JPH06111372A - 光ディスク - Google Patents
光ディスクInfo
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- JPH06111372A JPH06111372A JP4256703A JP25670392A JPH06111372A JP H06111372 A JPH06111372 A JP H06111372A JP 4256703 A JP4256703 A JP 4256703A JP 25670392 A JP25670392 A JP 25670392A JP H06111372 A JPH06111372 A JP H06111372A
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- JP
- Japan
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- film
- refractive index
- light intensity
- laser beam
- equation
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/258—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of reflective layers
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 反射率が入射光強度に対して依存性の高い光
ディスクを提供する。 【構成】 順に積層された第１透過膜、反射膜及び第２
透過膜を有した光ディスクであって、反射膜は、中心光
強度Ｉｏ及び周縁部光強度Ｉｅを有しベッセル関数で示
される強度分布Ｉinのレーザビームスポットに対して数
式１の屈折率ｎIIを有する３次非線形光学材料からな
り、ｎII＝ｎ0＋ｎ2・Ｉin…（１）（式中、ｎ0は線形
屈折率、ｎ2は非線形屈折率を示す）かつ数式２の多重
反射率Ｒを有しかつ数式３の範囲の膜厚ｈ（式中、ｎI
は第１透過膜の屈折率、ｎIIIは第２透過膜の屈折率、
λは入射レーザビームの波長を示す）を有する。
ディスクを提供する。 【構成】 順に積層された第１透過膜、反射膜及び第２
透過膜を有した光ディスクであって、反射膜は、中心光
強度Ｉｏ及び周縁部光強度Ｉｅを有しベッセル関数で示
される強度分布Ｉinのレーザビームスポットに対して数
式１の屈折率ｎIIを有する３次非線形光学材料からな
り、ｎII＝ｎ0＋ｎ2・Ｉin…（１）（式中、ｎ0は線形
屈折率、ｎ2は非線形屈折率を示す）かつ数式２の多重
反射率Ｒを有しかつ数式３の範囲の膜厚ｈ（式中、ｎI
は第１透過膜の屈折率、ｎIIIは第２透過膜の屈折率、
λは入射レーザビームの波長を示す）を有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザビーム等の反射
光を利用して記録された信号の再生が行われる光ディス
クに関する。
光を利用して記録された信号の再生が行われる光ディス
クに関する。
【０００２】
【従来の技術】記録すべき信号に対応するピットを円盤
状の記録媒体の表面に記録したコンパクトディスクやビ
デオディスクから信号を再生する光ディスク再生装置に
おいては、レーザビームをピット及び非ピットに集光し
その反射光強度の増減を検出して信号を再生する。この
光ディスク再生装置の検出光学系においては、カットオ
フ空間周波数２ＮＡ／λ（ＮＡは対物レンズの開口数、
λはレーザビームの波長を示す）の限界が有り、空間分
解能をあげ記録膜面密度を上げるためには、対物レンズ
の開口数の増大及びレーザビームの短波長化が必要とさ
れている。
状の記録媒体の表面に記録したコンパクトディスクやビ
デオディスクから信号を再生する光ディスク再生装置に
おいては、レーザビームをピット及び非ピットに集光し
その反射光強度の増減を検出して信号を再生する。この
光ディスク再生装置の検出光学系においては、カットオ
フ空間周波数２ＮＡ／λ（ＮＡは対物レンズの開口数、
λはレーザビームの波長を示す）の限界が有り、空間分
解能をあげ記録膜面密度を上げるためには、対物レンズ
の開口数の増大及びレーザビームの短波長化が必要とさ
れている。
【０００３】空間分解能をあげるための光ディスク再生
装置の一例として、アポディゼーション（apodezatio
n）又は超解像（super resolution）を用いたものが提
案されている（特願平２−12625号公報）。かかるディ
スク再生装置の照射光学系は、読み取り用レーザビーム
の入射瞳中心付近の光強度を遮蔽板により減少させて光
ディスク面上にパターンのスポットを形成し、該スポッ
トの径の小なるメインローブを利用している。
装置の一例として、アポディゼーション（apodezatio
n）又は超解像（super resolution）を用いたものが提
案されている（特願平２−12625号公報）。かかるディ
スク再生装置の照射光学系は、読み取り用レーザビーム
の入射瞳中心付近の光強度を遮蔽板により減少させて光
ディスク面上にパターンのスポットを形成し、該スポッ
トの径の小なるメインローブを利用している。
【０００４】このように、光ディスクに入射するレーザ
ビームの強度分布に鑑み、より小さく有効な回折像スポ
ットをえるために、温度の増加にともなって反射率が増
加する、すなわち反射率温度依存性を示すＳｂＳｅ等の
相変化材料を用いた反射膜を有する光ディスクが提案さ
れている。
ビームの強度分布に鑑み、より小さく有効な回折像スポ
ットをえるために、温度の増加にともなって反射率が増
加する、すなわち反射率温度依存性を示すＳｂＳｅ等の
相変化材料を用いた反射膜を有する光ディスクが提案さ
れている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
光ディスクは、その読みだし繰返し特性において、レー
ザビーム照射による光学応答に伴う物質構造変化があ
り、その繰返し回数に限界が有り、その光学応答速度に
も更に速いものが望まれている。発明の目的は、反射率
が入射光強度に対して依存性の高い光ディスクを提供す
ることにある。
光ディスクは、その読みだし繰返し特性において、レー
ザビーム照射による光学応答に伴う物質構造変化があ
り、その繰返し回数に限界が有り、その光学応答速度に
も更に速いものが望まれている。発明の目的は、反射率
が入射光強度に対して依存性の高い光ディスクを提供す
ることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の光ディスクは、
順に積層された第１透過膜、反射膜及び第２透過膜を有
し、前記反射膜がレーザビーム照射による反射光の強度
変化を生ぜしめる情報記録部としてピットを担持した光
ディスクであって、前記反射膜は、中心光強度Ｉｏ及び
周縁部光強度Ｉｅを有しベッセル関数で示される強度分
布Ｉinのレーザビームスポットに対して、数式（１）で
示される屈折率ｎIIを有する３次非線形光学材料からな
り、
順に積層された第１透過膜、反射膜及び第２透過膜を有
し、前記反射膜がレーザビーム照射による反射光の強度
変化を生ぜしめる情報記録部としてピットを担持した光
ディスクであって、前記反射膜は、中心光強度Ｉｏ及び
周縁部光強度Ｉｅを有しベッセル関数で示される強度分
布Ｉinのレーザビームスポットに対して、数式（１）で
示される屈折率ｎIIを有する３次非線形光学材料からな
り、
【０００７】
【数４】ｎII＝ｎ0＋ｎ2・Ｉin ……（１） （式中、ｎ0は線形屈折率を、ｎ2は非線形屈折率を示
す） かつ、数式（２）で示される多重反射率Ｒを有し、か
つ、数式（３）で示される範囲の膜厚ｈ
す） かつ、数式（２）で示される多重反射率Ｒを有し、か
つ、数式（３）で示される範囲の膜厚ｈ
【０００８】
【数５】
【０００９】
【数６】
【００１０】（式中、ｎIは第１透過膜の屈折率を、ｎ
IIIは第２透過膜の屈折率を、λは入射レーザビームの
波長を示す）を有することを特徴とする。
IIIは第２透過膜の屈折率を、λは入射レーザビームの
波長を示す）を有することを特徴とする。
【００１１】
【作用】本発明の構成によれば、光ディスクの反射率光
強度依存性が向上する。
強度依存性が向上する。
【００１２】
【実施例】以下に本発明による実施例を図面を参照しつ
つ説明する。図１に示すように、光ディスク１１は、保
護膜１１１、反射膜１１２及び基板１１３からなり、基
板１１３に情報記録部としてピットＰが形成されてい
る。反射膜１１２は入射された光強度の増加にともなっ
て漸次反射率が増加する反射率光強度依存性を有してい
る。
つ説明する。図１に示すように、光ディスク１１は、保
護膜１１１、反射膜１１２及び基板１１３からなり、基
板１１３に情報記録部としてピットＰが形成されてい
る。反射膜１１２は入射された光強度の増加にともなっ
て漸次反射率が増加する反射率光強度依存性を有してい
る。
【００１３】この反射率光強度依存反射膜は、例えば、
図２に示す反射率光強度特性を有する。この特性は入射
光強度Ｉinの増加にともなって対数関数的に漸次反射率
Ｒが増加するものである。かかる反射膜１１２の反射材
料すなわち反射率光強度依存性を示す材料としては、ａ
-Ｓｉ，ＩｎＳｂ等の３次非線形光学材料が用いられ
る。図に示す特性は読み取り用レーザビームの光強度範
囲においては、線形な特性として扱うことができる。３
次非線形光学材料は、反射率変化が約１０％程度で応答
時間が１０-8〜１０-12秒とナノ秒オーダーで、繰返し
特性においては、フォトクロミック材料や相変化材料と
比較して光学応答に伴う物質構造変化がないので、その
繰返し回数は無限に近い程高い。
図２に示す反射率光強度特性を有する。この特性は入射
光強度Ｉinの増加にともなって対数関数的に漸次反射率
Ｒが増加するものである。かかる反射膜１１２の反射材
料すなわち反射率光強度依存性を示す材料としては、ａ
-Ｓｉ，ＩｎＳｂ等の３次非線形光学材料が用いられ
る。図に示す特性は読み取り用レーザビームの光強度範
囲においては、線形な特性として扱うことができる。３
次非線形光学材料は、反射率変化が約１０％程度で応答
時間が１０-8〜１０-12秒とナノ秒オーダーで、繰返し
特性においては、フォトクロミック材料や相変化材料と
比較して光学応答に伴う物質構造変化がないので、その
繰返し回数は無限に近い程高い。
【００１４】３次非線形光学材料からなる反射率光強度
依存を有する反射膜について詳述する。レーザビーム等
の強い電界の注入により物質中に分極が生じて、その分
極が電界に比例することを線形光学応答といい、比例関
係になく電界のべき乗に応答することを非線形光学応答
という。一般に強い電界の注入による物質の分極Ｐは以
下の数式（４）によって表わせる。
依存を有する反射膜について詳述する。レーザビーム等
の強い電界の注入により物質中に分極が生じて、その分
極が電界に比例することを線形光学応答といい、比例関
係になく電界のべき乗に応答することを非線形光学応答
という。一般に強い電界の注入による物質の分極Ｐは以
下の数式（４）によって表わせる。
【００１５】
【数７】
【００１６】線形分極は物質の等方性及び異方性を示
し、２次非線形分極は電界による屈折率変化するのでＳ
ＨＧ効果やＥＯ効果を示す。３次非線形分極は光強度に
より屈折率や吸収係数が変化し、その結果、反射率、透
過率、吸収率が変化する光カー効果を示す。３次非線形
光学材料とは３次非線形感受率の値が大きな光学材料を
いう。例えば、ａ-Ｓｉは約１０-3ｅｓｕ，ＩｎＳｂは
約１０-4ｅｓｕの３次非線形感受率を有する。
し、２次非線形分極は電界による屈折率変化するのでＳ
ＨＧ効果やＥＯ効果を示す。３次非線形分極は光強度に
より屈折率や吸収係数が変化し、その結果、反射率、透
過率、吸収率が変化する光カー効果を示す。３次非線形
光学材料とは３次非線形感受率の値が大きな光学材料を
いう。例えば、ａ-Ｓｉは約１０-3ｅｓｕ，ＩｎＳｂは
約１０-4ｅｓｕの３次非線形感受率を有する。
【００１７】３次非線形光学材料の屈折率ｎは、光強度
Ｉinのレーザビーム下で以下の数式（１）によって表わ
せる。
Ｉinのレーザビーム下で以下の数式（１）によって表わ
せる。
【００１８】
【数８】
【００１９】ここでｎ0は線形屈折率を、ｎ2は非線形屈
折率を、ｃは真空中の光速を示す。なお、非線形屈折率
ｎ2の単位はｃｍ2／Ｗである。ここで、反射膜の基板１
１３及び反射膜１１２の間の界面における反射率Ｒは数
式（５）で表わせるので、３次非線形光学材料反射膜の
反射率Ｒ1は光強度Ｉi nの関数となる。
折率を、ｃは真空中の光速を示す。なお、非線形屈折率
ｎ2の単位はｃｍ2／Ｗである。ここで、反射膜の基板１
１３及び反射膜１１２の間の界面における反射率Ｒは数
式（５）で表わせるので、３次非線形光学材料反射膜の
反射率Ｒ1は光強度Ｉi nの関数となる。
【００２０】
【数９】 Ｒ1＝｜ｎII−ｎIII｜2／｜ｎII＋ｎIII｜2 ・・・・・・（５） （式中、ｎIIIは基板１１３の屈折率、ｎIIは反射膜１
１２の屈折率を示す） よって、３次非線形光学材料からなる反射膜を用いた光
ディスクの反射率光強度特性は、図２に示した如くにな
る。
１２の屈折率を示す） よって、３次非線形光学材料からなる反射膜を用いた光
ディスクの反射率光強度特性は、図２に示した如くにな
る。
【００２１】ここで、発明者は、基板１１３及び反射膜
１１２の間の界面だけでなく反射膜１１２及び保護膜１
１１の間の界面の反射を考慮して、反射膜１１２の多重
反射、すなわち薄膜反射光の干渉、を利用すれば反射光
強度の増加が可能であることを知見した。図１に示すよ
うに、第１透過膜の保護膜１１１、反射膜１１２及び第
２透過膜の基板１１３順が積層されている場合、ｒ1を
保護膜１１１及び反射膜１１２の間の界面におけるフレ
ネルの振幅反射率、ｒ2を反射膜１１２及び基板１１３
の間の界面におけるフレネルの振幅反射率、ｎIを保護
膜１１１の屈折率、ｎIIを反射膜１１２の屈折率、ｎ
IIIを基板１１３の屈折率、ｈを反射膜の膜厚、λを入
射レーザビームの波長としたとき、この反射膜は数式
（２）で示される多重反射率Ｒを有している。
１１２の間の界面だけでなく反射膜１１２及び保護膜１
１１の間の界面の反射を考慮して、反射膜１１２の多重
反射、すなわち薄膜反射光の干渉、を利用すれば反射光
強度の増加が可能であることを知見した。図１に示すよ
うに、第１透過膜の保護膜１１１、反射膜１１２及び第
２透過膜の基板１１３順が積層されている場合、ｒ1を
保護膜１１１及び反射膜１１２の間の界面におけるフレ
ネルの振幅反射率、ｒ2を反射膜１１２及び基板１１３
の間の界面におけるフレネルの振幅反射率、ｎIを保護
膜１１１の屈折率、ｎIIを反射膜１１２の屈折率、ｎ
IIIを基板１１３の屈折率、ｈを反射膜の膜厚、λを入
射レーザビームの波長としたとき、この反射膜は数式
（２）で示される多重反射率Ｒを有している。
【００２２】
【数１０】
【００２３】このように、多重反射率Ｒは、入射レーザ
ビームスポット光強度Ｉinの関数である。したがって、
中心光強度Ｉｏ及び周縁部光強度Ｉｅを有しベッセル関
数で示されるレーザビームスポット強度分布Ｉinの微小
区間に対する多重反射率Ｒの増分を、常に正とする様に
反射膜の膜厚ｈを設定すれば、レーザビームスポットの
中でより大きい反射率の変化が得られる。すなわち、３
次非線形光学材料からなり数式（３）を満たす反射膜の
膜厚ｈを有する光ディスクであればよい。
ビームスポット光強度Ｉinの関数である。したがって、
中心光強度Ｉｏ及び周縁部光強度Ｉｅを有しベッセル関
数で示されるレーザビームスポット強度分布Ｉinの微小
区間に対する多重反射率Ｒの増分を、常に正とする様に
反射膜の膜厚ｈを設定すれば、レーザビームスポットの
中でより大きい反射率の変化が得られる。すなわち、３
次非線形光学材料からなり数式（３）を満たす反射膜の
膜厚ｈを有する光ディスクであればよい。
【００２４】
【数１１】
【００２５】このように、これらの関係を満たす範囲で
３次非線形光学材料反射膜の膜厚ｈを求めれば、スポッ
ト内での反射率変化を大きくすることが出来る。よっ
て、３次非線形光学材料からなり多重反射率Ｒを有する
反射膜を用いた光ディスクの反射率光強度特性は、例え
ば図３に示した如くになる。
３次非線形光学材料反射膜の膜厚ｈを求めれば、スポッ
ト内での反射率変化を大きくすることが出来る。よっ
て、３次非線形光学材料からなり多重反射率Ｒを有する
反射膜を用いた光ディスクの反射率光強度特性は、例え
ば図３に示した如くになる。
【００２６】
【数１２】
【００２７】の時、h/λ=0.1とすれば反射率特性は図３
の様になりスポット内での反射率変化を３０％以上にす
ることができる。比較のために、多重反射を用いない時
はＲ1＝｜r1|2で与えられ、反射率特性は図２の様にな
り、その変化量は２２％程度である。さらに、図４
（ａ）に示すように、かかる光ディスクにレーザビーム
の回折像スポットが形成された場合、その回折像スポッ
トが図４（ｂ）に示すようにサイドローブを伴う強度分
布を有していても、図４（ｃ）に示すようにピットから
は入射光のメインローブの半径よりさらに小さい半径の
反射光強度分布が得られる。また、図４（ｂ）に示すよ
うに二次以上の成分即ちサイドローブ成分があるためサ
イドローブ成分が隣接のピットにまで到達しても、本実
施例の光ディスクからの反射光強度は、図４（ｃ）に示
すように、入射レーザビームスポット強度分布Ｉinの微
小区間に対する多重反射率Ｒの増分を大きくすればする
ほどサイドローブの反射光強度はより減少する。
の様になりスポット内での反射率変化を３０％以上にす
ることができる。比較のために、多重反射を用いない時
はＲ1＝｜r1|2で与えられ、反射率特性は図２の様にな
り、その変化量は２２％程度である。さらに、図４
（ａ）に示すように、かかる光ディスクにレーザビーム
の回折像スポットが形成された場合、その回折像スポッ
トが図４（ｂ）に示すようにサイドローブを伴う強度分
布を有していても、図４（ｃ）に示すようにピットから
は入射光のメインローブの半径よりさらに小さい半径の
反射光強度分布が得られる。また、図４（ｂ）に示すよ
うに二次以上の成分即ちサイドローブ成分があるためサ
イドローブ成分が隣接のピットにまで到達しても、本実
施例の光ディスクからの反射光強度は、図４（ｃ）に示
すように、入射レーザビームスポット強度分布Ｉinの微
小区間に対する多重反射率Ｒの増分を大きくすればする
ほどサイドローブの反射光強度はより減少する。
【００２８】すなわち、図４（ａ）に示すようにスポッ
ト内に複数のピットが存在したときでも、回折像中心の
強度に応じて反射率が高くなったピットだけが検出さ
れ、その周囲のピットは反射光量が少ないので検出され
ることはない。これによって、アポディゼーションが行
われ、サイドローブによるクロストークが減少し、みか
け上の有効スポット直径が小さくなり記録面密度の高い
情報記録が達成される。
ト内に複数のピットが存在したときでも、回折像中心の
強度に応じて反射率が高くなったピットだけが検出さ
れ、その周囲のピットは反射光量が少ないので検出され
ることはない。これによって、アポディゼーションが行
われ、サイドローブによるクロストークが減少し、みか
け上の有効スポット直径が小さくなり記録面密度の高い
情報記録が達成される。
【００２９】また、３次非線形光学材料反射膜を用いた
光ディスクについて光学的伝達関数（ＯＴＦ）を求める
と、カットオフ空間周波数が従来のものに比べて、高い
周波数側に伸びており、高記録面密度で記録できること
が分かる。
光ディスクについて光学的伝達関数（ＯＴＦ）を求める
と、カットオフ空間周波数が従来のものに比べて、高い
周波数側に伸びており、高記録面密度で記録できること
が分かる。
【００３０】
【発明の効果】以上の如く本発明の光ディスクによれ
ば、３次非線形光学材料からなり多重反射率Ｒを有する
反射膜を用いているので、空間周波数の高域において再
生信号変調度が高くなる故に、高周波帯域の光検出器の
信号出力が増大し、また入射レーザビームスポットが比
較的大きなサイドローブを有していてもサイドローブか
らの反射光除去が効率良く行われ、クロストーク成分が
除去され高密度記録可能な光ディスクが得られる。
ば、３次非線形光学材料からなり多重反射率Ｒを有する
反射膜を用いているので、空間周波数の高域において再
生信号変調度が高くなる故に、高周波帯域の光検出器の
信号出力が増大し、また入射レーザビームスポットが比
較的大きなサイドローブを有していてもサイドローブか
らの反射光除去が効率良く行われ、クロストーク成分が
除去され高密度記録可能な光ディスクが得られる。
【図１】本発明の光ディスクの断面図である。
【図２】光ディスクの反射率光強度依存性を示すグラフ
である。
である。
【図３】本発明の多重反射率を有する光ディスクの反射
率光強度依存性を示すグラフである。
率光強度依存性を示すグラフである。
【図４】本発明の光ディスク演奏装置における入射及び
反射光強度を説明する概略図である。
反射光強度を説明する概略図である。
１１１……保護膜 １１２……反射膜 １１３……基板
Claims (1)
- 【請求項１】 順に積層された第１透過膜、反射膜及び
第２透過膜を有し、前記反射膜がレーザビーム照射によ
る反射光の強度変化を生ぜしめる情報記録部としてピッ
トを担持した光ディスクであって、前記反射膜は、中心
光強度Ｉｏ及び周縁部光強度Ｉｅを有しベッセル関数で
示される強度分布Ｉinのレーザビームスポットに対し
て、数式（１）で示される屈折率ｎIIを有する３次非線
形光学材料からなり、 【数１】ｎII＝ｎ0＋ｎ2・Ｉin ……（１） （式中、ｎ0は線形屈折率を、ｎ2は非線形屈折率を示
す） かつ、数式（２）で示される多重反射率Ｒを有し、か
つ、数式（３）で示される範囲の膜厚ｈ 【数２】 【数３】 （式中、ｎIは第１透過膜の屈折率を、ｎIIIは第２透過
膜の屈折率を、λは入射レーザビームの波長を示す）を
有することを特徴とする光ディスク。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25670392A JP3170062B2 (ja) | 1992-09-25 | 1992-09-25 | 光ディスク |
| US08/125,294 US5381391A (en) | 1992-09-25 | 1993-09-22 | Optical recording medium having a third non-linear optical reflection film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25670392A JP3170062B2 (ja) | 1992-09-25 | 1992-09-25 | 光ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06111372A true JPH06111372A (ja) | 1994-04-22 |
| JP3170062B2 JP3170062B2 (ja) | 2001-05-28 |
Family
ID=17296306
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25670392A Expired - Fee Related JP3170062B2 (ja) | 1992-09-25 | 1992-09-25 | 光ディスク |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5381391A (ja) |
| JP (1) | JP3170062B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000019987A (ko) * | 1998-09-17 | 2000-04-15 | 구자홍 | 고밀도 광기록매체 |
| WO2002031825A1 (fr) * | 2000-10-11 | 2002-04-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Support d'enregistrement optique, appareil de traitement optique de l'information, et procede d'enregistrement et de reproduction optiques |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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