JPH0584411A - 排ガス処理装置 - Google Patents
排ガス処理装置Info
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- JPH0584411A JPH0584411A JP3119070A JP11907091A JPH0584411A JP H0584411 A JPH0584411 A JP H0584411A JP 3119070 A JP3119070 A JP 3119070A JP 11907091 A JP11907091 A JP 11907091A JP H0584411 A JPH0584411 A JP H0584411A
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Landscapes
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、ダスト、塩化水素、硫黄酸化物の
除去と同時に且つ排ガスの温度が低下しない内に窒素酸
化物も除去して有害成分の除去率を向上させる排ガス処
理装置を提供することである。 【構成】 この排ガス処理装置は、処理塔1の内部を仕
切板3で清澄ガス室21と未処理ガス室20に筒状のろ
布2を介在させて分割し、未処理ガス室20に導入した
排ガスをろ布2でろ過すると共に、該ろ布2の内部に脱
硝用触媒10を配置し、排ガスの温度低下がないうちに
排ガスを該触媒10に接触させ、排ガス中に含まれる窒
素酸化物の除去率を向上させる。
除去と同時に且つ排ガスの温度が低下しない内に窒素酸
化物も除去して有害成分の除去率を向上させる排ガス処
理装置を提供することである。 【構成】 この排ガス処理装置は、処理塔1の内部を仕
切板3で清澄ガス室21と未処理ガス室20に筒状のろ
布2を介在させて分割し、未処理ガス室20に導入した
排ガスをろ布2でろ過すると共に、該ろ布2の内部に脱
硝用触媒10を配置し、排ガスの温度低下がないうちに
排ガスを該触媒10に接触させ、排ガス中に含まれる窒
素酸化物の除去率を向上させる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、焼却炉等の排ガス中
に含まれるダスト、塩化水素、硫黄酸化物、窒素酸化物
等の有害成分を排除する排ガス処理装置に関する。
に含まれるダスト、塩化水素、硫黄酸化物、窒素酸化物
等の有害成分を排除する排ガス処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ゴミ焼却炉から排出される排ガス中に
は、ダストの他に、塩化水素、硫黄酸化物、窒素酸化物
等の有害成分が多量に含まれている。これらのダストや
有害成分を除去するための排ガス処理装置としては、従
来より種々のものが知られているが、例えば、従来の典
型的な排ガス処理装置は、図6に示すように、焼却炉の
下流側に設けられたバグフィルタ装置17、バグフィル
タ装置17の下流側に設けた窒素酸化物を除去するため
の脱硝装置18、バグフィルタ装置17の直前で消石灰
の粉末を添加する消石灰添加装置13、脱硝装置18の
直前でアンモニアを添加するアンモニア添加装置14か
ら構成されている。また、バグフィルタ装置は、処理塔
の内部を仕切板で清澄ガス室と未処理ガス室に分割し、
その仕切板に筒状のろ布を取付け、圧縮ガスを該ろ布の
内部に間欠的に供給するガス配管を設け、未処理ガス室
に導入した排ガスを前記ろ布でろ過して清澄ガスを前記
ろ布の内部を経て清澄ガス室に導入するように構成され
ている。焼却炉から排出された排ガス12は、バグフィ
ルタ装置17に流入する直前で消石灰などのアルカリ性
の粉末或いはスラリーを添加され、排ガス12中の酸性
成分と中和反応する。そして、その後にその反応生成物
とダストが同時にバグフィルタ装置17のろ布で除去さ
れる。この排ガス処理は塩化水素及び硫黄酸化物の除去
には有効であるが、窒素酸化物の除去には効果を果たさ
ない。そこで、窒素酸化物を除去するために、更に、窒
素酸化物還元触媒(脱硝用触媒ともいう)を充填した脱
硝装置18を使用し、アンモニアの存在下で触媒と接触
させることにより、窒素酸化物を窒素ガスに還元反応さ
せる処理が行われている。このように、排ガス中に含ま
れる成分の種類によって異なる処理が段階的に行われて
いる。
は、ダストの他に、塩化水素、硫黄酸化物、窒素酸化物
等の有害成分が多量に含まれている。これらのダストや
有害成分を除去するための排ガス処理装置としては、従
来より種々のものが知られているが、例えば、従来の典
型的な排ガス処理装置は、図6に示すように、焼却炉の
下流側に設けられたバグフィルタ装置17、バグフィル
タ装置17の下流側に設けた窒素酸化物を除去するため
の脱硝装置18、バグフィルタ装置17の直前で消石灰
の粉末を添加する消石灰添加装置13、脱硝装置18の
直前でアンモニアを添加するアンモニア添加装置14か
ら構成されている。また、バグフィルタ装置は、処理塔
の内部を仕切板で清澄ガス室と未処理ガス室に分割し、
その仕切板に筒状のろ布を取付け、圧縮ガスを該ろ布の
内部に間欠的に供給するガス配管を設け、未処理ガス室
に導入した排ガスを前記ろ布でろ過して清澄ガスを前記
ろ布の内部を経て清澄ガス室に導入するように構成され
ている。焼却炉から排出された排ガス12は、バグフィ
ルタ装置17に流入する直前で消石灰などのアルカリ性
の粉末或いはスラリーを添加され、排ガス12中の酸性
成分と中和反応する。そして、その後にその反応生成物
とダストが同時にバグフィルタ装置17のろ布で除去さ
れる。この排ガス処理は塩化水素及び硫黄酸化物の除去
には有効であるが、窒素酸化物の除去には効果を果たさ
ない。そこで、窒素酸化物を除去するために、更に、窒
素酸化物還元触媒(脱硝用触媒ともいう)を充填した脱
硝装置18を使用し、アンモニアの存在下で触媒と接触
させることにより、窒素酸化物を窒素ガスに還元反応さ
せる処理が行われている。このように、排ガス中に含ま
れる成分の種類によって異なる処理が段階的に行われて
いる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、塩化水素は
排ガスの温度が低い方が除去率が高いのに対し、逆に窒
素酸化物は排ガスの温度が高い方が除去率が高いことが
知られている。従って、排ガスが高温の段階で窒素酸化
物を除去し、温度が低下した段階でダスト及び塩化水素
を除去する方法が、熱的には妥当なプロセスといえる。
しかし、このプロセスでは、ダストが窒素酸化物還元触
媒中に付着し、触媒の寿命を著しく減少させると共に、
通気抵抗が増加するという欠点がある。これに対し、図
6に示すように、まず最初にバグフィルタ装置17でダ
スト及び塩化水素の除去を行ない、次いで脱硝装置18
で窒素酸化物の除去を行なうならば、触媒に対するダス
トの障害は改善される反面、一方の装置を除去に最適な
温度に設定すると、他方の装置は最適温度にすることが
できなくなり、除去率が低下するという欠点がある。即
ち、バグフィルタ装置17へ流入する排ガスの温度が塩
化水素の除去に最適な温度となるように温度設定する
と、脱硝装置18に流入する排ガスの温度は低下し過ぎ
て、窒素酸化物の除去率がかなり減少してしまう。
排ガスの温度が低い方が除去率が高いのに対し、逆に窒
素酸化物は排ガスの温度が高い方が除去率が高いことが
知られている。従って、排ガスが高温の段階で窒素酸化
物を除去し、温度が低下した段階でダスト及び塩化水素
を除去する方法が、熱的には妥当なプロセスといえる。
しかし、このプロセスでは、ダストが窒素酸化物還元触
媒中に付着し、触媒の寿命を著しく減少させると共に、
通気抵抗が増加するという欠点がある。これに対し、図
6に示すように、まず最初にバグフィルタ装置17でダ
スト及び塩化水素の除去を行ない、次いで脱硝装置18
で窒素酸化物の除去を行なうならば、触媒に対するダス
トの障害は改善される反面、一方の装置を除去に最適な
温度に設定すると、他方の装置は最適温度にすることが
できなくなり、除去率が低下するという欠点がある。即
ち、バグフィルタ装置17へ流入する排ガスの温度が塩
化水素の除去に最適な温度となるように温度設定する
と、脱硝装置18に流入する排ガスの温度は低下し過ぎ
て、窒素酸化物の除去率がかなり減少してしまう。
【0004】そこで、この発明の目的は、上記の課題を
解決することであり、ダスト、塩化水素、硫黄酸化物等
の除去を行った直後で、しかも排ガスの温度が低下しな
いうちに窒素酸化物も除去することであり、それによっ
て排ガス中のダスト、塩化水素、硫黄酸化物、窒素酸化
物等の除去率が向上させる排ガス処理装置を提供するこ
とである。
解決することであり、ダスト、塩化水素、硫黄酸化物等
の除去を行った直後で、しかも排ガスの温度が低下しな
いうちに窒素酸化物も除去することであり、それによっ
て排ガス中のダスト、塩化水素、硫黄酸化物、窒素酸化
物等の除去率が向上させる排ガス処理装置を提供するこ
とである。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記の目的
を達成するために、次のように構成されている。即ち、
この発明は、処理塔の内部を仕切板で清澄ガス室と未処
理ガス室に分割し、該仕切板に筒状ろ布を配置し、圧縮
ガスを前記ろ布の内部に供給するガス配管を設け、前記
未処理ガス室に導入した排ガスを前記ろ布でろ過して清
澄ガスを前記清澄ガス室に導入する排ガス処理装置にお
いて、ガス中に含まれる有害成分を分解する反応速度を
促進する触媒を前記ろ布の内部に設けたことを特徴とす
る排ガス処理装置に関する。
を達成するために、次のように構成されている。即ち、
この発明は、処理塔の内部を仕切板で清澄ガス室と未処
理ガス室に分割し、該仕切板に筒状ろ布を配置し、圧縮
ガスを前記ろ布の内部に供給するガス配管を設け、前記
未処理ガス室に導入した排ガスを前記ろ布でろ過して清
澄ガスを前記清澄ガス室に導入する排ガス処理装置にお
いて、ガス中に含まれる有害成分を分解する反応速度を
促進する触媒を前記ろ布の内部に設けたことを特徴とす
る排ガス処理装置に関する。
【0006】また、この排ガス処理装置は、前記触媒を
多段に設置すると共に、前記ガス配管を前記ろ布の底部
まで導き、前記圧縮ガスを供給するノズルを前記触媒同
士の間隙に設けたものである。
多段に設置すると共に、前記ガス配管を前記ろ布の底部
まで導き、前記圧縮ガスを供給するノズルを前記触媒同
士の間隙に設けたものである。
【0007】
【作用】この発明による排ガス処理装置は、上記のよう
に構成されているので、次のように作用する。即ち、こ
の排ガス処理装置において、未処理ガス室に導入された
排ガスは、ろ布を通過して清澄ガス室に導入される。排
ガスが前記ろ布を通過する時に、排ガス中に含まれるダ
スト、塩化水素、硫黄酸化物等は前記ろ布を通過するこ
とができず、前記ろ布の外面で捕獲され、次いで、その
排ガスが前記ろ布の内部に設けられた触媒を通過する時
に触媒に接触して窒素酸化物が還元反応して窒素酸化物
が除去される。このように、前記ろ布の表面でろ過され
た排ガスは、温度低下しないうちに触媒を通過すること
になるので、ガス中に含まれる有害成分、特に窒素酸化
物を分解する反応速度を促進して窒素酸化物の除去率を
高くすることができる。
に構成されているので、次のように作用する。即ち、こ
の排ガス処理装置において、未処理ガス室に導入された
排ガスは、ろ布を通過して清澄ガス室に導入される。排
ガスが前記ろ布を通過する時に、排ガス中に含まれるダ
スト、塩化水素、硫黄酸化物等は前記ろ布を通過するこ
とができず、前記ろ布の外面で捕獲され、次いで、その
排ガスが前記ろ布の内部に設けられた触媒を通過する時
に触媒に接触して窒素酸化物が還元反応して窒素酸化物
が除去される。このように、前記ろ布の表面でろ過され
た排ガスは、温度低下しないうちに触媒を通過すること
になるので、ガス中に含まれる有害成分、特に窒素酸化
物を分解する反応速度を促進して窒素酸化物の除去率を
高くすることができる。
【0008】
【実施例】以下、図面を参照して、この発明による排ガ
ス処理装置の実施例を説明する。図1はこの発明による
排ガス処理装置の一実施例を示す概略図である。処理塔
1は内部を仕切板3で上下に二つのガス室に分割され、
下流側のガス室が清澄ガス室21(図では上側)及び上
流側のガス室が未処理ガス室20(図では下側)であ
る。未処理ガス室20はその下部に排ガス入口8を、ま
た清澄ガス室21はその上部に清澄ガス出口9を有して
いる。仕切板3には開口22が設けられており、未処理
ガス室20には開口22を塞ぐ状態で、バグフィルタ等
の筒状ろ布2が吊り下げられている。処理塔1の外部に
は圧力タンク4が設けられ、圧力タンク4から清澄ガス
室21の内部にガス配管6が延びており、ガス配管6に
設けられた圧縮ガスを吹き出す供給ノズル7が筒状のろ
布2の内部に向かって延びている。また、ガス配管6の
途中には電磁弁5が設けられている。この電磁弁5はエ
ア脈動を発生させ、供給ノズル7からダスト払い落とし
用の圧縮エアを間欠的にろ布2の内面に噴射させるため
のパルスバルブの機能を果たすものである。
ス処理装置の実施例を説明する。図1はこの発明による
排ガス処理装置の一実施例を示す概略図である。処理塔
1は内部を仕切板3で上下に二つのガス室に分割され、
下流側のガス室が清澄ガス室21(図では上側)及び上
流側のガス室が未処理ガス室20(図では下側)であ
る。未処理ガス室20はその下部に排ガス入口8を、ま
た清澄ガス室21はその上部に清澄ガス出口9を有して
いる。仕切板3には開口22が設けられており、未処理
ガス室20には開口22を塞ぐ状態で、バグフィルタ等
の筒状ろ布2が吊り下げられている。処理塔1の外部に
は圧力タンク4が設けられ、圧力タンク4から清澄ガス
室21の内部にガス配管6が延びており、ガス配管6に
設けられた圧縮ガスを吹き出す供給ノズル7が筒状のろ
布2の内部に向かって延びている。また、ガス配管6の
途中には電磁弁5が設けられている。この電磁弁5はエ
ア脈動を発生させ、供給ノズル7からダスト払い落とし
用の圧縮エアを間欠的にろ布2の内面に噴射させるため
のパルスバルブの機能を果たすものである。
【0009】この排ガス処理装置は、特に、ろ布2の内
部に触媒10を設け、該触媒11の作用でガス中に含ま
れる有害成分、特に窒素酸化物を分解する反応速度を促
進するものである。この排ガス処理装置には、例えば、
図2に示すように、水平方向にハニカム構造を有する円
筒形状に形成された触媒10を使用することができ、該
触媒10を図1に示すろ布2の内部に設置した場合に
は、排ガスは、円筒状の触媒11の外側から内側に向か
ってハニカム構造の孔を通過し、その時、排ガスは触媒
11に接触するようになる。排ガスが触媒11に接触す
ることによって窒素酸化物を分解する反応速度を促進
し、該窒素酸化物を窒素ガスとうに分解するものであ
る。
部に触媒10を設け、該触媒11の作用でガス中に含ま
れる有害成分、特に窒素酸化物を分解する反応速度を促
進するものである。この排ガス処理装置には、例えば、
図2に示すように、水平方向にハニカム構造を有する円
筒形状に形成された触媒10を使用することができ、該
触媒10を図1に示すろ布2の内部に設置した場合に
は、排ガスは、円筒状の触媒11の外側から内側に向か
ってハニカム構造の孔を通過し、その時、排ガスは触媒
11に接触するようになる。排ガスが触媒11に接触す
ることによって窒素酸化物を分解する反応速度を促進
し、該窒素酸化物を窒素ガスとうに分解するものであ
る。
【0010】図5はこの発明による排ガス処理装置を用
いた処理フロー図である。焼却炉から排出された排ガス
12は約800℃の高温ガスであるが、図示しない空気
余熱器及びガス冷却器の働きで塩化水素の処理に適した
温度になるまで熱が回収される。そこで、排ガス12は
約240℃以下の温度に下げられる。約240℃以下と
なった排ガス12は、排ガス処理装置15に流入する
が、その直前に消石灰添加装置13から消石灰の粉末が
噴霧され、次いで、アンモニア添加装置14からアンモ
ニアが添加される。
いた処理フロー図である。焼却炉から排出された排ガス
12は約800℃の高温ガスであるが、図示しない空気
余熱器及びガス冷却器の働きで塩化水素の処理に適した
温度になるまで熱が回収される。そこで、排ガス12は
約240℃以下の温度に下げられる。約240℃以下と
なった排ガス12は、排ガス処理装置15に流入する
が、その直前に消石灰添加装置13から消石灰の粉末が
噴霧され、次いで、アンモニア添加装置14からアンモ
ニアが添加される。
【0011】排ガス中の酸性成分である塩化水素及び硫
黄酸化物は、消石灰添加装置13で添加された消石灰及
びアンモニア添加装置14で添加されたアンモニアガス
によって中和され、排ガス入口8から排ガス処理装置1
5即ち処理塔1の未処理ガス室20に流入する。そし
て、排ガスが筒状のろ布2を外側から内側に向かって通
過する時、排ガス中のダスト等は、ろ布2の表面に付着
して除去される。また、排ガス中の塩化水素や硫黄酸化
物は勿論のこと、水銀やダイオキシンまでも同様にして
一部除去される。しかしながら、排ガス中に含まれてい
る窒素酸化物は、ろ布2を通過するだけでは除去されな
い。窒素酸化物を含み且つアンモニアが混合した排ガス
は、ろ布2内に設けられた脱硝用触媒10に接触し、そ
れにより有害成分である窒素酸化物が分解して除去さ
れ、その窒素酸化物の濃度が低減する。このようにし
て、清浄化された排ガスはろ布2内を上昇して仕切板3
の開口22から清澄ガス室21に流入し、清澄ガス出口
9から排出される。有害成分を除去された排ガスは図示
しない誘引ファン等を経て、煙突から大気中へ排出され
る。
黄酸化物は、消石灰添加装置13で添加された消石灰及
びアンモニア添加装置14で添加されたアンモニアガス
によって中和され、排ガス入口8から排ガス処理装置1
5即ち処理塔1の未処理ガス室20に流入する。そし
て、排ガスが筒状のろ布2を外側から内側に向かって通
過する時、排ガス中のダスト等は、ろ布2の表面に付着
して除去される。また、排ガス中の塩化水素や硫黄酸化
物は勿論のこと、水銀やダイオキシンまでも同様にして
一部除去される。しかしながら、排ガス中に含まれてい
る窒素酸化物は、ろ布2を通過するだけでは除去されな
い。窒素酸化物を含み且つアンモニアが混合した排ガス
は、ろ布2内に設けられた脱硝用触媒10に接触し、そ
れにより有害成分である窒素酸化物が分解して除去さ
れ、その窒素酸化物の濃度が低減する。このようにし
て、清浄化された排ガスはろ布2内を上昇して仕切板3
の開口22から清澄ガス室21に流入し、清澄ガス出口
9から排出される。有害成分を除去された排ガスは図示
しない誘引ファン等を経て、煙突から大気中へ排出され
る。
【0012】この排ガス処理装置は、図1に示す装置を
複数個併設して使用することもできる。その場合、電磁
弁5が同時に作動すると、排ガス処理装置全体としての
圧力損失の変動が極端に大きくなるので、有害成分の除
去性能が不安定になり、良好な除去率が得られない。そ
こで、排ガス処理装置全体の入口と出口の圧力差を検出
し、その検出値が所定の差圧値を超えた時に、一つの電
磁弁5だけを作動させ、圧力差が所定値を超えるごとに
電磁弁5を切り換えて順次作動させるようにするとよ
い。
複数個併設して使用することもできる。その場合、電磁
弁5が同時に作動すると、排ガス処理装置全体としての
圧力損失の変動が極端に大きくなるので、有害成分の除
去性能が不安定になり、良好な除去率が得られない。そ
こで、排ガス処理装置全体の入口と出口の圧力差を検出
し、その検出値が所定の差圧値を超えた時に、一つの電
磁弁5だけを作動させ、圧力差が所定値を超えるごとに
電磁弁5を切り換えて順次作動させるようにするとよ
い。
【0013】上記実施例では、処理塔1内に一本のろ布
2を設けた場合について説明したが、この排ガス処理装
置では、処理塔1内に複数本のろ布2を設けてもよいも
のである。その場合には、排ガスに対する検出圧力差と
しては、処理塔1の排ガス入口8と清澄ガス出口9との
圧力差を検出することになる。
2を設けた場合について説明したが、この排ガス処理装
置では、処理塔1内に複数本のろ布2を設けてもよいも
のである。その場合には、排ガスに対する検出圧力差と
しては、処理塔1の排ガス入口8と清澄ガス出口9との
圧力差を検出することになる。
【0014】図4はこの発明による排ガス処理装置の他
の実施例を示す概略図である。この実施例では、排ガス
処理装置は図2に示す触媒10の代わりに図3に示す触
媒11をろ布2内に縦に複数個設置して多段構造とした
点、及びガス配管6をろ布2の底部まで延ばし、ダスト
払い落とし用の圧縮ガスを供給するノズル7を触媒11
の下方の各々配置した点を除けば、図1に示した排ガス
処理装置と同一の構成を有している。例えば、図4では
処理塔1のろ布2内において触媒11を3個設置してい
る。ガス配管6は清澄ガス室に水平方向に延びる水平部
分24と水平部分24から下方に延びる鉛直部分25か
ら成り、ノズル7はガス配管6の鉛直部分25からろ布
2の内面に垂直に向けられている。ノズル7から噴射さ
れる圧縮ガスは、触媒11を設置していてもろ布2外面
に付着したダスト等を払い落とすことができる。
の実施例を示す概略図である。この実施例では、排ガス
処理装置は図2に示す触媒10の代わりに図3に示す触
媒11をろ布2内に縦に複数個設置して多段構造とした
点、及びガス配管6をろ布2の底部まで延ばし、ダスト
払い落とし用の圧縮ガスを供給するノズル7を触媒11
の下方の各々配置した点を除けば、図1に示した排ガス
処理装置と同一の構成を有している。例えば、図4では
処理塔1のろ布2内において触媒11を3個設置してい
る。ガス配管6は清澄ガス室に水平方向に延びる水平部
分24と水平部分24から下方に延びる鉛直部分25か
ら成り、ノズル7はガス配管6の鉛直部分25からろ布
2の内面に垂直に向けられている。ノズル7から噴射さ
れる圧縮ガスは、触媒11を設置していてもろ布2外面
に付着したダスト等を払い落とすことができる。
【0015】触媒11は、図3に示すように、上端にフ
ランジ状の阻止板23を有しており、阻止板23の外周
縁がろ布2の内周面に接触しているので、排ガスは触媒
11を必ず通過する。また、阻止板23は上部の触媒1
1で清浄化された排ガスが下方へ逆流するのを防ぐ働き
がある。それぞれの触媒11の中心には貫通孔19が形
成されており、該貫通孔19にガス配管6の鉛直部分2
5が挿通されている。ガス配管6の鉛直部分25は水平
部分24に対して着脱自在に固着されている。更に、鉛
直部分25は、図3の場合に、3つの部分から構成され
ており、相互に着脱自在に連結されているので、触媒1
1の交換が可能になる。
ランジ状の阻止板23を有しており、阻止板23の外周
縁がろ布2の内周面に接触しているので、排ガスは触媒
11を必ず通過する。また、阻止板23は上部の触媒1
1で清浄化された排ガスが下方へ逆流するのを防ぐ働き
がある。それぞれの触媒11の中心には貫通孔19が形
成されており、該貫通孔19にガス配管6の鉛直部分2
5が挿通されている。ガス配管6の鉛直部分25は水平
部分24に対して着脱自在に固着されている。更に、鉛
直部分25は、図3の場合に、3つの部分から構成され
ており、相互に着脱自在に連結されているので、触媒1
1の交換が可能になる。
【0016】次に、この発明による排ガス処理装置と従
来の排ガス処理装置とを使用して、表1に示す組成の排
ガスを処理した場合の比較試験の結果について、以下に
説明する。表1は排ガス処理試験に使用した排ガス中に
含まれる有害成分、即ち、ダスト、塩化水素、硫黄酸化
物及び窒素酸化物の各濃度を示している。表2はこの発
明による排ガス処理装置を使用して処理試験を行った試
験結果を示している。実験例1は、消石灰を酸性ガス
(塩化水素、硫黄酸化物)との当量比(反応に必要なモ
ル数に対する倍率):2.5で添加し、アンモニアを窒
素酸化物との当量比:1で添加した例である。排ガス温
度が220℃の条件であれば、除去率は塩化水素で90
%、硫黄酸化物でも70%、窒素酸化物の除去率は90
%であった。また、実施例2は排ガスの温度を200℃
に下げた場合の例である。塩化水素の除去率は変化がな
いが、窒素酸化物の除去率が70%に低下した。更に、
実験例3は消石灰のみ添加し、アンモニアの添加を行わ
なかった例である。窒素酸化物の除去効果は見られなか
った。
来の排ガス処理装置とを使用して、表1に示す組成の排
ガスを処理した場合の比較試験の結果について、以下に
説明する。表1は排ガス処理試験に使用した排ガス中に
含まれる有害成分、即ち、ダスト、塩化水素、硫黄酸化
物及び窒素酸化物の各濃度を示している。表2はこの発
明による排ガス処理装置を使用して処理試験を行った試
験結果を示している。実験例1は、消石灰を酸性ガス
(塩化水素、硫黄酸化物)との当量比(反応に必要なモ
ル数に対する倍率):2.5で添加し、アンモニアを窒
素酸化物との当量比:1で添加した例である。排ガス温
度が220℃の条件であれば、除去率は塩化水素で90
%、硫黄酸化物でも70%、窒素酸化物の除去率は90
%であった。また、実施例2は排ガスの温度を200℃
に下げた場合の例である。塩化水素の除去率は変化がな
いが、窒素酸化物の除去率が70%に低下した。更に、
実験例3は消石灰のみ添加し、アンモニアの添加を行わ
なかった例である。窒素酸化物の除去効果は見られなか
った。
【表1】
【表2】
【0017】これに対し、従来の排ガス処理装置を使用
した場合、試験結果は表3に示すとおりであった。即
ち、表3は従来の排ガス処理装置を使用して処理試験を
行った試験結果を示している。排ガスの温度、薬品の添
加率の条件は実験例1と同じである。窒素酸化物の除去
率は70%であって、実験例1の場合の90%に比べて
低い。この理由は、窒素酸化物除去装置(脱消装置)1
8における排ガスの温度が、バグフィルタ装置17にお
ける温度に比べて、バグフィルタ装置17を通過した
後、自然放熱の結果、10〜15℃低下したからであ
る。
した場合、試験結果は表3に示すとおりであった。即
ち、表3は従来の排ガス処理装置を使用して処理試験を
行った試験結果を示している。排ガスの温度、薬品の添
加率の条件は実験例1と同じである。窒素酸化物の除去
率は70%であって、実験例1の場合の90%に比べて
低い。この理由は、窒素酸化物除去装置(脱消装置)1
8における排ガスの温度が、バグフィルタ装置17にお
ける温度に比べて、バグフィルタ装置17を通過した
後、自然放熱の結果、10〜15℃低下したからであ
る。
【表3】
【0018】以上の試験結果からも分かるように、この
発明による排ガス処理装置を使用すると、窒素酸化物の
除去率が向上する。
発明による排ガス処理装置を使用すると、窒素酸化物の
除去率が向上する。
【0019】
【発明の効果】この発明による排ガス処理装置は、上記
のように構成されているので、次のような効果を有す
る。この排ガス処理装置を用いれば、排ガス中に含まれ
ているダスト、塩化水素、硫黄酸化物、窒素酸化物が一
つの装置内でほとんど同時に除去可能となるので、装置
全体をコンパクトに小型化することができると共に、温
度条件等に関してより効果的な条件の下で処理すること
ができる。加えて、この排ガス処理装置では、ダスト払
い落とし用の圧縮ガスをろ布の内部に間欠的に供給する
ガス配管を設け、触媒の存在下でろ布外面に付着したダ
ストを払い落とすことができるので、装置自体を長期間
連続して排ガス処理を安定して行うことが可能となる。
のように構成されているので、次のような効果を有す
る。この排ガス処理装置を用いれば、排ガス中に含まれ
ているダスト、塩化水素、硫黄酸化物、窒素酸化物が一
つの装置内でほとんど同時に除去可能となるので、装置
全体をコンパクトに小型化することができると共に、温
度条件等に関してより効果的な条件の下で処理すること
ができる。加えて、この排ガス処理装置では、ダスト払
い落とし用の圧縮ガスをろ布の内部に間欠的に供給する
ガス配管を設け、触媒の存在下でろ布外面に付着したダ
ストを払い落とすことができるので、装置自体を長期間
連続して排ガス処理を安定して行うことが可能となる。
【図1】この発明による排ガス処理装置の一実施例を示
す概略説明図である。
す概略説明図である。
【図2】この排ガス処理装置に使用される触媒の構造の
一例を示す概略図である。
一例を示す概略図である。
【図3】この排ガス処理装置に使用される触媒の構造の
別の例を示す概略図である。
別の例を示す概略図である。
【図4】この発明による排ガス処理装置の他の実施例を
示す概略説明図である。
示す概略説明図である。
【図5】この発明による排ガス処理装置を用いた処理フ
ローを示す概略図である。
ローを示す概略図である。
【図6】従来の典型的な排ガス処理装置を示す概略図で
ある。
ある。
1 処理塔 2 ろ布 3 仕切板 6 ガス配管 7 供給ノズル 10 脱硝用触媒 11 脱硝用触媒 20 未処理ガス室 21 清澄ガス室
Claims (2)
- 【請求項1】 処理塔の内部を仕切板で清澄ガス室と未
処理ガス室に分割し、該仕切板に筒状ろ布を配置し、圧
縮ガスを前記ろ布の内部に供給するガス配管を設け、前
記未処理ガス室に導入した排ガスを前記ろ布でろ過して
清澄ガスを前記清澄ガス室に導入する排ガス処理装置に
おいて、ガス中に含まれる有害成分を分解する反応速度
を促進する触媒を前記ろ布の内部に設けたことを特徴と
する排ガス処理装置。 - 【請求項2】 前記触媒を多段に設置すると共に、前記
ガス配管を前記ろ布の底部まで導き、前記圧縮ガスを供
給するノズルを前記触媒同士の間隙に設けたことを特徴
とする請求項1に記載の排ガス処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3119070A JPH0584411A (ja) | 1991-04-24 | 1991-04-24 | 排ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3119070A JPH0584411A (ja) | 1991-04-24 | 1991-04-24 | 排ガス処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0584411A true JPH0584411A (ja) | 1993-04-06 |
Family
ID=14752146
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3119070A Pending JPH0584411A (ja) | 1991-04-24 | 1991-04-24 | 排ガス処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0584411A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6655185B2 (en) | 2000-02-09 | 2003-12-02 | Tateo Uegaki | Vehicle repairing device |
CN104128091A (zh) * | 2014-08-18 | 2014-11-05 | 上海迪扬过滤***有限公司 | 一种具有脱硝功能的滤筒及脱硝的方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55145520A (en) * | 1979-04-30 | 1980-11-13 | Babcock & Wilcox Co | Filter house and method for simultaneously removing nox and granular body from gas current |
JPS61268332A (ja) * | 1985-05-20 | 1986-11-27 | Asahi Glass Co Ltd | 除塵浄化装置 |
JPS61283322A (ja) * | 1985-06-10 | 1986-12-13 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ろ過クロスの清浄装置 |
-
1991
- 1991-04-24 JP JP3119070A patent/JPH0584411A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55145520A (en) * | 1979-04-30 | 1980-11-13 | Babcock & Wilcox Co | Filter house and method for simultaneously removing nox and granular body from gas current |
JPS61268332A (ja) * | 1985-05-20 | 1986-11-27 | Asahi Glass Co Ltd | 除塵浄化装置 |
JPS61283322A (ja) * | 1985-06-10 | 1986-12-13 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ろ過クロスの清浄装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6655185B2 (en) | 2000-02-09 | 2003-12-02 | Tateo Uegaki | Vehicle repairing device |
CN104128091A (zh) * | 2014-08-18 | 2014-11-05 | 上海迪扬过滤***有限公司 | 一种具有脱硝功能的滤筒及脱硝的方法 |
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