiently reflected by the metal film, and then half of the laser light returns to the laser irradiation port through the half mirror and the other light is irradiated toward the optical system sensor.
【００２５】このとき，レーザ照射口に戻ってきたレー
ザスポットがレーザ照射口に重なる場合は，レーザ光が
ターゲット面に対して垂直に照射されていることにな
る。したがって，これがずれている場合はレーザビーム
をミラー８で調節し，レーザスポットがレーザ照射口に
重なるようにすることにより，Ｘ線焦点位置から発し，
ターゲット面に垂直なレーザビーム（光軸）を得ること
ができる。At this time, if the laser spot returning to the laser irradiation port overlaps the laser irradiation port, it means that the laser beam is applied perpendicularly to the target surface. Therefore, when this is deviated, the laser beam is adjusted by the mirror 8 so that the laser spot overlaps the laser irradiation port, so that the laser beam is emitted from the X-ray focal position,
A laser beam (optical axis) perpendicular to the target surface can be obtained.
【００２６】このとき，蛍光板にレーザ光を透過するも
の，例えばプラスチックシンチレータを設置して，Ｘ線
照射を開始し，蛍光板上にできるＸ線の強度分布をカメ
ラで観測する。そしてガウス分布状のＸ線強度分布の中
心にレーザ光が照射されるようにする。At this time, a fluorescent plate that transmits laser light, for example, a plastic scintillator is installed, X-ray irradiation is started, and the intensity distribution of X-rays formed on the fluorescent plate is observed by a camera. Then, the center of the Gaussian distribution X-ray intensity distribution is irradiated with the laser light.
【００２７】図６は本発明の第４の実施例の説明図であ
る。図において，ターゲットの表面に金属膜を被着した
後，プラスチックシンチレータやCaF 等のレーザ光を透
過する蛍光板を貼付する。このようにすれば上記の蛍光
板にプラスチックシンチレータを設置した場合と同様に
レーザ光を反射することができ, またこのＸ線透過型蛍
光板によってＸ線焦点位置を知ることができるので，直
接，ガウス分布状のＸ線強度分布の中心に光学系の中心
がくるように光軸を設定できる。FIG. 6 is an explanatory diagram of the fourth embodiment of the present invention. In the figure, after depositing a metal film on the surface of the target, a plastic scintillator or a fluorescent plate such as CaF that transmits laser light is attached. In this way, the laser light can be reflected as in the case where the plastic scintillator is installed on the fluorescent plate, and the X-ray focal position can be known by this X-ray transmissive fluorescent plate, so that the Gaussian distribution can be directly measured. The optical axis can be set so that the center of the optical system is located at the center of the X-ray intensity distribution.
【００２８】図８(A),(B) はＸ線源の断面図である。図
の(A) は透過型Ｘ線源，(B) は反射型Ｘ線源である。透
過型Ｘ線源は反射型Ｘ線源に比べてベリリウムウインド
ウとターゲットの間隔がない分だけサンプルをＸ線焦点
に近づけることができ拡大率を大きくとれるので，実施
例ではこれを使用した。FIGS. 8A and 8B are sectional views of the X-ray source. In the figure, (A) is a transmission type X-ray source, and (B) is a reflection type X-ray source. Compared with the reflection type X-ray source, the transmission type X-ray source can bring the sample closer to the X-ray focal point by the amount that there is no space between the beryllium window and the target, so that the enlargement ratio can be increased.
【００２９】[0029]
【発明の効果】本発明によれば, ターゲット面に垂直な
レーザ光をセットし，この軸を基準にして光学系を組む
ことによりＸ線検査システムの光学系の精度向上に寄与
することができた。According to the present invention, by setting a laser beam perpendicular to the target surface and assembling an optical system with this axis as a reference, it is possible to contribute to the improvement of the accuracy of the optical system of the X-ray inspection system. It was
【００３０】また，ターゲット表面に金属膜を被着させ
ることにより，簡単にターゲット表面に垂直なレーザビ
ームを得ることができ，これを光軸として光学系の調整
に用いることができる。By depositing a metal film on the target surface, a laser beam perpendicular to the target surface can be easily obtained, and this can be used as an optical axis for adjusting the optical system.
【図１】 本発明の実施例全体の構成図FIG. 1 is a configuration diagram of an entire embodiment of the present invention
【図２】 本発明の第１の実施例の説明図FIG. 2 is an explanatory diagram of a first embodiment of the present invention.
【図３】 光軸調整のフロー図[Fig. 3] Flow chart of optical axis adjustment
【図４】 本発明の第２の実施例の説明図FIG. 4 is an explanatory diagram of a second embodiment of the present invention.
【図５】 本発明の第３の実施例の説明図FIG. 5 is an explanatory diagram of a third embodiment of the present invention.
【図６】 本発明の第４の実施例の説明図FIG. 6 is an explanatory diagram of a fourth embodiment of the present invention.
【図７】 第３，４実施例のターゲットの説明図FIG. 7 is an explanatory diagram of a target of the third and fourth embodiments.
【図８】 Ｘ線源の断面図FIG. 8 is a sectional view of an X-ray source.
【図９】 Ｘ線検査システムの説明図FIG. 9 is an explanatory diagram of an X-ray inspection system.
【図10】 光学系の調整条件の説明図FIG. 10 is an explanatory diagram of optical system adjustment conditions.
１ Ｘ線源 ２ HeNeレーザ ３ ハーフミラー ４ 観測カメラ ５ 蛍光板 ６レンズ ７ CCD カメラ ８ 蛍光板，レンズ，CCD カメラのステージコントロー
ラ ９ I/O 回路 10 画像入力(2) 部 11 画像入力(1) 部 12 メモリ 13 CPU, 14 バス1 X-ray source 2 HeNe laser 3 Half mirror 4 Observation camera 5 Fluorescent plate 6 Lens 7 CCD camera 8 Fluorescent plate, lens, CCD camera stage controller 9 I / O circuit 10 Image input (2) part 11 Image input (1) part 12 Memory 13 CPU, 14 bus
Claims (5)
焦点位置を通りＸ線源のターゲットに垂直にレーザビー
ムをセッティングし，該レーザビームを光軸として光学
系の調整を行うことを特徴とするＸ線光学系の調整方
法。1. An X-ray non-destructive inspection system, wherein a laser beam is set perpendicularly to a target of an X-ray source through an X-ray focal point position, and an optical system is adjusted with the laser beam as an optical axis. X-ray optical system adjustment method.
ように光学部品をセッティングすることを特徴とする請
求項１記載のＸ線光学系の調整方法。2. The method for adjusting an X-ray optical system according to claim 1, wherein an optical component is set so that a laser beam is incident on the center of the sensor.
を貼付するか，またはその物体の代わりにダミーのミラ
ーを設置して，レーザビームが該ミラーで反射し，もと
の発射した位置に戻るように該物体の傾きを調整して光
軸に垂直にセッティングすることを特徴とする請求項１
記載のＸ線光学系の調整方法。3. A mirror is attached to an object set on the optical axis, or a dummy mirror is installed in place of the object, and the laser beam is reflected by the mirror and returns to the original emission position. 2. The tilt of the object is adjusted so that the object is set perpendicularly to the optical axis.
A method for adjusting the X-ray optical system described above.
ことを特徴とする請求項１記載のＸ線光学系の調整方
法。4. The method for adjusting an X-ray optical system according to claim 1, wherein a metal film is deposited on the surface of the target.
その上に透過型蛍光板を貼付したことを特徴とする請求
項１記載のＸ線光学系の調整方法。5. A metal film is deposited on the surface of the target,
The method of adjusting an X-ray optical system according to claim 1, wherein a transmissive fluorescent plate is attached on the transparent fluorescent plate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17462992A JPH0618446A (en) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | Adjustment method for x-ray optical system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17462992A JPH0618446A (en) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | Adjustment method for x-ray optical system |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0618446A true JPH0618446A (en) | 1994-01-25 |
Family
ID=15981940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17462992A Withdrawn JPH0618446A (en) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | Adjustment method for x-ray optical system |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0618446A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109799079A (en) * | 2019-03-29 | 2019-05-24 | 云南电网有限责任公司电力科学研究院 | A kind of the common optical axis calibrator and method of multispectral camera |
-
1992
- 1992-07-02 JP JP17462992A patent/JPH0618446A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109799079A (en) * | 2019-03-29 | 2019-05-24 | 云南电网有限责任公司电力科学研究院 | A kind of the common optical axis calibrator and method of multispectral camera |
| CN109799079B (en) * | 2019-03-29 | 2024-04-09 | 云南电网有限责任公司电力科学研究院 | Common optical axis adjustment device and method for multispectral camera |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19991005 |