JPH06122669A - ジアミノベンゼン誘導体を含有するホスホリパーゼa2阻害剤 - Google Patents

ジアミノベンゼン誘導体を含有するホスホリパーゼa2阻害剤

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JPH06122669A
JPH06122669A JP36199692A JP36199692A JPH06122669A JP H06122669 A JPH06122669 A JP H06122669A JP 36199692 A JP36199692 A JP 36199692A JP 36199692 A JP36199692 A JP 36199692A JP H06122669 A JPH06122669 A JP H06122669A
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JP36199692A
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Itaru Shigehara
格 重原
Shinji Odawara
新二 小田原
Shunji Yuki
俊次 湯木
Hirohiko Kimura
博彦 木村
Takashi Kume
隆志 久米
Hitoshi Nakayama
仁志 中山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Original Assignee
Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 ホスホリパーゼA阻害剤、抗炎症剤及び抗
膵炎剤として有用なジアミノベンゼン誘導体又はその塩
を提供する。 【構成】 [上式中、例えばX:CSNHCOOC,Y:S
CH,(Z):5−CF]で表わされるジア
ミノベンゼン誘導体又はその塩、それらの製造方法、そ
れらを含有するホスホリパーゼA阻害剤、抗炎症剤及
び抗膵炎剤並びに中間体としてのジアミノベンゼン誘導
体である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ジアミノベンゼン誘導
体を含有するホスホリパーゼA阻害剤に関する。
【0002】
【従来の技術】既存の医薬の中でホスホリパーゼA
害活性を主たる作用とするものは余り知られていない。
ジアミノベンゼン誘導体としては、USP3,920,
444号明細書に2−アセトアミド−4−トリフルオロ
メチルトリフルオロメタンスルホンアニリド及び2−ア
セトアミド−4−メトキシトリフルオロメタンスルホン
アニリドが記載されている。しかしながら、それらの化
合物は除草剤の活性成分であり、また化学構造が異な
る。J.Med.Chem. 6(5)599〜601
頁(1963年)には1,2−ジクロロベンゼン誘導体
が記載されている。しかしながら、そこにはホスホリパ
ーゼA阻害活性について何ら記載されていない。本発
明者らは、先に、ジアミノトリフルオロメチルピリジン
誘導体にホスホリパーゼA阻害活性を見出し、特願平
3−264235号として特許出願を行った。本発明者
らが更に検討を重ねた結果、意外にも、ジアミノベンゼ
ン誘導体についてホスホリパーゼA阻害活性を有する
との知見を得、本発明を完成した。
【0003】
【発明の開示】本発明は、一般式(I)
【化12】 〔式中、Xは−CW基、−COCOR基、−C
NHCOR基、−C(=W)W基、−C
N(R)R基又は−SO基であり、Yは
水素原子、置換されてもよいアルキル基、−CW
基、−COCOR基、−CWNHCOR基、−N
HCOR基、−C(=W)W基、−(NH)
SO基、−(NH)SOOR10基又は−
(NH)SON(R11)R12基であり、R
及びRは各々独立して、置換されてもよい鎖式炭
化水素基、置換されてもよい単環式炭化水素基、置換さ
れてもよい多環式炭化水素基、置換されてもよい単環式
複素環基又は置換されてもよい多環式複素環基であり、
及びRは各々独立して、置換されてもよいアルキ
ル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよ
いフェニル基又は置換されてもよいフェノキシ基であ
り、R、R及びR10は各々独立して、置換されて
もよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置
換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロ
アルキル基、置換されてもよいフェニル基又は置換され
てもよいベンジル基であり、R、R、R11及びR
12は各々独立して、置換されてもよいアルキル基であ
り、W、W、W及びWは各々独立して、酸素原
子又は硫黄原子であり、mは0又は1であり、Zはトリ
フルオロメチル基、ハロゲン原子、アルコキシ基又はア
ルコキシカルボニル基であり、nは1〜4の整数であ
り、nが2〜4の整数のとき複数のZは同じであっても
異なってもよい〕で表わされるジアミノベンゼン誘導体
又はその塩を含有するホスホリパーゼA阻害剤に関す
る。
【0004】一般式(I)中、R、R及びRに含
まれる前記鎖式炭化水素基としてはアルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基などが挙げられ、前記単環式炭化
水素基としてはシクロアルキル基、シクロアルケニル
基、フェニル基などが挙げられ、前記多環式炭化水素基
としては、ナフチル基、テトラヒドロナフチル基、イン
ダニル基のような縮合型多環式炭化水素基又はアダマン
チル基、ノルアダマンチル基、ノルボルナニル基、ノル
ボルナノニル基のような架橋型多環式炭化水素基が挙げ
られ、前記単環式複素環基としてはピロリル基、フラニ
ル基、チエニル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オ
キサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イ
ソチアゾリル基、チアジアゾリル基、ピロリニル基、ピ
ロリジニル基、ジヒドロフラニル基、テトラヒドロフラ
ニル基、ジヒドロチエニル基、テトラヒドロチエニル
基、ピラゾリニル基、ヒダントイニル基、オキサゾリニ
ル基、イソオキサゾリニル基、イソオキサゾリジニル
基、チアゾリニル基、チアゾリジニル基、ジオキソラニ
ル基、ジチオラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、
ピリミジニル基、ピラジニル基、ジヒドロピリジル基、
テトラヒドロピリジル基、ピペリジニル基、ジヒドロオ
キソピリダジニル基、テトラヒドロオキソピリダジニル
基、ジヒドロオキソピリミジニル基、テトラヒドロオキ
ソピリミジニル基、ピペラジニル基、ジヒドロピラニル
基、テトラヒドロピラニル基、ジオキサニル基、ジヒド
ロジチイニル基、ジチアニル基、モルホリニル基などが
挙げられ、前記多環式複素環基としては、チエノチエニ
ル基、ジヒドロシクロペンタチエニル基、インドリル
基、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、ベンズオキ
サゾリル基、ベンズイソオキサゾリル基、ベンゾチアゾ
リル基、ベンズイミダゾリル基、テトラヒドロベンゾチ
エニル基、ジヒドロベンゾフラニル基、テトラヒドロベ
ンズイソオキソゾリル基、ベンゾジオキソリル基、キノ
リニル基、イソキノリニル基、ベンゾジオキサニル基、
キノキサリニル基のような縮合型多環式複素環基又はキ
ヌクリジニル基のような架橋型多環式複素環基が挙げら
れる。
【0005】Yに含まれる置換されてもよいアルキル
基、R、R及びRに含まれる置換されてもよい鎖
式炭化水素基、R及びRに含まれる置換されてもよ
いアルキル基及び置換されてもよいアルコキシ基、
、R及びR10に含まれる置換されてもよいアル
キル基、置換されてもよいアルケニル基及び置換されて
もよいアルキニル基並びにR、R、R11及びR
12に含まれる置換されてもよいアルキル基の置換基と
してはハロゲン原子、アルコキシ基、ハロアルコキシ
基、アルキルチオ基、シクロアルキル基、シクロアルコ
キシ基、シクロアルケニル基、シクロアルケニルオキシ
基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、アルキ
ルカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリー
ル基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アミノ基、
アルキル基で置換されたアミノ基などが挙げられ、それ
らの置換基又はそれらの置換基に付随する置換基の数は
1ケであっても2ケ以上であってもよく、2ケ以上の場
合それらの置換基は同一であっても異なってもよい。
【0006】また、R、R及びRに含まれる置換
されてもよい単環式炭化水素基、置換されてもよい多環
式炭化水素基、置換されてもよい単環式複素環基及び置
換されてもよい多環式複素環基、R及びRに含まれ
る置換されてもよいフェニル基及び置換されてもよいフ
ェノキシ基、R、R及びR10に含まれる置換され
てもよいシクロアルキル基、置換されてもよいフェニル
基及び置換されてもよいベンジル基の置換基としてはハ
ロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ
基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキ
ル基、シクロアルコキシ基、シクロアルケニル基、シク
ロアルケニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、カル
ボキシル基、アルキルカルボニル基、アルキルカルボニ
ルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリール
チオ基、アミノ基、アルキル基で置換されたアミノ基、
シアノ基、ニトロ基などが挙げられ、それら置換基又は
それらの置換基に付随する置換基の数は1ケであっても
2ケ以上であってもよく、2ケ以上の場合それらの置換
基は同一であっても異なってもよい。
【0007】一般式(I)中、X、Y及びZに含まれる
アルキル基並びにアルキル部分としては、炭素数1〜1
8のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチ
ル基、デシル基、ノナデシル基などが挙げられ、それら
は直鎖又は枝分れ脂肪鎖の構造異性のものも含む。X及
びYに含まれるアルケニル基並びにアルケニル部分とし
ては、炭素数が2〜18のもの、例えばビニル基、プロ
ペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、
デセニル基、ノナデセニル基などが挙げられ、またそれ
らは直鎖又は枝分れ脂肪鎖の構造異性のものも含む。X
及びYに含まれるアルキニル基並びにアルキニル部分と
しては、炭素数が2〜18のもの、例えばエチニル基、
プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル
基、デシニル基、ノナデシニル基などが挙げられ、また
それらは直鎖又は枝分れ脂肪鎖の構造異性のものも含
む。X及びYに含まれるシクロアルキル基並びにシクロ
アルキル部分としては、炭素数3〜8のもの、例えば、
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基などが挙げら
れる。X及びYに含まれるシクロアルケニル基並びにシ
クロアルケニル部分しては、炭素数5〜8のもの、例え
ば、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロ
オクテニル基などが挙げられる。更にX、Y及びZに含
まれるハロゲン原子としては弗素原子、塩素原子、臭素
原子、沃素原子が挙げられる。X及びYに含まれるアリ
ール基並びにアリール部分としては、フェニル基、チエ
ニル基、フラニル基、ピリジル基、ナフチル基、ベンゾ
チエニル基、ベンゾフラニル基、キノリニル基などが挙
げられる。
【0008】一般式(I)で表わされる化合物は、X又
はYに−SO基又は−SO基を含む場合、
塩を形成してもよく、それらの塩としては、医薬上許容
されるものであればよく、例えば、カリウム塩、ナトリ
ウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシウム塩のような
アルカリ土類金属塩、トリエタノールアミン塩、トリス
(ヒドロキシメチル)アミノメタン塩のような有機アミ
ン塩などが挙げられる。また、これらの塩の中で結晶水
をもつものもある。一般式(I)の化合物中、次のもの
は新規である。
【0009】(1)一般式(I−1)
【化13】 (式中、R′は置換されてもよいシクロアルキル基又
は置換されてもよいシクロアルケニル基であり、R
Z及びnは前述の通りである)で表わされる化合物。
【0010】(2)一般式(I−2)
【化14】 (式中、R″及びR′は各々独立して、置換されて
もよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置
換されてもよいフェニル基、置換されてもよいナフチル
基、置換されてもよいフラニル基、置換されてもよいチ
エニル基又は置換されてもよいピリジル基であり、Z′
はトリフルオロメチル基又はハロゲン原子であり、nは
1〜4の整数であり、nが2〜4の整数であるとき複数
のZ′は同じであっても異なってもよい。但し(1)R
″がアルキル基であるときR′はパーフルオロアル
キル基でなく、(2)R″及びR′がいずれも無置
換のフェニル基であるとき(Z′)は1つの塩素原子
でない)で表わされる化合物(但し2′−ベンゼンスル
ホンアミド−4′,5′−ジクロロスクシンアニリド酸
は除く)。
【0011】一般式(I−1)中、R′で表わされる
置換されてもよいシクロアルキル基又は置換されてもよ
いシクロアルケニル基としては、前述のRで定義され
たものと同様のものが挙げられるが、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基が好まし
い。
【0012】一般式(I−2)中、R″及びR′で
表わされる置換されてもよいアルキル基、置換されても
よいアルケニル基、置換されてもよいフェニル基、置換
されてもよいナフチル基、置換されてもよいフラニル
基、置換されてもよいチエニル基又は置換されてもよい
ピリジル基としては、前述のR及びRで定義された
ものと同様のものが挙げられる。一般式(I−1)の化
合物は、例えば次の反応〔A〕又は〔B〕のような方法
で製造することができる。
【0013】反応〔A〕
【化15】 (式中、R′、R、Z及びnは前述の通りであり、
Halはハロゲン原子である)
【0014】反応〔B〕
【化16】 (式中、R′、R、Z、n及びHalは前述の通り
である) 前記反応〔A〕及び〔B〕は通常溶媒の存在下、必要に
より塩基を使用することにより、行なわれる。溶媒とし
ては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン
などの芳香族炭化水素類:クロロホルム、四塩化炭素、
塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、n
−ヘキサン、シクロヘキサンなどの環状又は非環状脂肪
族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラ
ヒドロフランなどのエーテル類;アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類;ア
セトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類;ジ
メチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチル
スルホキシド、スルホランなどの非プロトン性極性溶媒
などが挙げられる。塩基としては無機塩基、有機塩基の
いずれでもよく、無機塩基としては、例えば、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化
物;無水炭酸カリウム、無水炭酸カルシウムのようなア
ルカリ金属又はアルカリ土類金属の炭酸塩;水素化ナト
リウムのようなアルカリ金属水素化物;金属ナトリウム
のようなアルカリ金属などが挙げられ、また有機塩基と
してはピリジン、トリエチルアミンなどが挙げられる。
【0015】前記〔A〕の反応において、HOOC
′との反応では脱水縮合剤を存在させる必要があ
り、その脱水縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド、N,N′−カルボニルジイミダゾール、1−
エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジ
イミドなどが挙げられる。反応温度は通常−30〜+1
00℃、望ましくは0〜60℃、反応時間は通常1〜2
4時間、望ましくは1〜10時間である。一般式(I−
2)の化合物は、例えば次の反応〔C〕又は〔D〕のよ
うな方法で製造することができる。
【0016】反応〔C〕
【化17】 (式中、R″、R′、Z′、n及びHalは前述の
通りである)
【0017】反応〔D〕
【化18】 (式中、R″、R′、Z′、n及びHalは前述の
通りである) 前記反応〔C〕及び〔D〕の反応は、前記反応〔A〕及
び〔B〕と同様に行なうことができる。一般式(II−
1)、(II−2)、(III−1)又は(III−
2)で表わされる化合物は、例えば次の反応〔E〕、
〔F〕又は〔G〕のような方法で製造することができ
る。
【0018】反応〔E〕
【化19】 (式中、Y、Z及びnは前述の通りである)
【0019】反応〔F〕
【化20】 (式中、R、Z及びnは前述の通りである)
【0020】反応〔G〕
【化21】 (式中、R″は置換されてもよいアルキル基、置換さ
れてもよいアルケニル基である) 前記反応(E)のアミノ化工程は、通常溶媒の存在下、
必要により塩基を使用することにより、行なわれる。溶
媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベ
ンゼンなどの芳香族炭化水素類;クロロホルム、四塩化
炭素、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタ
ン、n−ヘキサン、シクロヘキサンなどの環状又は非環
状脂肪族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフランなどのエーテル類;アセトニトリ
ル、プロピオニトリルなどのニトリル類;ジメチルホル
ムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシ
ド、スルホランなどの非プロトン性極性溶媒などが挙げ
られる。塩基としては前記反応〔A〕及び〔B〕で用い
ることのできるものと同様のものでよい。反応温度は通
常−30〜+100℃、反応時間は通常1〜24時間で
ある。
【0021】前記反応〔E〕、〔F〕又は〔G〕の還元
工程の還元反応の方法としては、鉄或は亜鉛と共に塩酸
或は酢酸等の酸を用いる方法、水硫化ナトリウム、水硫
化カリウム、硫化ナトリウム、硫化カリウム、ハイドロ
サルファイトナトリウムを用いる方法、パラジウム触媒
或はニッケル触媒等の存在下水素を用いた接触水素添加
による方法等が挙げられる。この還元反応に使用する溶
媒は、還元方法により、任意に選択すればよく、一般的
には、メタノール、エタノール及びプロパノールなどの
アルコール類、水、酢酸、酢酸エチル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、アセトニトリルなどが挙げられる。
反応温度は通常0〜100℃、反応時間は通常1〜24
時間である。
【0022】前記反応〔F〕又は〔G〕のスルホニル化
工程は、前記反応〔A〕及び〔B〕と同様に行なうこと
ができる。前記反応〔G〕のニトロ化工程は通常溶媒の
存在下、硝酸若しくは硝酸塩と反応させることにより行
われる。硝酸塩とは、硝酸ナトリウム、硝酸カリウムな
どであり、溶媒としては、酢酸、無水酢酸、トリフルオ
ロ酢酸などが挙げられる。反応温度は通常50〜120
℃、反応時間は通常1〜10時間である。次に、一般式
(I−1)の化合物の合成例を記載する。
【0023】合成例1 N−(2−メチルスルホニルアミノ−5−トリフルオロ
メチルフェニル)シクロヘキサンカルボキサミド(化合
物No.1)の合成 (1)メタンスルホンアミド2.53gと4−クロロ−
3−ニトロ−α,α,α−トリフルオロトルエン5.0
gをジメチルスルホキシド20mlに溶解させ、さらに
無水炭酸カリウム6.13gを加えた。この混合溶液を
100℃に加熱し、4時間反応させた。反応終了後、反
応物を水200ml、エーテル100ml中へ注ぎ込
み、分液した。水層に濃塩酸を加え、pH=4に調整し
析出結晶をろ別、乾燥を行い、融点155〜156℃の
N−(2−ニトロ−4−トリフルオロメチルフェニル)
メタンスルホンアミド3.03gを得た。
【0024】(2)前記工程(1)で得られたN−(2
−ニトロ−4−トリフルオロメチルフェニル)メタンス
ルホンアミド2.5gをメタノール50ml、酢酸エチ
ル10mlの混合溶液に溶解させ、これに5%−パラジ
ウム/カーボン0.25gを加え、水素加圧下で一晩か
くはんしながら還元反応を行った。反応終了後、5%−
パラジウム/カーボンをろ別し、溶媒を減圧留去し、得
られた結晶をノルマルヘキサンで洗浄、乾燥し、融点1
28〜130℃のN−(2−アミノ−4,トリフルオロ
メチルフェニル)メタンスルホンアミド2.05gを得
た。
【0025】(3)前記工程(2)で得られたN−(2
−アミノ−4−トリフルオロメチルフェニル)メタンス
ルホンアミド0.5gをテトラヒドロフラン10mlに
溶解させ、氷冷下シクロヘキサンカルボニルクロライド
0.31gを滴下した。滴下後、1時間かくはんし、さ
らに室温で一晩反応させた。反応終了後、溶媒を減圧留
去し、酢酸エチルで抽出した。抽出層を水洗、乾燥し、
酢酸エチルを減圧留去し、得られた結晶をノルマルヘキ
サン/エーテルで洗浄し、融点147〜148℃の目的
物(化合物No.1)0.61gを得た。
【0026】合成例2 N−(4,5−ジクロロ−2−メチルスルホニルアミノ
フェニル)−シクロヘキサンカルボキサミド(化合物N
o.12)の合成 (1)4,5−ジクロロ−2−ニトロアニリン6.2g
のテトラヒドロフラン80ml溶液中へ、5℃にて粉末
水酸化カリウム4.2gを加え、続いて、メタンスルホ
ニルクロライド4.1gを20分間を要して滴下した
後、室温で一晩攪はんした。反応終了後、トルエン20
0ml、水300mlを加えて振った後、水溶物を濾別
し、水層を氷冷下35%塩酸水を用いて酸性にして、析
出した結晶を濾過、乾燥して融点162〜164℃のN
−(2−ニトロ−4,5−ジクロロフェニル)−メタン
スルホンアミド0.40gを得た。
【0027】(2)ハイドロサルファイトナトリウム
2.5gの水20ml溶液中へ氷冷下、前記工程(1)
で得たN−(2−ニトロ−4,5−ジクロロフェニル)
−メタンスルホンアミド0.35gのテトラヒドロフラ
ン5m1溶液を滴下した後、1時間室温で反応させた。
反応液に食塩を加えて飽和させ、テトラヒドロフランを
加えて抽出した。再度、飽和食塩水で洗った後、抽出層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、テトラヒド
ロフランを留去し、得られたパウダーをカラムクロマト
グラフィーに付し、展開溶媒(塩化メチレン:酢酸エチ
ル≒50:1)を用いて融点171〜174℃のN−
(2−アミノー4,5−ジクロロフェニル)−メタンス
ルホンアミド0.11gを得た。
【0028】(3)前記工程(2)で得られたN−(2
−アミノ−4,5−ジクロロフェニル)−メタンスルホ
ンアミド80mgのテトラヒドロフラン5ml溶液へ、
室温下70mgのシクロヘキサンカルボニルクロライド
を滴下した後、3時間反応させた。減圧下、テトラヒド
ロフランを留去し、得られた結晶をエーテルで洗浄、乾
燥して、融点164〜165℃の目的物(化合物No.
12)90mgを得た。
【0029】合成例3 N−(2−メチルスルホニルア
ミノ−4−トリフルオロメチルフェニル)−シクロヘキ
サンカルボキサミド(化合物No.10)の合成 (1)2−ニトロ−4−トリフルオロメチルアニリン1
0.3gのテトラヒドロフラン100ml溶液中へ、室
温下、シクロヘキサンカルボニルクロライド11.0g
を添加した後、一晩加熱還流下に反応させた。放冷後、
300mlの酢酸エチルに抽出させ、飽和食塩水で2回
洗浄した後、抽出層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、酢
酸エチルを減圧留去し、得られたパウダーをカラムクロ
マトグラフィーに付した。展開溶媒(塩化メチレン:酢
酸エチル≒2:1)を用いて、融点130〜132℃の
N−(2−ニトロ−4−トリフルオロメチルフェニル)
−シクロヘキサンカルボキサミド15.0gを得た。
【0030】(2)前記工程(1)で得られたN−(2
−ニトロ−4−トリフルオロメチルフェニル)−シクロ
ヘキサンカルボキサミド3.0gをメタノール90ml
に溶解させ、これに5%パラジウム/カーボン0.3g
を加え、水素加圧下で一晩攪はんしながら還元反応を行
った。反応終了後、5%パラジウム/カーボンを濾別
し、溶媒を減圧留去し、得られた結晶をカラムクロマト
グラフィーに付し、塩化メチレンを用いて融点210〜
210.5℃のN−(2−アミノ−4−トリフルオロメ
チルフェニル)−シクロヘキサンカルボキサミド1.0
gを得た。
【0031】(3)前記工程(2)で得られたN−(2
−アミノー4−トリフルオロメチルフェニル)−シクロ
ヘキサンカルボキサミド0.80gのテトラヒドロフラ
ン10ml溶液中へトリエチルアミン0.31gを加
え、−2℃下、メタンスルホニルクロライドを5分間を
要して滴下した。さらに氷冷下で1時間攪拌した後、酢
酸エチルで抽出し、2回水洗後、乾燥し、減圧下、酢酸
エチルを留去して得たパウダーをカラムクロマトグラフ
ィーに付した。展開溶媒(ヘキサン:塩化メチレン≒
2:1)を用いて得た結晶0.35gのうち、0.15
gの無水メタノール10ml溶液中へ、室温下水酸化カ
リウム40mgの無水メタノール20ml溶液を添加し
た後、1時間攪はんした。反応終了後、大半のメタノー
ルを減圧留去し、水100mlとトルエン30mlを加
えてよく振った。水層を分取し、氷冷下35%塩酸水を
用いて酸性にし、析出した結晶を濾過、乾燥して融点1
48.5〜150℃の目的物(化合物No.10)0.
10gを得た。
【0032】一般式(I−1)の化合物の代表的具体例
を表1及び表2に、一般式(I−2)の化合物の代表的
具体例を表3に、また、一般式(I)で表わされる化合
物であって、前記一般式(I−1)及び(I−2)に含
まれないものを表4及び表5にそれぞれ記載する。な
お、(Z)が5−CFの場合の5−はベンゼン環に
おける置換位置が5位であることを表わす。同様に3,
4,5−Fの場合はベンゼン環の3位、4位及び5位
にそれぞれ弗素原子が置換することを表わす。また、P
hはフェニル基を表わし、Phに続く( )はフェニル
基の置換基及び置換位置をそれぞれ表わす。
【0033】
【表1】
【0034】
【表2】
【0035】
【表3】
【0036】
【表4】
【0037】
【表5】
【0038】前記一般式(I)で表わされるジアミノベ
ンゼン誘導体又はその塩(以下単にジアミノベンゼン誘
導体と略称)は、ホスホリパーゼA阻害剤、抗炎症剤
又は抗膵炎剤の有効成分として有用である。ホスホリパ
ーゼAは体内の様々な組織或は細胞から検出される。
血小板や炎症細胞中でホスホリパーゼAは、刺激によ
り分泌或は活性化され、血小板活性化因子(PAF)や
アラキドン酸の代謝産物の産生に寄与すると言われてい
る。アラキドン酸の代謝産物は種々の病態、例えば、リ
ューマチ様関節炎、変形性関節炎、腱炎、滑液包炎、乾
癬及び関連する皮膚炎症のような炎症症状;アレルギー
鼻炎、アレルギー気管支喘息のような鼻・気管支気道障
害症状;アレルギー結膜炎のような即時過敏性反応など
に密接に関連していることが明らかになっている。一
方、膵臓から分泌されるホスホリパーゼAは腸内で活
性化されて消化作用を発揮するが、一旦膵内で活性化さ
れると膵炎を発症する要因の一つと考えられている。ジ
アミノベンゼン誘導体は、ホスホリパーゼAを阻害す
ることにより、前述のような炎症症状、鼻・気管支気道
障害症状、即時過敏性反応、膵炎などのホスホリパーゼ
に関連する病態の治療に有効であり、抗炎症剤、気
管支喘息治療剤、抗アレルギー剤、抗膵炎剤、抗腎炎
剤、抗多臓器障害剤などとして使用可能である。膵炎に
対する効果に関しては、ジアミノベンゼン誘導体は、蛋
白分解酵素阻害剤、例えばメシル酸ナファモスタット、
メシル酸ガベキサート、メシル酸カモスタットのような
他の薬剤と併用することでより有効となることが期待で
きる。
【0039】ジアミノベンゼン誘導体は特に抗炎症剤及
び/又は抗膵炎剤として使用されるのが望ましい。 試験例1 (ホスホリパーゼA阻害作用、A法) (1)基質の調製 卵製レシチン(和光純薬製)10mgに、グリセリン1
ml、50mMトリス−塩酸緩衝液(pH7.5)〔ト
リス(ヒドロキシメチル)アミノメタン(ナカライテス
ク(株)製)を塩酸でpH7.5に調整)2ml、15
0mM塩化カルシウム溶液(塩化カルシウムを50mM
トリス−塩酸緩衝液に溶解したもの)0.5ml及び
0.05%トリトン−X100(ナカライテスク(株)
製)溶液(トリトン−X100を50mMトリス−塩酸
緩衝液に溶解したもの)0.5mlを加え、メノウ乳鉢
にて分散させるか、超音波細胞破砕機(ヒート・システ
ムス−ウルトラソニック・インク製モデルW−225)
にて5分間(30W)分散させたものを基質とした。
【0040】(2)酵素 ブタ膵臓ホスホリパーゼA〔ベーリンガー・マンハイ
ム・山ノ内製(161454・122416)〕を用い
た。 (3)ホスホリパーゼA活性の測定 96穴カルチャープレート(平底・住友ベークライトメ
ディカル社)に、基質40μl、被検化合物10mgを
ジメチルスルホキシド500μlに溶解後そこに50m
Mトリス−塩酸緩衝液500μlを加えた溶液のうち5
μl及び20μg/mlの酵素液(酵素を50mMトリ
ス−塩酸緩衝液に希釈して調製)5μlを加え、37℃
で30分間反応を行なった。反応終了後、遊離した脂肪
酸量をACS−ACOD(アシルCoAシンテターゼ−
アシルCoAオキシターゼ)法〔NEFA C−テスト
ワコー(和光純薬製)のキットを使用〕により測定し
た。比色定量はマルチフォトメーター吸光度計(バイオ
ラド社モデル2550EIAリーダー)を用いて540
nmの波長により行なった。別途、ホスホリパーゼA
最終濃度を2μg/ml、1μg/ml及び0.5μg
/mlとした上記と同様な実験(被検化合物無添加)を
行ない、ホスホリパーゼA量に対する遊離脂肪酸量を
プロットした。被検化合物添加時の遊離脂肪酸量から検
量線に基いて見かけのホスホリパーゼA量を求め、以
下の式により、被検化合物の酵素阻害率を算出した。そ
の結果を表6に示す。 酵素阻害率(%)=〔1−(被検化合物添加時の遊離脂
肪酸量から検量線に基いて求めた見かけのホスホリパー
ゼA量/実際に添加したホスホリパーゼA量)〕×
100
【表6】
【0041】試験例2 (ホスホリパーゼA阻害作用、B法) (1)基質の調製 ジパルミトイルホスファチジルコリン(日油リボソーム
製)9.2mgをクロロホルム0.5mlで溶解したも
のに、コール酸ナトリウム(和光純薬製)32mgをメ
タノール0.5mlで溶解したものを加えて混合する。
その混合物の溶媒を窒素気流下で除去した後、250m
M塩化ナトリウム溶液〔塩化ナトリウムを100mMト
リス−塩酸緩衝液{トリス(ヒドロキシメチル)アミノ
メタン(ナカライテスク製)を塩酸でpH8.0に調
整}に溶解したもの〕2.5mlを加え、攪拌下に溶解
したものを基質とした。
【0042】(2)酵素 ブタ膵臓ホスホリパーゼA〔ベーリンガー・マンハイ
ム・山の内製(161454・122416)〕を用い
た。
【0043】(3)ホスホリパーゼA活性の測定 96穴カルチャープレートに、塩化カルシウム、牛血清
アルブミン(シグマ製)及びトリス−塩酸緩衝液(pH
8.0)を、それぞれ、25mM、4.5mg/ml及
び100mM含む溶液20μl、被検化合物10mgを
ジメチルスルホキシド500μlに溶解後、そこに20
0mMトリス−塩酸緩衝液500μlを加えた溶液のう
ち5μl及び10μg/mlの酵素液〔酵素を1mg/
ml牛血清アルブミン溶液(牛血清アルブミンを100
mMトリス−塩酸緩衝液に溶解したもの)に溶解したも
の〕5μl及び基質20μlを加え、37℃で30分間
反応を行なった。反応終了後、遊離した脂肪酸量をAC
S−ACOD(アシルCoAシンテターゼ−アシルCo
Aオキシダーゼ)法(NEFA C−テストワコー(和
光純薬製)のキットを使用〕により測定した。比色定量
はマルチフォトメーター吸光度計(バイオラド社モデル
2550EIAリーダー)を用いて540nmの波長に
より行なった。別途、ホスホリパーゼA最終濃度を1
μg/ml、0.75μg/ml、0.5μg/ml及
び0.25μg/mlとした上記と同様な実験(被検化
合物無添加)を行ない、ホスホリパーゼA量に対する
遊離脂肪酸量をプロットした。被検化合物添加時の遊離
脂肪酸量から検量線に基いて見かけのホスホリパーゼA
量を求め、以下の式により、被検化合物の酵素阻害率
を算出した。その結果を表7に示す。 酵素阻害率(%)=〔1−(被検化合物添加時の遊離脂
肪酸量から検量線に基いて求めた見かけのホスホリパー
ゼA量/実際に添加したホスホリパーゼA量)〕×
100
【0044】
【表7】
【0045】試験例3 (カラゲナン足蹠浮腫抑制作用)ウイスター系雄性ラッ
ト(体重100g前後)を用い、1群5匹とした。被検
化合物をツウィーン80〔ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノオレート(ナカライテスク(株)製)〕に混和
し、そこに蒸留水を加え、2%ツウィーン80懸濁液と
するか又は塩として水に溶解させたものを被検化合物が
25mg/kgとなるように経口投与した。1時間後、
生理食塩水に溶解した1%λ−カラゲナン溶液0.1m
lをラットの右後肢足蹠皮下に注射し、起炎した。3時
間後、足蹠容積測定装置(ウゴバシレ社製)を用いて足
蹠容積を測定し、起炎前値との差から求めた腫脹容積か
ら下記式により抑制率を算出し、表8の結果を得た。
【0046】抑制率(%)=〔1−(被検化合物投与群
平均腫脹容積/対照群平均腫脹容積)〕×100
【0047】
【表8】
【0048】試験例4 (急性毒性) 投与ルート・経口 ddy系雄性マウス(体重25〜30g)を用い、1群
5匹とした。被検化合物をNa塩として、生理食塩水或
いは5%グルコース水溶液に溶かし、0.1ml/10
g体重の割合で経口投与を行った。投与後1週間にわた
り、死亡数/試験数を求め50%致死量LD50(mg
/kg)を推定し、表9の結果を得た。
【0049】
【表9】
【0050】試験例5 (急性膵炎に対する効果)Crj−CD系雄性ラットを
用い、1群3匹とした。ラットに全身吸入麻酔器(モデ
ルEM−2及びフローセン専用気化器F型)を使用し
て、ハロタン(ヘキストジャパン(株)製)および亜酸
化窒素(住友精化(株)製)麻酔下で、十二指腸盲管法
に従って手術し、急性膵炎モデルを作成した。各薬剤
(Na塩に変換して試験に供した)は0.4ml/10
0g〜0.6ml/100gの割合で尾静脈内に、毎分
0.05mlの速度でポンプ(テクニコンAAIIプロ
ポーショニングポンプIII、日本テクニコン(株)
製)を使用して連続投与するかあるいは急速に投与し
た。非投与のものを対照群とし、化合物投与群は手術終
了6時間後に病理解剖学的検査を実施した。膵臓病変中
の点状出血病変、斑状出血病変、膵実質壊死及び腹腔内
脂肪系組織壊死の四項目について、それぞれの病変の程
度及び範囲に応じて0、0.5、1、2、3の5段階
(重篤なものを3とする)に点数化した。全項目の総和
を膵炎病変点数とした。下記の計算式により膵炎抑制率
(%)を求め、表10の結果を得た。
【0051】膵炎抑制率(%)=〔1−(被検化合物投
与群の膵炎病変点数/対照群の膵炎病変点数)〕×10
【0052】
【表10】
【0053】ジアミノベンゼン誘導体を前記ホスホリパ
ーゼAに関連する病態の治療のために投与する場合
は、単独或は薬理的に許容される担体などと混合して、
経口的又は非経口的な使用に適した製剤組成物、例え
ば、錠剤、粉末包装剤、カプセル剤、顆粒剤、注射剤、
軟膏、吸入剤、坐剤等の形態で投与される。経口的使用
に適した製剤としては例えば錠剤、カプセル剤、粉末
剤、顆粒剤、トローチのような固型組成物;シロップ懸
濁液のような液状組成物等が挙げられる。錠剤、カプセ
ル剤、粉末剤、顆粒剤、トローチのような固型組成物
は、微結晶セルロース、アラビアゴム、トラガントゴ
ム、ゼラチン、ポリビニルピロリドンのようなバインダ
ー;澱粉、乳糖、カルボキシメチルセルロースのような
賦形剤;アルギン酸、コーンスターチ、カルボキシメチ
ルセルロースのような崩壊剤;ステアリン酸マグネシウ
ム、軽質無水珪酸、コロイド2酸化ケイ素のような潤滑
剤;スクロースのような甘味剤;ペパーミント、サリチ
ル酸メチルのようなフレーバー剤などを含有できる。シ
ロップ、懸濁液のような液状組成物は、ソルビトール、
ゼラチン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロ
ース、落花生油のような植物油、レシチンのような乳化
剤、その他必要があれば、甘味剤、保存剤、着色剤及び
フレーバー剤などを含有でき、これらは、乾燥製剤とし
ても提供できる。これらの製剤は、有効成分化合物を1
〜95重量%含むことが望ましい。
【0054】非経口的使用に適した製剤としては、例え
ば、注射剤等が挙げられる。注射剤としては、たとえば
塩の形で通常の注射用水などに溶かしてもよいし、懸濁
液又エマルジョン(医薬上許容しうる油又は液体の混合
物中)の注射しうる形にすることができる。この場合、
抗菌剤のベンジルアルコールなど、抗酸化剤のアスコル
ビン酸など、医薬上許容される緩衝液又は浸透圧調節の
ための試薬を含有してもよい。この注射剤は有効成分化
合物を0.1〜8重量%含むことが望ましい。局所的又
は経直腸的使用に適した製剤としては例えば吸入剤、軟
膏、坐剤等が挙げられる。吸入剤としては、ジアミノベ
ンゼン誘導体自体又は医薬上許容される不活性担体とと
もにエアゾル又はネプライザー用の溶液に溶解させるか
或は吸入用微粉末として、呼吸器管へ投与できる。吸入
用微粉末の場合、粒子は50ミクロン以下、好ましくは
10ミクロン以下である。またこれら吸入剤として使用
する場合、必要があれば他の抗喘息剤又は気管支拡張剤
と併用することも可能である。
【0055】軟膏は通常使用される基剤等を添加し、慣
用の方法により調製される。軟膏は有効成分化合物を
0.1〜30重量%含むことが望ましい。坐剤は、当業
界において周知の製剤用担体、例えばポリエチレングリ
コール、ラノリン、カカオ脂、脂肪酸トリグリセライド
等を含有してもよい。坐剤は、有効成分化合物を1〜9
5重量%含むことが望ましい。前記経口的、非経口的、
局所的又は経直腸的な使用に適した製剤組成物は、公知
の方法により、患者に投与後、活性成分が急速に放出さ
れるように、徐放的に放出されるように、或は遅れて放
出されるように製剤化することができる。
【0056】ジアミノベンゼン誘導体の投与量は化合物
の種類、投与方法、患者又は被処理動物の状況などに応
じて変わることは勿論であり、一定の条件の下における
適量と投与回数は専門医の判断によって決定されなけれ
ばならないが、成人1日当たり、約0.01g〜約10
g、好ましくは約0.05g〜約5gを投与するのが通
常であろう。また前記吸入法における1回当たりのジア
ミノベンゼン誘導体の投与量は、約0.01mg〜約1
00mgが望ましい。次に本発明のホスホリパーゼA
阻害剤、抗炎症剤又は抗膵炎剤の具体的製剤例を挙げ
る。
【0057】 製剤例1(錠剤) (1)化合物No.1 200mg (2)乳糖 150mg (3)デンプン 30mg (4)ステアリン酸マグネシウム 6mg 以上(1)〜(4)の成分を1錠として、錠剤に成型す
る。
【0058】 製剤例2(散剤・細粒剤) (1)化合物No.1 200mg (2)シュガーエステル(第一工業:DKエステルF−160)180mg (3)界面活性剤(日光ケミカルズ:デカグリーンI−L) 15mg (4)軽質無水珪酸 25mg
【0059】上記(1)を上記(3)が5%となる水溶
液中で湿式粉砕し、その後上記(2)を180mg添加
し、これを凍結乾燥にて乾燥する。乾燥したものを粉砕
し、上記(4)と混和する。以上を散剤或は細粒剤とす
る。またこれらをカプセルに封入し、カプセル剤とする
ことも可能である。
【0060】 製剤例3(硬ゼラチンカプセル剤) (1)化合物No.65 Na塩 250mg (2)デンプン 200mg (3)ステアリン酸マグネシウム 10mg 以上(1)〜(3)の成分を、1錠として硬ゼラチンカ
プセルにつめ、硬ゼラチンカプセル剤とする。
【0061】 製剤例4(注射剤) (1)化合物No.65 Na塩 1g (2)ブドウ糖 10g (3)注射用蒸留水 200ml 以上(1)〜(3)の成分を、注射剤の調製法に従って
注射剤とする。
【0062】 製剤例5(皮膚用外用軟膏剤) (1)化合物No.65 Na塩 5g (2)白色ワセリン 25g (3)ステアリンアルコール 22g (4)プロピレングリコール 12g (5)ラウリン硫酸ナトリウム 1.5g (6)パラオキシ安息香酸エチル 0.025 (7)パラオキシ安息香酸プロピル 0.015g (8)精製水 100g 以上(1)〜(8)の成分を軟膏の一般的調製法により
調製し、皮膚用外用軟膏を得る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 311/11 7419−4H 311/14 7419−4H 311/21 7419−4H (72)発明者 木村 博彦 滋賀県草津市西渋川二丁目3番1号 石原 産業株式会社中央研究所内 (72)発明者 久米 隆志 滋賀県草津市西渋川二丁目3番1号 石原 産業株式会社中央研究所内 (72)発明者 中山 仁志 滋賀県草津市西渋川二丁目3番1号 石原 産業株式会社中央研究所内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 〔式中、Xは−CW基、−COCOR基、−C
    NHCOR基、−C(=W)W基、−C
    N(R)R基又は−SO基であり、Yは
    水素原子、置換されてもよいアルキル基、−CW
    基、−COCOR基、−CWNHCOR基、−N
    HCOR基、−C(=W)W基、−(NH)
    SO基、−(NH)SOOR10基又は−
    (NH)SON(R11)R12基であり、R
    及びRは各々独立して、置換されてもよい鎖式炭
    化水素基、置換されてもよい単環式炭化水素基、置換さ
    れてもよい多環式炭化水素基、置換されてもよい単環式
    複素環基又は置換されてもよい多環式複素環基であり、
    及びRは各々独立して、置換されてもよいアルキ
    ル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよ
    いフェニル基又は置換されてもよいフェノキシ基であ
    り、R、R及びR10は各々独立して、置換されて
    もよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置
    換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロ
    アルキル基、置換されてもよいフェニル基又は置換され
    てもよいベンジル基であり、R、R、R11及びR
    12は各々独立して、置換されてもよいアルキル基であ
    り、W、W、W及びWは各々独立して、酸素原
    子又は硫黄原子であり、mは0又は1であり、Zはトリ
    フルオロメチル基、ハロゲン原子、アルコキシ基又はア
    ルコキシカルボニル基であり、nは1〜4の整数であ
    り、nが2〜4の整数のとき複数のZは同じであっても
    異なってもよい〕で表わされるジアミノベンゼン誘導体
    又はその塩を含有することを特徴とするホスホリパーゼ
    阻害剤。
  2. 【請求項2】 一般式(I−1) 【化2】 (式中、R′は置換されてもよいシクロアルキル基又
    は置換されてもよいシクロアルケニル基であり、R
    置換されてもよい鎖式炭化水素基、置換されてもよい単
    環式炭化水素基、置換されてもよい多環式炭化水素基、
    置換されてもよい単環式複素環基又は置換されてもよい
    多環式複素環基であり、Zはトリフルオロメチル基、ハ
    ロゲン原子、アルコキシ基又はアルコキシカルボニル基
    であり、nは1〜4の整数であり、nが2〜4の整数の
    とき複数のZは同じであっても異なってもよい〕で表わ
    されるジアミノベンゼン誘導体又はその塩。
  3. 【請求項3】 一般式(I−2) 【化3】 (式中、R″及びR′は各々独立して、置換されて
    もよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置
    換されてもよいフェニル基、置換されてもよいナフチル
    基、置換されてもよいフラニル基、置換されてもよいチ
    エニル基又は置換されてもよいピリジル基であり、Z′
    はトリフルオロメチル基又はハロゲン原子であり、nは
    1〜4の整数であり、nが2〜4の整数であるとき複数
    のZ′は同じであっても異なってもよい。但し(1)R
    ″がアルキル基であるときR′はパーフルオロアル
    キル基でなく、(2)R″及びR′がいずれも無置
    換のフェニル基であるとき(Z′)は1つの塩素原子
    でない)で表わされるジアミノベンゼン誘導体又はその
    塩(但し2′−ベンゼンスルホンアミド−4′,5′−
    ジクロロスクシンアニリド酸は除く)。
  4. 【請求項4】 一般式(I−1) 【化4】 (式中、R′は置換されてもよいシクロアルキル基又
    は置換されてもよいシクロアルケニル基であり、R
    置換されてもよい鎖式炭化水素基、置換されてもよい単
    環式炭化水素基、置換されてもよい多環式炭化水素基、
    置換されてもよい単環式複素環基又は置換されてもよい
    多環式複素環基であり、Zはトリフルオロメチル基、ハ
    ロゲン原子、アルコキシ基又はアルコキシカルボニル基
    であり、nは1〜4の整数であり、nが2〜4の整数の
    とき複数のZは同じであっても異なってもよい〕で表わ
    されるジアミノベンゼン誘導体又はその塩を製造する方
    法であって、一般式(II−1) 【化5】 (式中、R、Z及びnは前述の通りである)で表わさ
    れる化合物と一般式R′CO−Hal(式中、R
    は前述の通りであり、Halはハロゲン原子である)で
    表わされる化合物、一般式R′COOH(式中、
    ′は前述の通りである)で表わされる化合物又は一
    般式(R′CO)O(式中、R′は前述の通りで
    ある)で表わされる化合物とを反応させることを特徴と
    する前記ジアミノベンゼン誘導体又はその塩の製造方
    法。
  5. 【請求項5】 一般式(I−1) 【化6】 (式中、R′は置換されてもよいシクロアルキル基又
    は置換されてもよいシクロアルケニル基であり、R
    置換されてもよい鎖式炭化水素基、置換されてもよい単
    環式炭化水素基、置換されてもよい多環式炭化水素基、
    置換されてもよい単環式複素環基又は置換されてもよい
    多環式複素環基であり、Zはトリフルオロメチル基、ハ
    ロゲン原子、アルコキシ基又はアルコキシカルボニル基
    であり、nは1〜4の整数であり、nが2〜4の整数の
    とき複数のZは同じであっても異なってもよい〕で表わ
    されるジアミノベンゼン誘導体又はその塩を製造する方
    法であって、一般式(III−1) 【化7】 (式中、R′、Z及びnは前述の通りである)で表わ
    される化合物と一般式RSO−Hal(式中、R
    は前述の通りであり、Halはハロゲン原子である)で
    表わされる化合物とを反応させることを特徴とする前記
    ジアミノベンゼン誘導体又はその塩の製造方法。
  6. 【請求項6】 一般式(I−2) 【化8】 (式中、R″及びR′は各々独立して、置換されて
    もよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置
    換されてもよいフェニル基、置換されてもよいナフチル
    基、置換されてもよいフラニル基、置換されてもよいチ
    エニル基又は置換されてもよいピリジル基であり、Z′
    はトリフルオロメチル基又はハロゲン原子であり、nは
    1〜4の整数であり、nが2〜4の整数であるとき複数
    のZ′は同じであっても異なってもよい。但し(1)R
    ″がアルキル基であるときR′はパーフルオロアル
    キル基でなく、(2)R″及びR′がいずれも無置
    換のフェニル基であるとき(Z′)は1つの塩素原子
    でない)で表わされるジアミノベンゼン誘導体又はその
    塩(但し2′−ベンゼンスルホンアミド−4′,5′−
    ジクロロスクシンアニリド酸は除く)を製造する方法で
    あって、一般式(II−2) 【化9】 (式中、R′、Z′及びnは前述の通りである)で表
    わされる化合物と一般式R″CO−Hal(式中、R
    ″は前述の通りであり、Halはハロゲン原子であ
    る)で表わされる化合物、一般式R″COOH(式
    中、R″は前述の通りである)で表わされる化合物又
    は一般式(R″CO)O(式中、R″は前述の通
    りである)で表わされる化合物とを反応させることを特
    徴とする前記ジアミノベンゼン誘導体又はその塩の製造
    方法。
  7. 【請求項7】 一般式(I−2) 【化10】 (式中、R″及びR′は各々独立して、置換されて
    もよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置
    換されてもよいフェニル基、置換されてもよいナフチル
    基、置換されてもよいフラニル基、置換されてもよいチ
    エニル基又は置換されてもよいピリジル基であり、Z′
    はトリフルオロメチル基又はハロゲン原子であり、nは
    1〜4の整数であり、nが2〜4の整数であるとき複数
    のZ′は同じであっても異なってもよい。但し(1)R
    ″がアルキル基であるときR′はパーフルオロアル
    キル基でなく、(2)R″及びR′がいずれも無置
    換のフェニル基であるとき(Z′)は1つの塩素原子
    でない)で表わされるジアミノベンゼン誘導体又はその
    塩(但し2′−ベンゼンスルホンアミド−4′,5′−
    ジクロロスクシンアニリド酸は除く)を製造する方法で
    あって、一般式(III−2) 【化11】 (式中、R″、Z′及びnは前述の通りである)で表
    わされる化合物と一般式R′SO−Hal(式中、
    ′は前述の通りであり、Halはハロゲン原子であ
    る)で表わされる化合物とを反応させることを特徴とす
    る前記ジアミノベンゼン誘導体又はその塩の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6498183B1 (en) 1999-04-30 2002-12-24 Bayer Aktiengesellschaft Substituted indole sulfonamides as anitviral agents
JP5443975B2 (ja) * 2007-04-27 2014-03-19 富山化学工業株式会社 新規なスルホンアミド誘導体またはその塩
US10662199B2 (en) 2011-04-28 2020-05-26 The Broad Institute, Inc. Inhibitors of histone deacetylase
US10793538B2 (en) 2012-12-20 2020-10-06 The Broad Institute, Inc. Cycloalkenyl hydroxamic acid derivatives and their use as histone deacetylase inhibitors
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