JPH06146083A - Plating system - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To efficiently perform plating processing by providing supply carry devices for a plating material, a plating device, and the restoration device of a rack, etc., and enabling the adjacent arrangement of an anode for the plating material and the restoration of a vacant rack to an original position, etc. CONSTITUTION:A strip shape plating material 109 is carried to a start part 112 by a pick-up carrier means 101, and is thrown-in to the rack 102. The rack 102 is carried to the plating device 300 by the carrier device 200, and plating is applied to the plating material 109 by inserting it to a large number of anodes 308 in plating solution. Then, the plating material 109 to which the plating is applied is taken out by a take-out device 400 and the vacant rack 102 from which the plating material 109 is delivered out is delivered to a rack post- processing device 500. The plating attached on the rack is peeled, and the plating material is delivered to a rack restoration device 600, then, the rack is restored to an original start part 112.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】この発明はＩＣリードフレームの
ような短冊状のめっき物（以下、めっき物）を一枚あて
保持し、めっき装置のめっきライン（例えば樹脂モール
ド後のアウターリード部への半田めっきライン、銀めっ
き前のニッケルめっきライン、モールド前の全面パラジ
ュームめっきライン等のめっきライン）上に供給して効
率よくめっき処理するためのめっきシステムに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention holds one strip-shaped plated product (hereinafter referred to as a plated product) such as an IC lead frame and holds it, and a plating line of a plating apparatus (for example, an outer lead portion after resin molding) The present invention relates to a plating system for supplying a solder plating line, a nickel plating line before silver plating, a whole surface palladium plating line before molding, etc.) for efficient plating treatment.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来、この種のめっき物をめっき処理す
るには、処理効率上一連の工程が連続ライン化された自
動めっき装置を使用することが多い。即ち供給部、前処
理部、本めっき処理部、後処理部および取り出し部を連
続配置してめっきラインを形成し、このめっきライン上
でめっき対象物を逐次搬送しつつめっき処理するもので
ある。2. Description of the Related Art Conventionally, in order to perform a plating treatment on a plated product of this type, an automatic plating apparatus in which a series of steps are arranged in a continuous line is often used in terms of processing efficiency. That is, the supply unit, the pretreatment unit, the main plating treatment unit, the posttreatment unit, and the take-out unit are continuously arranged to form a plating line, and the plating target is sequentially conveyed on the plating line to perform the plating treatment.

【０００３】このようなめっきライン上でめっき物を搬
送する方法として、めっき物をラックと称する治具で保
持し、このラックを介してめっき物を搬送する技術があ
る。（たとえば特開平３─２７７７９６号公報に示され
る保持治具参照）このタイプの保持治具は、一つのラッ
クに多数枚のめっき物を保持するもので、例えば上記公
報のラックでは水平で並列状の桁に櫛歯を備え櫛歯の間
に多数のめっき物を横長垂直状態で入れて保持し、全体
を一つのラックとして扱い多数のめっき物を同時に搬送
してめっき処理してゆくものである。As a method of transporting a plated product on such a plating line, there is a technique of holding the plated product by a jig called a rack and transporting the plated product through the rack. (For example, refer to the holding jig disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 3-277796.) This type of holding jig holds a large number of plated products in one rack. It is equipped with comb teeth on the girders and holds a large number of plated products between the comb teeth in a horizontal and vertical state, and treats the whole as one rack to convey a large number of plated products at the same time for plating treatment. .

【０００４】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、本めっき処
理に際しめっき装置内に入れためっき物にアノードを配
置する場合なるべくめっき物に近接配置することが望ま
れるものの、しかし上記のような従来のラックでは多数
枚のめっき物が桁の櫛歯に入れられ横長垂直状となって
群を形成しているため、アノードをめっき物群の上下に
近接配置してもそれ以上は近接配置するのが難しく、し
かも横長垂直状である各めっき物のめっき面にアノード
を対向させて位置することが難しいものである。By the way, in the case of disposing the anode in the plated product placed in the plating apparatus during the main plating treatment, it is desirable to dispose the anode as close to the plated product as possible, but the conventional rack as described above is used. However, since a large number of plated products are placed in the comb teeth of a girder to form a horizontally long vertical group, it is difficult to place the anodes further above and below the plated product group. In addition, it is difficult to position the anode so as to face the plating surface of each plating product having a horizontally long vertical shape.

【０００５】そこでこの出願人は、本めっき処理に際し
めっき装置内に入れためっき物にアノードを配置する場
合、横長垂直状にしためっき物のめっき面に直ぐ間近で
対向してアノードを配置できるようなラックの使用を検
討した。そのためには以下の条件を満足させることので
きるめっきシステムが必要となる。即ち（１）めっき物
を一枚あて扱うものとし、めっき装置内でめっき物を横
長垂直状の状態で保持できるようにすること、（２）タ
クトシステム採用により上記複数のラックを逐次めっき
装置に供給できること、（３）処理槽のめっき液中で一
枚のめっき物に対しその前後に二枚のアノードを配しめ
っき効率を高めること、（４）処理槽に受け入れる複数
のめっき物の移送に対しアノードが干渉しないこと、
（５）処理後のめっき物を多数枚ごとに纏めて取り出し
貯蔵できること、（６）めっき物の搬送ラインやめっき
装置に邪魔と成らない位置で、空になったラックに剥離
処理を施せること、そして（７）剥離処理後のラックを
再びスタート部へと復帰できること等である。そしてこ
の発明ではこれらの条件を満足させることのできるめっ
きシステムを提供せんとするものである。[0005] Therefore, the applicant of the present invention, when arranging the anode in the plating product placed in the plating apparatus during the main plating treatment, can arrange the anode so as to immediately face the plating surface of the horizontally elongated plating product and immediately face it. I considered using a different rack. For that purpose, a plating system capable of satisfying the following conditions is required. That is, (1) one plated product should be handled so that the plated product can be held in a horizontally long vertical state in the plating device, and (2) the above racks can be used as a sequential plating device by adopting a tact system. It can be supplied, (3) to enhance the plating efficiency by arranging two anodes in front of and behind one plating product in the plating solution in the processing tank, (4) for transferring multiple plating products to be received in the processing tank. In contrast, the anode does not interfere,
(5) A large number of processed plated products can be collectively taken out and stored, and (6) A peeling process can be performed on an empty rack at a position that does not interfere with the plated product transfer line or the plating apparatus. And (7) the rack after the peeling process can be returned to the start portion again. And this invention aims at providing the plating system which can satisfy these conditions.

【０００６】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明では、めっき物
の供給装置、めっき物の搬送装置、めっき装置、取り出
し装置、ラックの後処理装置、そしてラックの復帰装置
にて、めっきシステムの全体を構成した。そして、めっ
き物の供給装置は、水平状態に予め載置された短冊状の
めっき物を一枚あて取上げめっき物搬送ラインのスター
ト部へ運びめっき物を水平状態のまま落下させる取上げ
搬送手段と、ロッドに配した固定・可動両アーム間を開
放してめっき物を水平状態で受入れまた閉塞してめっき
物を保持しロッドを中心に自重で回転してめっき物を横
長略垂直状にして保持する通電自在なラックとを備える
ものとした。According to the present invention, a plating system is provided with a plating product supply device, a plating product transport device, a plating device, a take-out device, a rack post-treatment device, and a rack restoration device. Configured. Then, the plating material supply device, picking up and conveying means for picking up one strip-shaped plating material placed in advance in a horizontal state and carrying it to the start portion of the picking up material conveying line to drop the plating material in a horizontal state, Open the space between the fixed and movable arms on the rod to receive and close the plated product in a horizontal state, hold the plated product, and rotate the rod around its center by its own weight to hold the plated product in a horizontally long vertical shape. It is equipped with a rack that can be energized.

【０００７】めっき物の搬送装置は、ラックのロッド両
端を各々支持する一対並行の桁に、前後進用の圧力シリ
ンダーと上下用の圧力シリンダーを組み合わせ、上昇・
前進・下降・復帰後進という四辺形状の軌跡を描いて、
タクトシステムの採用により逐次受け入れた複数のラッ
クを同一間隔で上昇・前進・下降の動作にて搬送するも
のとした。めっき装置は、ラックを介して一枚当て横長
略垂直状に保持されるめっき物を同一間隔でめっき液中
に複数枚受け入れる処理槽と、少なくともこの処理槽内
に受け入れるめっき物の枚数と対応する枚数で且つ各々
が横長略垂直状態で用意されているアノードと、そし
て、各めっき物の搬送に伴い全アノードを同時にめっき
液中で上昇或いは下降させて二枚のアノードの間に一枚
のめっき物を挟むようにしてめっき物のめっき面にアノ
ードを対面位置決めさせるアノードの上下動手段とを備
えるものとした。In the apparatus for transferring plated products, a pair of parallel girders for supporting both ends of a rod of a rack are combined with a pressure cylinder for forward and backward movement and a pressure cylinder for up and down movement to raise and lower.
Draw a quadrilateral locus of forward / downward / return reverse,
By adopting a tact system, multiple racks that have been sequentially received are transported at the same intervals by ascending, advancing, and descending operations. The plating apparatus corresponds to a treatment tank that receives a plurality of plating products held in a vertically long and substantially horizontal orientation in a plating solution at the same interval, and at least the number of plating products to be received in this treatment tank. A number of anodes, each of which is horizontally long and vertically, and all the anodes are simultaneously raised or lowered in the plating solution as each plated product is transported, and one anode is plated between two anodes. An anode up-and-down moving means for positioning the anode face-to-face on the plated surface of the plated product so as to sandwich the product is provided.

【０００８】取り出し装置は、めっき装置の出側に搬出
されるめっき物を水平状態で常に一定高さ位置にて受け
取り複数枚積載するエレベータと、エレベータ上に積載
された複数枚のめっき物が所定枚数になるとエレベータ
上から他の位置へ移送するシフト装置と、一対で並行に
配置され各々同期して下方より上方へと循環するエンド
レス体間に受け棚状のバーを設け、他の位置にあるシフ
ト装置上の所定枚数のめっき物を下からすくい上げ上方
へと移送するリフトとを備えるものとした。ラックの後
処理装置は、めっき装置のオーブン装置上方に配置さ
れ、めっき物をオーブン装置へ受け渡した後の空のラッ
クを逐次受入れ、ラックに付着しているめっきを剥離処
理してからラックを復帰装置へ委ねるものとした。そし
て、ラックの復帰装置は、めっき物の搬送ライン上方に
あって一対並行に配されその対応位置にラックの両端持
ち上げ用の複数のフックを有するエンドレス体にて、ス
タート部ではラックをめっき物の供給装置へ渡しそして
ラックの後処理装置を経た空のラックを受入れて逐次元
のスタート部へと復帰移送するものとした。The take-out device is provided with an elevator for receiving a plated product carried out to the outlet side of the plating device at a constant height position in a horizontal state and stacking a plurality of the plated products, and a plurality of plated products stacked on the elevator. When the number of sheets reaches the number of sheets, a shift device for transferring from the top of the elevator to another position and a pair of receiving shelves are provided in parallel between the endless bodies that are arranged in parallel and circulate synchronously upward and downward. A lift for scooping up a predetermined number of plated products on the shift device and transferring the plated products upward is provided. The post-treatment device of the rack is located above the oven device of the plating device. It successively accepts empty racks after transferring the plated products to the oven device, peels off the plating adhering to the rack, and then restores the rack. It was left to the device. Then, the rack return device is an endless body having a plurality of hooks arranged parallel to each other above the plated product transport line and having a plurality of hooks for lifting both ends of the rack at corresponding positions. The empty rack that was passed to the supply device and passed through the post-treatment device of the rack was received and sequentially returned to the original starting section.

【０００９】[0009]

【作用】めっき物の供給装置は、取上げ搬送手段によっ
て、先ず水平状態に予め載置された短冊状のめっき物を
一枚あて取上げてはめっき物搬送ラインのスタート部へ
運びめっき物を水平状態のまま落下させる。そこにはラ
ックが位置決めされて待機しており、ラックはロッドに
配した固定・可動両アーム間を開放してめっき物を水平
状態で受入れまた閉塞してめっき物を保持しロッドを中
心に自重で回転してめっき物を横長略垂直状にして保持
する。このめっき物を横長略垂直状にして保持するラッ
クを、複数体、逐次めっき装置へ送り込むためにめっき
物の搬送装置は、タクトシステムの採用により逐次受け
入れた複数のラックを同一間隔で上昇・前進・下降の動
作にて搬送する。即ちラックのロッド両端を各々支持す
る一対並行の桁に、前後進用の圧力シリンダーと上下用
の圧力シリンダーを組み合わせ、上昇・前進・下降・復
帰後進という四辺形状の軌跡を描くことによって逐次受
け入れた複数のラックを同一間隔で上昇・前進・下降と
いう動作を行わせて搬送する。[Function] The plating material supply device first picks up one strip-shaped plating material that has been placed in a horizontal position in advance by the pick-up and transfer means, and then picks it up and conveys it to the start portion of the plating-matter transfer line to make the plating object in a horizontal position. Let it fall. The rack is positioned and waiting there, and the rack is opened between both fixed and movable arms to receive the plated product in a horizontal state and block it to hold the plated product and hold the plated product by its own weight. Rotate to hold the plated product in a substantially horizontal orientation. In order to feed a plurality of racks that hold this plated product in a substantially vertical orientation to the sequential plating device, the plated product transport device uses a tact system to raise and advance multiple racks that are successively received at the same interval.・ Transfer by descending operation. That is, a pair of parallel girders that support both ends of the rod of the rack are combined with a pressure cylinder for forward and backward movement and a pressure cylinder for up and down movement, and they are sequentially accepted by drawing a quadrilateral trajectory of ascending, forward, descending, returning backward. Multiple racks are transported at the same intervals by raising, moving forward, and lowering.

【００１０】めっき装置は、ラックを介して一枚当て横
長略垂直状に保持されるめっき物を同一間隔でめっき液
中に複数枚受け入れる処理槽によって、それぞれ前処
理、本めっき処理、後処理を施し更に処理後のめっき物
をオーブン装置に掛けることになる。そして本めっき装
置では処理槽内に受け入れるめっき物の枚数と対応する
枚数でアノードを各々が横長略垂直状態で用意してあ
り、そして、上下動手段によって各めっき物の搬送に伴
い全アノードを同時にめっき液中で上昇或いは下降させ
て二枚のアノードの間に一枚のめっき物を挟むようにし
てめっき物のめっき面にアノードを対面位置決めさせる
ことで効率の良いめっき処理を達成する。取り出し装置
は、そのエレベータで、めっき装置のオーブン装置出側
に搬出されるめっき物を水平状態で常に一定高さ位置に
て受け取り複数枚積載する。エレベータ上に積載された
複数枚のめっき物が所定枚数になると、シフト装置がエ
レベータ上から他の位置へ移送するものである。そして
リフトのエンドレス体が循環してエンドレス体間の受け
棚状のバーにより、他の位置にあるシフト装置上の所定
枚数のめっき物を下からすくい上げ上方へと移送しては
上方空間を貯蔵区域として活用してそこに貯蔵する。The plating apparatus performs a pretreatment, a main plating treatment, and a posttreatment by a treatment tank that receives a plurality of plated products held in a horizontally-long and substantially vertical state through a rack and receiving a plurality of plated products in a plating solution at the same intervals. The plated product after being applied and further processed is placed in an oven. In this plating apparatus, the anodes are prepared in a horizontal and substantially vertical state in a number corresponding to the number of plated products received in the processing tank, and all the anodes are simultaneously moved by the vertical movement means as each plated product is transported. Efficient plating treatment is achieved by raising or lowering in the plating solution and sandwiching one plated article between two anodes and positioning the anodes facing each other on the plated surface of the plated article. The take-out device receives, in its elevator, a plurality of plated products carried out to the oven device exit side of the plating device in a horizontal state at a constant height position. When a predetermined number of plated products loaded on the elevator reaches a predetermined number, the shift device transfers the plated products from the elevator to another position. Then, the endless body of the lift circulates, and a rack-shaped bar between the endless bodies is used to scoop up a predetermined number of plated products on the shift device at another position from below to transfer them upward, and the upper space is a storage area. It is used as and stored there.

【００１１】ラックの後処理装置は、めっき処理に干渉
することのない位置としてオーブン装置上方に配置され
ており、めっき物をオーブン装置へ受け渡した後の空の
ラックを逐次受入れ、ラックに付着しているめっきを剥
離処理してからラックを復帰装置へ委ねる。そして、め
っき物の搬送ライン上方にあって一対並行に配されその
対応位置にラックの両端持ち上げ用の複数のフックを有
するエンドレス体を作動させて、ラックの復帰装置がス
タート部ではラックをめっき物の供給装置へ渡しそして
ラックの後処理装置を経た空のラックを受入れては逐次
元のスタート部へと復帰移送することにより、以上の作
用が円滑に繰り返し行われるようにするものである。The post-treatment device of the rack is arranged above the oven device so as not to interfere with the plating process. The rack post-treatment device sequentially receives the empty rack after the plated product is transferred to the oven device and adheres to the rack. Remove the plating on the rack and leave the rack to the return device. Then, an endless body having a plurality of hooks for lifting both ends of the rack arranged in parallel above the line for transporting the plated product is operated, and the rack return device starts the rack to plate the plated product. The above operation is smoothly and repeatedly carried out by passing the empty rack through the post-processing apparatus of the rack and receiving the empty rack and sequentially returning and transporting it to the original starting section.

【００１２】[0012]

【実施例】以下図面を参照して実施例を説明する。図１
はめっきシステムの全体概略図で、めっき物の供給装置
１００、めっき物の搬送装置２００、めっき装置３０
０、取り出し装置４００、ラックの後処理装置５００、
そしてラックの復帰装置６００等からめっきシステム全
体が構成されている。Embodiments will be described below with reference to the drawings. Figure 1
Is an overall schematic view of a plating system, which includes a plating material supply device 100, a plating material transport device 200, and a plating device 30.
0, take-out device 400, rack post-processing device 500,
The entire plating system is configured by the rack return device 600 and the like.

【００１３】「めっき物の供給装置１００について」こ
のめっき物の供給装置１００は、主に取上げ搬送手段１
０１と、めっき物搬送用のラック１０２と、スイングプ
レート１０３と、ラック用開閉手段１０４とで構成され
る。以下順に説明する。[Regarding the Plating Product Supplying Device 100] This plating product supplying device 100 is mainly used for picking up and conveying means 1.
01, a rack 102 for transporting plated products, a swing plate 103, and a rack opening / closing means 104. The following will be described in order.

【００１４】「取上げ搬送手段１０１について」取上げ
搬送手段１０１は、パット台車１０５と吸着パット１０
６とを備えている。パット台車１０５には左右走行用の
アクチュエータ１０７と上下用のアクチュエータ１０８
が接続してあり、複数枚のめっき物１０９を予め積載し
最上位のめっき物１０９を常に所定高さ位置に保つエレ
ベータ１１０のあるテーブル１１１の真上と、めっき物
搬送ラインのスタート部１１２の真上とを左右走行して
は、アクチュエータ１０８にてパット台車１０５を下降
・復帰上昇させ、テーブル１１１では上記最上位のめっ
き物１０９を一枚あて水平状態で吸着して取り上げ、ス
タート部１１２では吸着解除によりめっき物１０９を水
平状態のまま落下させてそこに予め待機しているラック
１０２へ受け渡すものである。尚、取上げ搬送手段１０
１としては、吸着に変えてチャックのような挟み手段に
しても良い。[Regarding Pickup Conveying Means 101] The picking up conveying means 101 is composed of a pad carriage 105 and a suction pad 10.
6 and. The pad cart 105 includes a left and right actuator 107 and a vertical actuator 108.
Are connected to each other, and a plurality of plated products 109 are preliminarily loaded and the uppermost plated product 109 is always kept at a predetermined height position. When traveling right and left directly above, the actuator 108 causes the pad carriage 105 to descend and return to rise, and the table 111 is picked up by picking up one of the uppermost plated products 109 in a horizontal state and picked up by the start unit 112. When the adsorption is released, the plated product 109 is dropped in a horizontal state and delivered to the rack 102 waiting in advance. The pick-up and transport means 10
As for 1, a sandwiching means such as a chuck may be used instead of the suction.

【００１５】「めっき物搬送用のラック１０２につい
て」めっき物搬送用のラック１０２は、ロッド１１３
と、このロッド１１３に配した固定・可動の両アーム１
１４、１１５とより主に構成されている。先ずロッド１
１３について説明する。ロッド１１３は、陰極電流を通
電自在とするためにステンレス製としてあり、めっき装
置３００の奥行き長さＬ１より長い長さＬ２を有してい
る（図８参照）。なお、以上以下の説明で「奥行き長さ
Ｌ１」とは図８で示すように「めっきライン」に対し９
０度交差方向の処理槽３０１とその付帯設備例えばアノ
ードの上下動手段３０２とを含む長さを意味し、また
「長さＬ２」とはそれらを跨ぐのに必要にして十分な長
さを意味するものとして使用されるものである。[Regarding the rack 102 for transporting the plated product] The rack 102 for transporting the plated product is a rod 113.
And both fixed and movable arms 1 arranged on this rod 113
It is mainly composed of 14, 115. First rod 1
13 will be described. The rod 113 is made of stainless steel so as to allow the cathode current to flow freely, and has a length L2 longer than the depth length L1 of the plating apparatus 300 (see FIG. 8). In the following description, “depth length L1” means 9 with respect to “plating line” as shown in FIG.
It means a length including the processing tank 301 in the 0-degree crossing direction and its auxiliary equipment, for example, the vertical moving means 302 of the anode, and "length L2" means a length necessary and sufficient to straddle them. It is used as something to do.

【００１６】ロッド１１３は図６や図７で示す状態にお
いて縦長断面形状を有し、その両端にステンレス製でソ
ロバン玉のような形状に形成した位置決め用のガイド１
１６が各々設けられている。そして両ガイド１１６近辺
のロッド１１３の断面形状は下方に向かい（固定・可動
の両アーム１１４、１１５の突出方向に向けて）鋭角状
とした鋭角部１１７が設けてある。次に固定・可動の両
アーム１１４、１１５について説明する。固定・可動の
両アーム１１４、１１５も陰極電流を通電自在とするた
めにステンレス製としてあり、ロッド１１３の長手交差
方向（図６、図７で下方向）に突出して各々配されてい
る。そして固定・可動の両アーム１１４、１１５の先端
には、「樹脂モールド後のＩＣリードフレーム」として
のめっき物１０９を少なくとも三点支持するためのピン
１１８、１１９が向き合わせて設けてある。The rod 113 has a vertically long cross-sectional shape in the state shown in FIGS. 6 and 7, and both ends thereof are made of stainless steel and have a positioning guide 1 formed in a shape like an abacus ball.
16 are provided respectively. The cross-sectional shape of the rod 113 in the vicinity of both guides 116 is downward (toward the protruding direction of the fixed and movable arms 114 and 115), and an acute angled portion 117 is provided. Next, the fixed and movable arms 114 and 115 will be described. Both the fixed and movable arms 114 and 115 are also made of stainless steel so as to allow the cathode current to flow freely, and are arranged so as to project in the longitudinal crossing direction of the rod 113 (downward in FIGS. 6 and 7). Pins 118 and 119 for supporting at least three points of the plated product 109 as the "IC lead frame after resin molding" are provided facing each other at the tips of the fixed and movable arms 114 and 115.

【００１７】固定アーム１１４はロッド１１３に対して
二本配してあり、また可動アーム１１５は曲折部１２０
のあるＬ字形状のやや大きなサイズのものがロッド１１
３に対して一本回動軸１２１で軸止めされ回動自在とし
てある。従って図中固定アーム１１４のピン１１８が上
方の二点を形成し、この二点に対して可動アーム１１５
のピン１１９が下方の一点を形成するようになる。ピン
１１８、１１９は図７で示すように固定・可動の両アー
ム１１４、１１５の先端にあって９０度の方向へ（図７
左方へ）突出して設けられ、各々滑り止めの溝１２２と
外れ防止の膨出部１２３とが設けてある。尚可動アーム
１１５の曲折部１２０はめっき処理の際液中に入るので
液より引き上げた場合の液切りを考慮して図７で示すよ
うに辺部が鋭角としてある。Two fixed arms 114 are arranged on the rod 113, and a movable arm 115 is provided on the bent portion 120.
Rod 11 has a slightly larger L-shaped shape
It is rotatable with respect to 3 by one rotation shaft 121. Therefore, in the figure, the pin 118 of the fixed arm 114 forms two upper points, and the movable arm 115 with respect to these two points.
The pin 119 will form a lower point. As shown in FIG. 7, the pins 118 and 119 are located at the tips of both fixed and movable arms 114 and 115, and are oriented in the direction of 90 degrees (see FIG.
It is provided so as to project (to the left), and a groove 122 for preventing slippage and a bulging portion 123 for preventing disengagement are provided respectively. Since the bent portion 120 of the movable arm 115 enters the liquid during the plating process, the side portion has an acute angle as shown in FIG. 7 in consideration of drainage when the liquid is pulled up from the liquid.

【００１８】可動アーム１１５はその曲折部１２０をロ
ッド１１３の長手交差方向に突出した状態でロッド１１
３に対して回動軸１２１で回動自在に軸止めされてお
り、且つ先端のピン１１９を固定アーム１１４のピン１
１８に向けて押し付ける「付勢手段」として引張スプリ
ング１２４が可動アーム１１５に設けてある。そして可
動アーム１１５は、「ラック用開閉手段１０４」として
のロータリアクチュエータ１２６の回転にてそのピン１
２７が水平回動して可動アーム１１５の上端部に押しつ
け力を作用させるように働き掛けると、引張スプリング
１２４に逆らって開放方向（図５、図６中の矢示Ｋ方
向）へ回動する。またロータリアクチュエータ１２６の
ピン１２７が押しつけ力を解除するといわば他からの働
き掛けが終わることになるので、今度は引張スプリング
１２４の引張力によって可動アーム１１５は閉鎖方向
（図５、図６中の矢示Ｈ方向）へ回動する。従ってめっ
き物１０９の幅サイズの大小にかかわらずこのラック１
０２では固定・可動両アーム１１４、１１５のピン１１
８、１１９間でめっき物１０９の辺部を常に三点支持す
ることができる。（図６中、１２５は幅サイズの小さい
めっき物を示す。）The movable arm 115 has its bent portion 120 projecting in the longitudinal crossing direction of the rod 113.
3 is rotatably supported by a rotation shaft 121, and the pin 119 at the tip is fixed to the pin 1 of the fixed arm 114.
A tension spring 124 is provided on the movable arm 115 as a “biasing means” for pressing it toward the armature 18. The movable arm 115 has its pin 1 rotated by the rotation of the rotary actuator 126 as the "rack opening / closing means 104".
When 27 rotates horizontally and acts so as to exert a pressing force on the upper end portion of the movable arm 115, it rotates in the opening direction (the arrow K direction in FIGS. 5 and 6) against the tension spring 124. Further, when the pin 127 of the rotary actuator 126 releases the pressing force, the action from the other ends, so to speak, so that the movable arm 115 is closed by the tensile force of the tension spring 124 (shown by arrows in FIGS. 5 and 6). Rotate in the H direction). Therefore, regardless of the width size of the plated object 109, this rack 1
In 02, pin 11 of both fixed and movable arms 114 and 115
Between 8 and 119, the sides of the plated product 109 can be always supported at three points. (In FIG. 6, 125 indicates a plated product having a small width size.)

【００１９】「スイングプレート１０３について」スイ
ングプレート１０３は主にプレート１２８とスイング手
段１２９とから成る。プレート１２８は図３で示すよう
にその押し当て面１３０にラック１０２のピン１１８受
入れ用の凹部１３１と他のピン１１９受入れ用の円弧状
凹部１３２を備え、押し当て面１３０が水平状態でめっ
き物１０９を受け止めた際に、押し当て面１３０上で水
平状態が強いられているラック１０２の各ピン１１８、
１１９の略真ん中部位（滑り止め溝１２２が形成してあ
る部位）にめっき物１０９の辺部が位置するようにして
あり、確実な辺部への三点支持（挟持）が成しえるよう
にしてある。尚、図３では、ラック１０２の可動アーム
１１５とそのピン１１９の図示が省略してある。スイン
グ手段１２９は、プレート１２８の裏面に接続された支
持用のバー１３３とバー１３３の両端にあるサイドアー
ム１３４と、これら両サイドアーム１３４をその回転軸
１３５で回転せしめバー１３３の回転と共にプレート１
２８をスイングさせる圧力シリンダ１３６を備えてい
る。"About Swing Plate 103" The swing plate 103 mainly comprises a plate 128 and a swing means 129. As shown in FIG. 3, the plate 128 is provided with a concave portion 131 for receiving the pin 118 of the rack 102 and an arcuate concave portion 132 for receiving the other pin 119 on the pressing surface 130, and the pressing surface 130 is in a horizontal state to be plated. Each pin 118 of the rack 102, which is forced to be horizontal on the pressing surface 130 when receiving 109,
The side portion of the plated product 109 is located in the substantially middle portion of the portion 119 (the portion where the anti-slip groove 122 is formed) so that reliable three-point support (clamping) to the side portion can be achieved. There is. In FIG. 3, the movable arm 115 of the rack 102 and its pin 119 are not shown. The swinging means 129 includes a supporting bar 133 connected to the back surface of the plate 128, side arms 134 at both ends of the bar 133, and both side arms 134 rotated by a rotation shaft 135 thereof.
A pressure cylinder 136 for swinging 28 is provided.

【００２０】スイングプレート１０３の作動は、圧力シ
リンダ１３６の押しつけ、サイドアーム１３４の回転、
バー１３３を介してのプレート１２８のスイング作動を
行うことにより、初め垂直状態にある上記ラック１０２
に対し下方より旋回して押し当たり、押し当て面１３０
の上にラック１０２を載せた状態でラック１０２ごと水
平状態の姿勢を維持し、ラック１０２によるめっき物１
０９の受取完了後は復帰旋回して、それに伴いラック１
０２が自重で垂直状態になることを許すものである。The swing plate 103 is operated by pressing the pressure cylinder 136, rotating the side arm 134,
By swinging the plate 128 via the bar 133, the rack 102 initially in the vertical state is initially moved.
To the pressing surface 130 by swiveling from below
With the rack 102 placed on the rack, maintain a horizontal posture together with the rack 102, and use the rack 102 for plating 1
After the receipt of 09 is completed, it will turn back and the rack 1
02 is allowed to be in a vertical state by its own weight.

【００２１】「ラック用開閉手段１０４について」ラッ
ク用開閉手段１０４は図５で示すように具体的にはロー
タリアクチュエータ１２６を意味し、ラック１０２がス
イングプレート１０３により水平状態とされたときにラ
ック１０２の可動アーム１１５の上端部近傍と対応する
位置に予めピン１２７を臨むようにしてある。ロータリ
アクチュエータ１２６が作動するとピン１２７が水平面
上で回転し可動アーム１１５に押しつけ力を付与して、
引張スプリング１２４に逆らって可動アーム１１５ひい
てはそのピン１１９を固定アーム１１４ひいてはそのピ
ン１１８から離れる方向に強制的に移動させる。この状
態でラック１０２の固定・可動両アーム１１４、１１５
が開放されたものとなる。[Regarding Rack Opening / Closing Means 104] The rack opening / closing means 104 specifically means a rotary actuator 126 as shown in FIG. 5, and the rack 102 when the rack 102 is brought into a horizontal state by the swing plate 103. The pin 127 is previously exposed at a position corresponding to the vicinity of the upper end of the movable arm 115. When the rotary actuator 126 operates, the pin 127 rotates on a horizontal plane to apply a pressing force to the movable arm 115,
The movable arm 115 and thus the pin 119 thereof are forcibly moved in the direction away from the tension spring 124 and away from the fixed arm 114 and thus the pin 118. In this state, both fixed and movable arms 114, 115 of the rack 102
Will be open.

【００２２】従ってこの状態で真上に位置する取上げ搬
送手段１０１からめっき物１０９が水平状態のまま落下
されれば、直ぐ真下に水平状態で待機しているプレート
１２８上のそれも固定・可動両アーム１１４、１１５の
開いた間に着陸することになる。そして今度は逆にロー
タリアクチュエータ１２６が押しつけ力を解除すること
によりプレート１２８の押し当て面１３０上で固定・可
動両アーム１１４、１１５が閉じ、ピン１１９が円弧状
凹部１３２内で移動してピン１１８と協同してめっき物
１０９の辺部を三点支持する。Therefore, in this state, if the plated article 109 is dropped from the pick-up and transport means 101 located right above in a horizontal state, it will be fixed or movable on the plate 128 immediately below and standing by in a horizontal state. It will land while the arms 114, 115 are open. Then, conversely, when the rotary actuator 126 releases the pressing force, both the fixed and movable arms 114 and 115 are closed on the pressing surface 130 of the plate 128, and the pin 119 moves in the arc-shaped recess 132 to move the pin 118. In cooperation with, the three sides of the plated product 109 are supported.

【００２３】そしてスイングプレート１０３が復帰旋回
すると、ラック１０２はその形態からして固定・可動両
アーム１１４、１１５が突出しておりそれもめっき物１
０９を保持した状態にあるから、ラック１０２も自動的
にロッド１１３を中心に回動して元の垂直状態となる。When the swing plate 103 is returned and swiveled, the fixed and movable arms 114 and 115 of the rack 102 are projected due to the shape of the rack 102.
Since it is in the state of holding 09, the rack 102 also automatically rotates around the rod 113 and returns to the original vertical state.

【００２４】「めっき物の搬送装置２００について」上
記の説明で元の垂直状態となったラック１０２は、図１
で示す搬送装置２００の桁２０１上に載置される。桁２
０１は一対並行してめっき装置３００の両側に配してあ
りタクトシステムの採用により同一の間隔（ピッチ）で
ラック１０２を上昇・前進・下降の動作を繰り返し行う
ことで図１で右方へと搬送してゆくものである。図２の
中央で右方に繰り返し図示してある丸形状はラック１０
２のガイド１１６を意味し且つガイド１１６が同一間隔
でめっき装置３００に配されている状態を示している。[Concerning the apparatus 200 for transporting plated products] The rack 102 in the original vertical state in the above description is shown in FIG.
Is placed on the girder 201 of the carrying device 200. Digit 2
01 are arranged in parallel on both sides of the plating apparatus 300, and by adopting a tact system, the rack 102 is repeatedly moved up, forward, and down at the same interval (pitch) to the right in FIG. It will be transported. The circular shape repeatedly illustrated on the right side in the center of FIG.
The two guides 116 are shown and the guides 116 are arranged in the plating apparatus 300 at the same intervals.

【００２５】桁２０１には、前後進用の圧力シリンダー
２０２と上下用の圧力シリンダー２０３が組み合わせて
あり、上昇、前進、下降、復帰後進という四辺形状の軌
跡を描くようにして一対並行の桁２０１が同じ動作を繰
り返すものである。このとき図２で示す複数のガイド１
１６、即ちラック１０２、は各々同時にめっき装置３０
０の上辺位置から上に持ち上げられ、右方に１ピッチ前
進させられ、下に下げられてめっき装置３００の上辺位
置に置かれ、この動作を繰り返し行うことによりめっき
装置３００で所定のめっき処理を受けるものである。The girder 201 is combined with a pressure cylinder 202 for forward and backward movement and a pressure cylinder 203 for up and down movement, and a pair of parallel girders 201 are drawn so as to draw a quadrilateral locus of ascending, advancing, descending and returning to reverse. Is to repeat the same operation. At this time, the plurality of guides 1 shown in FIG.
16 or the racks 102 are each at the same time as the plating device 30.
It is lifted up from the upper side position of 0, moved forward by 1 pitch to the right, lowered and placed at the upper side position of the plating apparatus 300. By repeating this operation, a predetermined plating process is performed by the plating apparatus 300. To receive.

【００２６】「めっき装置３００について」このめっき
装置３００は、供給部３０３（めっき物搬送ラインのス
タート部１１２相当）、前処理部３０４、本めっき処理
部３０５、後処理部３０６及び取り出し部３０７（取り
出し装置４００相当）から主に構成されている。本めっ
き処理部３０５には、処理槽３０１内に受け入れる多数
枚のめっき物１０９の枚数に見合う多数枚のアノード３
０８が上下動手段３０２を介して処理槽３０１内に臨ま
せてある。ラック１０２がめっき物１０９を一枚あて横
長・略垂直状態で保持しているので、アノード３０８も
保持アーム３０９を介して片持ち状態で横長・略垂直状
態に保持されている。図１では２枚のアノード３０８の
み示され他のアノード３０８の図示を省略している。[About Plating Apparatus 300] This plating apparatus 300 includes a supply section 303 (corresponding to the start section 112 of the plated product transfer line), a pretreatment section 304, a main plating treatment section 305, a posttreatment section 306, and a take-out section 307 ( It is mainly composed of a take-out device 400). In the main plating processing unit 305, a large number of anodes 3 corresponding to the number of the plated products 109 received in the processing tank 301 are provided.
08 is exposed to the inside of the processing tank 301 via the vertical movement means 302. The rack 102 holds one plated product 109 and holds it in a horizontally long and substantially vertical state, so that the anode 308 is also held in a horizontally long and substantially vertically state via the holding arm 309 in a cantilever state. In FIG. 1, only two anodes 308 are shown and the other anodes 308 are omitted.

【００２７】多数枚のアノード３０８はそれぞれ同一間
隔を隔てて保持アーム３０９を介して保持桁３１０に取
り付けられ上下動手段３０２としての圧力シリンダー３
１１にて同時に処理槽３０１内（めっき液内）で上昇し
て各めっき物１０９同士の間に入り、下降して処理槽３
０１の底部近辺で待機して再び上昇してはめっき物１０
９同士の間に入って、あたかも前後二枚のアノード３０
８がその間に一枚のめっき物１０９を挟み込む状態を呈
するので、めっき物１０９のめっき面に対しアノード３
０８が極めて真近な位置を占めるものである。従ってめ
っき効率が極めて向上することになる。尚、本めっき処
理部３０５その他の処理部において、処理槽３０１の上
辺側部に配した通電部材からラック１０２を介しめっき
物１０９へ陰極電流が施されめっき物１０９をカソード
化して、必要な処理を行うものである。The plurality of anodes 308 are attached to the holding girder 310 via the holding arms 309 at the same intervals, and the pressure cylinder 3 as the vertical moving means 302.
At 11 at the same time, it rises in the treatment tank 301 (in the plating solution) to enter between the plated objects 109, and descends to the treatment tank 3
Standing near the bottom of 01 and rising again, the plated product 10
Enter between 9 and feel as if the front and rear anodes 30
8 has a state in which one plated product 109 is sandwiched between them, so that the anode 3 can be attached to the plated surface of the plated product 109.
08 occupies an extremely close position. Therefore, the plating efficiency is extremely improved. In the main plating processing unit 305 and other processing units, a cathodic current is applied to the plated product 109 from the current-carrying member arranged on the upper side of the processing tank 301 via the rack 102 to make the plated product 109 a cathode, and necessary treatment is performed. Is to do.

【００２８】後処理部３０６は、中和・洗浄処理槽３１
２、ラックの回動・水平化装置３１３、オーブン装置３
１４を含むものである。タクトシステムによって一枚当
て順次送られてくるめっき物１０９（ラック１０２）
を、ラックの回動・水平化装置３１３が受取りラック１
０２ごとめっき物１０９を水平化してはオーブン装置３
１４内の搬送手段３１５に受渡して乾燥処理を施し、取
り出し部３０７（取り出し装置４００）で取り出して行
くものである。回動・水平化装置３１３は、ラック１０
２の両端外形に見合う一対の受け部材３１６と圧力シリ
ンダー３１７およびラック開放手段としてのロータリア
クチュエータ３１８を備え、圧力シリンダー３１７の作
用によって受け部材３１６はその回転中心３１９で回転
し、受け入れた垂直状態のラック１０２をめっき物１０
９ごと強制的に水平状態にしてしまうものである。そし
てロータリアクチュエータ３１８が回転してラック１０
２の可動アーム１１５を開放し固定・可動両アーム１１
４、１１５間のめっき物１０９の拘束を解くと、めっき
物１０９は水平状態のまま自重で落下する。The post-treatment section 306 is a neutralization / cleaning treatment tank 31.
2, rack rotation / leveling device 313, oven device 3
14 is included. Plated product 109 (rack 102) sent one by one by the tact system
The rack rotation / leveling device 313 receives the
Oven device 3 by leveling the plated product 109 with 02
It is delivered to the conveying means 315 in the unit 14, dried, and taken out by the take-out unit 307 (take-out device 400). The rotation / leveling device 313 is used for the rack 10.
2 is provided with a pair of receiving members 316 corresponding to the outer shapes of both ends, a pressure cylinder 317, and a rotary actuator 318 as a rack opening means, and the receiving member 316 rotates about its rotation center 319 by the action of the pressure cylinder 317, and receives the vertical state. Rack 10 plated 10
It is forcibly set to the horizontal state together with 9. Then, the rotary actuator 318 rotates to rotate the rack 10
Two movable arms 115 are opened to fix both fixed and movable arms 11.
When the restraint of the plated product 109 between 4 and 115 is released, the plated product 109 falls by its own weight in the horizontal state.

【００２９】オーブン装置３１４内の搬送手段３１５
は、固定・可動両桁３２０、３２１と、上下動用の圧力
シリンダー３２２と前後進用の圧力シリンダー３２３を
備えている。固定桁３２０は水平状態で左右二列とさ
れ、他方の可動桁３２１は同じく水平状態とされ且つ固
定桁３２０の間に組み合わされた三列配置のものとして
ある。固定・可動両桁３２０、３２１は各々上面に複数
の傾斜ステーション３２４、３２５を備え、固定桁３２
０がその傾斜ステーション３２４で受け止めためっき物
１０９を可動桁３２１がその傾斜ステーション３２５で
下からすくい上げて固定桁３２０の一つ前方にある次の
傾斜ステーション３２４へと移送する。このような可動
桁３２１の作動は上下動用の圧力シリンダー３２２と前
後進用の圧力シリンダー３２３が担うもので前進・下降
・戻り・上昇を繰り返し行い可動桁３２１は複数のめっ
き物１０９をオーブン装置３１４内で前方の取り出し装
置４００目掛けて移送するものである。Conveying means 315 in the oven device 314
Is provided with fixed and movable both girders 320 and 321, a pressure cylinder 322 for vertical movement and a pressure cylinder 323 for forward and backward movement. The fixed girders 320 are horizontally arranged in two columns on the left and right, and the movable girders 321 on the other side are similarly arranged in a horizontal state and are arranged in three rows arranged between the fixed girders 320. Both fixed and movable girders 320 and 321 are provided with a plurality of tilting stations 324 and 325 on the upper surface, respectively.
The movable girder 321 picks up the plating 109 received by the tilting station 324 from below at the tilting station 325, and transfers it to the next tilting station 324 one forward of the fixed girder 320. The operation of the movable girder 321 is performed by the pressure cylinder 322 for up and down movement and the pressure cylinder 323 for forward and backward movement, and the forward, downward, return, and ascendant operations are performed repeatedly. It is intended to be transferred while aiming at the front take-out device 400 inside.

【００３０】「取り出し装置４００について」取り出し
装置４００は、エレベータ４０１、シフト装置４０２と
リフト４０３から主に構成される。オーブン装置３１４
内の搬送手段３１５に受渡されて乾燥処理が施されため
っき物１０９は、一枚当て逐次エレベータ４０１上に取
り出され所定枚数（例えば３００枚）積載されると、そ
れが１ユニットとして扱われ、シフト装置４０２で図１
の右方へと移送される。そこでリフト４０３の受け棚状
のバー４０４が下から１ユニット全部をすくい上げ上方
へと移送し、作業者が適宜取り出すことになる。"About the take-out device 400" The take-out device 400 is mainly composed of an elevator 401, a shift device 402 and a lift 403. Oven equipment 314
The plated product 109 that has been delivered to the transport means 315 inside and subjected to the drying process is taken out one by one on the elevator 401 and loaded a predetermined number (for example, 300), and it is treated as one unit, The shift device 402 shown in FIG.
To the right of. Then, the receiving rack-shaped bar 404 of the lift 403 picks up one unit from the bottom and transfers it to the upper side, and the worker takes it out appropriately.

【００３１】エレベータ４０１はトッププレート４０５
とリニアヘッド４０６とリミットスイッチ４０７、４０
８等を備えている。リニアヘッド４０６がトッププレー
ト４０５の上下動を行い、リミットスイッチ４０７が上
限位置を又他のリミットスイッチ４０８が下限位置を読
み取り、トッププレート４０５が常に一定の高さ位置で
水平状態のめっき物１０９を受取りそのめっき物１０９
の厚さ分少し下降することでやがては所定枚数のめっき
物１０９を積載する。シフト装置４０２は、上記トップ
プレート４０５の両側で腕を伸ばした状態としてある一
対の受体４０９と、各受体４０９の先端で上方に突出さ
せたガイドバー４１０と、受体４０９に連なるベースプ
レート４１１の先端に設けたピン４１２にカム４１３を
係合させたロータリアクチュエータ４１４とから成る。The elevator 401 has a top plate 405.
And linear head 406 and limit switches 407 and 40
It has 8 etc. The linear head 406 moves the top plate 405 up and down, the limit switch 407 reads the upper limit position and the other limit switches 408 read the lower limit position, and the top plate 405 always moves the plated object 109 in a horizontal state at a constant height position. Received the plated product 109
Then, a predetermined number of the plated objects 109 are loaded by lowering the thickness of the plate. The shift device 402 includes a pair of receiving bodies 409 in which arms are extended on both sides of the top plate 405, a guide bar 410 protruding upward at the tip of each receiving body 409, and a base plate 411 connected to the receiving bodies 409. A rotary actuator 414 in which a cam 413 is engaged with a pin 412 provided at the tip of the.

【００３２】一対の受体４０９間でエレベータ４０１の
トッププレート４０５が下降することで、受体４０９は
そこに積載してある１ユニットのめっき物１０９の一番
下を支持することになる。そしてロータリアクチュエー
タ４１４の回転によってカム４１３が図３の左方位置か
ら右方位置へと回動すれば、ピン４１２を介してロータ
リアクチュエータ４１４の回転力を受けてベースプレー
ト４１１ごと受体４０９が同じく図３の左方位置から右
方位置へと移動し、同じく受体４０９に受け渡された１
ユニットのめっき物１０９も最初の位置Ｘから他の位置
Ｙへと移送されることになる。By lowering the top plate 405 of the elevator 401 between the pair of receivers 409, the receiver 409 supports the bottom of one unit of the plated product 109 loaded therein. When the cam 413 is rotated from the left position to the right position in FIG. 3 by the rotation of the rotary actuator 414, the rotational force of the rotary actuator 414 is received via the pin 412 and the base plate 411 and the receiving body 409 are also shown in FIG. 3 moved from the left side position to the right side position and was also transferred to the receiving body 409.
The plated product 109 of the unit is also transferred from the first position X to another position Y.

【００３３】リフト４０３は、エンドレス体としてのエ
ンドレスチェーン４１５と受け棚状のバー４０４とから
主に構成されている。一対で並行に設置されたエンドレ
スチェーン４１５はモータ４１６にて同期上昇回転する
もので、エンドレスチェーン４１５間には接続アーム
（図示せず）が複数本架設してあり、そこに受け棚状の
バー４０４が一対で並行にそしてやや斜め上方に突出し
て設けてある。そして、一対で並行に配置され各々同期
して下方より上方へと循環するエンドレスチェーン４１
５にて順次受け棚状のバー４０４がシフト装置４０２上
の所定枚数のめっき物１０９を下からすくい上げ上方へ
と移送するものである。受け棚状のバー４０４はエンド
レスチェーン４１５に複数段設けてあり、その数に見合
うユニット数のめっき物１０９を取り出して上方へと持
ち上げてゆくのでめっき装置の処理速度が早くても十分
に取り出し作業を対応させられるものである。無論エン
ドレスチェーン４１５の高さに余裕を持たせ、多数段の
バー４０４を配すればその分貯蔵能力が大きくなるから
取り出し作業が楽となる。The lift 403 is mainly composed of an endless chain 415 as an endless body and a receiving rack-shaped bar 404. A pair of endless chains 415 installed in parallel are rotated by a motor 416 in a synchronously rising manner, and a plurality of connecting arms (not shown) are installed between the endless chains 415, and a receiving rack-shaped bar is placed there. A pair of 404 are provided in parallel and project slightly obliquely upward. Then, a pair of endless chains 41 arranged in parallel and circulating in synchronization from the lower side to the upper side, respectively.
5, a bar 404 in the form of a receiving rack sequentially picks up a predetermined number of plated products 109 on the shift device 402 from below and transfers them upward. The receiving rack-shaped bars 404 are provided in a plurality of stages on the endless chain 415, and the number of units of the plated product 109 corresponding to the number of the bars 404 are taken out and lifted upward. Therefore, even if the processing speed of the plating apparatus is fast, the work can be taken out sufficiently. Can be associated with. Of course, if the endless chain 415 is allowed to have a high height and a large number of bars 404 are arranged, the storage capacity is increased correspondingly, which facilitates the taking-out work.

【００３４】このようにして、オーブン装置３１４内の
搬送手段３１５に受渡されて乾燥処理が施されためっき
物１０９は、一枚当て逐次エレベータ４０１上に取り出
され所定枚数（例えば３００枚）積載されると、それが
１ユニットとして扱われ、シフト装置４０２で図１の右
方へと移送される。そこでリフト４０３の受け棚状のバ
ー４０４が下から１ユニット全部をすくい上げ上方へと
移送し、上方空間を貯蔵区域として活用して暫くの間そ
こで貯蔵し、最終工程では作業者が適宜取り出すことに
なる。In this way, the plated product 109, which has been delivered to the conveying means 315 in the oven device 314 and subjected to the drying process, is applied one by one and sequentially taken out onto the elevator 401, and stacked by a predetermined number (for example, 300). Then, it is treated as one unit, and is transferred to the right in FIG. 1 by the shift device 402. Therefore, the receiving rack-shaped bar 404 of the lift 403 picks up one unit from the bottom and transfers it to the upper part, and uses the upper space as a storage area to store it there for a while, and in the final step, the worker can take it out appropriately. Become.

【００３５】「ラックの後処理装置５００について」こ
のラックの後処理装置５００はオーブン装置３１４の上
方に位置し、めっき装置３００の後処理部３０６でラッ
ク１０２がその回動・水平化装置３１３によってめっき
物１０９をオーブン装置３１４内の搬送手段３１５に受
渡したことにより、いわば空になった状態になると、そ
の空のラック１０２を受入れるものである。ラックの後
処理装置５００では、ラック１０２の特にめっき液中に
浸された可動アーム１１５に付いためっき（半田）の剥
離処理が行われる。[About rack post-treatment device 500] This rack post-treatment device 500 is located above the oven device 314, and the rack 102 is rotated and leveled by the post-treatment part 306 of the plating device 300 by the rotation / leveling device 313. When the plated product 109 is transferred to the transporting means 315 in the oven device 314, so to speak, when it becomes empty, the empty rack 102 is received. In the rack post-treatment device 500, the plating (solder) of the rack 102, particularly the movable arm 115 immersed in the plating solution, is removed.

【００３６】「ラックの復帰装置６００について」めっ
きの剥離処理が施された後で、ラック１０２はスタート
部１１２へと再び送り返される。このために一対で並行
に配されたエンドレスチェーン６０１にフック６０２が
多数設けられ、各一対のフック６０２が一つのラック１
０２を受取りめっき装置３００の上を今度は図１で左方
へと吊り下げたまま移送してスタート部１１２へと復帰
せしめるものである。[Rack Restoring Device 600] After the plating is stripped, the rack 102 is sent back to the start unit 112. For this reason, a large number of hooks 602 are provided on a pair of endless chains 601 arranged in parallel, and each pair of hooks 602 is included in one rack 1.
02 is received and transferred on the plating apparatus 300 while being hung to the left in FIG. 1 and returned to the start unit 112.

【００３７】[0037]

【発明の効果】以上説明したごとく本発明に係るめっき
システムによれば多くの効果が期待できるものであり、
そのうちの主な効果を列挙すれば、（１）めっき物を一
枚当て扱うものとし、めっき装置内でめっき物を横長垂
直状の状態で保持できるから、本めっき処理に際しめっ
き装置内に入れためっき物にアノードを配置する場合、
アノードを横長垂直状にしためっき物のめっき面に直ぐ
間近で対向して配置できてめっき効率の向上が期待され
るものであり、また（２）タクトシステム採用の搬送装
置の使用を前提とし、めっき装置に一定間隔で複数のラ
ックをそれもめっき物を横長で略垂直状態にしてあてが
うものにして、多数のラックに逐次効率よくめっき物を
一枚あて供給できるものである。As described above, according to the plating system of the present invention, many effects can be expected.
The main effects among them are listed as follows: (1) One plated product is handled and the plated product can be held in a vertically long state in the plating device. When placing the anode on the plated product,
It is expected that the anode can be placed immediately opposite to the plating surface of the vertically elongated plating product to improve the plating efficiency, and (2) it is premised on the use of a carrier device employing the tact system, It is possible to apply a plurality of racks to the plating apparatus at regular intervals so that the plated product is in a horizontally long and substantially vertical state, and to supply the plated product to a large number of racks successively and efficiently.

【００３８】更に（３）めっき物供給の際に予め水平状
態で積載されている多数枚のめっき物を一枚当て取上げ
ては、そのつど水平状態にしたラックへ水平状態でめっ
き物を受渡し供給できるから取扱い易く、しかもめっき
物を受渡したあとは先に水平状態としていたラックを垂
直状態の姿勢に復帰させるので搬送し易く、（４）処理
槽のめっき液中で一枚のめっき物に対しその前後に二枚
のアノードを配せるので、めっき効率を向上でき、
（５）処理槽に受け入れる複数のめっき物の移送に対し
全アノードが上下動するので干渉せず、上記のタクトシ
ステム採用の搬送装置にてラックが各一枚あてのめっき
物を複数等間隔で処理槽に搬入しても支障がなく、
（６）処理後のめっき物は取り出し装置によって多数枚
ごとに纏めて取り出し上方空間を貯蔵区域として活用し
て貯蔵でき、（７）めっき物の搬送ラインやめっき装置
に邪魔と成らない位置で、空になったラックに剥離処理
を施せることができ、そして（８）剥離処理後のラック
を再びスタート部へと復帰できる。Further, (3) at the time of supplying the plated product, picking up one of a large number of plated products loaded in a horizontal state in advance, each time delivering and supplying the plated product to the rack in the horizontal state. It is easy to handle because it can be done, and after transferring the plated product, the rack that was in the horizontal state is returned to the vertical position, which makes it easy to transport. (4) For one plated product in the plating solution in the processing tank Since two anodes can be placed before and after that, plating efficiency can be improved,
(5) Since all the anodes move up and down with respect to the transfer of a plurality of plated products received in the processing tank, there is no interference, and the racks are applied to each of the above-described transport devices using the tact system at a plurality of equal intervals. There is no problem even if it is carried into the processing tank,
(6) The plated products after the treatment can be collectively taken out by a take-out device by a large number and can be stored by utilizing the upper space as a storage area. (7) At a position that does not interfere with the transfer line of the plated products or the plating device, The empty rack can be subjected to the peeling treatment, and (8) the rack after the peeling treatment can be returned to the start portion again.

【００３９】[0039]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】めっきシステムの全体説明図。FIG. 1 is an overall explanatory view of a plating system.

【図２】めっき装置を示す概略側面図。FIG. 2 is a schematic side view showing a plating apparatus.

【図３】めっき物の供給装置を示す図１中の矢示Ａ方向
より見た側面図。FIG. 3 is a side view showing a device for supplying a plated product, as viewed in the direction of arrow A in FIG.

【図４】めっき物の供給装置を示す図３中の矢示Ｂ方向
より見た側面図。FIG. 4 is a side view showing a device for supplying a plated product, as viewed in the direction of arrow B in FIG. 3.

【図５】ラック用開閉手段を示す図４中の矢示Ｃ方向よ
り見た平面図。5 is a plan view showing the rack opening / closing means as viewed in the direction of arrow C in FIG. 4. FIG.

【図６】ラックを示す図１中の矢示Ｄ方向より見た側面
図。FIG. 6 is a side view showing the rack as seen from the direction of the arrow D in FIG. 1.

【図７】ラックを示す図６中の矢示Ｅ方向より見た側面
図。FIG. 7 is a side view of the rack as viewed in the direction of arrow E in FIG.

【図８】めっき装置およびラックの復帰装置を示す図２
中の矢示Ｆ、Ｆ方向より見た側面図。FIG. 8 is a view showing a plating device and a rack restoring device.
The side view seen from the arrow F and the F direction in the inside.

【図９】ラックの回動・水平化装置とオーブン装置、さ
らにラックの後処理装置との関連性を示す側面図。FIG. 9 is a side view showing the relationship between a rack rotation / leveling device, an oven device, and a rack post-treatment device.

【図１０】オーブン装置内のめっき物の搬送手段を示す
拡大側面図。FIG. 10 is an enlarged side view showing a means for transporting a plated product in an oven.

【図１１】めっき物の取り出し装置の拡大側面。FIG. 11 is an enlarged side view of the apparatus for taking out plated products.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１００ めっき物の供給装置 １０１ 取上げ搬送手段 １０２ ラック １０３ スイングプレート １０４ ラック用開閉手段 １０９ めっき物 １１２ めっき物搬送ラインのスタート部 １１３ ロッド １１５ 可動アーム ２００ めっき物の搬送装置 ３００ めっき装置 ４００ 取り出し装置 ５００ ラックの後処理装置 ６００ ラックの復帰装置 100 Supply Device for Plated Material 101 Pickup / Conveying Means 102 Rack 103 Swing Plate 104 Opening / Closing Means for Rack 109 Plating Product 112 Start Part of Plating Product Conveying Line 113 Rod 115 Movable Arm 200 Conveying Device for Plating Product 300 Plating Device 400 Extracting Device 500 Rack Aftertreatment device 600 Rack return device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２５Ｄ 19/00 Ａ ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. ⁵ Identification code Internal reference number FI technical display location C25D 19/00 A

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 めっき物の供給装置、めっき物の搬送装
置、めっき装置、取り出し装置、ラックの後処理装置、
そしてラックの復帰装置から全体が構成されており、 めっき物の供給装置は、水平状態に予め載置された短冊
状のめっき物を一枚あて取上げめっき物搬送ラインのス
タート部へ運びめっき物を水平状態のまま落下させる取
上げ搬送手段と、ロッドに配した固定・可動両アーム間
を開放してめっき物を水平状態で受入れまた閉塞してめ
っき物を保持しロッドを中心に自重で回転してめっき物
を横長略垂直状にして保持する通電自在なラックとを備
え、 めっき物の搬送装置は、ラックのロッド両端を各々支持
する一対並行の桁に、前後進用の圧力シリンダーと上下
用の圧力シリンダーを組み合わせ、上昇・前進・下降・
復帰後進という四辺形状の軌跡を描いて、タクトシステ
ムの採用により逐次受け入れた複数のラックを同一間隔
で上昇・前進・下降の動作にて搬送するものであり、 めっき装置は、ラックを介して一枚当て横長略垂直状に
保持されるめっき物を同一間隔でめっき液中に複数枚受
け入れる処理槽と、少なくともこの処理槽内に受け入れ
るめっき物の枚数と対応する枚数で且つ各々が横長略垂
直状態で用意されているアノードと、そして、各めっき
物の搬送に伴い全アノードを同時にめっき液中で上昇或
いは下降させて二枚のアノードの間に一枚のめっき物を
挟むようにしてめっき物のめっき面にアノードを対面位
置決めさせるアノードの上下動手段とを備え、 取り出し装置は、めっき装置の出側に搬出されるめっき
物を水平状態で常に一定高さ位置にて受け取り複数枚積
載するエレベータと、エレベータ上に積載された複数枚
のめっき物が所定枚数になるとエレベータ上から他の位
置へ移送するシフト装置と、一対で並行に配置され各々
同期して下方より上方へと循環するエンドレス体間に受
け棚状のバーを設け、他の位置にあるシフト装置上の所
定枚数のめっき物を下からすくい上げ上方へと移送する
リフトとを備え、 ラックの後処理装置は、めっき装置のオーブン装置上方
に配置され、めっき物をオーブン装置へ受け渡した後の
空のラックを逐次受入れ、ラックに付着しているめっき
を剥離処理してからラックを復帰装置へ委ねるものであ
り、 そして、ラックの復帰装置は、めっき物の搬送ライン上
方にあって一対並行に配されその対応位置にラックの両
端持ち上げ用の複数のフックを有するエンドレス体に
て、スタート部ではラックをめっき物の供給装置へ渡し
そしてラックの後処理装置を経た空のラックを受入れて
逐次元のスタート部へと復帰移送するものである、めっ
きシステム。1. A plating product supply device, a plating product transport device, a plating device, a take-out device, a rack post-treatment device,
The entire rack is composed of a rack return device.The plated material supply device picks up one strip-shaped plated material that has been placed horizontally in advance and picks it up to the start part of the plated material transport line to transfer the plated material. Open the space between the pick-up and transport means to drop the product horizontally and the fixed and movable arms arranged on the rod to receive and close the plated product in a horizontal state, hold the plated product and rotate it around its rod by its own weight. It is equipped with a rack that can energize and holds the plated product in a vertically long, substantially vertical shape.The plated product transport device is equipped with a pair of parallel girders that support both ends of the rod of the rack. Combining pressure cylinders to move up / down / down /
By drawing a quadrilateral trajectory called return / reverse, a tact system is used to convey multiple racks that are sequentially received at the same intervals by ascending, advancing, and descending motions. Plate contact Horizontally long processing tank for receiving a plurality of plating products held in a substantially vertical shape in the plating solution at the same interval, and at least the number of plating products corresponding to the number of plating products received in this processing tank The plating surface of the plated object is prepared by raising and lowering all the anodes in the plating solution at the same time as the anode prepared in 1. And a vertical moving means for the anode to position the anode face-to-face, and the take-out device keeps the plated product carried to the exit side of the plating device in a horizontal state at a constant height. An elevator that receives a plurality of loaded sheets at a position and a shift device that transfers a plurality of plated products loaded on the elevator from the elevator to another position when the number of plated products reaches a predetermined number, are arranged in parallel in pairs, and are synchronized with each other. A rack-like bar is provided between the endless bodies that circulate from the bottom to the top, and a lift that scoops up a predetermined number of plated products on the shift device at another position from below to transfer them upward is provided. The processing equipment is located above the oven equipment of the plating equipment, and successively receives empty racks after the plated products are transferred to the oven equipment, removes the plating adhered to the racks, and then leaves the racks to the restoration equipment. The rack return device is provided above the transport line of the plated product in parallel, and a plurality of rack return devices are provided at the corresponding positions for lifting both ends of the rack. In the endless body with a rack, the rack is passed to the plating material supply device at the start part, and the empty rack that has passed through the post-treatment device of the rack is accepted and sequentially returned to the original start part and transferred. system.