JPH06174911A - カラーフィルターの製造方法 - Google Patents
カラーフィルターの製造方法Info
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- JPH06174911A JPH06174911A JP32306692A JP32306692A JPH06174911A JP H06174911 A JPH06174911 A JP H06174911A JP 32306692 A JP32306692 A JP 32306692A JP 32306692 A JP32306692 A JP 32306692A JP H06174911 A JPH06174911 A JP H06174911A
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- Japan
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- chamber
- film thickness
- substrate
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 赤、緑、青色の透明着色パターンの膜厚分布
が小さい分光特性良好なカラーフィルターの製造方法を
提供すること。 【構成】 スピンコータ1のチャンバー10内に配置さ
れたガラス基板2上にカラーレジスト溶液を塗布しかつ
この塗布膜面に対し略垂直な軸を中心にして基板を回転
させその塗布膜厚を略均一にした後、これを乾燥させて
基板上にカラーレジストの被膜を形成する方法であっ
て、チャンバー内の空気中に含まれる溶媒量をe、チャ
ンバー内温度における空気の飽和溶媒量をEとしたと
き、チャンバー内のe/E×100[相対湿度:%]を
調節してカラーレジストの膜厚を所定値に設定すること
を特徴とする。この方法によれば上記膜厚調整をチャン
バー内の相対湿度を変えることにより行っているため、
基板の設定回転数を略一定に揃えることが可能となり、
かつ、これに伴い風切りの影響も略同一となり安定した
膜厚分布の各色別カラーレジスト被膜を基板上に形成す
ることが可能となる。
が小さい分光特性良好なカラーフィルターの製造方法を
提供すること。 【構成】 スピンコータ1のチャンバー10内に配置さ
れたガラス基板2上にカラーレジスト溶液を塗布しかつ
この塗布膜面に対し略垂直な軸を中心にして基板を回転
させその塗布膜厚を略均一にした後、これを乾燥させて
基板上にカラーレジストの被膜を形成する方法であっ
て、チャンバー内の空気中に含まれる溶媒量をe、チャ
ンバー内温度における空気の飽和溶媒量をEとしたと
き、チャンバー内のe/E×100[相対湿度:%]を
調節してカラーレジストの膜厚を所定値に設定すること
を特徴とする。この方法によれば上記膜厚調整をチャン
バー内の相対湿度を変えることにより行っているため、
基板の設定回転数を略一定に揃えることが可能となり、
かつ、これに伴い風切りの影響も略同一となり安定した
膜厚分布の各色別カラーレジスト被膜を基板上に形成す
ることが可能となる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、透明基板上の画素部位
に青色、緑色、赤色のカラーレジストでそれぞれ構成さ
れた各色別の透明着色パターンを備えるカラーフィルタ
ーの製造方法に係り、特に、各色別に設けられた透明着
色パターンの膜厚分布が小さいカラーフィルターの製造
方法に関するものである。
に青色、緑色、赤色のカラーレジストでそれぞれ構成さ
れた各色別の透明着色パターンを備えるカラーフィルタ
ーの製造方法に係り、特に、各色別に設けられた透明着
色パターンの膜厚分布が小さいカラーフィルターの製造
方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】この種のカラーフィルターは、ガラス等
の透明基板と、この透明基板上の画素部位に設けられそ
の透過光を画素毎に着色する青色、緑色、赤色の各色別
の透明着色パターンとでその主要部が構成されており、
透明着色パターンはそれぞれの色に対応する色彩の顔料
が含まれたカラーレジストにより形成されている。
の透明基板と、この透明基板上の画素部位に設けられそ
の透過光を画素毎に着色する青色、緑色、赤色の各色別
の透明着色パターンとでその主要部が構成されており、
透明着色パターンはそれぞれの色に対応する色彩の顔料
が含まれたカラーレジストにより形成されている。
【0003】そして、このカラーレジストは、顔料、バ
インダー樹脂、光架橋剤、及び、溶媒とでその主要部が
構成され、このカラーレジストを透明基板上に一様に塗
布し、かつ、選択的に露光、現像して上記各色別の透明
着色パターンが形成されているものである。
インダー樹脂、光架橋剤、及び、溶媒とでその主要部が
構成され、このカラーレジストを透明基板上に一様に塗
布し、かつ、選択的に露光、現像して上記各色別の透明
着色パターンが形成されているものである。
【0004】ところで、このカラーレジストを適用して
カラーフィルターを製造する場合、その分光特性は上記
透明着色パターンを構成するカラーレジストの膜厚によ
り調整され、この膜厚が大きい場合はその色度は良好で
あるが透過率は低くなり、他方、上記膜厚が小さい場合
には透過率は良好となるが色度は低下する。
カラーフィルターを製造する場合、その分光特性は上記
透明着色パターンを構成するカラーレジストの膜厚によ
り調整され、この膜厚が大きい場合はその色度は良好で
あるが透過率は低くなり、他方、上記膜厚が小さい場合
には透過率は良好となるが色度は低下する。
【0005】このため、分光特性が良好なカラーフィル
ターを製造するためには上記透明基板上に適切な膜厚の
カラーレジストの被膜を形成することが必要となり、そ
の形成方法として、従来、特開昭63−37304号公
報に記載されたロールコータによる方法、特開昭60−
403号公報に記載されたスピンコートによる方法等が
利用されている。
ターを製造するためには上記透明基板上に適切な膜厚の
カラーレジストの被膜を形成することが必要となり、そ
の形成方法として、従来、特開昭63−37304号公
報に記載されたロールコータによる方法、特開昭60−
403号公報に記載されたスピンコートによる方法等が
利用されている。
【0006】しかし、前者のロールコータ法を適用して
その塗布膜厚を均一に調整するにはゴムローラ等ロール
コータ表面に予めカラーレジスト溶液を均一に展開させ
ることが前提となるが、上記ゴムローラとカラーレジス
ト溶液との濡れ性が悪い場合(特に水系のカラーレジス
トを適用した場合に顕著であった)にはこれが困難とな
り、この結果、上記ロールコータ法においてはカラーレ
ジスト被膜を均一に形成できない欠点があった。
その塗布膜厚を均一に調整するにはゴムローラ等ロール
コータ表面に予めカラーレジスト溶液を均一に展開させ
ることが前提となるが、上記ゴムローラとカラーレジス
ト溶液との濡れ性が悪い場合(特に水系のカラーレジス
トを適用した場合に顕著であった)にはこれが困難とな
り、この結果、上記ロールコータ法においてはカラーレ
ジスト被膜を均一に形成できない欠点があった。
【0007】このため、上記カラーレジストの薄膜を形
成する方法としては一般にスピンコート法が利用されて
いる。
成する方法としては一般にスピンコート法が利用されて
いる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このスピン
コートによる塗布方法は、密閉されたチャンバー内に透
明基板を配置し、かつ、この基板上にカラーレジストの
溶液を塗布すると共に、この塗布膜面に対し略垂直な軸
を中心にして上記基板を回転させその塗布膜厚を略均一
にした後、これを乾燥させて透明基板上にカラーレジス
トの薄膜を形成する方法である。
コートによる塗布方法は、密閉されたチャンバー内に透
明基板を配置し、かつ、この基板上にカラーレジストの
溶液を塗布すると共に、この塗布膜面に対し略垂直な軸
を中心にして上記基板を回転させその塗布膜厚を略均一
にした後、これを乾燥させて透明基板上にカラーレジス
トの薄膜を形成する方法である。
【0009】そして、上記基板の回転数を高く設定する
とはカラーレジストの膜厚は薄くなり、反対に上記回転
数を低く設定するとその膜厚が厚くなることから、この
スピンコート法においては基板の回転数を適宜調整して
上記カラーレジストの膜厚を所定値に設定する方法が採
られている。
とはカラーレジストの膜厚は薄くなり、反対に上記回転
数を低く設定するとその膜厚が厚くなることから、この
スピンコート法においては基板の回転数を適宜調整して
上記カラーレジストの膜厚を所定値に設定する方法が採
られている。
【0010】しかし、上記カラーレジストの膜厚に対応
させて基板の回転数を高く設定するにつれてチャンバー
内の空気抵抗に起因した風切りの影響が上記塗布膜面に
現れ、透明基板の四方の角部にカラーレジストの樹脂成
分が溜まり易くなりその部位の膜厚が他の部位より厚く
なってしまう問題点があった(図2参照)。
させて基板の回転数を高く設定するにつれてチャンバー
内の空気抵抗に起因した風切りの影響が上記塗布膜面に
現れ、透明基板の四方の角部にカラーレジストの樹脂成
分が溜まり易くなりその部位の膜厚が他の部位より厚く
なってしまう問題点があった(図2参照)。
【0011】尚、このような弊害を回避するため、適用
するカラーレジスト溶液の流動性を高くして透明基板の
回転数を下げる方法も考えられている。
するカラーレジスト溶液の流動性を高くして透明基板の
回転数を下げる方法も考えられている。
【0012】しかし、このような方法を採ったとしても
その膜厚を所定の値に調整するには透明基板の回転数を
その設定膜厚に応じて変える必要があり、かつ、この回
転数の高低に対応して上記風切りの影響も変化するため
依然としてカラーレジスト被膜の膜厚を均一に設定でき
ない問題点があった。
その膜厚を所定の値に調整するには透明基板の回転数を
その設定膜厚に応じて変える必要があり、かつ、この回
転数の高低に対応して上記風切りの影響も変化するため
依然としてカラーレジスト被膜の膜厚を均一に設定でき
ない問題点があった。
【0013】本発明はこのような問題点に着目してなさ
れたもので、その課題とするところは、上記カラーレジ
ストで構成される透明着色パターンの膜厚分布が小さい
カラーフィルターを簡便に製造できる方法を提供するこ
とにある。
れたもので、その課題とするところは、上記カラーレジ
ストで構成される透明着色パターンの膜厚分布が小さい
カラーフィルターを簡便に製造できる方法を提供するこ
とにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】すなわち請求項1に係る
発明は、チャンバー内に配置された基板上に、顔料、バ
インダー樹脂、光架橋剤、及び、溶媒を主成分とするカ
ラーレジスト溶液を塗布し、かつ、この塗布膜面に対し
略垂直な軸を中心にして上記基板を回転させその塗布膜
厚を略均一にした後、これを乾燥させて上記基板上にカ
ラーレジストの被膜を形成するカラーフィルターの製造
方法を前提とし、チャンバー内の空気中に含まれる上記
溶媒量をe、チャンバー内温度における空気の飽和溶媒
量をEとしたとき、上記チャンバー内のe/E×100
(相対湿度)を調節してカラーレジストの膜厚を所定値
に設定することを特徴とするものである。
発明は、チャンバー内に配置された基板上に、顔料、バ
インダー樹脂、光架橋剤、及び、溶媒を主成分とするカ
ラーレジスト溶液を塗布し、かつ、この塗布膜面に対し
略垂直な軸を中心にして上記基板を回転させその塗布膜
厚を略均一にした後、これを乾燥させて上記基板上にカ
ラーレジストの被膜を形成するカラーフィルターの製造
方法を前提とし、チャンバー内の空気中に含まれる上記
溶媒量をe、チャンバー内温度における空気の飽和溶媒
量をEとしたとき、上記チャンバー内のe/E×100
(相対湿度)を調節してカラーレジストの膜厚を所定値
に設定することを特徴とするものである。
【0015】そして、この請求項1に係る発明において
はカラーレジストの膜厚の調整をチャンバー内の相対湿
度を変えることにより行っているため、上記基板の設定
回転数を略一定に揃えることが可能となり、かつ、これ
に伴い上記風切りの影響も略同一となり安定した膜厚分
布のカラーレジスト被膜を基板上に形成することが可能
となる。
はカラーレジストの膜厚の調整をチャンバー内の相対湿
度を変えることにより行っているため、上記基板の設定
回転数を略一定に揃えることが可能となり、かつ、これ
に伴い上記風切りの影響も略同一となり安定した膜厚分
布のカラーレジスト被膜を基板上に形成することが可能
となる。
【0016】尚、この方法により上記カラーレジスト被
膜の膜厚を厚く設定するには、チャンバー内へ乾燥空気
等を循環させてチャンバー内のe/E×100(%)
[相対湿度]を低く設定すればよい。すなわち、この雰
囲気下においては基板上に形成されたカラーレジスト溶
液の塗布膜の乾燥速度が速くなり、基板の回転中におい
て塗布膜の粘度上昇が急激にすすむため(すなわち早め
に流動性の低下を引起こすため)振切られる樹脂成分が
少なくなってその膜厚は厚くなる。
膜の膜厚を厚く設定するには、チャンバー内へ乾燥空気
等を循環させてチャンバー内のe/E×100(%)
[相対湿度]を低く設定すればよい。すなわち、この雰
囲気下においては基板上に形成されたカラーレジスト溶
液の塗布膜の乾燥速度が速くなり、基板の回転中におい
て塗布膜の粘度上昇が急激にすすむため(すなわち早め
に流動性の低下を引起こすため)振切られる樹脂成分が
少なくなってその膜厚は厚くなる。
【0017】一方、上記カラーレジスト被膜の膜厚を薄
く設定するには、チャンバー内へ溶媒蒸気等を循環させ
てチャンバー内のe/E×100(%)[相対湿度]を
高く設定すればよい。すなわち、この雰囲気下において
は基板上に形成されたカラーレジスト溶液の塗布膜の乾
燥速度が遅くなり、基板の回転中において塗布膜の粘度
上昇が起こり難くなるため(すなわち流動性が保持され
るため)振切られる樹脂成分が多くなってその膜厚は薄
くなる。
く設定するには、チャンバー内へ溶媒蒸気等を循環させ
てチャンバー内のe/E×100(%)[相対湿度]を
高く設定すればよい。すなわち、この雰囲気下において
は基板上に形成されたカラーレジスト溶液の塗布膜の乾
燥速度が遅くなり、基板の回転中において塗布膜の粘度
上昇が起こり難くなるため(すなわち流動性が保持され
るため)振切られる樹脂成分が多くなってその膜厚は薄
くなる。
【0018】ここで、この請求項1に係る発明において
は上述したように基板の設定回転数を略一定に揃えるこ
とが可能となるが、その設定される回転数として400
rpm〜800rpmの範囲が望ましい。この回転数が
800rpmを越えると上記風切りの影響が無視できな
くなり、また、上記回転数が400rpm未満であると
振切られる樹脂成分が少なくなり、基板の外縁部に溜ま
ってしまったり塗布膜面に波状の凹凸が形成され易くな
る弊害が生ずるからである。
は上述したように基板の設定回転数を略一定に揃えるこ
とが可能となるが、その設定される回転数として400
rpm〜800rpmの範囲が望ましい。この回転数が
800rpmを越えると上記風切りの影響が無視できな
くなり、また、上記回転数が400rpm未満であると
振切られる樹脂成分が少なくなり、基板の外縁部に溜ま
ってしまったり塗布膜面に波状の凹凸が形成され易くな
る弊害が生ずるからである。
【0019】次に、この技術的手段において適用される
カラーレジストは、従来と同様、顔料、バインダー樹
脂、光架橋剤、及び、溶媒を主成分とするものである。
カラーレジストは、従来と同様、顔料、バインダー樹
脂、光架橋剤、及び、溶媒を主成分とするものである。
【0020】そして、上記顔料としては、フタロシアニ
ン系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、
アゾレーキ系顔料、不溶性アゾ系顔料、縮合アゾ系顔
料、ペリレン系顔料、イソインドリノン系顔料、アント
ラキノン系顔料、チオインジコ系顔料等が適用できる。
ン系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、
アゾレーキ系顔料、不溶性アゾ系顔料、縮合アゾ系顔
料、ペリレン系顔料、イソインドリノン系顔料、アント
ラキノン系顔料、チオインジコ系顔料等が適用できる。
【0021】また、これ等の顔料は、水、ポリビニルア
ルコール、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリ
コールアルキルエーテル等と共にボールミル、サンドミ
ル等で分散されて以下のバインダー樹脂や光架橋剤と混
合される顔料液となる。
ルコール、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリ
コールアルキルエーテル等と共にボールミル、サンドミ
ル等で分散されて以下のバインダー樹脂や光架橋剤と混
合される顔料液となる。
【0022】また、上記バインダー樹脂としては、アク
リル酸、メタクリル酸、2−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒド
ロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピル
メタクリレート、ジメチルアミノプロピルアクリレー
ト、ジメチルアミノプロピルメタクリレート、ポリエチ
レングリコール、ポリビニルアルコール、アクリルアミ
ド、メトキシメチルアクリルアミドナド等から選択され
る重合体が適用でき、また、光架橋剤としては、ジアゾ
樹脂、ジアゾニウム塩、多官能アジド等が例示できる。
リル酸、メタクリル酸、2−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒド
ロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピル
メタクリレート、ジメチルアミノプロピルアクリレー
ト、ジメチルアミノプロピルメタクリレート、ポリエチ
レングリコール、ポリビニルアルコール、アクリルアミ
ド、メトキシメチルアクリルアミドナド等から選択され
る重合体が適用でき、また、光架橋剤としては、ジアゾ
樹脂、ジアゾニウム塩、多官能アジド等が例示できる。
【0023】
【作用】請求項1に係る発明によれば、チャンバー内の
空気中に含まれる上記溶媒量をe、チャンバー内温度に
おける空気の飽和溶媒量をEとしたとき、上記チャンバ
ー内のe/E×100(相対湿度)を調節してカラーレ
ジストの膜厚を所定値に設定している。
空気中に含まれる上記溶媒量をe、チャンバー内温度に
おける空気の飽和溶媒量をEとしたとき、上記チャンバ
ー内のe/E×100(相対湿度)を調節してカラーレ
ジストの膜厚を所定値に設定している。
【0024】このようにこの発明においてはカラーレジ
ストの膜厚の調整をチャンバー内の相対湿度を変えるこ
とにより行っているため、上記基板の設定回転数を略一
定に揃えることが可能となり、かつ、これに伴い風切り
の影響も略同一となり安定した膜厚分布のカラーレジス
ト被膜を基板上に形成することが可能となる。
ストの膜厚の調整をチャンバー内の相対湿度を変えるこ
とにより行っているため、上記基板の設定回転数を略一
定に揃えることが可能となり、かつ、これに伴い風切り
の影響も略同一となり安定した膜厚分布のカラーレジス
ト被膜を基板上に形成することが可能となる。
【0025】
【実施例】以下、本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
【0026】まず、2−ヒドロキシエチルメタクリル酸
を80重量%、ジメチルアミノプロピルメタクリルアミ
ドを3重量%、メタクリルアミドを2重量%、及び、メ
トキシメチルアクリルアミドを15重量%の割合で20
%の酢酸溶液中にて重合し分子量2500のバインダー
樹脂を合成し、かつ、これに光架橋剤としてジアゾ樹脂
を10重量%混合し感光性樹脂とした。
を80重量%、ジメチルアミノプロピルメタクリルアミ
ドを3重量%、メタクリルアミドを2重量%、及び、メ
トキシメチルアクリルアミドを15重量%の割合で20
%の酢酸溶液中にて重合し分子量2500のバインダー
樹脂を合成し、かつ、これに光架橋剤としてジアゾ樹脂
を10重量%混合し感光性樹脂とした。
【0027】一方、赤色顔料としてパーマネントレッ
ド、緑色顔料として塩素化シアニングリーン、青色顔料
として不安定化シアニンブルーとジオキサジンバイオレ
ットの混合物を適用し、各顔料をサンドミル、ボールミ
ルを使用してそれぞれ、水、ポリビニルアルコール、ポ
リエチレングリコールモノオレインエーテル中に分散さ
せて赤色、緑色、及び、青色の顔料液を作製した。
ド、緑色顔料として塩素化シアニングリーン、青色顔料
として不安定化シアニンブルーとジオキサジンバイオレ
ットの混合物を適用し、各顔料をサンドミル、ボールミ
ルを使用してそれぞれ、水、ポリビニルアルコール、ポ
リエチレングリコールモノオレインエーテル中に分散さ
せて赤色、緑色、及び、青色の顔料液を作製した。
【0028】次に、これ等顔料液の固形分と上記感光性
樹脂の固形分の重量比が5:3となる割合で各々混合
し、赤色、緑色、及び、青色のカラーレジストをそれぞ
れ作製した。
樹脂の固形分の重量比が5:3となる割合で各々混合
し、赤色、緑色、及び、青色のカラーレジストをそれぞ
れ作製した。
【0029】そして、図1に示されたスピンコーターを
用い、300mm角のガラス基板上にそれぞれの膜厚が
1μmの赤色、緑色、青色の透明着色パターンを形成す
る目的で以下の予備テストを行った。尚、膜厚測定は1
5mm間隔で測定した。
用い、300mm角のガラス基板上にそれぞれの膜厚が
1μmの赤色、緑色、青色の透明着色パターンを形成す
る目的で以下の予備テストを行った。尚、膜厚測定は1
5mm間隔で測定した。
【0030】ここで、このスピンコーター1は、図1に
示すようにチャンバー10と、このチャンバー10内に
設けられガラス基板2を保持する保持台12を矢印方向
へ回転させる回転軸11と、上記チャンバー10内に空
気、溶媒蒸気等を供給する第一供給管13と、同じく蒸
気チャンバー10内に樹脂溶液を滴下供給する第二供給
管14とでその主要部が構成されている。
示すようにチャンバー10と、このチャンバー10内に
設けられガラス基板2を保持する保持台12を矢印方向
へ回転させる回転軸11と、上記チャンバー10内に空
気、溶媒蒸気等を供給する第一供給管13と、同じく蒸
気チャンバー10内に樹脂溶液を滴下供給する第二供給
管14とでその主要部が構成されている。
【0031】[予備テスト]以下、この予備テストにつ
いて説明する。
いて説明する。
【0032】まず、上記保持台12上にサイズ300m
m×300mm(t=1.1mm)のガラス基板2を置
いてこれを固定し、かつ、チャンバー10の蓋(図示せ
ず)を閉じて密閉した後、このチャンバー10内に上記
第一供給管13より空気と水蒸気を供給してチャンバー
10内の相対湿度を50%(但し、チャンバー内温度は
25度である)に設定した。
m×300mm(t=1.1mm)のガラス基板2を置
いてこれを固定し、かつ、チャンバー10の蓋(図示せ
ず)を閉じて密閉した後、このチャンバー10内に上記
第一供給管13より空気と水蒸気を供給してチャンバー
10内の相対湿度を50%(但し、チャンバー内温度は
25度である)に設定した。
【0033】次に、上記チャンバー10内のガラス基板
2上へ第二供給管14より上記赤色、緑色、及び、青色
のカラーレジストをそれぞれ供給し、かつ、ガラス基板
2の回転数:1000rpm、塗布時間:60secの
条件でこのガラス基板2上に赤色、緑色、及び、青色の
カラーレジスト被膜を形成した。
2上へ第二供給管14より上記赤色、緑色、及び、青色
のカラーレジストをそれぞれ供給し、かつ、ガラス基板
2の回転数:1000rpm、塗布時間:60secの
条件でこのガラス基板2上に赤色、緑色、及び、青色の
カラーレジスト被膜を形成した。
【0034】尚、赤色、緑色、及び、青色のカラーレジ
スト被膜の膜厚平均値とばらつき%は以下の通りであっ
た。
スト被膜の膜厚平均値とばらつき%は以下の通りであっ
た。
【0035】 (膜厚平均値) (ばらつき%) 赤色のカラーレジスト被膜:1.50μm ± 8.0% 緑色のカラーレジスト被膜:0.60μm ±10.0% 青色のカラーレジスト被膜:1.00μm ± 7.5% [実施例]次に、この予備テストの結果に基づきガラス
基板2の回転数を500rpmと一定にし、かつ、赤色
のカラーレジストについてはその相対湿度を85%(但
し、チャンバー内温度は25度である)の条件で、緑色
のカラーレジストについてはその相対湿度を35%(チ
ャンバー内温度は25度)の条件で、また、青色のカラ
ーレジストについてはその相対湿度を65%(チャンバ
ー内温度は25度)の条件でそれぞれ60secスピン
コートし、以下の膜厚平均値を示すカラーレジスト被膜
を形成した。
基板2の回転数を500rpmと一定にし、かつ、赤色
のカラーレジストについてはその相対湿度を85%(但
し、チャンバー内温度は25度である)の条件で、緑色
のカラーレジストについてはその相対湿度を35%(チ
ャンバー内温度は25度)の条件で、また、青色のカラ
ーレジストについてはその相対湿度を65%(チャンバ
ー内温度は25度)の条件でそれぞれ60secスピン
コートし、以下の膜厚平均値を示すカラーレジスト被膜
を形成した。
【0036】 (膜厚平均値) (ばらつき%) 赤色のカラーレジスト被膜:1.00μm ± 2.0% 緑色のカラーレジスト被膜:1.00μm ± 2.2% 青色のカラーレジスト被膜:1.00μm ± 2.2% この結果から明らかなように膜厚分布の小さい赤色、緑
色、及び、青色のカラーレジスト被膜を簡便に形成でき
ることが確認された。
色、及び、青色のカラーレジスト被膜を簡便に形成でき
ることが確認された。
【0037】[比較例1]上記予備テストの雰囲気と同
一の条件(すなわちチャンバー内温度:25度、相対湿
度:50%)にし、かつ、ガラス基板の回転数のみを以
下のように設定して60secスピンコートし、赤色、
緑色、及び、青色のカラーレジスト被膜を形成した。
一の条件(すなわちチャンバー内温度:25度、相対湿
度:50%)にし、かつ、ガラス基板の回転数のみを以
下のように設定して60secスピンコートし、赤色、
緑色、及び、青色のカラーレジスト被膜を形成した。
【0038】 (設定回転数) (膜厚平均値) (ばらつき%) 赤色のカラーレジスト被膜:1800rpm 1.00μm ±11.0% 緑色のカラーレジスト被膜: 400rpm 1.00μm ± 3.3% 青色のカラーレジスト被膜:1000rpm 1.00μm ± 7.5% この結果から明らかなように、赤色及び青色のカラーレ
ジストについてはその設定回転数が高いため風切りの影
響により膜厚分布が悪かった。また、緑色のカラーレジ
ストについてはその設定回転数が低いため樹脂成分の振
切りが不十分であった。
ジストについてはその設定回転数が高いため風切りの影
響により膜厚分布が悪かった。また、緑色のカラーレジ
ストについてはその設定回転数が低いため樹脂成分の振
切りが不十分であった。
【0039】[比較例2]ガラス基板の設定回転数のみ
を1000rpmから500rpmに変えた点を除き上
記予備テストと同一の条件(すなわちチャンバー内温
度:25度、相対湿度:50%、スピンコート時間:6
0sec)でスピンコートし、赤色、緑色、及び、青色
のカラーレジスト被膜を形成した。
を1000rpmから500rpmに変えた点を除き上
記予備テストと同一の条件(すなわちチャンバー内温
度:25度、相対湿度:50%、スピンコート時間:6
0sec)でスピンコートし、赤色、緑色、及び、青色
のカラーレジスト被膜を形成した。
【0040】 (設定回転数) (膜厚平均値) (ばらつき%) 赤色のカラーレジスト被膜: 500rpm 2.60μm ± 2.0% 緑色のカラーレジスト被膜: 500rpm 0.85μm ± 2.2% 青色のカラーレジスト被膜: 500rpm 1.50μm ± 2.2% この比較例においてはガラス基板の設定回転数が500
rpmと低いため各色のカラーレジストの膜厚分布は良
好であった。しかし、各色とも相対湿度が同一の条件で
スピンコートしているため適切な膜厚の設定は困難であ
った。
rpmと低いため各色のカラーレジストの膜厚分布は良
好であった。しかし、各色とも相対湿度が同一の条件で
スピンコートしているため適切な膜厚の設定は困難であ
った。
【0041】
【発明の効果】請求項1に係る発明によれば、カラーレ
ジストの膜厚調整をチャンバー内の相対湿度を変えるこ
とにより行っているため、基板の設定回転数を略一定に
揃えることが可能となり、かつ、これに伴い風切りの影
響も略同一となり安定した膜厚分布のカラーレジスト被
膜を基板上に形成することが可能となる。
ジストの膜厚調整をチャンバー内の相対湿度を変えるこ
とにより行っているため、基板の設定回転数を略一定に
揃えることが可能となり、かつ、これに伴い風切りの影
響も略同一となり安定した膜厚分布のカラーレジスト被
膜を基板上に形成することが可能となる。
【0042】従って、分光特性の良好なカラーフィルタ
ーを確実にしかも簡便に製造できる効果を有している。
ーを確実にしかも簡便に製造できる効果を有している。
【図1】実施例で適用したスピンコーターの構成断面
図。
図。
【図2】スピンコート法により形成された従来のカラー
レジスト被膜の平面図。
レジスト被膜の平面図。
1 スピンコーター 2 基板 10 チャンバー 11 回転軸 12 保持台 13 第一供給管 14 第二供給管
Claims (1)
- 【請求項1】チャンバー内に配置された基板上に、顔
料、バインダー樹脂、光架橋剤、及び、溶媒を主成分と
するカラーレジスト溶液を塗布し、かつ、この塗布膜面
に対し略垂直な軸を中心にして上記基板を回転させその
塗布膜厚を略均一にした後、これを乾燥させて上記基板
上にカラーレジストの被膜を形成するカラーフィルター
の製造方法において、 チャンバー内の空気中に含まれる上記溶媒量をe、チャ
ンバー内温度における空気の飽和溶媒量をEとしたと
き、 上記チャンバー内のe/E×100(相対湿度)を調節
してカラーレジストの膜厚を所定値に設定することを特
徴とするカラーフィルターの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32306692A JPH06174911A (ja) | 1992-12-02 | 1992-12-02 | カラーフィルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32306692A JPH06174911A (ja) | 1992-12-02 | 1992-12-02 | カラーフィルターの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06174911A true JPH06174911A (ja) | 1994-06-24 |
Family
ID=18150715
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32306692A Pending JPH06174911A (ja) | 1992-12-02 | 1992-12-02 | カラーフィルターの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06174911A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100586453B1 (ko) * | 2004-07-26 | 2006-06-08 | 주식회사 수성케미칼 | 연속식 회전 코팅을 이용한 광학 필터의 제조방법 |
KR20110119528A (ko) | 2010-04-27 | 2011-11-02 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 레지스트 도포 장치, 이를 구비한 도포 현상 시스템, 및 레지스트 도포 방법 |
-
1992
- 1992-12-02 JP JP32306692A patent/JPH06174911A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100586453B1 (ko) * | 2004-07-26 | 2006-06-08 | 주식회사 수성케미칼 | 연속식 회전 코팅을 이용한 광학 필터의 제조방법 |
KR20110119528A (ko) | 2010-04-27 | 2011-11-02 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 레지스트 도포 장치, 이를 구비한 도포 현상 시스템, 및 레지스트 도포 방법 |
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