JPH06120195A - 化学反応装置とその反応制御方法、薬液廃棄方法、および薬液供給方法 - Google Patents
化学反応装置とその反応制御方法、薬液廃棄方法、および薬液供給方法Info
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- JPH06120195A JPH06120195A JP26850092A JP26850092A JPH06120195A JP H06120195 A JPH06120195 A JP H06120195A JP 26850092 A JP26850092 A JP 26850092A JP 26850092 A JP26850092 A JP 26850092A JP H06120195 A JPH06120195 A JP H06120195A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 食刻精度の低下を防止しながら、薬液の廃棄
や交換時にも生産の中断が伴わない反応装置を提供す
る。 【構成】 食刻を行う２つの反応室１−１、１−２に
は、薬液循環タンク１０−１、１０−２が、三方弁３３
−１、３３−２で接続されて、タンク１０−１、１０−
２と反応室１−１、１−２との接続状態を三方弁３３に
より適宜切り替え可能に構成されている。 【効果】 タンク１０と反応室１を２組用意し、タンク
１０−１、１０−２と反応室１−１、１−２との接続状
態を切り替え可能とすることにより、反応液の交換寿命
期間内における反応速度の低下幅が半減し、例えば食刻
反応であれば食刻精度を大幅に向上できる。
や交換時にも生産の中断が伴わない反応装置を提供す
る。 【構成】 食刻を行う２つの反応室１−１、１−２に
は、薬液循環タンク１０−１、１０−２が、三方弁３３
−１、３３−２で接続されて、タンク１０−１、１０−
２と反応室１−１、１−２との接続状態を三方弁３３に
より適宜切り替え可能に構成されている。 【効果】 タンク１０と反応室１を２組用意し、タンク
１０−１、１０−２と反応室１−１、１−２との接続状
態を切り替え可能とすることにより、反応液の交換寿命
期間内における反応速度の低下幅が半減し、例えば食刻
反応であれば食刻精度を大幅に向上できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体集積回路、液晶デ
バイスおよびプリント基板等の一主面上に選択的に形成
される薄膜パターンの形成に用いられる化学反応装置に
関連するものである。
バイスおよびプリント基板等の一主面上に選択的に形成
される薄膜パターンの形成に用いられる化学反応装置に
関連するものである。
【０００２】
【従来の技術】周知のように半導体集積回路、液晶デバ
イスおよび高密度プリント基板等には多数回の薄膜パタ
ーンの形成が必要である。薄膜パターンを形成するため
の手段としては、上記デバイスを構成する基板の一主面
上に所定の膜厚の薄膜をスパッタ、常圧ＣＶＤ、プラズ
マＣＶＤ等の薄膜堆積装置を用いて被着形成した後、感
光性樹脂と適当な露光機を用いた写真食刻によって所望
の感光性樹脂パターンを薄膜上に選択的に形成し、前記
感光性樹脂パターンを食刻時のマスクとして適当な食刻
液または食刻ガスで不要な薄膜を選択的に除去し、さら
に感光性樹脂パターンを適当な手段で除去する、一連の
微細加工プロセスが一般的である。
イスおよび高密度プリント基板等には多数回の薄膜パタ
ーンの形成が必要である。薄膜パターンを形成するため
の手段としては、上記デバイスを構成する基板の一主面
上に所定の膜厚の薄膜をスパッタ、常圧ＣＶＤ、プラズ
マＣＶＤ等の薄膜堆積装置を用いて被着形成した後、感
光性樹脂と適当な露光機を用いた写真食刻によって所望
の感光性樹脂パターンを薄膜上に選択的に形成し、前記
感光性樹脂パターンを食刻時のマスクとして適当な食刻
液または食刻ガスで不要な薄膜を選択的に除去し、さら
に感光性樹脂パターンを適当な手段で除去する、一連の
微細加工プロセスが一般的である。
【０００３】上記微細加工プロセスの中で、写真食刻時
の現像プロセスや食刻プロセスにおいては反応液を基板
上にシャワーまたはスプレー状に吹き付けるようにして
１枚ずつ連続的に処理する製造装置が量産工場では一般
的である。
の現像プロセスや食刻プロセスにおいては反応液を基板
上にシャワーまたはスプレー状に吹き付けるようにして
１枚ずつ連続的に処理する製造装置が量産工場では一般
的である。
【０００４】図４は、このような化学反応装置の概略の
構成図を示す。食刻装置としての構成では、反応（処
理）室１、水洗室２及び乾燥室３が最低限度の構成要素
であり、処理時間が長くなる場合には反応室を２段にし
たり、処理液の水洗室への持ち出し量を低下させるため
に反応室と水洗室との間に液切り室を設ける等の設計的
手法が加味されることは公知であろう。
構成図を示す。食刻装置としての構成では、反応（処
理）室１、水洗室２及び乾燥室３が最低限度の構成要素
であり、処理時間が長くなる場合には反応室を２段にし
たり、処理液の水洗室への持ち出し量を低下させるため
に反応室と水洗室との間に液切り室を設ける等の設計的
手法が加味されることは公知であろう。
【０００５】以下に簡単に装置の構成内容を説明する
と、薬液循環ポンプ４、薬液中のダストまたはパーティ
クルを除去するためのフィルタ５、および流量調整用の
バルブ６よりなる配管系７と、液を噴射するノズル８、
反応室１、反応室底部に設けられた液回収配管９、およ
び薬液循環タンク１０とで閉ループを構成して薬液１１
を循環使用する構成が代表的である。
と、薬液循環ポンプ４、薬液中のダストまたはパーティ
クルを除去するためのフィルタ５、および流量調整用の
バルブ６よりなる配管系７と、液を噴射するノズル８、
反応室１、反応室底部に設けられた液回収配管９、およ
び薬液循環タンク１０とで閉ループを構成して薬液１１
を循環使用する構成が代表的である。
【０００６】ストップバルブ１２を有する配管系１３
は、循環タンク１０に薬液１１を供給するための薬液供
給配管であり、図示はしないが例えば別に設置された供
給タンクからＮ2 加圧で圧送によって新規な薬液が循環
タンク１０に供給される。同じくストップバルブ１４を
有する配管系１５は使用済の薬液１１を外部に廃棄する
ための薬液廃棄配管であり、図示はしないが別に設置さ
れた廃液タンク等に移し替えてから産業廃棄物として処
理する等の手続きがなされる。
は、循環タンク１０に薬液１１を供給するための薬液供
給配管であり、図示はしないが例えば別に設置された供
給タンクからＮ2 加圧で圧送によって新規な薬液が循環
タンク１０に供給される。同じくストップバルブ１４を
有する配管系１５は使用済の薬液１１を外部に廃棄する
ための薬液廃棄配管であり、図示はしないが別に設置さ
れた廃液タンク等に移し替えてから産業廃棄物として処
理する等の手続きがなされる。
【０００７】水洗室２では基板に付着している薬液を洗
い流すために一般的には適度な純度の純水が必要なの
で、流量調整用バルブ１６を有する純水供給配管１７が
設けられ、配管の先端には純水を噴射するノズル１８が
配置される。１９は基板を水洗した処理水の排水管であ
り、微量ではあるが排水中に薬液が含まれるので、通常
ば公害対策のための処理を施されてから工場排水として
廃棄される。
い流すために一般的には適度な純度の純水が必要なの
で、流量調整用バルブ１６を有する純水供給配管１７が
設けられ、配管の先端には純水を噴射するノズル１８が
配置される。１９は基板を水洗した処理水の排水管であ
り、微量ではあるが排水中に薬液が含まれるので、通常
ば公害対策のための処理を施されてから工場排水として
廃棄される。
【０００８】乾燥室３では水洗後の濡れた基板を乾燥す
るために、圧力計２０と流量調整用バルブ２１を有する
ドライエアまたは窒素ガス供給配管２２が設けられ、配
管の先端には上記乾燥ガスを基板上にシート状に噴射す
るノズル２３が配置される。２４は乾燥室３内でノズル
２３によって凝集した水を廃棄するための排水管であ
る。このように乾燥したガスを基板に吹き付けて乾燥す
る方式は、別名エアナイフとも呼ばれる。エアナイフ以
外にもＩＰＡ等の有機溶剤を用いた置換型乾燥やスピン
乾燥があるが、ここでは説明は省略する。なお、ノズル
１８および２３は基板上のみならず基板下からも噴射す
るのが効率的であり、かつ一般的である。
るために、圧力計２０と流量調整用バルブ２１を有する
ドライエアまたは窒素ガス供給配管２２が設けられ、配
管の先端には上記乾燥ガスを基板上にシート状に噴射す
るノズル２３が配置される。２４は乾燥室３内でノズル
２３によって凝集した水を廃棄するための排水管であ
る。このように乾燥したガスを基板に吹き付けて乾燥す
る方式は、別名エアナイフとも呼ばれる。エアナイフ以
外にもＩＰＡ等の有機溶剤を用いた置換型乾燥やスピン
乾燥があるが、ここでは説明は省略する。なお、ノズル
１８および２３は基板上のみならず基板下からも噴射す
るのが効率的であり、かつ一般的である。
【０００９】図５は反応室１の詳細な断面概略図であ
る。被洗浄物である基板５０は、紙面に垂直な方向に並
んだ回転ローラー２５上を、反応室１の入口側の側壁に
設けられた開口スリット２６から反応室１内に入ってい
き、薬液噴射ノズル８の下を一定の速度で通過し、反応
室１の出口側の側壁に設けられた開口スリット２７を通
過して水洗室２に入っていく搬送形態が一般的である。
２８は反応室１内の薬液ミストを排気するための排気管
であり、２９は薬液ミストが大量に装置外に持ち出され
るのを防止するフィルタまたはトラップである。ゲート
バルブ３０は薬液ミストを装置外に拡散させないため
と、反応装置近辺の大気（通常、クリーンルームで高価
な空調コストが必要）を大量に吸い込んでしまう損失を
避けるためのもので、基板の通過時のみ開閉するように
なっている。
る。被洗浄物である基板５０は、紙面に垂直な方向に並
んだ回転ローラー２５上を、反応室１の入口側の側壁に
設けられた開口スリット２６から反応室１内に入ってい
き、薬液噴射ノズル８の下を一定の速度で通過し、反応
室１の出口側の側壁に設けられた開口スリット２７を通
過して水洗室２に入っていく搬送形態が一般的である。
２８は反応室１内の薬液ミストを排気するための排気管
であり、２９は薬液ミストが大量に装置外に持ち出され
るのを防止するフィルタまたはトラップである。ゲート
バルブ３０は薬液ミストを装置外に拡散させないため
と、反応装置近辺の大気（通常、クリーンルームで高価
な空調コストが必要）を大量に吸い込んでしまう損失を
避けるためのもので、基板の通過時のみ開閉するように
なっている。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上記した反応装置にお
いては基板の処理は通常、基板の搬送速度を一定にした
時間管理によってなされる。ところが周知のように写真
食刻にしても通常の食刻にしても、基板の処理枚数が増
加していくと、図７に示したように反応速度が低下して
設定された食刻時間では食刻残りを生ずるようになる。
そこで一般的には薬液寿命の初期には多少過食刻気味と
はなるが、薬液寿命の末期においても食刻残りが生じな
いような条件設定を行い、品質管理の面からは早めに薬
液を交換するのが無難な選択であり、薬液の効率的な使
い方という観点では随分と無駄が多いという問題があっ
た。
いては基板の処理は通常、基板の搬送速度を一定にした
時間管理によってなされる。ところが周知のように写真
食刻にしても通常の食刻にしても、基板の処理枚数が増
加していくと、図７に示したように反応速度が低下して
設定された食刻時間では食刻残りを生ずるようになる。
そこで一般的には薬液寿命の初期には多少過食刻気味と
はなるが、薬液寿命の末期においても食刻残りが生じな
いような条件設定を行い、品質管理の面からは早めに薬
液を交換するのが無難な選択であり、薬液の効率的な使
い方という観点では随分と無駄が多いという問題があっ
た。
【００１１】厳しい食刻精度を要求される場合には処理
単位毎になんらかの形で、例えば基板１枚を当該ロット
より抜き取って先行処理を行い、処理時間の再設定を行
うこともあるが、通常は１日または１勤務毎に条件設定
を見直すのが量産工場における運用の実体である。しか
しながら処理条件の再設定や見直しは当然所定の評価作
業が終了するまでは生産を中断せざるを得ないし、また
コストダウンの観点から薬液寿命を余りにも長く取ろう
とすると処理時間がどんどん長くなって生産管理の観点
からはリードタイムが変動し、決して好ましいものでは
ない。
単位毎になんらかの形で、例えば基板１枚を当該ロット
より抜き取って先行処理を行い、処理時間の再設定を行
うこともあるが、通常は１日または１勤務毎に条件設定
を見直すのが量産工場における運用の実体である。しか
しながら処理条件の再設定や見直しは当然所定の評価作
業が終了するまでは生産を中断せざるを得ないし、また
コストダウンの観点から薬液寿命を余りにも長く取ろう
とすると処理時間がどんどん長くなって生産管理の観点
からはリードタイムが変動し、決して好ましいものでは
ない。
【００１２】加えて当然のことではあるが、図４に示さ
れたような構成では、薬液の廃棄時や供給時には反応装
置としての使用はできず、生産の稼働率を低下させてい
る。使用する薬液が大量の場合には薬液の廃棄や供給に
も長時間を要するようになり、稼働率の低下は無視出来
ないものとなる。
れたような構成では、薬液の廃棄時や供給時には反応装
置としての使用はできず、生産の稼働率を低下させてい
る。使用する薬液が大量の場合には薬液の廃棄や供給に
も長時間を要するようになり、稼働率の低下は無視出来
ないものとなる。
【００１３】本発明は上述した問題点に鑑みなされたも
ので、食刻精度の低下を防止しながら、薬液の廃棄や交
換時にも生産の中断が伴わない反応装置を提供せんとす
るものである。
ので、食刻精度の低下を防止しながら、薬液の廃棄や交
換時にも生産の中断が伴わない反応装置を提供せんとす
るものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明においては反応室を２分し、かつ各々の反応
室毎に薬液供給配管と薬液廃棄配管と薬液循環タンクと
薬液循環配管とを備えるとともに、薬液循環配管に切替
バルブを設けて２個の循環タンクのうち古い薬液の入っ
ている循環タンクからの薬液を先に、また新しい薬液の
入っている循環タンクからの薬液を後に基板の処理に使
用する構成としている。
め、本発明においては反応室を２分し、かつ各々の反応
室毎に薬液供給配管と薬液廃棄配管と薬液循環タンクと
薬液循環配管とを備えるとともに、薬液循環配管に切替
バルブを設けて２個の循環タンクのうち古い薬液の入っ
ている循環タンクからの薬液を先に、また新しい薬液の
入っている循環タンクからの薬液を後に基板の処理に使
用する構成としている。
【００１５】
【作用】本発明によれば新、旧２種類の薬液を用いて反
応させるために示したように、第１反応室（旧液）と第
２反応室（新液）との反応を合わせると、薬液交換寿命
期間の反応速度の低下幅が半減し、結果として食刻精度
の向上が図れる。このためには薬液交換の頻度を倍加す
る必要があるが、配管系を適当に切り替えることによっ
て一方の循環タンクで一時的ではあるが、二つの反応室
に同時に薬液を供給することが可能で、生産を中断する
事なく連続生産が容易に実現する。
応させるために示したように、第１反応室（旧液）と第
２反応室（新液）との反応を合わせると、薬液交換寿命
期間の反応速度の低下幅が半減し、結果として食刻精度
の向上が図れる。このためには薬液交換の頻度を倍加す
る必要があるが、配管系を適当に切り替えることによっ
て一方の循環タンクで一時的ではあるが、二つの反応室
に同時に薬液を供給することが可能で、生産を中断する
事なく連続生産が容易に実現する。
【００１６】
【実施例】図１に本発明の実施例装置の概略構成図を示
す。図４の従来例との差異は、１）反応室を２分したこ
と、２）反応室１−１と反応室１−２に独立して薬液が
供給出来るよう薬液循環配管系にストップバルブ３１、
３２が付加され、３）薬液回収配管系に切替バルブとし
て三方弁３３が付加されたことにある。
す。図４の従来例との差異は、１）反応室を２分したこ
と、２）反応室１−１と反応室１−２に独立して薬液が
供給出来るよう薬液循環配管系にストップバルブ３１、
３２が付加され、３）薬液回収配管系に切替バルブとし
て三方弁３３が付加されたことにある。
【００１７】以下の説明では従来例と同一の機能の部位
については同じ番号で呼称し、反応室１−１、１−２に
対応してはハイフォン１、２で区別することとする。
については同じ番号で呼称し、反応室１−１、１−２に
対応してはハイフォン１、２で区別することとする。
【００１８】二つの反応室にそれぞれ循環タンク１０、
薬液循環配管７、薬液供給配管１３及び薬液廃棄配管１
５を備えているが、本実施例装置における配管システム
の運転形態としては、弁３３の設定を操作することによ
り、図２と図３に示した二つの形態が可能であり、ここ
では前者をパラレルモード、後者をクロスモードと定義
する。
薬液循環配管７、薬液供給配管１３及び薬液廃棄配管１
５を備えているが、本実施例装置における配管システム
の運転形態としては、弁３３の設定を操作することによ
り、図２と図３に示した二つの形態が可能であり、ここ
では前者をパラレルモード、後者をクロスモードと定義
する。
【００１９】パラレルモードでは、循環タンク１０−１
内の薬液１１−１が反応室１−１に、また循環タンク１
０−２内の薬液１１−２が反応室１−２に供給されるよ
うに薬液循環系のストップバルブ３１−１と３１−２は
開かれ、同じく３２−１と３２−２は閉じられ、同時に
薬液回収配管系の切替バルブ３３−１と３３−２はそれ
ぞれ反応室１−１からの回収液は循環タンク１０−１
に、反応室１−２からの回収液はタンク１０−２に流れ
るように切り替わっている。
内の薬液１１−１が反応室１−１に、また循環タンク１
０−２内の薬液１１−２が反応室１−２に供給されるよ
うに薬液循環系のストップバルブ３１−１と３１−２は
開かれ、同じく３２−１と３２−２は閉じられ、同時に
薬液回収配管系の切替バルブ３３−１と３３−２はそれ
ぞれ反応室１−１からの回収液は循環タンク１０−１
に、反応室１−２からの回収液はタンク１０−２に流れ
るように切り替わっている。
【００２０】同様にクロスモードでは、循環タンク１０
−１内の薬液１１−１が反応室１−２に、また循環タン
ク１０−２内の薬液１１−２が反応室１−１に供給され
るように薬液循環系のストップバルブ３１−１と３１−
２は閉じられ、同じく３２−１と３２−２は開かれ、同
時に薬液回収配管系の切替バルブ３３−１と３３−２は
それぞれ反応室１−１からの回収液は循環タンク１０−
２に、反応室１−２からの回収液は循環タンク１０−１
に流れるように切り替わっている。
−１内の薬液１１−１が反応室１−２に、また循環タン
ク１０−２内の薬液１１−２が反応室１−１に供給され
るように薬液循環系のストップバルブ３１−１と３１−
２は閉じられ、同じく３２−１と３２−２は開かれ、同
時に薬液回収配管系の切替バルブ３３−１と３３−２は
それぞれ反応室１−１からの回収液は循環タンク１０−
２に、反応室１−２からの回収液は循環タンク１０−１
に流れるように切り替わっている。
【００２１】本実施例装置の運転の開始時には、当然の
事ではあるが特例として二つの薬液循環タンクには新液
が供給されて稼働が開始される。話を簡単にするため当
初は図２に示したパラレルモードで運転を開始したとす
る。従来の薬液寿命の半期の時点で循環タンク１０−１
内の薬液を廃棄して新液を供給した後、図３に示したク
ロスモードで運転を再開する。
事ではあるが特例として二つの薬液循環タンクには新液
が供給されて稼働が開始される。話を簡単にするため当
初は図２に示したパラレルモードで運転を開始したとす
る。従来の薬液寿命の半期の時点で循環タンク１０−１
内の薬液を廃棄して新液を供給した後、図３に示したク
ロスモードで運転を再開する。
【００２２】この結果、薬液タンク１０−２内の古い処
理液１１−２は反応室１−１に供給され、循環タンク１
０−１内の新しい処理液１１−１は反応室１−２に供給
される。そして次の薬液交換時には循環タンク１０−２
内の薬液を廃棄して新液を供給した後、再び図２に示し
たパラレルモードで運転を再開する。
理液１１−２は反応室１−１に供給され、循環タンク１
０−１内の新しい処理液１１−１は反応室１−２に供給
される。そして次の薬液交換時には循環タンク１０−２
内の薬液を廃棄して新液を供給した後、再び図２に示し
たパラレルモードで運転を再開する。
【００２３】この結果、循環タンク１０−１内の古い処
理液１１−１は反応室１−１に供給され循環タンク１０
−２内の新しい処理液１１−１は反応室１−２に供給さ
れる。
理液１１−１は反応室１−１に供給され循環タンク１０
−２内の新しい処理液１１−１は反応室１−２に供給さ
れる。
【００２４】このような運転形態を繰り返して実施する
ことにより、図６に示したように古い薬液と新しい薬液
とを用いて常に古い薬液から反応させるために反応速度
の低下幅は従来と比べて半減する。すなわち時間管理の
運用では食刻精度が向上していることと等価である。
ことにより、図６に示したように古い薬液と新しい薬液
とを用いて常に古い薬液から反応させるために反応速度
の低下幅は従来と比べて半減する。すなわち時間管理の
運用では食刻精度が向上していることと等価である。
【００２５】薬液の交換時は、例えば循環タンク１０−
１内の薬液を廃棄して新液を供給するのであれば、循環
系のストップバルブ３１−２、３２−２を開いて反応室
１−１と反応室１−２に循環タンク１０−２から同時に
薬液を供給し、かつ薬液回収配管の切替バルブ３３−１
を切り替えて反応室１−１からの回収薬液を循環タンク
１０−２に流すようにしておけば循環タンク１０−１は
反応に寄与する配管系から独立するので、薬液廃棄バル
ブ１４−１を開けて循環タンク１０−１内の薬液を排出
した後、薬液廃棄バルブ１４−１を閉じ、薬液供給バル
ブ１２−１を開いて新液を供給し、所定量が循環タンク
１０−１内に充填された後に薬液供給バルブ１２−１を
閉じれば良いことは容易に理解されよう。薬液の補充後
は再び循環系と薬液回収系配管のバルブを切り替えて薬
液補充前の運転モードに戻せば良い。
１内の薬液を廃棄して新液を供給するのであれば、循環
系のストップバルブ３１−２、３２−２を開いて反応室
１−１と反応室１−２に循環タンク１０−２から同時に
薬液を供給し、かつ薬液回収配管の切替バルブ３３−１
を切り替えて反応室１−１からの回収薬液を循環タンク
１０−２に流すようにしておけば循環タンク１０−１は
反応に寄与する配管系から独立するので、薬液廃棄バル
ブ１４−１を開けて循環タンク１０−１内の薬液を排出
した後、薬液廃棄バルブ１４−１を閉じ、薬液供給バル
ブ１２−１を開いて新液を供給し、所定量が循環タンク
１０−１内に充填された後に薬液供給バルブ１２−１を
閉じれば良いことは容易に理解されよう。薬液の補充後
は再び循環系と薬液回収系配管のバルブを切り替えて薬
液補充前の運転モードに戻せば良い。
【００２６】本発明の薬液交換方法をまとめると、薬液
の使用量は従来と変わらず、薬液の交換が従来の薬液寿
命の半期毎に従来の半分の薬液を二つの循環タンクに交
互に供給する事であり、薬液交換の頻度は倍加するが、
上記したように薬液交換に伴う反応装置の生産停止は回
避されているので何等の支障も無い。
の使用量は従来と変わらず、薬液の交換が従来の薬液寿
命の半期毎に従来の半分の薬液を二つの循環タンクに交
互に供給する事であり、薬液交換の頻度は倍加するが、
上記したように薬液交換に伴う反応装置の生産停止は回
避されているので何等の支障も無い。
【００２７】
【発明の効果】以上述べたように、本発明による化学反
応装置では従来の化学反応装置に比べて反応液の交換寿
命期間内における反応速度の低下幅が半減し、例えば食
刻反応であれば食刻精度の向上は著しいものがある。加
えて反応液の廃棄時や供給時にも反応装置を連続的に稼
働させることが出来る等の優れた効果が得られる。また
薬液の有効利用の観点からも、食刻精度の向上で従来の
ように早めに交換する必要もなくなり、省資源の推進も
達成されている。
応装置では従来の化学反応装置に比べて反応液の交換寿
命期間内における反応速度の低下幅が半減し、例えば食
刻反応であれば食刻精度の向上は著しいものがある。加
えて反応液の廃棄時や供給時にも反応装置を連続的に稼
働させることが出来る等の優れた効果が得られる。また
薬液の有効利用の観点からも、食刻精度の向上で従来の
ように早めに交換する必要もなくなり、省資源の推進も
達成されている。
【００２８】なお、実施例としてシャワーまたはスプレ
ー状に反応液を基板に噴射する枚葉処理の反応装置を取
り上げたが、複数枚の基板を適当な収納容器、例えばカ
セット等に収納したまま反応漕内で同時に処理するよう
なバッチ処理形態であっても本発明の有効性は損なわれ
るものでないことを補足しておく。
ー状に反応液を基板に噴射する枚葉処理の反応装置を取
り上げたが、複数枚の基板を適当な収納容器、例えばカ
セット等に収納したまま反応漕内で同時に処理するよう
なバッチ処理形態であっても本発明の有効性は損なわれ
るものでないことを補足しておく。
【図１】本発明の化学反応装置の実施例の構成図
【図２】同実施例装置をパラレルモードで運転する時の
構成図
構成図
【図３】同実施例装置をクロスモードで運転する時の概
略構成図
略構成図
【図４】従来の化学反応装置の概略構成図
【図５】反応室の詳細な構成図
【図６】本実施例装置の反応速度と処理時間との関係図
【図７】従来例における化学反応装置の反応速度と処理
時間との関係図
時間との関係図
１ 反応室 ２ 水洗室 ３ 乾燥室 ４ 循環ポンプ ５ フィルタ ６、１６、２１ 流量調整バルブ ８、１８、２３ 薬液、純水、エア用ノズル ９ 薬液回収配管 １０ 薬液薬液タンク １３ 薬液供給配管 １５ 薬液廃棄配管 １７ 純水供給配管 ２２ 乾燥ガス供給配管 ２５ 搬送ローラー ３１、３２ 薬液切り換え用ストップバルブ ３３ 回収薬液切り換えバルブ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 21/31 Ｃ
Claims (4)
- 【請求項１】薬液循環用のポンプとタンクとをそれぞれ
に有する第１と第２の反応室と、各薬液循環タンクに薬
液供給配管と薬液廃棄配管とを備え、前記タンク中の新
旧２種類の薬液のうち古い薬液を第１の反応室で、新し
い薬液を第２の反応室で使用するように薬液循環系に切
り換えバルブを有する化学反応装置。 - 【請求項２】薬液循環用のポンプとタンクとをそれぞれ
に有する第１と第２の反応室と、薬液循環タンクに薬液
供給配管と薬液廃棄配管とを備えた化学反応装置におい
て、薬液寿命の半期毎に一方の薬液循環タンク内の薬液
の廃棄と新規補充を行うと共に、古い薬液を第１の反応
室で、新しい薬液を第２の反応室で使用するように薬液
循環系のバルブを切り換える反応制御方法。 - 【請求項３】第１の薬液循環タンク内の薬液を排出する
にあたり、第２の循環タンクから第２の反応室に薬液を
供給し第２の循環タンクに回収しながら、第２の循環タ
ンクから第１の反応室にも薬液を供給し、かつ第１の反
応室内の反応後の薬液を第２の循環タンクに回収するこ
とを特徴とする薬液廃棄方法。 - 【請求項４】第１の薬液循環タンク内に新規に薬液を供
給するにあたり、第２の循環タンクから第２の反応室に
薬液を供給し第２の循環タンクに回収しながら、第２の
循環タンクから第１の反応室にも薬液を供給し、かつ第
１の反応室内の反応後の薬液を第２の循環タンクに回収
することを特徴とする薬液供給方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26850092A JP3151957B2 (ja) | 1992-10-07 | 1992-10-07 | 化学反応装置とその反応制御方法、薬液廃棄方法、および薬液供給方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26850092A JP3151957B2 (ja) | 1992-10-07 | 1992-10-07 | 化学反応装置とその反応制御方法、薬液廃棄方法、および薬液供給方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JPH06120195A true JPH06120195A (ja) | 1994-04-28 |
| JP3151957B2 JP3151957B2 (ja) | 2001-04-03 |
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ID=17459366
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP26850092A Expired - Fee Related JP3151957B2 (ja) | 1992-10-07 | 1992-10-07 | 化学反応装置とその反応制御方法、薬液廃棄方法、および薬液供給方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3151957B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10177982A (ja) * | 1996-12-18 | 1998-06-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2008034593A (ja) * | 2006-07-28 | 2008-02-14 | Tokyo Electron Ltd | 薬液処理装置及び薬液供給方法並びに薬液供給プログラム |
| JP2008135464A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Matsushita Electric Works Ltd | 配線用板の処理装置とそれを用いた処理方法 |
| KR101308398B1 (ko) * | 2006-08-31 | 2013-09-16 | 주식회사 케이씨텍 | 약액 회수장치 및 이를 이용한 약액 회수방법 |
| JP2013254556A (ja) * | 2008-09-24 | 2013-12-19 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
| CN115971145A (zh) * | 2022-12-28 | 2023-04-18 | 无锡亚电智能装备有限公司 | 一种石墨舟清洗设备及清洗方法 |
-
1992
- 1992-10-07 JP JP26850092A patent/JP3151957B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| CN115971145B (zh) * | 2022-12-28 | 2023-10-03 | 无锡亚电智能装备有限公司 | 一种石墨舟清洗设备及清洗方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3151957B2 (ja) | 2001-04-03 |
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