JPH0581665B2 - - Google Patents
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- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 35
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 26
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 claims description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 claims description 3
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 235000019646 color tone Nutrition 0.000 description 27
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 21
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 17
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 17
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 16
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 10
- -1 tantalum nitrides Chemical class 0.000 description 9
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJKRCWUQJZIWQB-UHFFFAOYSA-N azane;chromium Chemical compound N.[Cr] SJKRCWUQJZIWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N azanylidynechromium Chemical compound [Cr]#N CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、外装部品、眼鏡の縁、文房具、装身
具、装飾品などに応用可能な金色を呈する物品の
製造方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method for producing articles exhibiting a golden color that can be applied to exterior parts, eyeglass rims, stationery, accessories, ornaments, and the like.
（従来の技術）
従来より窒化チタンや窒化タンタルなどの窒化
物がある条件の下で金色を呈することが知られて
おり、高価な金メツキの代替技術として各種装飾
品や外装ケースに利用され始めている。この公知
技術は、金属チタンや金属タンタルを窒素雰囲気
中にてスパツタリングまたは蒸着またはイオンプ
レーテイングし、対象素材上にチタンやタンタル
などの窒化物をコーテイングするものであつた。(Prior technology) Nitrides such as titanium nitride and tantalum nitride have been known to exhibit a golden color under certain conditions, and have begun to be used in various decorative items and exterior cases as an alternative technology to expensive gold plating. There is. This known technique involves sputtering, vapor depositing, or ion plating metal titanium or tantalum metal in a nitrogen atmosphere to coat a target material with a nitride such as titanium or tantalum.
（発明が解決しようとする問題点）
この公知技術において、チタンやタンタルの窒
化物を形成する際の反応雰囲気中の窒素ガスの圧
力が、形成される窒化物の色調を大きく左右させ
る。特に金色を呈する窒素ガスの圧力範囲は非常
に限られた範囲である。このため金固有の美しい
高級感のある色調を再現性よく得るためには、窒
素の分圧を高精度に管理することが要求される。
しかしそれは、工業的に大量生産する場合、非常
に困難なことである。(Problems to be Solved by the Invention) In this known technique, the pressure of nitrogen gas in the reaction atmosphere when forming titanium or tantalum nitrides greatly influences the color tone of the formed nitrides. In particular, the pressure range of nitrogen gas that exhibits a golden color is extremely limited. Therefore, in order to obtain the beautiful, luxurious color tone unique to gold with good reproducibility, it is necessary to control the partial pressure of nitrogen with high precision.
However, this is extremely difficult in industrial mass production.
そこで、再現性よく美しい金色を得るために、
特公昭59−26664号公報では、窒化チタンや窒化
タンタルなどよりなる金色硬質化合物を形成し、
さらにその表面に金あるいは金合金による金色被
覆層を形成することを提案してている。この改良
技術によれば、美しい金色を呈するが、それは表
面の金による被覆層の輝きによつて得られるもの
である。金色被覆層はコストの点から極めて薄く
形成される。このため、金色被覆層は容易に摩耗
を生じるが、その下層の硬質化合物自体も一応金
色を呈していることから、金色被覆層が摩耗して
もそれが目立たないというものであつた。しか
し、この改良技術は、製造に手間がかかり、金を
必要とする分だけコストが高くつく問題があつ
た。 Therefore, in order to obtain a beautiful golden color with good reproducibility,
In Japanese Patent Publication No. 59-26664, a golden hard compound made of titanium nitride or tantalum nitride is formed,
Furthermore, it is proposed to form a golden coating layer of gold or a gold alloy on the surface. According to this improved technique, a beautiful golden color is obtained, which is obtained by the shine of the gold coating layer on the surface. The golden coating layer is formed extremely thin from the viewpoint of cost. For this reason, the golden coating layer is easily abraded, but since the underlying hard compound itself also has a golden color, even if the golden coating layer is abraded, it is not noticeable. However, this improved technology required time and effort to manufacture, and the cost was high due to the amount of money required.
そこで本発明は、高価な金の代替品として利用
可能な金色を呈する物品を低コストで製造する方
法を提供することを目的とするものである。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing a gold-colored article at low cost that can be used as a substitute for expensive gold.
本発明の他の目的は、工程管理を厳格にするこ
となく再現性よく同一色調を得ることが可能な金
色物品の製造方法を提供することである。 Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a golden article that can obtain the same color tone with good reproducibility without strict process control.
（問題点を解決するための手段）
本発明に係る製造方法の特徴は、周期率表の
ａ族元素の中のの少なくとも一つの元素からなる
第１の金属とａ族元素またはａ族元素の中の
少なくとも１つの元素からなる第１の金属との
族元素またはａ族元素の中の少なくとも１つの
元素からなる第２の金属とをターゲツトとし、窒
素雰囲気中において２つの金属を同時に対象物に
対し反応性スパツタリングを行ない、第１の金属
の窒化反応に対し第２の金属を緩衝剤として作用
させつつ、第１の金属の窒化物と第２の金属の窒
化物とを複合する複合膜を対象物の表面に形成す
るところにある。(Means for Solving the Problems) The manufacturing method according to the present invention is characterized by a first metal consisting of at least one element of group a elements of the periodic table and a group a element or a group a element. and a second metal consisting of at least one element of Group A elements or Group A elements, and simultaneously target the two metals in a nitrogen atmosphere. On the other hand, reactive sputtering is performed to form a composite film that combines the nitride of the first metal and the nitride of the second metal while allowing the second metal to act as a buffer against the nitriding reaction of the first metal. It is formed on the surface of an object.
（作用）
ａ族元素であるバナジウム、ニオブ、タンタ
ルは、ａ族元素であるチタン、ジルコン、ハフ
ニウムと同時に反応性スパツタリングを行なう
と、ａ族元素が窒素と反応する反応系に対し緩
衝剤として作用する。したがつて、実際の金色の
原因となるａ族元素の窒化物形成に際し、窒素
分圧の変動の色調への影響が緩和される。(Function) When reactive sputtering is performed simultaneously with group A elements such as titanium, zircon, and hafnium, group A elements such as vanadium, niobium, and tantalum act as buffers for the reaction system in which group A elements react with nitrogen. do. Therefore, during the formation of nitrides of group a elements, which are the cause of the actual golden color, the influence of fluctuations in nitrogen partial pressure on the color tone is alleviated.
またａ族元素であるクロム、モリブデン、タ
ングステンも同様で、窒素分圧の変動の色調への
影響を緩和する働きをする。この場合は、それに
加えて色調を希釈する働きをし、淡い色調が得ら
れる。 The same goes for chromium, molybdenum, and tungsten, which are group a elements, and work to alleviate the effect of fluctuations in nitrogen partial pressure on color tone. In this case, it additionally serves to dilute the color tone, resulting in a lighter color tone.
（発明の効果）
本発明に係る金色物品の製造方法によると、
ａ族元素またはａ族元素をａ族元素と同時に
スパツタリングを行ない、ａ族元素またはａ
族元素をａ族元素の窒化反応の緩衝剤として作
用させることによつて、反応性スパツタリングに
おける反応雰囲気中の窒素分圧の変動に対してあ
まり影響されることなく安定して同じ色調の金色
被膜を得ることができる。したがつて工業的に低
コストで大量生産することができる。しかも同じ
金色系統ではあるが、その色調はａ族元素に対
するａ族元素またはａ族元素の成分比で決定
することができ、この成分比を制御することは極
めて容易である。したがつて金色の色調を任意に
幅広く選定することができる。(Effect of the invention) According to the method for manufacturing a golden article according to the present invention,
A group a element or a group a element is sputtered simultaneously with a group a element, and a group a element or a group a
By using a group element as a buffer for the nitridation reaction of a group A element, a golden film with the same color tone can be produced stably without being affected by fluctuations in nitrogen partial pressure in the reaction atmosphere during reactive sputtering. can be obtained. Therefore, it can be industrially produced in large quantities at low cost. Moreover, although they are of the same golden color system, the color tone can be determined by the component ratio of the group A element or the group a element to the group a element, and it is extremely easy to control this component ratio. Therefore, it is possible to arbitrarily select a wide range of golden tones.
（実施例）
実施例 １
この実施例は、反応性スパツタリングにより、
ａ族元素であるチタンの窒化物とａ族元素で
あるタンタルの窒化物とからなる複合膜を形成す
る例である。(Example) Example 1 In this example, by reactive sputtering,
This is an example of forming a composite film consisting of a nitride of titanium, which is a group A element, and a nitride of tantalum, which is a group A element.
ABS樹脂製部品をスパツタリング装置内に入
れて、（1.0〜2.0）×10-3Pa程度の真空に減圧した
後、窒素ガスを3.0×10-2Paの圧力まで注入し、
更にアルゴンガスを加えて混合ガスの圧力を6.0
×10-1Paの圧力とし、金属チタン、金属タンタ
ルの両ターゲツト上にシヤツターを設けて、金属
チタン上のシヤツターを全開、金属タンタル上の
シヤツターを1/3開とし、高周波出力8Watt／cm2
にて反応性スパツタリングを７分間行つた。その
結果、窒化チタンと窒化タンタルとからなりタン
タルの成分比が45重量％である複合膜をABS樹
脂上に0.15μの厚さにコーテイングすることがで
きた。この場合スパツタリング法によるため、成
膜等の温度を70℃以下に制御できるので樹脂の変
形等は生じなかつた。 After placing the ABS resin parts in a sputtering device and reducing the pressure to a vacuum of about (1.0 to 2.0) × 10 -3 Pa, nitrogen gas is injected to a pressure of 3.0 × 10 -2 Pa.
Furthermore, add argon gas to reduce the pressure of the mixed gas to 6.0.
The pressure was set to ×10 -1 Pa, shutters were installed on both the metal titanium and metal tantalum targets, the shutter on the metal titanium was fully opened, and the shutter on the metal tantalum was 1/3 open, and the high frequency output was 8Watt/cm 2
Reactive sputtering was performed for 7 minutes at . As a result, we were able to coat ABS resin with a composite film consisting of titanium nitride and tantalum nitride with a tantalum content of 45% by weight to a thickness of 0.15μ. In this case, since the sputtering method was used, the temperature during film formation etc. could be controlled to 70° C. or lower, so that no deformation of the resin occurred.
これにより形成された複合膜は、金属感があ
り、かつ極めて光沢のある装飾性に富んだ金色を
呈した。またこの複合膜は、硬度、密着性におい
て窒化チタン単体の場合と同等で、耐食性につい
ては窒化チタン単体よりも組織が緻密なために窒
化チタン単体よりも更に優れたものであつた。 The composite film thus formed had a golden color with a metallic feel and was extremely shiny and rich in decorative properties. In addition, this composite film was equivalent to that of titanium nitride alone in terms of hardness and adhesion, and its corrosion resistance was even better than that of titanium nitride alone because its structure was denser than that of titanium nitride alone.
この金色硬質被膜の色調は、タンタルの成分比
とスパツタ時の温度と窒素ガスの分圧とによつて
決定されるが、窒素ガスの分圧の影響は、窒素と
チタンとの反応においてタンタルが緩衝剤として
作用し、窒素との反応にタンタルも関与するた
め、実際の金色の原因となる窒化チタン形成での
窒素ガスの分圧変動の影響は少なくなり、結果と
して色調への影響が少なくなる。 The color tone of this golden hard coating is determined by the component ratio of tantalum, the temperature during sputtering, and the partial pressure of nitrogen gas. Since tantalum also participates in the reaction with nitrogen, acting as a buffer, the influence of partial pressure fluctuations of nitrogen gas on the formation of titanium nitride, which is the cause of the actual gold color, is reduced, resulting in less influence on the color tone. .
ただし、窒化チタン自身が金色となる窒素ガス
の分圧は2.5×10-2Paからであり、また4.0×
10-2Pa以上となると、膜自身非常に脆くなり、
耐クラツク性で実用上問題となる。したがつて窒
素ガスの分圧は、（2.5〜4.0）×10-2Paの範囲が適
している。 However, the partial pressure of nitrogen gas at which titanium nitride itself turns gold is 2.5×10 -2 Pa, and 4.0×
When the temperature exceeds 10 -2 Pa, the film itself becomes extremely brittle.
Cracking resistance is a practical problem. Therefore, a range of (2.5 to 4.0)×10 −2 Pa is suitable for the partial pressure of nitrogen gas.
第１図示のグラフは、本発明の（窒化チタン＋
窒化タンタル）複合膜と、純金スパツタ膜と、従
来のスパツタによる窒化チタン膜との間の色調の
差を示したものである。ここに、色調は色彩色度
計にて光源Ｃを用いて、L*a*b*色度図による各
膜のL*a*b*を測定し、
明度L*，
彩度C*＝√*2＋*2，
色相H゜＝tan-1（b*／a*）
をプロツトしたものである。このグラフより、本
発明に係る製造方法により形成した複合膜の色調
は明度L*、彩度C*ともに従来のスパツタによる
窒化チタン膜に比較して優れており、また色相
H゜については純金スパツタ膜にほぼ近似してい
ることが理解できる。 The graph shown in the first figure shows the (titanium nitride +
This figure shows the difference in color tone between a tantalum nitride composite film, a pure gold sputtered film, and a conventional sputtered titanium nitride film. Here, the color tone is determined by measuring the L * a * b * of each film according to the L * a * b * chromaticity diagram using a colorimeter using light source C, and calculating the brightness L * , chroma C * = √ *2 + *2 , hue H゜=tan -1 (b * /a * ). From this graph, the color tone of the composite film formed by the manufacturing method according to the present invention is superior in both brightness L * and chroma C * compared to the conventional sputtering titanium nitride film, and the hue
It can be seen that H° is almost similar to that of a pure gold sputtered film.
更に第２図示のグラフでは、色調決定の要因と
なるタンタルの成分比（重量％）とスパツタ温度
において、彩度C*についてプロツトしたもので
ある。このグラフにおいて、各条件での色調を彩
度C*をもとに分類すると、ZONE 〜に分
類され、ZONE 〜までの領域が装飾性のあ
る金色硬質膜を得るに有効な領域であり、スパツ
タ温度50℃〜300℃の範囲内でタンタルの成分比
は、５重量％〜75重量％の範囲であつた。 Further, in the graph shown in the second figure, the saturation C * is plotted against the component ratio (wt%) of tantalum, which is a factor in determining the color tone, and the sputtering temperature. In this graph, if the color tones under each condition are classified based on saturation C * , they are classified into ZONE ~, and the area up to ZONE ~ is the effective area for obtaining a decorative golden hard film, and the sputtering. Within the temperature range of 50°C to 300°C, the component ratio of tantalum was in the range of 5% to 75% by weight.
また上記スパツタリングにおいて、金属タンタ
ルは金属チタンに比較し酸素に対して活性であ
り、真空中内の不純ガスとしての酸素に対してゲ
ツタ作用を持ち、色調に対する酸素の悪影響を防
止することが可能となる。 In addition, in the sputtering process mentioned above, tantalum metal is more active toward oxygen than titanium metal, and has a grating effect on oxygen as an impurity gas in vacuum, making it possible to prevent the negative effect of oxygen on color tone. Become.
実施例 ２
この実施例は、ａ族元素であるチタンの窒化
物とａ族元素であるクロムの窒化物とからなる
複合膜を形成する例である。Example 2 This example is an example of forming a composite film consisting of a nitride of titanium, which is a group A element, and a nitride of chromium, which is a group A element.
実施例１と同一条件とし、金属チタン上のシヤ
ツターを全開、金属クロム上のシヤツターを1/3
開として、高周波出力8Watt／cm2にて反応性スパ
ツタリングを７分間行つた。その結果、窒化チタ
ンと窒化クロムとからなりクロムの成分比が28重
量％である複合膜をABS樹脂製部品上へ0.15μの
厚さにコーテイングすることができた。このとき
窒化クロムを含有した複合膜は金属感があり、か
つ極めて光沢のある淡い金色を呈した。 Same conditions as Example 1, with the shutter on the metal titanium fully open and the shutter on the metal chrome 1/3 open.
Reactive sputtering was performed for 7 minutes at a high frequency output of 8 Watt/cm 2 with the sample open. As a result, we were able to coat ABS resin parts with a composite film consisting of titanium nitride and chromium nitride, with a chromium component ratio of 28% by weight, to a thickness of 0.15μ. At this time, the composite film containing chromium nitride had a metallic feel and an extremely shiny pale gold color.
実施例 ３
この実施例は、ａ族元素であるジルコンの窒
化物とａ族元素であるタンタルの窒化物とから
なる複合膜を形成する例である。Example 3 This example is an example of forming a composite film consisting of a nitride of zircon, which is a group A element, and a nitride of tantalum, which is a group A element.
ABS樹脂製部品をスパツタリング装置内に入
れ（1.0〜2.0）×10-3Pa程度の真空に減圧した後、
窒素ガスを3.5×10-2Paの圧力まで注入し、更に
アルゴンガスを加えて混合ガスの圧力を6.0×
10-1Paの圧力とし、金属ジルコン、金属タンタ
ルの両ターゲツト上にシヤツターを設け、金属ジ
ルコン上のシヤツターを全開、金属タンタル上の
シヤツターを1/3開とし、高周波出力、金属ジル
コン6.3Watt／cm2、金属タンタル8Watt／cm2にて
反応性スパツタリングを７分間行つた。その結
果、窒化ジルコンと窒化タンタルを複合し、タン
タルの成分比が36重量％である複合膜をABS樹
脂製部品上に0.15μの厚さにコーテイングするこ
とができた。この場合もスパツタリング法による
ため、成膜時の温度を70℃以下に制御できるの
で、樹脂の変形などは生じなかつた。 After placing the ABS resin parts in a sputtering device and reducing the pressure to a vacuum of about (1.0 to 2.0) × 10 -3 Pa,
Inject nitrogen gas to a pressure of 3.5×10 -2 Pa, then add argon gas to reduce the pressure of the mixed gas to 6.0×
The pressure was set to 10 -1 Pa, shutters were installed on both the metal zircon and metal tantalum targets, the shutter on the metal zircon was fully open, the shutter on the metal tantalum was 1/3 open, and the high frequency output was 6.3Watt/metal zircon. Reactive sputtering was performed for 7 minutes at 8 Watt/cm 2 of tantalum metal. As a result, we were able to coat ABS resin parts with a composite film of zircon nitride and tantalum nitride with a tantalum content of 36% by weight to a thickness of 0.15μ. In this case as well, since the sputtering method was used, the temperature during film formation could be controlled to 70°C or less, so no deformation of the resin occurred.
これにより得られた複合膜は、金属感がありか
つ極めて光沢のある装飾性に富んだ金色を呈し
た。またこの複合膜は、硬度、密着性において窒
化ジルコン単体の場合と同等で、耐食性について
は窒化ジルコン単体よりも組織が緻密なために窒
化ジルコン単体よりも更に優れたものであつた。 The composite film thus obtained exhibited a highly decorative gold color that had a metallic feel and was extremely shiny. In addition, this composite film had the same hardness and adhesion as zircon nitride alone, and its corrosion resistance was even better than zircon nitride alone because its structure was denser than that of zircon nitride alone.
この金色硬質膜の色調は、タンタルの成分比
と、スパツタ時の温度と、窒化分圧とによつて決
定されるが、窒素分圧の影響は、窒素とジルコン
との反応においてタンタルが緩衝剤として作用
し、窒素との反応にタンタルも関与するため、実
際の金色の原因となる窒化ジルコン形成での窒素
分圧の変動の影響は少なくなり、結果として色調
への影響が少なくなる。 The color tone of this golden hard film is determined by the component ratio of tantalum, the temperature during sputtering, and the nitriding partial pressure. Since tantalum also participates in the reaction with nitrogen, the effect of fluctuations in nitrogen partial pressure on the formation of zirconium nitride, which is the cause of the actual gold color, is reduced, and as a result, the effect on color tone is reduced.
ただし、窒化ジルコン自身が金色となる窒素分
圧は3.0×10-2Paからであり、また4.5×10-2Pc以
上となると膜自身が非常に脆くなり、耐クラツク
性で実用上問題となる。このために窒素分圧は、
（3.0〜4.5）×10-2Paの範囲が適している。 However, the nitrogen partial pressure at which zircon nitride itself becomes golden is 3.0×10 -2 Pa, and if it exceeds 4.5×10 -2 Pc, the film itself becomes extremely brittle, which poses a practical problem in terms of crack resistance. . For this reason, the nitrogen partial pressure is
A range of (3.0 to 4.5) × 10 -2 Pa is suitable.
第３図示のグラフは、本発明の（窒化ジルコン
＋窒化タンタル）複合膜と、純金スパツタ膜と、
従来のスパツタによる窒化ジルコン膜との間の色
調の差を、第１図示と同様に明度L*、彩度C*、
色相H゜により示したものである。このグラフよ
り、本発明に係る製造方法により形成した複合膜
の色調は明度L*、彩度C*ともに従来のスパツタ
による窒化ジルコン膜に比較し優れていることが
わかる。また色相H゜については、純金スパツタ
膜に非常に近付いていることがわかる。 The graph shown in the third figure shows the (zircon nitride + tantalum nitride) composite film of the present invention, the pure gold sputtered film,
The difference in color tone between the conventional sputtered zirconium nitride film and the zirconium nitride film is expressed as lightness L * , chroma C * ,
It is indicated by hue H°. From this graph, it can be seen that the color tone of the composite film formed by the manufacturing method according to the present invention is superior in both lightness L * and chroma C * compared to the conventional sputtered zirconium nitride film. It can also be seen that the hue H° is very close to that of the pure gold spatter film.
更に第４図示のグラフでは、色調決定の要因と
なるタンタルの成分比（重量％）とスパツタ温度
において、彩度C*についてプロツトしたもので
ある。このグラフにおいて、各条件での色調を彩
度C*をもとに分類すると、ZONE 〜に分
類され、ZONE 〜までの領域が装飾性金色
硬質膜を得るに有効な領域であり、スパツタ時温
度50℃〜300℃の範囲内で、タンタルの成分比は
３重量％〜68重量％の範囲であつた。 Further, in the graph shown in Figure 4, the saturation C * is plotted against the component ratio (wt%) of tantalum, which is a factor in determining the color tone, and the sputtering temperature. In this graph, if the color tone under each condition is classified based on saturation C * , it is classified into ZONE ~, and the area up to ZONE ~ is an effective area for obtaining a decorative golden hard film, and the temperature at the time of sputtering is Within the range of 50°C to 300°C, the component ratio of tantalum was in the range of 3% to 68% by weight.
またスパツタリングにおいて、金属タンタルは
金属ジルコンに比較し、酸素に対して活性であ
り、真空中内の不純ガスとしての酸素に対してゲ
ツタ作用を持ち、色調に対する酸素の悪影響を防
止することが可能となる。 In addition, in sputtering, tantalum metal is more active against oxygen than zircon metal, and has a grating effect against oxygen as an impurity gas in vacuum, making it possible to prevent the negative effects of oxygen on color tone. Become.
実施例 ４
この実施例は、ａ族元素であるジルコンの窒
化物とａ族元素であるクロムの窒化物とを複合
する複合膜を形成する例である。Example 4 This example is an example in which a composite film is formed by combining nitride of zircon, which is a group A element, and nitride of chromium, which is a group A element.
条件を実施例１と同様とし、金属ジルコン上の
シヤツターを全開、金属クロム上のシヤツターを
１／３開とし、高周波出力、金属ジルコン
6.3Watt／cm2、金属クロム8Watt／cm2にて反応性
スパツタリングを７分間行つた。その結果、窒化
ジルコンと金属クロムを複合し、クロムの成分比
が20重量％である複合膜をABS樹脂製部品上へ
0.15μの厚さにコーテイングすることができた。
このときクロムを含有した複合膜は金属感があ
り、かつ極めて光沢のある淡い金色を呈した。 The conditions are the same as in Example 1, the shutter on the metal zircon is fully open, the shutter on the metal chrome is 1/3 open, high frequency output, metal zircon
Reactive sputtering was performed for 7 minutes at 6.3 Watt/cm 2 and 8 Watt/cm 2 of metallic chromium. As a result, a composite film made of zircon nitride and metallic chromium with a chromium component ratio of 20% by weight was applied onto ABS resin parts.
We were able to coat it to a thickness of 0.15μ.
At this time, the composite film containing chromium had a metallic feel and exhibited an extremely shiny pale gold color.
本発明による複合膜は、樹脂、金属またはセラ
ミツクなど対象物となる素材を特に限定するもの
ではないが、これら素材上にニツケル、クロム、
ニクロムなどの下地被膜をメツキ等の方法で形成
し、その上に上記複合膜をコーテイングしてもよ
い。またはこれ等素材上にあらかじめスパツタリ
ング、蒸着、イオンプレーテイングにてニツケ
ル、クロム、ニクロムなどの金属を下地コーテイ
ングし、その後連続して反応性スパツタリングに
より複合膜のコーテイングを実施することも可能
である。 The composite film according to the present invention is not particularly limited to materials such as resins, metals, or ceramics, but may be made of nickel, chromium,
A base coat of nichrome or the like may be formed by a method such as plating, and the composite film may be coated thereon. Alternatively, it is also possible to pre-coat these materials with a metal such as nickel, chromium, or nichrome by sputtering, vapor deposition, or ion plating, and then coat the composite film by sequentially applying reactive sputtering.
すなわち密着性向上の目的で、また特に素材が
耐食性の劣る金属である場合には、その耐食性向
上の目的も兼ねて下地被膜が設けられることもあ
る。 That is, an undercoating may be provided for the purpose of improving adhesion, and especially when the material is a metal with poor corrosion resistance, also for the purpose of improving the corrosion resistance.
第１図は本発明に係る製造方法により形成した
（窒化チタン＋窒化タンタル）複合膜と純金スパ
ツタ膜と従来のスパツタによる窒化チタン膜との
間の色調の差を示す関係図、第２図は同上（窒化
チタン＋窒化タンタル）複合膜の色調決定の要因
となるタンタルの成分比と彩度C*との間の関係
図、第３図は本発明に係る製造方法により形成し
た（窒化ジルコン＋窒化タンタル）複合膜と純金
スパツタ膜と従来のスパツタによる窒化ジルコン
膜との間の色調の差を示す関係図、第４図は同上
（窒化ジルコン＋窒化タンタル）複合膜の色調決
定の要因となるタンタルの成分比と彩度C*との
間の関係図、である。
Fig. 1 is a relational diagram showing the difference in color tone between a (titanium nitride + tantalum nitride) composite film formed by the manufacturing method of the present invention, a pure gold sputtered film, and a titanium nitride film formed by conventional sputtering. Figure 3 shows a relationship diagram between the component ratio of tantalum, which is a factor in determining the color tone of the same as above (titanium nitride + tantalum nitride) composite film, and the chroma C * . Figure 4 is a relationship diagram showing the difference in color tone between a tantalum nitride (tantalum nitride) composite film, a pure gold sputtered film, and a conventional sputtered zircon nitride film. FIG. 2 is a relationship diagram between the component ratio of tantalum and the saturation C * .
Claims (1)
の元素からなる第１の金属とａ族元素または
ａ族元素の中の少なくとも１つの元素からなる第
２の金属とをターゲツトとし、窒素雰囲気中にお
いて上記２つの金属を同時に対象物に対し反応性
スパツタリングを行ない、上記第１の金属の窒化
反応に対し上記第２の金属を緩衝剤として作用さ
せつつ、上記第１の金属の窒化物と上記第２の金
属の窒化物とを複合する複合膜を上記対象物の表
面に形成する ことを特徴とする金色を呈する物品の製造方法。[Scope of Claims] 1. A first metal made of at least one element of group a elements of the periodic table and a second metal made of a group a element or at least one element of group a elements. Using the two metals as a target, reactive sputtering is performed on the object at the same time in a nitrogen atmosphere, and while the second metal acts as a buffer against the nitriding reaction of the first metal, the first metal is sputtered. A method for manufacturing an article exhibiting a golden color, comprising forming a composite film of a metal nitride and the second metal nitride on the surface of the object.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18808689A JPH02138460A (en) | 1989-07-20 | 1989-07-20 | Production of articles showing golden color |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18808689A JPH02138460A (en) | 1989-07-20 | 1989-07-20 | Production of articles showing golden color |
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| JP20652886A Division JPS6362863A (en) | 1986-09-02 | 1986-09-02 | Golden article |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02138460A JPH02138460A (en) | 1990-05-28 |
| JPH0581665B2 true JPH0581665B2 (en) | 1993-11-15 |
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ID=16217458
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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|---|---|---|---|---|
| JP5979927B2 (en) | 2012-03-19 | 2016-08-31 | シチズンホールディングス株式会社 | Golden hard decorative material |
-
1989
- 1989-07-20 JP JP18808689A patent/JPH02138460A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| JPH02138460A (en) | 1990-05-28 |
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