JPH06159931A - Synthesis gas refining apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、複数の成分が混合され
た原料合成ガスから所望の組成の製品合成ガスを製造す
るための合成ガス精製装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a synthesis gas purification apparatus for producing a product synthesis gas having a desired composition from a raw material synthesis gas in which a plurality of components are mixed.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ある特定の最終製品を得るために、ある
特定の組成の混合ガスを予め製造しておくことが要求さ
れる場合がある。例えば、卑近な例としては、アンモニ
アを合成するためには、水素（Ｈ2）と窒素（Ｎ2）との
容量割合が３：１のアンモニア合成用のガスが予め用意
される。そして、このアンモニア合成用のガスに所定の
処理操作が施されてアンモニア（ＮＨ3）が製造され
る。以上アンモニアについて例示したが、アンモニアに
限定されるものではなく、一般的に複数の成分のガスを
化学的に反応させてある特定の最終製品を得るために、
その製品が要求する成分ガスが所定割合で混合された混
合ガスが予め調製されることが多い。2. Description of the Related Art In order to obtain a specific final product, it is sometimes required to manufacture a mixed gas having a specific composition in advance. For example, as a common example, in order to synthesize ammonia, a gas for ammonia synthesis having a volume ratio of hydrogen (H 2 ) and nitrogen (N 2 ) of 3: 1 is prepared in advance. Then, the ammonia synthesis gas is subjected to a predetermined treatment operation to produce ammonia (NH 3 ). Although ammonia has been exemplified above, it is not limited to ammonia, and in general, in order to obtain a specific final product by chemically reacting gases of a plurality of components,
A mixed gas in which the component gases required by the product are mixed at a predetermined ratio is often prepared in advance.
【０００３】このような混合ガス（以下製品合成ガスと
いう）は、純粋に分離された成分ガスを所定割合で混合
して製造される場合もあるが、工業的規模では製品合成
ガスを大量に確保しなければならない点、および安価な
製造コストが要求される点から、ナフサや天然ガスの改
質によって大量に得られた各種成分が混入している混合
ガス（以下原料合成ガスという）を原料として用い、こ
の原料合成ガスを深冷分離法で分離して所定の製品合成
ガスを製造することが行なわれる場合がある。Such mixed gas (hereinafter referred to as product synthesis gas) may be produced by mixing purely separated component gases at a predetermined ratio, but on an industrial scale, a large amount of product synthesis gas is secured. The raw material is a mixed gas (hereinafter referred to as raw material synthesis gas) that contains a large amount of various components obtained by reforming naphtha and natural gas, because it is necessary to do so and cheap manufacturing cost is required. In some cases, this raw material synthesis gas is separated by a cryogenic separation method to produce a predetermined product synthesis gas.
【０００４】この分離法の原理は、ガスの成分の沸点が
それぞれ異なることを利用したものである。すなわち、
この分離法においては、原料合成ガスを特定の成分の沸
点に見合う冷却温度と圧力とに適正に制御することによ
り、気液分離器内の気相には所望の組成の製品合成ガス
が生成するものであり、一ステップで原料合成ガスから
製品合成ガスを得ることができるため、工業的規模で製
品合成ガスを大量かつ安価に製造するための便利な方法
として各所で多用されている。The principle of this separation method utilizes the fact that the boiling points of gas components are different. That is,
In this separation method, by appropriately controlling the raw material synthesis gas to a cooling temperature and a pressure that match the boiling point of a specific component, a product synthesis gas having a desired composition is produced in the gas phase in the gas-liquid separator. Since the product synthesis gas can be obtained from the raw material synthesis gas in one step, it is widely used in various places as a convenient method for mass-producing the product synthesis gas at a low cost on an industrial scale.
【０００５】このような深冷分離法を利用した合成ガス
の精製装置として、従来図４〜図７に例示するようなも
のが知られている。まず、図４に示す従来の第一の例の
合成ガス精製装置は、断熱処理が施された保冷箱１の内
部に熱交換器２と気液分離器３とが内装されて基本構成
されている。そして、予め所定圧力に昇圧された原料合
成ガスは経路Ｌ１を通り、熱交換器２を介して気液分離
器３に導入され、この気液分離器３で気液に分離されて
気体は熱交換器２内を通る経路Ｌ２を介して製品合成ガ
スとして系外に導出されるようになっている。Conventionally, as shown in FIGS. 4 to 7, there is known an apparatus for purifying a synthesis gas using such a cryogenic separation method. First, the first conventional synthesis gas purification apparatus shown in FIG. 4 has a basic structure in which a heat exchanger 2 and a gas-liquid separator 3 are provided inside a heat-insulated cool box 1. There is. Then, the raw material synthesis gas whose pressure has been raised to a predetermined pressure in advance passes through the path L1 and is introduced into the gas-liquid separator 3 via the heat exchanger 2, and is separated into the gas-liquid by the gas-liquid separator 3 to heat the gas. The product synthesis gas is led out of the system via a path L2 passing through the inside of the exchanger 2.
【０００６】一方、気液分離器３の底部に分離して貯溜
している液体は、経路Ｌ３を介して導出されるようにな
っている。この経路Ｌ３には膨張弁４が設けられてお
り、この膨張弁４によって経路Ｌ３内に導出された液体
は断熱膨張してさらに低温になる。そして、経路Ｌ３は
熱交換器２内を通るように設定されており、上記低温流
体は熱交換器２においてその冷熱を経路Ｌ１内の原料合
成ガスに供給する熱交換が行なわれ、自身は昇温されて
オフガスとして経路Ｌ３から系外に排出される。On the other hand, the liquid separated and stored at the bottom of the gas-liquid separator 3 is drawn out through the path L3. An expansion valve 4 is provided in this path L3, and the liquid led out into the path L3 by this expansion valve 4 undergoes adiabatic expansion to a further lower temperature. The path L3 is set so as to pass through the heat exchanger 2, and the low-temperature fluid is heat-exchanged in the heat exchanger 2 to supply the cold heat to the raw material synthesis gas in the path L1, and the low-temperature fluid itself rises. It is heated and discharged as off-gas from the system through the path L3.
【０００７】つぎに、図５に示す従来の第二の例の合成
ガス精製装置は、基本的には上記第一の例のものと同じ
であるが、熱交換器２内の経路Ｌ１が熱交換器２の外部
に引き出された経路Ｌ１１が形成され、この経路Ｌ１１
に膨張タービン５が設けられている。この膨張タービン
５に導入された原料合成ガスは、断熱膨張仕事を行なっ
て自身はより効果的に冷却されるため、熱交換器２内に
おけるオフガスとの熱交換だけでは寒冷が不足する場合
これを助け、冷却された状態で気液分離器３に導入され
る。Next, the conventional synthesis gas purification apparatus of the second example shown in FIG. 5 is basically the same as that of the above first example, but the path L1 in the heat exchanger 2 is heated by the heat. A path L11 drawn out of the exchanger 2 is formed, and this path L11 is formed.
Is provided with an expansion turbine 5. Since the raw material synthesis gas introduced into the expansion turbine 5 performs adiabatic expansion work to cool itself more effectively, if the cold exchange is insufficient by heat exchange with the off gas in the heat exchanger 2, It is introduced into the gas-liquid separator 3 in a helped and cooled state.
【０００８】つぎに、図６に示す従来の第三の例の合成
ガス精製装置の場合は、気液分離器３の頂部に接続され
た経路Ｌ２は途中で経路Ｌ２１として熱交換器２から引
き出され、この経路Ｌ２１の先端には膨張タービン５が
接続され、この膨張タービン５の下流側は経路Ｌ２２に
接続されているとともに、この経路Ｌ２２は熱交換器２
の内部に導入されている。従って、この例の場合は、気
液分離器３の頂部から経路Ｌ２を介して導出された製品
合成ガスは膨張タービン５において断熱膨張仕事をして
冷却されて自身は寒冷エネルギーを発生し、この低温流
体により熱交換器２内で経路Ｌ１内の原料合成ガスと熱
交換してそれを冷却するように構成されている。Next, in the case of the conventional syngas purification apparatus of the third example shown in FIG. 6, the path L2 connected to the top of the gas-liquid separator 3 is withdrawn from the heat exchanger 2 as a path L21 on the way. The expansion turbine 5 is connected to the tip of the path L21, the downstream side of the expansion turbine 5 is connected to the path L22, and the path L22 is connected to the heat exchanger 2
Has been introduced inside. Therefore, in the case of this example, the product synthesis gas derived from the top of the gas-liquid separator 3 via the path L2 performs adiabatic expansion work in the expansion turbine 5 and is cooled, so that cold energy is generated by itself. The low temperature fluid is configured to exchange heat with the raw material synthesis gas in the path L1 in the heat exchanger 2 to cool it.
【０００９】これらの従来の合成ガス精製装置に対し
て、図７に例示する従来の第四の例のものは、原料合成
ガスを冷却するための追加の低温流体を全く他の系から
供給するようにしたものである。すなわち、この例にお
いては、窒素ガスなどの冷却用のガスを循環させる経路
Ｌ４１と経路Ｌ４２とからなる冷却専用ガスの循環経路
Ｌ４が設けられている。In contrast to these conventional synthesis gas purification apparatuses, the fourth conventional example shown in FIG. 7 supplies an additional cryogenic fluid for cooling the raw synthesis gas from another system. It was done like this. That is, in this example, a cooling-dedicated gas circulation path L4 including a path L41 for circulating a cooling gas such as nitrogen gas and a path L42 is provided.
【００１０】そして、経路Ｌ４２の最下流と経路Ｌ４１
の最上流との間には循環圧縮機６が設けられ、経路Ｌ４
１の最下流と経路Ｌ４２の最上流との間には膨張タービ
ン７が設けられており、経路Ｌ４２の一部は熱交換器２
の中に導入されている。Then, the most downstream of the route L42 and the route L41
The circulation compressor 6 is provided between the uppermost stream of the
The expansion turbine 7 is provided between the most downstream of 1 and the most upstream of the path L42, and a part of the path L42 is the heat exchanger 2
Has been introduced in.
【００１１】従って、循環圧縮機６で圧縮された冷却用
のガスは、膨張タービン７において断熱膨張仕事をして
自身は冷却され、低温流体となって熱交換器２において
その冷熱を原料合成ガスに供給するようになっている。Therefore, the cooling gas compressed by the circulation compressor 6 performs adiabatic expansion work in the expansion turbine 7 and is cooled by itself to become a low temperature fluid. It is designed to be supplied to.
【００１２】[0012]
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の図４
に示すような合成ガスの精製装置においては、原料合成
ガスを冷却するために用いられる低温流体は、気液分離
器３において一旦液化したオフガスとなるべき液体の膨
張弁４での断熱膨張によって生成される気体によって形
成されているため、このようなジュールトムソン効果の
みによる断熱膨張では、効果的に冷却するためには原料
合成ガスの圧力が高いこと、オフガスになる成分がジュ
ールトムソン効果の大きいメタン、エタン、プロパン等
の成分を多く含有していることなどの条件が必要であ
り、結局図４に示す従来の第一の例のような合成ガス精
製装置はその利用が限られたものになる。By the way, as shown in FIG.
In the apparatus for purifying synthesis gas as shown in FIG. 3, the low temperature fluid used for cooling the raw material synthesis gas is generated by adiabatic expansion in the expansion valve 4 of the liquid that has once been liquefied in the gas-liquid separator 3 and becomes the off-gas. In the adiabatic expansion based only on the Joule-Thomson effect, the pressure of the raw material synthesis gas is high for effective cooling, and the offgas component is methane, which has a large Joule-Thomson effect. , Conditions such as containing a large amount of components such as ethane, propane, etc., and eventually the utilization of the synthesis gas purification apparatus as in the first conventional example shown in FIG. 4 is limited. .
【００１３】また、図５および図６に示すような従来の
第二および第三の例の合成ガス精製装置においては、低
温流体として原料合成ガスまたは製品合成ガスが使用さ
れ、それらが膨張タービン５の下流側で圧力の低下をき
たす。このため、この圧力を所定の値以上に保持しよう
とすれば、当初の原料合成ガスの圧力を高めに維持して
おかなければならず、そのためにエネルギーを多消費し
なければならないなどの問題点を有している。Further, in the conventional second and third examples of the syngas refining apparatus as shown in FIGS. 5 and 6, the raw material syngas or the product syngas is used as the low temperature fluid, and these are used as the expansion turbine 5 A pressure drop occurs on the downstream side of. Therefore, if this pressure is to be maintained above a predetermined value, the pressure of the initial raw material synthesis gas must be maintained at a high level, which causes a large amount of energy consumption. have.
【００１４】さらに、図７に示すような従来の第四の例
の合成ガス精製装置においては、冷却専用ガスの循環経
路Ｌ４や循環圧縮機６、膨張タービン７などの余分な設
備を付加しなければならず、そのため設備費が上昇する
とともに循環圧縮機６を運転するための動力が必要であ
るなどランニングコストが増加するという問題点を有し
ている。Further, in the conventional syngas refining apparatus of the fourth example as shown in FIG. 7, extra equipment such as the circulation path L4 for the cooling exclusive gas, the circulation compressor 6 and the expansion turbine 7 must be added. Therefore, there is a problem in that the facility cost rises and the running cost also increases because power for operating the circulation compressor 6 is required.
【００１５】本発明は、上記のような問題点を解決する
ためになされたものであり、低コストで合成ガスの精製
が行なえるとともに、容易に製品合成ガスの組成を所望
のものにすることができ、かつ、安定的に操業が可能な
合成ガス精製装置を提供することを目的としている。The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is possible to purify a synthesis gas at a low cost and to easily obtain a desired composition of the synthesis gas. It is an object of the present invention to provide a synthesis gas purification device that can be operated and can be stably operated.
【００１６】[0016]
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１記載の
合成ガス精製装置は、保冷箱の内部に熱交換器と気液分
離器が設けられ、所定圧力に昇圧された複数成分からな
る原料合成ガスが上記熱交換器を通って上記気液分離器
に導入され、この気液分離器で分離された液体は膨張弁
を介して断熱膨張し、原料合成ガス冷却用の冷熱源とし
て熱交換器に導入された後オフガスとして系外に導出さ
れ、上記気液分離器で分離された気体は熱交換器を介し
て製品合成ガスとして系外に導出されるように構成され
た合成ガス精製装置において、上記膨張弁の下流側の経
路は上記熱交換器の途中から熱交換器外に引き出され、
この引き出された経路には膨張タービンが設けられ、こ
の膨張タービンを通ったオフガスは上記原料合成ガスの
冷却用として再度上記熱交換器に供給されるように構成
されていることを特徴とするものである。A synthesis gas purifying apparatus according to claim 1 of the present invention is provided with a heat exchanger and a gas-liquid separator inside a cool box, and comprises a plurality of components pressurized to a predetermined pressure. The raw material synthesis gas is introduced into the gas-liquid separator through the heat exchanger, and the liquid separated by the gas-liquid separator undergoes adiabatic expansion via an expansion valve to generate heat as a cold heat source for cooling the raw material synthesis gas. After being introduced into the exchanger, it is discharged to the outside of the system as off-gas, and the gas separated by the gas-liquid separator is discharged to the outside of the system as product synthesis gas via the heat exchanger. In the device, the downstream path of the expansion valve is drawn out of the heat exchanger from the middle of the heat exchanger,
An expansion turbine is provided in the drawn-out path, and the offgas passing through the expansion turbine is configured to be supplied to the heat exchanger again for cooling the raw material synthesis gas. Is.
【００１７】本発明の請求項２記載の合成ガス精製装置
は、請求項１記載の合成ガス精製装置において、上記膨
張タービンの上流側の経路に他の系のオフガスを導入す
る経路が接続されていることを特徴とするものである。According to a second aspect of the present invention, there is provided the syngas purifying apparatus according to the first aspect, wherein the upstream side passage of the expansion turbine is connected to a passage for introducing offgas of another system. It is characterized by being present.
【００１８】本発明の請求項３記載の合成ガス精製装置
は、保冷箱の内部に熱交換器と気液分離器が設けられ、
所定圧力に昇圧された複数成分からなる原料合成ガスが
上記熱交換器を通って上記気液分離器に導入され、この
気液分離器で分離された液体は膨張弁を介して断熱膨張
し、原料合成ガス冷却用の冷熱源として熱交換器に導入
された後オフガスとして系外に導出され、上記気液分離
器で分離された気体は熱交換器を介して製品合成ガスと
して系外に導出されるように構成された合成ガス精製装
置において、上記保冷箱の外部に原料合成ガスの経路と
製品合成ガスの経路とを結ぶバイパス経路が設けられ、
このバイパス経路には原料合成ガス中の特定の成分を分
離するための高純度の製品を生産することができる圧力
スイング式分離法等が適用された分離装置が介在され、
この分離装置で分離された上記特定の成分が製品合成ガ
スの経路に供給されるように構成されていることを特徴
とするものである。In the syngas purifying apparatus according to claim 3 of the present invention, a heat exchanger and a gas-liquid separator are provided inside the cool box.
Raw material synthesis gas consisting of a plurality of components pressurized to a predetermined pressure is introduced into the gas-liquid separator through the heat exchanger, the liquid separated by the gas-liquid separator undergoes adiabatic expansion through an expansion valve, After being introduced into the heat exchanger as a cold heat source for cooling the raw material synthesis gas, it is led out of the system as off gas, and the gas separated by the gas-liquid separator is led out of the system as the product synthesis gas via the heat exchanger. In the syngas purification apparatus configured as described above, a bypass path connecting the path of the raw material synthesis gas and the path of the product synthesis gas is provided outside the cold storage box,
In this bypass path, a separation device to which a pressure swing type separation method or the like capable of producing a high-purity product for separating a specific component in the raw material synthesis gas is applied is interposed,
The specific component separated by the separator is configured to be supplied to the product synthesis gas path.
【００１９】[0019]
【作用】上記請求項１記載の合成ガス精製装置によれ
ば、膨張弁の下流側の経路は熱交換器の途中から熱交換
器外に引き出され、この引き出された経路には膨張ター
ビンが設けられ、この膨張タービンを通った低温流体は
上記原料合成ガスの冷却用として再度上記熱交換器に供
給されるように構成されているため、気液分離装置で分
離された液体は膨張弁で断熱膨張し温度が低下して低温
流体となり原料合成ガスの冷却に寄与する。さらにこの
低温流体は膨張タービンで膨張仕事をしてさらに低温に
なり、熱交換器でその冷熱を原料合成ガスに与えるた
め、より効果的に原料合成ガスを冷却することができ
る。According to the syngas purifying apparatus of the first aspect, the downstream path of the expansion valve is drawn out of the heat exchanger from the middle of the heat exchanger, and an expansion turbine is provided in the drawn path. The low-temperature fluid that has passed through the expansion turbine is configured to be supplied to the heat exchanger again for cooling the raw material synthesis gas, so that the liquid separated by the gas-liquid separator is insulated by the expansion valve. It expands to lower the temperature and becomes a low temperature fluid, which contributes to the cooling of the raw material synthesis gas. Further, this low temperature fluid performs expansion work in the expansion turbine and becomes even lower in temperature, and its cold heat is given to the raw material synthesis gas by the heat exchanger, so that the raw material synthesis gas can be cooled more effectively.
【００２０】そして、膨張タービンは、従来のように原
料合成ガスを気液分離装置に導く経路に設けられるので
はなく、オフガスを導出する経路に設けられているた
め、原料合成ガスから製品合成ガスに到る経路の圧損失
は配管の圧損失分のみで製品合成ガスの圧力を高く保つ
ことができる。Since the expansion turbine is not provided in the path for guiding the raw material synthesis gas to the gas-liquid separation device as in the conventional case, but is provided in the path for leading off gas, the product synthesis gas from the raw material synthesis gas is provided. The pressure loss in the path leading to is only due to the pressure loss in the pipe, and the pressure of the product synthesis gas can be kept high.
【００２１】上記請求項２記載の合成ガス精製装置によ
れば、膨張タービンの上流側の経路に他の系のオフガス
を導入する経路が接続されているため、低温流体の発生
量が少なく、充分に原料合成ガスを冷却することができ
ないときには、上記他の系のオフガスを導入して低温流
体の量を増加させることによって冷熱量を調節すること
ができる。According to the syngas purifying apparatus of the second aspect, since the path for introducing the off gas of the other system is connected to the upstream path of the expansion turbine, the amount of low temperature fluid generated is small and sufficient. When it is not possible to cool the raw material synthesis gas, the amount of cold heat can be adjusted by introducing the off gas of the other system to increase the amount of the cryogenic fluid.
【００２２】上記請求項３記載の合成ガス精製装置によ
れば、保冷箱の外部に原料合成ガスを製品合成ガスの経
路に供給するバイパス経路が設けられ、このバイパス経
路には原料合成ガス中の特定の成分を高純度で分離する
圧力スイング式分離法等が適用された分離装置が介在さ
れているため、このバイパス経路に供給する原料合成ガ
スの量を調節することによって、製品合成ガスの組成を
制御することが可能になる。According to the synthesis gas purifying apparatus of the third aspect, a bypass path for supplying the raw material synthesis gas to the path of the product synthesis gas is provided outside the cool box, and the bypass path is provided with Since a separation device, such as a pressure swing separation method that separates specific components with high purity, is used, the composition of the product synthesis gas can be adjusted by adjusting the amount of raw material synthesis gas supplied to this bypass path. Can be controlled.
【００２３】[0023]
【実施例】図１は、本発明に係る合成ガス精製装置の第
一の例を示す系統図である。この図に示すように、本実
施例の合成ガス精製装置は、断熱構造の保冷箱１の中に
熱交換器２と気液分離器３とが内装されて基本構成され
ている。そして、予め所定圧力にまで昇圧された原料合
成ガスは熱交換器２内を通る経路Ｌ１を介して気液分離
器３に導入されるようになっている。1 is a system diagram showing a first example of a syngas purifying apparatus according to the present invention. As shown in this figure, the synthesis gas purification apparatus of the present embodiment is basically configured with a heat exchanger 2 and a gas-liquid separator 3 housed in a heat insulation box 1 having a heat insulation structure. Then, the raw material synthesis gas, which has been pressurized to a predetermined pressure in advance, is introduced into the gas-liquid separator 3 via the path L1 passing through the heat exchanger 2.
【００２４】気液分離器３はその頂部が経路Ｌ２に接続
され、その底部は経路Ｌ３１に接続されている。上記経
路Ｌ２は気液分離器３内で気化した所定組成の製品合成
ガスを系外に導出するためのものであり、熱交換器２内
を通過してその冷熱を経路Ｌ１内の原料合成ガスに与え
るとともに、自身は昇温されるようになっている。The gas-liquid separator 3 has its top connected to the path L2 and its bottom connected to the path L31. The path L2 is for leading out the product synthesis gas having a predetermined composition vaporized in the gas-liquid separator 3 to the outside of the system, and passes the cold heat through the heat exchanger 2 to the raw material synthesis gas in the path L1. It is designed to be heated by itself.
【００２５】上記経路Ｌ３１は気液分離器３の底部に貯
溜したオフガスとなるべき液体を抜き出すためのもので
あり、この経路Ｌ３１には膨張弁４が設けられているお
り、気液分離器３から抜き出された液体はこの膨張弁４
で断熱膨張して温度が下げられ経路Ｌ１内の原料合成ガ
スと熱交換する低温流体になる。The path L31 is for extracting the liquid to be the off-gas stored in the bottom portion of the gas-liquid separator 3, and the expansion valve 4 is provided in the path L31, and the gas-liquid separator 3 is provided. The liquid extracted from the expansion valve 4
At this point, the temperature is adiabatically expanded and the temperature is lowered to become a low temperature fluid that exchanges heat with the raw material synthesis gas in the path L1.
【００２６】この経路Ｌ３１は熱交換器２内に導入さ
れ、途中から一旦熱交換器２外に引き出され、その先端
は膨張タービン５に接続されている。上記低温流体はこ
の膨張タービン５で断熱膨張仕事をしてさらに低温化す
るようになっている。そして、膨張タービン５の下流側
は経路Ｌ３２に接続され、この経路Ｌ３２は熱交換器２
内に導入されているため、経路Ｌ１内の原料合成ガスは
この経路Ｌ３２内の低温流体と熱交換してさらに効果的
に冷却されるようになっている。This path L31 is introduced into the heat exchanger 2, is temporarily drawn out of the heat exchanger 2 from the middle, and its tip is connected to the expansion turbine 5. The low temperature fluid performs adiabatic expansion work in the expansion turbine 5 to further lower the temperature. The downstream side of the expansion turbine 5 is connected to the path L32, and the path L32 is the heat exchanger 2
Since it is introduced inside, the raw material synthesis gas in the path L1 exchanges heat with the low temperature fluid in the path L32 and is cooled more effectively.
【００２７】本実施例の合成ガス精製装置は以上のよう
に構成されているので、この装置に経路Ｌ１を介して供
給された原料合成ガスは、保冷箱１内の熱交換器２にお
いて経路Ｌ２内の製品合成ガス、および経路Ｌ３１、経
路Ｌ３２内の低温流体と熱交換して自身は温度降下し、
気液混合状態になって気液分離器３に導入される。Since the synthesis gas purification apparatus of this embodiment is constructed as described above, the raw material synthesis gas supplied to this apparatus via the path L1 is passed through the path L2 in the heat exchanger 2 in the cool box 1. The product synthesis gas in the inside and the low temperature fluid in the route L31 and the route L32 exchange heat with each other to lower the temperature,
It is introduced into the gas-liquid separator 3 in a gas-liquid mixed state.
【００２８】この気液分離器３において、上記気液混合
状態の原料合成ガスは気体と液体に明確に分離され、液
体は気液分離器３の底部に貯溜されるとともに、気体は
気液分離器３の上部に移行する。この気液分離器３の上
部に分離した気体が気液平衡関係から目的の組成割合の
製品合成ガスになっている。すなわち、気液分離器３内
は製品合成ガスの組成に応じた温度および圧力に設定さ
れているため、気液平衡関係からこの設定された温度、
圧力条件に合致した組成の製品合成ガスが得られること
になるのである。In the gas-liquid separator 3, the raw material synthesis gas in the gas-liquid mixed state is clearly separated into gas and liquid, the liquid is stored at the bottom of the gas-liquid separator 3, and the gas is separated into gas and liquid. Move to the upper part of the vessel 3. The gas separated in the upper part of the gas-liquid separator 3 is a product synthesis gas having a target composition ratio due to the gas-liquid equilibrium relationship. That is, since the temperature and pressure in the gas-liquid separator 3 are set according to the composition of the product synthesis gas, the set temperature is set from the gas-liquid equilibrium relationship.
A product synthesis gas having a composition matching the pressure condition will be obtained.
【００２９】そして、この気液分離器３内の製品合成ガ
スは経路Ｌ２を介して熱交換器２内で経路Ｌ１内の原料
合成ガスと熱交換しながら系外に導出される。The product synthesis gas in the gas-liquid separator 3 is discharged to the outside of the system via the path L2 while exchanging heat with the raw material synthesis gas in the path L1 in the heat exchanger 2.
【００３０】一方、気液分離器３の底部に分離されて貯
溜している液体は、経路Ｌ３１を介して導出され、その
途中に設けられた膨張弁４で断熱膨張してジュールトム
ソン効果によって温度が降下し、初期の低温流体となっ
て熱交換器２内で原料合成ガスとの熱交換に供される。
そして、経路Ｌ３１内の低温流体は一旦熱交換器２外に
引き出され、膨張タービン５で断熱膨張仕事をしてさら
に冷却させられ、第二次低温流体となって再度経路Ｌ３
２を通り熱交換器２内で経路Ｌ１内の原料合成ガスと熱
交換して後自身は加熱されオフガスとして系外に排出さ
れる。On the other hand, the liquid separated and stored at the bottom of the gas-liquid separator 3 is led out through the path L31, adiabatically expanded by the expansion valve 4 provided in the middle of the path, and temperature is increased by the Joule-Thomson effect. Falls and becomes an initial low temperature fluid and is used for heat exchange with the raw material synthesis gas in the heat exchanger 2.
Then, the low temperature fluid in the path L31 is once drawn out of the heat exchanger 2 and adiabatic expansion work is performed in the expansion turbine 5 to be further cooled, and becomes the secondary low temperature fluid again in the path L3.
After passing through 2, heat is exchanged with the raw material synthesis gas in the path L1 in the heat exchanger 2, and after that, it is heated and discharged as an off gas to the outside of the system.
【００３１】本実施例においては、以上詳述したよう
に、原料合成ガスを冷却するために用いられる低温流体
は、従来のように原料合成ガスまたは製品合成ガスによ
って形成されているものではなく、不要なオフガスによ
って形成されているため、この低温流体の発生条件は直
接製品合成ガスに影響せず、結局この合成ガス精製装置
によって従来よりも高い圧力の合成ガスを発生させるこ
とが可能になる。In the present embodiment, as described in detail above, the cryogenic fluid used for cooling the raw material synthesis gas is not formed by the raw material synthesis gas or the product synthesis gas as in the conventional case. Since it is formed by unnecessary off-gas, the generation condition of the low temperature fluid does not directly affect the product synthesis gas, and thus the synthesis gas purification device can generate the synthesis gas at a higher pressure than before.
【００３２】図２は、本発明に係る合成ガス精製装置の
第二の例を示す系統図である。この実施例の場合は、基
本的には上記の図１による第一の例と同じであるが、系
外のオフガス（本合成ガス精製装置の近傍に設けられた
合成プラントの合成ループオフガス）が、経路Ｌ５を介
して熱交換器２から出た直後の経路Ｌ３１に供給される
ようになっている。従って、低温流体の発生量が少な
く、充分に原料合成ガスを冷却することができないよう
な状態の場合には、上記合成ループオフガスを低温流体
発生経路である経路Ｌ３１に導入し、低温流体の量を増
加させることによって対処することができる。FIG. 2 is a system diagram showing a second example of the synthesis gas purification apparatus according to the present invention. This example is basically the same as the first example according to FIG. 1 above, but the off-gas outside the system (synthesis loop off-gas of the synthesis plant provided in the vicinity of the synthesis gas purification device) is , Is supplied to the path L31 immediately after leaving the heat exchanger 2 via the path L5. Therefore, when the amount of low-temperature fluid is small and the raw material synthesis gas cannot be sufficiently cooled, the synthesis loop-off gas is introduced into the low-temperature fluid generation route L31 to reduce the amount of low-temperature fluid. Can be dealt with by increasing.
【００３３】図３は、本発明に係る合成ガス精製装置の
第三の例を示す系統図である。この実施例の場合は、合
成ガス精製装置の基礎となる部分は先に図４を基に説明
した従来の最もシンプルな精製装置と全く同じである。
すなわち、本実施例の合成ガス精製装置の母体となる部
分は、断熱構造の保冷箱１の内部に熱交換器２と気液分
離器３とが内装されて基本構成されている。そして、予
め所定圧力に昇圧された原料合成ガスは経路Ｌ１を通り
熱交換器２を介して気液分離器３に導入され、この気液
分離器３で気液に分離されて気体は熱交換器２内を通る
経路Ｌ２を介して製品合成ガスとして系外に導出される
ようになっている。FIG. 3 is a system diagram showing a third example of the syngas purifying apparatus according to the present invention. In the case of this embodiment, the basic part of the syngas purifier is exactly the same as the conventional simplest purifier described above with reference to FIG.
That is, the base part of the synthesis gas purification apparatus of the present embodiment is basically configured with the heat exchanger 2 and the gas-liquid separator 3 inside the cool box 1 having a heat insulating structure. Then, the raw material synthesis gas whose pressure has been raised in advance to a predetermined pressure is introduced into the gas-liquid separator 3 via the heat exchanger 2 through the path L1, and is separated into the gas-liquid by the gas-liquid separator 3 to exchange the heat with the gas. The product synthesis gas is led out of the system via a path L2 passing through the vessel 2.
【００３４】一方、気液分離器３の底部に分離して貯溜
している液体は、経路Ｌ３を介して導出されるようにな
っている。この経路Ｌ３には膨張弁４が設けられてお
り、この膨張弁４によって経路Ｌ３内に導出された液体
は断熱膨張してガス化するとともに冷却して低温流体と
なる。そして、経路Ｌ３は熱交換器２内を通るように設
定されているため、上記低温流体は熱交換器２において
その冷熱を経路Ｌ１内の原料合成ガスに供給する熱交換
が行なわれ、自身は昇温されてオフガスとなり経路Ｌ３
から系外に排出される。On the other hand, the liquid separated and stored in the bottom of the gas-liquid separator 3 is drawn out through the path L3. An expansion valve 4 is provided in the path L3, and the liquid led out into the path L3 by the expansion valve 4 is adiabatically expanded, gasified, and cooled to become a low temperature fluid. Since the path L3 is set so as to pass through the heat exchanger 2, the low-temperature fluid is heat-exchanged in the heat exchanger 2 to supply the cold heat to the raw material synthesis gas in the path L1. The temperature rises to off gas and the path L3
Is discharged from the system.
【００３５】このような母体装置の保冷箱１の外部に
は、経路Ｌ１と経路Ｌ２とを接続するバイパス経路Ｌ６
が設けられている。そして、このバイパス経路Ｌ６には
原料合成ガス中の特定の成分を分離する分離装置が介在
されている。なお、本実施例においては原料合成ガスは
ナフサの分解改質ガスが使用され、この原料合成ガスか
らアンモニアを合成するための水素対窒素の容量割合が
３：１である製品合成ガスを得るために本実施例に係る
合成ガス精製装置が適用されている。従って、上記分離
装置としては具体的には水素分離装置８が適用されてい
る。A bypass path L6 connecting the path L1 and the path L2 is provided outside the cold storage box 1 of the mother device.
Is provided. Further, a separator for separating a specific component in the raw material synthesis gas is interposed in the bypass route L6. In the present embodiment, the raw material synthesis gas is naphtha decomposition reforming gas, and in order to obtain a product synthesis gas having a hydrogen to nitrogen volume ratio of 3: 1 for synthesizing ammonia from this raw material synthesis gas. The synthesis gas purification apparatus according to the present embodiment is applied to. Therefore, the hydrogen separator 8 is specifically applied as the separator.
【００３６】この水素分離装置８は、複数の吸着塔の内
部に、ゼオライト等の吸着剤が充填されて基本構成され
ており、いわゆる圧力スイング方式の吸着脱着処理によ
って原料合成ガスから水素を分離するものである。The hydrogen separation device 8 is basically constructed by filling a plurality of adsorption towers with an adsorbent such as zeolite, and separates hydrogen from the raw material synthesis gas by a so-called pressure swing adsorption / desorption process. It is a thing.
【００３７】そして、水素分離装置８の下流側の経路Ｌ
６には流量調節弁９１が設けられており、また経路Ｌ２
の経路Ｌ６との合流点より下流側にはその部分の製品合
成ガスの組成を測定する自動分析計９２が設けられてい
る。この自動分析計９２は、常時経路Ｌ２内を流れる製
品合成ガスの組成を検出しており、この測定の結果水素
の濃度が予め設定された濃度よりも低いときには調節弁
９１にその弁開度を大きくするための信号が発信され、
逆に水素の濃度が設定値よりも高いときには調節弁９１
にその弁解度を小さくするための信号が発信されるよう
に構成されたいわゆるフィードバック制御が適用されて
いる。Then, the path L on the downstream side of the hydrogen separator 8
6 is provided with a flow control valve 91, and the path L2
An automatic analyzer 92 for measuring the composition of the product synthesis gas in that portion is provided on the downstream side of the confluence point with the path L6. The automatic analyzer 92 constantly detects the composition of the product synthesis gas flowing in the path L2, and when the result of this measurement shows that the hydrogen concentration is lower than the preset concentration, the control valve 91 is set to the valve opening degree. A signal to make it bigger is sent,
Conversely, when the hydrogen concentration is higher than the set value, the control valve 91
The so-called feedback control, which is configured to emit a signal for reducing the resolution, is applied to.
【００３８】本実施例の合成ガスの精製装置は、以上の
ように構成されているので、母体である保冷箱１内の気
液分離器３において規格を満足しない製品合成ガスが発
生したとしても、その不都合を母体に付設された水素分
離装置８によって充分に補完することができるため、操
業条件の変動に極めて良好に対応することができ、常に
適正な製品合成ガスを得ることができ好都合である。Since the synthesis gas purifying apparatus of this embodiment is constructed as described above, even if the product synthesis gas that does not satisfy the standard is generated in the gas-liquid separator 3 in the cool box 1 as the mother body. However, since the inconvenience can be sufficiently complemented by the hydrogen separation device 8 attached to the mother body, it is possible to cope with fluctuations in operating conditions very well, and it is possible to always obtain a proper product synthesis gas, which is convenient. is there.
【００３９】[0039]
【発明の効果】以上説明したように本発明の請求項１記
載の合成ガス精製装置は、保冷箱の内部に熱交換器と気
液分離器が設けられ、所定圧力に昇圧された複数成分か
らなる原料合成ガスが上記熱交換器を通って上記気液分
離器に導入され、この気液分離器で分離された液体は膨
張弁を介して断熱膨張し、原料合成ガス冷却用の冷熱源
として熱交換器に導入された後オフガスとして系外に導
出され、上記気液分離器で分離された気体は熱交換器を
介して製品合成ガスとして系外に導出されるように構成
された合成ガス精製装置において、膨張弁の下流側の経
路は熱交換器の途中から熱交換器外に引き出され、この
引き出された経路には膨張タービンが設けられ、この膨
張タービンを通った低温流体は上記原料合成ガスの冷却
用として再度上記熱交換器に供給されるように構成され
ている。As described above, in the syngas purifying apparatus according to the first aspect of the present invention, the heat exchanger and the gas-liquid separator are provided inside the cold-insulating box, and the heat exchanger and the gas-liquid separator are pressurized to a predetermined pressure. The raw material synthesis gas is introduced into the gas-liquid separator through the heat exchanger, and the liquid separated by the gas-liquid separator undergoes adiabatic expansion via an expansion valve to serve as a cold heat source for cooling the raw material synthesis gas. After being introduced into the heat exchanger, it is discharged to the outside of the system as off-gas, and the gas separated by the gas-liquid separator is discharged to the outside of the system as the product syngas through the heat exchanger. In the refining device, a downstream path of the expansion valve is drawn out of the heat exchanger from the middle of the heat exchanger, an expansion turbine is provided in the drawn path, and the low temperature fluid passing through the expansion turbine is the raw material. Again for cooling syngas It is configured to be supplied to the exchanger.
【００４０】従って、気液分離器で分離された液体は膨
張弁で断熱膨張し温度が低下して低温流体となり原料合
成ガスの冷却に寄与する。さらにこの低温流体は膨張タ
ービンで膨張仕事をしてさらに低温になり、熱交換器で
その冷熱を原料合成ガスに与えるため、より効果的に原
料合成ガスを冷却することができ好都合である。Therefore, the liquid separated by the gas-liquid separator is adiabatically expanded by the expansion valve to lower its temperature and become a low temperature fluid, which contributes to the cooling of the raw material synthesis gas. Further, this cryogenic fluid expands its work in the expansion turbine to a lower temperature, and its cold heat is given to the raw material synthesis gas by the heat exchanger, so that the raw material synthesis gas can be cooled more effectively, which is advantageous.
【００４１】さらに、上記膨張タービンは、従来のよう
に原料合成ガスを気液分離装置に導く経路に設けられる
のではなく、オフガスを導出する経路に設けられている
ため、原料合成ガスから製品合成ガスに到る経路の圧損
失は配管の圧損失分のみで変動は少なく、結局系全体と
して安定した操業が可能になるなど操業上有利である。Further, since the expansion turbine is not provided in the path for guiding the raw material synthesis gas to the gas-liquid separation device as in the conventional case, but is provided in the path for leading off gas, the product synthesis is performed from the raw material synthesis gas. The pressure loss in the path leading to the gas is small due to only the pressure loss in the pipe, and eventually stable operation of the entire system is possible, which is advantageous in operation.
【００４２】上記合成ガス精製装置において、膨張ター
ビンの上流側の経路に他の系のオフガスを導入する経路
を接続すれば、低温流体の発生量が少なく、充分に原料
合成ガスを冷却することができないときには、上記他の
系のオフガスを導入して低温流体の量を増加させること
が可能になり、それによって冷熱量を調節することがで
きため、操業の範囲が拡大され都合がよい。In the above synthesis gas purification apparatus, if a path for introducing the off gas of another system is connected to the upstream path of the expansion turbine, the amount of low-temperature fluid generated is small and the raw material synthesis gas can be sufficiently cooled. When it is not possible, it is possible to introduce the off gas of the other system to increase the amount of the cryogenic fluid, and thereby the amount of cold heat can be adjusted, so that the range of operation is expanded, which is convenient.
【００４３】本発明の請求項３記載の合成ガス精製装置
は、保冷箱の内部に熱交換器と気液分離器が設けられ、
所定圧力に昇圧された複数成分からなる原料合成ガスが
上記熱交換器を通って上記気液分離器に導入され、この
気液分離器で分離された液体は膨張弁を介して断熱膨張
し、原料合成ガス冷却用の冷熱源として熱交換器に導入
された後オフガスとして系外に導出され、上記気液分離
器で分離された気体はおよび熱交換器を介して製品合成
ガスとして系外に導出されるように構成された合成ガス
精製装置において、保冷箱の外部に原料合成ガスを製品
合成ガスの経路に供給するバイパス経路が設けられ、こ
のバイパス経路には原料合成ガス中の特定の成分を分離
する分離装置が介在されている。In the syngas purifying apparatus according to claim 3 of the present invention, a heat exchanger and a gas-liquid separator are provided inside the cool box,
Raw material synthesis gas consisting of a plurality of components pressurized to a predetermined pressure is introduced into the gas-liquid separator through the heat exchanger, the liquid separated by the gas-liquid separator undergoes adiabatic expansion through an expansion valve, After being introduced into the heat exchanger as a cold heat source for cooling the raw material synthesis gas, it is led out of the system as an off gas, and the gas separated by the gas-liquid separator is removed from the system as a product synthesis gas via the heat exchanger. In the synthesis gas purification apparatus configured to be led out, a bypass path for supplying the raw material synthesis gas to the product synthesis gas path is provided outside the cold storage box, and a specific component in the raw material synthesis gas is provided in this bypass path. There is a separating device interposed therebetween.
【００４４】従って、このバイパス経路に供給する原料
合成ガスの量を調節することによって、製品合成ガスの
組成を制御することが可能になり、特に気液分離装置に
おける分離にのみ依存することなく製品合成ガスを得る
ことができ、その分大幅に操業範囲が拡大され、系全体
を安定的に運転する上で有効である。Therefore, the composition of the product synthesis gas can be controlled by adjusting the amount of the raw material synthesis gas supplied to the bypass path, and the product synthesis gas can be controlled without particularly depending on the separation in the gas-liquid separator. Syngas can be obtained, and the operation range is greatly expanded by that amount, which is effective in stably operating the entire system.
【図１】本発明に係る合成ガス精製装置の第一の例を示
す系統図である。FIG. 1 is a system diagram showing a first example of a synthesis gas purification apparatus according to the present invention.
【図２】本発明に係る合成ガス精製装置の第二の例を示
す系統図である。FIG. 2 is a system diagram showing a second example of the synthesis gas purification device according to the present invention.
【図３】本発明に係る合成ガス精製装置の第三の例を示
す系統図である。FIG. 3 is a system diagram showing a third example of the synthesis gas purification apparatus according to the present invention.
【図４】従来の合成ガス精製装置の第一の例を示す系統
図である。FIG. 4 is a system diagram showing a first example of a conventional synthesis gas purification apparatus.
【図５】従来の合成ガス精製装置の第二の例を示す系統
図である。FIG. 5 is a system diagram showing a second example of a conventional synthesis gas purification apparatus.
【図６】従来の合成ガス精製装置の第三の例を示す系統
図である。FIG. 6 is a system diagram showing a third example of a conventional synthesis gas purification apparatus.
【図７】従来の合成ガス精製装置の第四の例を示す系統
図である。FIG. 7 is a system diagram showing a fourth example of a conventional synthesis gas purification apparatus.
１ 保冷箱 ２ 熱交換器 ３ 気液分離器 ４ 膨張弁 ５、７ 膨張タービン ６ 循環圧縮機 ８ 水素分離装置 ９１ 調節弁 ９２ 自動分析計 1 Cooling Box 2 Heat Exchanger 3 Gas-Liquid Separator 4 Expansion Valves 5 and 7 Expansion Turbine 6 Circulation Compressor 8 Hydrogen Separation Device 91 Control Valve 92 Automatic Analyzer
Claims (3)
設けられ、所定圧力に昇圧された複数成分からなる原料
合成ガスが上記熱交換器を通って上記気液分離器に導入
され、この気液分離器で分離された液体は膨張弁を介し
て断熱膨張し、原料合成ガス冷却用の冷熱源として熱交
換器に導入された後オフガスとして系外に導出され、上
記気液分離器で分離された気体は熱交換器を介して製品
合成ガスとして系外に導出されるように構成された合成
ガス精製装置において、上記膨張弁の下流側の経路は上
記熱交換器の途中から熱交換器外に引き出され、この引
き出された経路には膨張タービンが設けられ、この膨張
タービンを通ったオフガスは上記原料合成ガスの冷却用
として再度上記熱交換器に供給されるように構成されて
いることを特徴とする合成ガス精製装置。1. A heat exchanger and a gas-liquid separator are provided inside a cool box, and a raw material synthesis gas composed of a plurality of components whose pressure is raised to a predetermined pressure is introduced into the gas-liquid separator through the heat exchanger. The liquid separated by this gas-liquid separator undergoes adiabatic expansion via an expansion valve, is introduced into the heat exchanger as a cold heat source for cooling the raw material synthesis gas, and then is discharged to the outside of the system as off-gas, In the synthesis gas purification device configured so that the gas separated by the separator is discharged to the outside of the system as a product synthesis gas through the heat exchanger, the downstream path of the expansion valve is in the middle of the heat exchanger. From the heat exchanger to the outside of the heat exchanger, an expansion turbine is provided in the extracted path, and the offgas passing through the expansion turbine is supplied again to the heat exchanger for cooling the raw material synthesis gas. Is characterized by Syngas purification equipment.
系のオフガスを導入する経路が接続されていることを特
徴とする請求項１記載の合成ガス精製装置。2. The synthesis gas purification apparatus according to claim 1, wherein a path for introducing off-gas of another system is connected to a path on the upstream side of the expansion turbine.
設けられ、所定圧力に昇圧された複数成分からなる原料
合成ガスが上記熱交換器を通って上記気液分離器に導入
され、この気液分離器で分離された液体は膨張弁を介し
て断熱膨張し、原料合成ガス冷却用の冷熱源として熱交
換器に導入された後オフガスとして系外に導出され、上
記気液分離器で分離された気体は熱交換器を介して製品
合成ガスとして系外に導出されるように構成された合成
ガス精製装置において、上記保冷箱の外部に原料合成ガ
スの経路と製品合成ガスの経路とを結ぶバイパス経路が
設けられ、このバイパス経路には原料合成ガス中の特定
の成分を分離するための高純度の製品を生産することが
できる圧力スイング式分離法等が適用された分離装置が
介在され、この分離装置で分離された上記特定の成分が
製品合成ガスの経路に供給されるように構成されている
ことを特徴とする合成ガス精製装置。3. A heat exchanger and a gas-liquid separator are provided inside the cool box, and raw material synthesis gas composed of a plurality of components whose pressure is increased to a predetermined pressure is introduced into the gas-liquid separator through the heat exchanger. The liquid separated by this gas-liquid separator undergoes adiabatic expansion via an expansion valve, is introduced into the heat exchanger as a cold heat source for cooling the raw material synthesis gas, and then is discharged to the outside of the system as off-gas, In the synthesis gas purification device configured so that the gas separated by the separator is discharged to the outside of the system as a product synthesis gas via a heat exchanger, the route of the raw material synthesis gas and the product synthesis gas are provided outside the cool box. A bypass route connecting the above-mentioned route is provided, and this bypass route uses a pressure swing separation method or the like that can produce a high-purity product for separating a specific component in the raw synthesis gas. The device is intervening and this separation A synthesis gas purification apparatus, characterized in that the specific component separated by the apparatus is configured to be supplied to a product synthesis gas path.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4318580A JPH06159931A (en) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | Synthesis gas refining apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4318580A JPH06159931A (en) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | Synthesis gas refining apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06159931A true JPH06159931A (en) | 1994-06-07 |
Family
ID=18100725
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4318580A Pending JPH06159931A (en) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | Synthesis gas refining apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06159931A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7090816B2 (en) * | 2003-07-17 | 2006-08-15 | Kellogg Brown & Root Llc | Low-delta P purifier for nitrogen, methane, and argon removal from syngas |
-
1992
- 1992-11-27 JP JP4318580A patent/JPH06159931A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7090816B2 (en) * | 2003-07-17 | 2006-08-15 | Kellogg Brown & Root Llc | Low-delta P purifier for nitrogen, methane, and argon removal from syngas |
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