JPH0578281A - 置換されたビニル鎖により3位置が置換された新規なシクロプロパンカルボン酸 - Google Patents
置換されたビニル鎖により3位置が置換された新規なシクロプロパンカルボン酸Info
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- JPH0578281A JPH0578281A JP3354074A JP35407491A JPH0578281A JP H0578281 A JPH0578281 A JP H0578281A JP 3354074 A JP3354074 A JP 3354074A JP 35407491 A JP35407491 A JP 35407491A JP H0578281 A JPH0578281 A JP H0578281A
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- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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- C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
- C07D233/54—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D233/66—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 置換されたビニル鎖により3位置が置換され
た、寄生虫を撲滅するために使用しうる有用な性質を示
す新規なシクロプロパンカルボン酸誘導体を製造するた
めの中間体を提供する。 【構成】 本発明の新規の中間体化合物は、次式(IV')
を有する。 【化1】 [式中、Xは酸素若しくは硫黄原子、スルホキシド基又
はスルホン基を示し、R1 及びR3 は同一でも異なって
もよく、線状、分枝鎖状若しくは環状の飽和若しくは不
飽和アルキル基(その連鎖は1個若しくはそれ以上の複
素原子により中断されてもよく、また、1個若しくはそ
れ以上のハロゲン原子により置換されてもよい)又は6
〜18個の炭素原子を有するアリール若しくはアラルキ
ル基を示す]
た、寄生虫を撲滅するために使用しうる有用な性質を示
す新規なシクロプロパンカルボン酸誘導体を製造するた
めの中間体を提供する。 【構成】 本発明の新規の中間体化合物は、次式(IV')
を有する。 【化1】 [式中、Xは酸素若しくは硫黄原子、スルホキシド基又
はスルホン基を示し、R1 及びR3 は同一でも異なって
もよく、線状、分枝鎖状若しくは環状の飽和若しくは不
飽和アルキル基(その連鎖は1個若しくはそれ以上の複
素原子により中断されてもよく、また、1個若しくはそ
れ以上のハロゲン原子により置換されてもよい)又は6
〜18個の炭素原子を有するアリール若しくはアラルキ
ル基を示す]
Description
【0001】本発明は、置換されたビニル鎖により3位
置が置換された新規なシクロプロパンカルボン酸に関す
るものである。
置が置換された新規なシクロプロパンカルボン酸に関す
るものである。
【0002】従って、本発明の主題は、全ての立体異性
体型における又は立体異性体の混合物としての一般式(I
V') :
体型における又は立体異性体の混合物としての一般式(I
V') :
【化2】 [式中、Xは酸素若しくは硫黄原子、スルホキシド基又
はスルホン基を示し、R1 及びR3 は同一でも異なって
もよく、線状、分枝鎖状若しくは環状の飽和若しくは不
飽和アルキル基(その連鎖は1個若しくはそれ以上の複
素原子により中断されてもよく、また、1個若しくはそ
れ以上のハロゲン原子により置換されてもよい)又は6
〜18個の炭素原子を有するアリール若しくはアラルキ
ル基を示す]を有する化合物、特にXが酸素若しくは硫
黄原子を示す式(IV') を有する化合物にある。
はスルホン基を示し、R1 及びR3 は同一でも異なって
もよく、線状、分枝鎖状若しくは環状の飽和若しくは不
飽和アルキル基(その連鎖は1個若しくはそれ以上の複
素原子により中断されてもよく、また、1個若しくはそ
れ以上のハロゲン原子により置換されてもよい)又は6
〜18個の炭素原子を有するアリール若しくはアラルキ
ル基を示す]を有する化合物、特にXが酸素若しくは硫
黄原子を示す式(IV') を有する化合物にある。
【0003】式(IV') を有する化合物において、R1 及
びR3 は特に次の基を示すことができる:メチル、エチ
ル、線状若しくは分枝鎖状のプロピル、線状若しくは分
枝鎖状のブチル、線状若しくは分枝鎖状のペンチル、線
状若しくは分枝鎖状のヘキシル、シクロプロピル、シク
ロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、1−プロ
ペニル、1−ブテニル、1,3−ブタジエニル、1−ペ
ンテニル、1−シクロブテニル、1−シクロペンテニ
ル、1−シクロヘキセニル又は次の基: −CH2 −O−CH3 、 −CH2 −CH2 −O−CH3 、 −CH2 −NH−CH3 、 −CH2 −CH2 −NH−CH3 、 −CH2 −S−CH3 、 −CH2 −CH2 −S−CH3 、 −CHCl−CH2 −CH2 Cl、 −CHCl−CH2 −CHCl−CH2 −CH2 Cl、 −CH2 −CHCl−CH2 −CHCl−CH3 、 −CH2 −CHBr−CH3 、 −CHBr−CH2 −CHBr−CH3 、 −CH2 −CHBr−CH2 −CHBr−CH3 の1つ。さらに、R1 及びR3 は特にフェニル、トリ
ル、キシリル、若しくはベンジル基、又は2−フェノキ
シエチル若しくは3−フェノキシプロピル基を示すこと
もできる。
びR3 は特に次の基を示すことができる:メチル、エチ
ル、線状若しくは分枝鎖状のプロピル、線状若しくは分
枝鎖状のブチル、線状若しくは分枝鎖状のペンチル、線
状若しくは分枝鎖状のヘキシル、シクロプロピル、シク
ロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、1−プロ
ペニル、1−ブテニル、1,3−ブタジエニル、1−ペ
ンテニル、1−シクロブテニル、1−シクロペンテニ
ル、1−シクロヘキセニル又は次の基: −CH2 −O−CH3 、 −CH2 −CH2 −O−CH3 、 −CH2 −NH−CH3 、 −CH2 −CH2 −NH−CH3 、 −CH2 −S−CH3 、 −CH2 −CH2 −S−CH3 、 −CHCl−CH2 −CH2 Cl、 −CHCl−CH2 −CHCl−CH2 −CH2 Cl、 −CH2 −CHCl−CH2 −CHCl−CH3 、 −CH2 −CHBr−CH3 、 −CHBr−CH2 −CHBr−CH3 、 −CH2 −CHBr−CH2 −CHBr−CH3 の1つ。さらに、R1 及びR3 は特にフェニル、トリ
ル、キシリル、若しくはベンジル基、又は2−フェノキ
シエチル若しくは3−フェノキシプロピル基を示すこと
もできる。
【0004】一般式(IV') の化合物は、式(II):
【化3】 [式中、R4 は水素原子又は容易に開裂しうるアルコー
ルの残基を示し、R4 が水素原子でありかつ配列がcis
である場合、式:
ルの残基を示し、R4 が水素原子でありかつ配列がcis
である場合、式:
【化4】 の環状型として示すことができる]を有する化合物を式
(III) :
(III) :
【化5】 [式中、X、R1 及びR3 は上記の意味を有する]を有
する化合物と反応させて式(IV):
する化合物と反応させて式(IV):
【化6】 を有する化合物を得、R4 が容易に開裂しうるエステル
の残基を示す場合にはこれを加水分解剤の作用にかけて
R4 が水素原子を示す式(IV)の化合物(即ち一般式(I
V') の化合物)を得ることによって製造することができ
る。
の残基を示す場合にはこれを加水分解剤の作用にかけて
R4 が水素原子を示す式(IV)の化合物(即ち一般式(I
V') の化合物)を得ることによって製造することができ
る。
【0005】一般式(IV') の化合物は、全ての立体異性
体型における又は立体異性体の混合物としての一般式
(I):
体型における又は立体異性体の混合物としての一般式
(I):
【化7】 [式中、X、R1 及びR3 は前記の意味を持ち、R2 は
ピレスリノイドの合成に使用されるアルコールR2 OH
の残基を示す]を有する化合物を製造するための中間体
として有用である。即ち、式(IV') の化合物をアルコー
ルR2 OH又はその誘導体の1種の作用にかけることに
よって、式(I)を有する対応する化合物を得ることが
できる。
ピレスリノイドの合成に使用されるアルコールR2 OH
の残基を示す]を有する化合物を製造するための中間体
として有用である。即ち、式(IV') の化合物をアルコー
ルR2 OH又はその誘導体の1種の作用にかけることに
よって、式(I)を有する対応する化合物を得ることが
できる。
【0006】式(I)を有する化合物は、寄生虫を撲滅
するために使用しうる有用な性質を示す。例えばこれは
植物の寄生虫、家屋の寄生虫及び温血動物の寄生虫を撲
滅することができる。したがって、式(I)の化合物は
昆虫、線虫並びに植物及び動物の寄生性ダニを撲滅する
ために使用することができる。
するために使用しうる有用な性質を示す。例えばこれは
植物の寄生虫、家屋の寄生虫及び温血動物の寄生虫を撲
滅することができる。したがって、式(I)の化合物は
昆虫、線虫並びに植物及び動物の寄生性ダニを撲滅する
ために使用することができる。
【0007】上記方法を行なうための好適条件は次の通
りである:式(III) を有する化合物による作用は、例え
ばアルカリアルコラート(例えばカリウムt−ブチラー
ト又はナトリウムエチラート)のような強塩基の存在下
で行ない;容易に開裂しうるアルコールの残基はメトキ
シメチル、メチルチオメチル又はt−ブチル残基であ
り;容易に開裂しうるエステルに反応させる加水分解剤
は、特に、例えばp−トルエンスルホン酸、トリフルオ
ロ酢酸又は塩酸のような酸分解剤であり;式(IV') を有
する化合物とアルコールR2 OHとの縮合は、ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド又はジイソプロピルカルボジイ
ミドの存在下で有利に行なわれる。
りである:式(III) を有する化合物による作用は、例え
ばアルカリアルコラート(例えばカリウムt−ブチラー
ト又はナトリウムエチラート)のような強塩基の存在下
で行ない;容易に開裂しうるアルコールの残基はメトキ
シメチル、メチルチオメチル又はt−ブチル残基であ
り;容易に開裂しうるエステルに反応させる加水分解剤
は、特に、例えばp−トルエンスルホン酸、トリフルオ
ロ酢酸又は塩酸のような酸分解剤であり;式(IV') を有
する化合物とアルコールR2 OHとの縮合は、ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド又はジイソプロピルカルボジイ
ミドの存在下で有利に行なわれる。
【0008】式(IV)の化合物は、式(II)の化合物を
式(V):
式(V):
【化8】 [式中、X、R1 及びR3 は上記の意味を有しかつYは
8個までの炭素原子を有するアルコキシル又はアリール
基を示す]を有する化合物の作用にかけることによって
製造することもできる。好適実現方法においては、式
(II)を有する化合物を例えばブチルリチウムのような
強塩基の存在下で式(V)を有する化合物と反応させ
る。
8個までの炭素原子を有するアルコキシル又はアリール
基を示す]を有する化合物の作用にかけることによって
製造することもできる。好適実現方法においては、式
(II)を有する化合物を例えばブチルリチウムのような
強塩基の存在下で式(V)を有する化合物と反応させ
る。
【0009】参考として、式(I)の化合物においてX
がスルホキシド基若しくはスルホン基を示す化合物は、
出発化合物としてXが硫黄原子を示す式(III) 又は式
(V)を有する化合物を使用し、このように得られた式
(I)においてXが硫黄原子である化合物に対し酸化を
行なうことによって製造することもできる。上記方法を
行なうための好適条件において、酸化剤はメタ過沃素酸
ナトリウム又は例えば過安息香酸若しくはメタクロル過
安息香酸のような過酸である。
がスルホキシド基若しくはスルホン基を示す化合物は、
出発化合物としてXが硫黄原子を示す式(III) 又は式
(V)を有する化合物を使用し、このように得られた式
(I)においてXが硫黄原子である化合物に対し酸化を
行なうことによって製造することもできる。上記方法を
行なうための好適条件において、酸化剤はメタ過沃素酸
ナトリウム又は例えば過安息香酸若しくはメタクロル過
安息香酸のような過酸である。
【0010】式(II)、(III) 及び(V)を有する化合
物は文献に記載されている。
物は文献に記載されている。
【0011】式(IV') を有する酸の中では、特に次のも
のを挙げることができる。 1R,trans 3−(ΔE2−メトキシ−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸及び1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−
2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチル
シクロプロパンカルボン酸;1R,trans 3−(ΔZ2
−メチルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸;1R,tr
ans 3−(ΔE又はΔZ2−フェニルチオ−2−エトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸;1R,trans 3−(ΔE2−エトキシ
−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチ
ルシクロプロパンカルボン酸及び1R,trans 3−(Δ
Z2−エトキシ−2−エトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸;1R,ci
s 3−(ΔZ2−フェニルチオ−2−エトキシカルボニ
ルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボ
ン酸;1R,cis 3−(ΔE2−メトキシカルボニル−
2−メトキシエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸及び対応する1R,cis ΔZ酸;1R,
cis 3−(ΔZ2−メチルチオ−2−メトキシカルボニ
ルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボ
ン酸及び対応するΔE酸;1R,trans 3−(ΔE2−
メトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸及び対応す
るΔZ酸。
のを挙げることができる。 1R,trans 3−(ΔE2−メトキシ−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸及び1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−
2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチル
シクロプロパンカルボン酸;1R,trans 3−(ΔZ2
−メチルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸;1R,tr
ans 3−(ΔE又はΔZ2−フェニルチオ−2−エトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸;1R,trans 3−(ΔE2−エトキシ
−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチ
ルシクロプロパンカルボン酸及び1R,trans 3−(Δ
Z2−エトキシ−2−エトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸;1R,ci
s 3−(ΔZ2−フェニルチオ−2−エトキシカルボニ
ルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボ
ン酸;1R,cis 3−(ΔE2−メトキシカルボニル−
2−メトキシエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸及び対応する1R,cis ΔZ酸;1R,
cis 3−(ΔZ2−メチルチオ−2−メトキシカルボニ
ルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボ
ン酸及び対応するΔE酸;1R,trans 3−(ΔE2−
メトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸及び対応す
るΔZ酸。
【0012】以下の例により本発明を説明するが、本発
明はこれらのみに限定されない。
明はこれらのみに限定されない。
【0013】例1:1R,trans 3−(ΔE2−メトキ
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔE、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=CH3 、X=O)
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔE、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=CH3 、X=O)
【0014】工程A 1R,trans 3−(ΔE及びΔZ2−メトキシ−2−メ
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸t−ブチル (1R,trans ΔE及びΔZ、R1 =CH3 、R4 =t
−ブチル、R3 =CH3、X=O)。テトラヒドロフラ
ン80ミリリットル中のメチル−1−メトキシアセテー
ト−O,O−ジメチルホスホン酸8.5gの溶液中へシ
クロヘキサン中のブチルリチウムの20%溶液21ミリ
リットルを−60℃で導入して10分間撹拌し、さらに
−60℃にてテトラヒドロフラン25ミリリットル中の
1R,trans 3−ホルミル−2,2−ジメチルシクロプ
ロパンカルボン酸t−ブチル7.92gの溶液を導入
し、そして−60℃にて5時間撹拌した。次いで、反応
混合物を水中へ注ぎ入れ、撹拌しそしてエチルエーテル
で抽出した。有機相をデカンテーションにより分離し、
減圧下での蒸留により濃縮乾固させた。残留物をシリカ
上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルと
の混合物(9/1)で溶出させてΔZエステル1.23
gとΔEエステル6.77gとを得た。 ΔZ異性体 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.3p
pm。 t−ブチルのメチルの水素に基づくピーク、1.47p
pm。 シクロプロピルの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.57〜1.67ppm及び2.25〜2.5
ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.73及び3.8
ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.93〜6.1pp
m。 ΔE異性体 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.13〜1.28
ppm。 t−ブチルのメチルの水素に基づくピーク、1.45p
pm。 シクロプロピルの位置3における水素のピーク、2.5
3〜2.76ppm。 メトキシメチルの水素に基づくピーク、3.6〜4.3
ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.9〜5.03pp
m。
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸t−ブチル (1R,trans ΔE及びΔZ、R1 =CH3 、R4 =t
−ブチル、R3 =CH3、X=O)。テトラヒドロフラ
ン80ミリリットル中のメチル−1−メトキシアセテー
ト−O,O−ジメチルホスホン酸8.5gの溶液中へシ
クロヘキサン中のブチルリチウムの20%溶液21ミリ
リットルを−60℃で導入して10分間撹拌し、さらに
−60℃にてテトラヒドロフラン25ミリリットル中の
1R,trans 3−ホルミル−2,2−ジメチルシクロプ
ロパンカルボン酸t−ブチル7.92gの溶液を導入
し、そして−60℃にて5時間撹拌した。次いで、反応
混合物を水中へ注ぎ入れ、撹拌しそしてエチルエーテル
で抽出した。有機相をデカンテーションにより分離し、
減圧下での蒸留により濃縮乾固させた。残留物をシリカ
上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルと
の混合物(9/1)で溶出させてΔZエステル1.23
gとΔEエステル6.77gとを得た。 ΔZ異性体 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.3p
pm。 t−ブチルのメチルの水素に基づくピーク、1.47p
pm。 シクロプロピルの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.57〜1.67ppm及び2.25〜2.5
ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.73及び3.8
ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.93〜6.1pp
m。 ΔE異性体 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.13〜1.28
ppm。 t−ブチルのメチルの水素に基づくピーク、1.45p
pm。 シクロプロピルの位置3における水素のピーク、2.5
3〜2.76ppm。 メトキシメチルの水素に基づくピーク、3.6〜4.3
ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.9〜5.03pp
m。
【0015】工程B 1R,trans 3−(ΔE2−メトキシ−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸 (1R,trans 、ΔE、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=CH3 、X=O) 塩化メチレン40ミリリットル中の1R,trans 3−
(ΔE2−メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニ
ル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸t−
ブチル2.13gの溶液中へ9.1ミリリットルのトリ
フルオロ酢酸を0℃にて導入し、この温度で3時間撹拌
した。90ミリリットルのシクロヘキサンを導入し、そ
して全体を撹拌し、次いで減圧下での蒸留により濃縮乾
固させた。残留物をシリカ上でのクロマトグラフにか
け、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(4/6)で溶出
させて0.87gの求める生成物を得た。MP=78
℃。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク1.2〜1.35pp
m。 シクロプロパンの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.44〜1.53ppm及び2.7〜2.9p
pm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.60〜3.84
ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.9〜5.03pp
m。
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸 (1R,trans 、ΔE、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=CH3 、X=O) 塩化メチレン40ミリリットル中の1R,trans 3−
(ΔE2−メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニ
ル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸t−
ブチル2.13gの溶液中へ9.1ミリリットルのトリ
フルオロ酢酸を0℃にて導入し、この温度で3時間撹拌
した。90ミリリットルのシクロヘキサンを導入し、そ
して全体を撹拌し、次いで減圧下での蒸留により濃縮乾
固させた。残留物をシリカ上でのクロマトグラフにか
け、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(4/6)で溶出
させて0.87gの求める生成物を得た。MP=78
℃。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク1.2〜1.35pp
m。 シクロプロパンの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.44〜1.53ppm及び2.7〜2.9p
pm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.60〜3.84
ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.9〜5.03pp
m。
【0016】工程B’ 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=CH3 、X=O) 19gの1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−メ
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸t−ブチルと1.9gのパラトルエ
ンスルホン酸とを190ミリリットルのトルエン中に導
入し、反応混合物を還流させそして1時間還流させ続
け、次いで減圧下で濃縮乾固した。水とエーテルとを加
え、撹拌後にエーテル相をデカンテーションにより分離
し、そして減圧下での蒸留により濃縮乾固した。残留物
をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸
エチルとの混合物(4/6)で溶出させて7gの求める
生成物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.26〜1.37
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.67〜1.75ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.4〜2.47〜2.54〜2.03ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7〜3.8pp
m。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.06pp
m。 カルボキシルの水素に基づくピーク、8.3ppm。
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=CH3 、X=O) 19gの1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−メ
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸t−ブチルと1.9gのパラトルエ
ンスルホン酸とを190ミリリットルのトルエン中に導
入し、反応混合物を還流させそして1時間還流させ続
け、次いで減圧下で濃縮乾固した。水とエーテルとを加
え、撹拌後にエーテル相をデカンテーションにより分離
し、そして減圧下での蒸留により濃縮乾固した。残留物
をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸
エチルとの混合物(4/6)で溶出させて7gの求める
生成物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.26〜1.37
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.67〜1.75ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.4〜2.47〜2.54〜2.03ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7〜3.8pp
m。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.06pp
m。 カルボキシルの水素に基づくピーク、8.3ppm。
【0017】参考例1:1R,trans 3−(ΔE2−メ
トキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−1
−(3−フェノキシフェニル)−メチル 1.45gの1−クロル−N,N−2−トリメチルプロ
ペニルアミンと1.7gの1R,trans 3−(ΔE2−
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸とを14ミリリッ
トルの塩化メチレン中に導入し、そして30分間撹拌し
た。1.7gの(S)−α−シアノ−1−(3−フェノ
キシフェニル)−メチルアルコールと塩化メチレン14
ミリリットル中のピリジン1.47gの溶液とを導入
し、全体を20℃にて3時間撹拌した。次いで、反応混
合物を1N塩酸水溶液中に注ぎ入れ、そして撹拌した。
有機相をデカンテーションにより分離し、水洗し、そし
て減圧下での蒸留により濃縮乾固した。残留物をシリカ
上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルと
の混合物(8/2)で溶出させて2.7gの求める生成
物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.16〜1.28
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.5〜1.6ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.74〜2.83〜2.88〜2.97ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.6〜3.85p
pm。 エチレン水素に基づくピーク、4.9〜5.0ppm。 CNのα位における炭素により担持された水素に基づく
ピーク、6.45ppm。
トキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−1
−(3−フェノキシフェニル)−メチル 1.45gの1−クロル−N,N−2−トリメチルプロ
ペニルアミンと1.7gの1R,trans 3−(ΔE2−
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸とを14ミリリッ
トルの塩化メチレン中に導入し、そして30分間撹拌し
た。1.7gの(S)−α−シアノ−1−(3−フェノ
キシフェニル)−メチルアルコールと塩化メチレン14
ミリリットル中のピリジン1.47gの溶液とを導入
し、全体を20℃にて3時間撹拌した。次いで、反応混
合物を1N塩酸水溶液中に注ぎ入れ、そして撹拌した。
有機相をデカンテーションにより分離し、水洗し、そし
て減圧下での蒸留により濃縮乾固した。残留物をシリカ
上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルと
の混合物(8/2)で溶出させて2.7gの求める生成
物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.16〜1.28
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.5〜1.6ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.74〜2.83〜2.88〜2.97ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.6〜3.85p
pm。 エチレン水素に基づくピーク、4.9〜5.0ppm。 CNのα位における炭素により担持された水素に基づく
ピーク、6.45ppm。
【0018】参考例2:1R,trans (ΔE2−メトキ
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸1−(3−フェノキシフ
ェニル)−メチル 2.28gの1R,trans (ΔE2−メトキシ−2−メ
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸と20ミリリットルの塩化メチレン
と2.06gのジシクロルヘキシルカルボジイミドと1
ミリリットルのピリジンとを混合し、そして20℃で4
5分間撹拌した。塩化メチレン5ミリリットル中の3−
フェノキシベンジルアルコール2gの溶液を導入し、2
0℃にて16時間撹拌した。ろ過後、ろ液を減圧下での
蒸留により濃縮乾固させ、残留物をシリカ上でのクロマ
トグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(7
/3)で溶出させた。1.6gの求める生成物が得られ
た。 [α]D =+3.5°、(c=1%、クロロホルム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.16〜1.3p
pm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.48〜1.57ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.67〜2.76ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.58〜3.8p
pm。 エチレン水素に基づくピーク、4.9〜5.03pp
m。 ベンジルCH2 の水素に基づくピーク、5.1ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.8〜7.6pp
m。
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸1−(3−フェノキシフ
ェニル)−メチル 2.28gの1R,trans (ΔE2−メトキシ−2−メ
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸と20ミリリットルの塩化メチレン
と2.06gのジシクロルヘキシルカルボジイミドと1
ミリリットルのピリジンとを混合し、そして20℃で4
5分間撹拌した。塩化メチレン5ミリリットル中の3−
フェノキシベンジルアルコール2gの溶液を導入し、2
0℃にて16時間撹拌した。ろ過後、ろ液を減圧下での
蒸留により濃縮乾固させ、残留物をシリカ上でのクロマ
トグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(7
/3)で溶出させた。1.6gの求める生成物が得られ
た。 [α]D =+3.5°、(c=1%、クロロホルム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.16〜1.3p
pm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.48〜1.57ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.67〜2.76ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.58〜3.8p
pm。 エチレン水素に基づくピーク、4.9〜5.03pp
m。 ベンジルCH2 の水素に基づくピーク、5.1ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.8〜7.6pp
m。
【0019】適当なアルコールを使用して参考例2にお
けると同様に操作することにより、次の化合物(参考例
3〜14)が得られた。
けると同様に操作することにより、次の化合物(参考例
3〜14)が得られた。
【0020】参考例3:1R,trans 3−(ΔZ2−メ
トキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−1
−(3−フェノキシフェニル)−メチル [α]D =+7.5°(c=0.8%、CHCl3 ) NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.27
ppm。 シクロプロピルの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.7〜1.8ppm及び2.4〜2.7pp
m。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7〜3.8pp
m。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.0ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.0〜7.6pp
m。
トキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−1
−(3−フェノキシフェニル)−メチル [α]D =+7.5°(c=0.8%、CHCl3 ) NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.27
ppm。 シクロプロピルの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.7〜1.8ppm及び2.4〜2.7pp
m。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7〜3.8pp
m。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.0ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.0〜7.6pp
m。
【0021】参考例4:1R,trans (ΔZ2−メトキ
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸1−(3−フェノキシフ
ェニル)−メチル [α]D =+10°(c=0.5%、クロロホルム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.3p
pm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.6〜1.7ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.36〜2.6ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7〜3.8pp
m。 ベンジルメチレンの水素に基づくピーク、5.1pp
m。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.1ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.6pp
m。
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸1−(3−フェノキシフ
ェニル)−メチル [α]D =+10°(c=0.5%、クロロホルム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.3p
pm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.6〜1.7ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.36〜2.6ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7〜3.8pp
m。 ベンジルメチレンの水素に基づくピーク、5.1pp
m。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.1ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.6pp
m。
【0022】参考例5:1R,trans (ΔE2−メトキ
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸3’−アリル−2’−メ
チル−4’−オキソ−2’−シクロペンテン−1’−イ
ル MP=62℃、[α]D =−9.5°(c=0.5%、
クロロホルム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.18〜1.32
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.45〜1.54ppm。 アレスロロンの位置Z’におけるメチルに基づくピー
ク、2.06ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.7〜3.0ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.6〜3.8pp
m。
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸3’−アリル−2’−メ
チル−4’−オキソ−2’−シクロペンテン−1’−イ
ル MP=62℃、[α]D =−9.5°(c=0.5%、
クロロホルム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.18〜1.32
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.45〜1.54ppm。 アレスロロンの位置Z’におけるメチルに基づくピー
ク、2.06ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.7〜3.0ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.6〜3.8pp
m。
【0023】参考例6:1R,trans (ΔZ2−メトキ
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸3’−アリル−2’−メ
チル−4’−オキソ−2’−シクロペンテン−1’−イ
ル [α]D =−5.5°(c=0.5%、クロロホル
ム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.32
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.68〜1.77ppm。 アレスロロンの位置2’におけるメチルの水素に基づく
ピーク、2.05ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.74〜3.82
ppm。 アリルの位置3におけるメチレンの水素に基づくピー
ク、4.8〜5.25ppm。 アレスロロンの位置2’における水素に基づくピーク、
5.5〜6.2ppm。 アレスロロンの位置1’における水素に基づくピーク、
5.5〜6.2ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.1ppm。
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸3’−アリル−2’−メ
チル−4’−オキソ−2’−シクロペンテン−1’−イ
ル [α]D =−5.5°(c=0.5%、クロロホル
ム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.32
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.68〜1.77ppm。 アレスロロンの位置2’におけるメチルの水素に基づく
ピーク、2.05ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.74〜3.82
ppm。 アリルの位置3におけるメチレンの水素に基づくピー
ク、4.8〜5.25ppm。 アレスロロンの位置2’における水素に基づくピーク、
5.5〜6.2ppm。 アレスロロンの位置1’における水素に基づくピーク、
5.5〜6.2ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.1ppm。
【0024】参考例7:1R,trans (ΔZ2−メトキ
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸[1−(3−プロピン−
2−イル)−2,5−ジオキソイミダゾリジニルメチ
ル] [α]D =+3.5°(c=0.5%、クロロホル
ム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3pp
m。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.6〜1.7ppm。 エテニルの水素に基づくピーク、2.3〜2.4〜2.
45ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.35〜2.45〜2.2〜2.6ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7〜3.8pp
m。 イミダゾリンメチレンの水素に基づくピーク、4.05
ppm。 プロピニルのメチレンの水素に基づくピーク、4.25
〜4.30ppm。 −COOCH2 −におけるアルコール結合のメチレンの
水素に基づくピーク、5.4〜5.55〜5.6〜5.
7ppm。
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸[1−(3−プロピン−
2−イル)−2,5−ジオキソイミダゾリジニルメチ
ル] [α]D =+3.5°(c=0.5%、クロロホル
ム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3pp
m。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.6〜1.7ppm。 エテニルの水素に基づくピーク、2.3〜2.4〜2.
45ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.35〜2.45〜2.2〜2.6ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7〜3.8pp
m。 イミダゾリンメチレンの水素に基づくピーク、4.05
ppm。 プロピニルのメチレンの水素に基づくピーク、4.25
〜4.30ppm。 −COOCH2 −におけるアルコール結合のメチレンの
水素に基づくピーク、5.4〜5.55〜5.6〜5.
7ppm。
【0025】参考例8:1R,trans (ΔE2−メトキ
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−1−
(3−フェノキシ−4−フルオロフェニル)−メチル [α]D =+3°(c=1.5%、クロロホルム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.16〜1.25
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.45〜1.55ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.7〜2.9ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.6〜3.8pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.6pp
m。
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−1−
(3−フェノキシ−4−フルオロフェニル)−メチル [α]D =+3°(c=1.5%、クロロホルム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.16〜1.25
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.45〜1.55ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.7〜2.9ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.6〜3.8pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.6pp
m。
【0026】参考例9:1R,trans 3−(ΔZ2−メ
トキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−1
−(3−フェノキシ−4−フルオロフェニル)−メチル [α]D =+9.5°(c=1.2%、クロロホル
ム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.25
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.69〜1.78ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.4〜2.66ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、2.75〜3.82
ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.06pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7〜7.6ppm。
トキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−1
−(3−フェノキシ−4−フルオロフェニル)−メチル [α]D =+9.5°(c=1.2%、クロロホル
ム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.25
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.69〜1.78ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.4〜2.66ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、2.75〜3.82
ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.06pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7〜7.6ppm。
【0027】参考例10:1R,trans 3−(ΔE2−
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(RS)−シアノ
−6’−フェノキシ−2’−ピリジルメチル [α]D =+6°(c=0.5%、クロロホルム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.18〜1.2〜
1.28〜1.35ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.52〜1.60ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.68〜3.0ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.6〜3.78〜
3.8ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.9〜5.0ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 ピリジンの位置3及び5における水素に基づくピーク、
6.8〜6.96〜7〜7.7ppm。 ピリジンの位置4における水素に基づくピーク、7.6
5〜7.76〜7.88ppm。
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(RS)−シアノ
−6’−フェノキシ−2’−ピリジルメチル [α]D =+6°(c=0.5%、クロロホルム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.18〜1.2〜
1.28〜1.35ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.52〜1.60ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.68〜3.0ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.6〜3.78〜
3.8ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.9〜5.0ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 ピリジンの位置3及び5における水素に基づくピーク、
6.8〜6.96〜7〜7.7ppm。 ピリジンの位置4における水素に基づくピーク、7.6
5〜7.76〜7.88ppm。
【0028】参考例11:1R,trans (ΔZ2−メト
キシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸(RS)−シアノ−
6’−フェノキシ−2’−ピリジルメチル [α]D =+13.5°(c=0.7%、クロロホル
ム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.28
〜1.35ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.73〜1.82ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.4〜2.67ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.57〜3.77
〜3.8ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.08pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.38ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜8ppm。
キシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸(RS)−シアノ−
6’−フェノキシ−2’−ピリジルメチル [α]D =+13.5°(c=0.7%、クロロホル
ム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.28
〜1.35ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.73〜1.82ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.4〜2.67ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.57〜3.77
〜3.8ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.08pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.38ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜8ppm。
【0029】参考例12:1R,trans 3−(ΔZ2−
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸ベンジル NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.3p
pm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.7〜1.8ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.37〜2.5ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7〜3.8pp
m。 ベンジルメチレンの水素に基づくピーク、5.15pp
m。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.06pp
m。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.38ppm。
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸ベンジル NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.3p
pm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.7〜1.8ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.37〜2.5ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7〜3.8pp
m。 ベンジルメチレンの水素に基づくピーク、5.15pp
m。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.06pp
m。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.38ppm。
【0030】参考例13:1R,trans 3−(ΔZ2−
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸ペンタフルオロフ
ェニルメチル NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.32
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.65〜1.74ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.37〜2.61ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7〜3.8pp
m。 ベンジルメチレンの水素に基づくピーク、5.22〜
5.25〜5.27ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.06pp
m。
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸ペンタフルオロフ
ェニルメチル NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.32
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.65〜1.74ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.37〜2.61ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7〜3.8pp
m。 ベンジルメチレンの水素に基づくピーク、5.22〜
5.25〜5.27ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.06pp
m。
【0031】参考例14:1R,trans (ΔE2−メト
キシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸[1−(3−プロピン
−2−イル)−2,5−ジオキソイミダゾリジニル]−
メチル [α]D =O(クロロホルム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.15〜1.32
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.4〜1.5ppm。 エチニルの水素に基づくピーク、2.3〜2.4〜2.
43ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.65〜2.87ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.6〜3.8pp
m。 プロピニルのメチレンにおける水素に基づくピーク、
4.28〜4.32ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.9〜5.03pp
m。 −COOCH2 −のメチレンにおける水素に基づくピー
ク、5.4〜5.6〜5.62〜5.78ppm。
キシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸[1−(3−プロピン
−2−イル)−2,5−ジオキソイミダゾリジニル]−
メチル [α]D =O(クロロホルム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.15〜1.32
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.4〜1.5ppm。 エチニルの水素に基づくピーク、2.3〜2.4〜2.
43ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.65〜2.87ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.6〜3.8pp
m。 プロピニルのメチレンにおける水素に基づくピーク、
4.28〜4.32ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.9〜5.03pp
m。 −COOCH2 −のメチレンにおける水素に基づくピー
ク、5.4〜5.6〜5.62〜5.78ppm。
【0032】例2:1R,cis 3−(ΔE及びΔZ2−
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸 (1R,cis ΔE及びΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、
R3 =CH3 、X=O)4.24gのメチル−1−メト
キシアセテート−O,O−ジメチルホスホン酸と2.8
4gの1R,5S−6,6−ジメチル−4(R)−ヒド
ロキシ−3−オキソビシクロ−[3,1,0]−ヘキサ
ン−2−オンと70ミリリットルのテトラヒドロフラン
とを混合した。テトラヒドロフラン30ミリリットル中
のカリウムt−ブチラート4.5gの溶液を−45℃に
て導入し、そして−40℃で5時間撹拌した後、反応混
合物を氷水中に注ぎ入れた。次いで、これを1N塩酸水
溶液によりpH5まで酸性化し、そしてエチルエーテル
で抽出した。エーテル溶液を減圧下での蒸留により濃縮
乾固させて4.2gの求める酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.29〜1.33
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.76〜1.9(E)及び1.8〜1.96(Z)p
pm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.2〜2.5(Z)及び2.75〜3.05(E)p
pm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.63〜3.73
及び3.8〜3.05ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.55〜6.7(Z)
及び5.58〜5.73(E)ppm。
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸 (1R,cis ΔE及びΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、
R3 =CH3 、X=O)4.24gのメチル−1−メト
キシアセテート−O,O−ジメチルホスホン酸と2.8
4gの1R,5S−6,6−ジメチル−4(R)−ヒド
ロキシ−3−オキソビシクロ−[3,1,0]−ヘキサ
ン−2−オンと70ミリリットルのテトラヒドロフラン
とを混合した。テトラヒドロフラン30ミリリットル中
のカリウムt−ブチラート4.5gの溶液を−45℃に
て導入し、そして−40℃で5時間撹拌した後、反応混
合物を氷水中に注ぎ入れた。次いで、これを1N塩酸水
溶液によりpH5まで酸性化し、そしてエチルエーテル
で抽出した。エーテル溶液を減圧下での蒸留により濃縮
乾固させて4.2gの求める酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.29〜1.33
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.76〜1.9(E)及び1.8〜1.96(Z)p
pm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.2〜2.5(Z)及び2.75〜3.05(E)p
pm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.63〜3.73
及び3.8〜3.05ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.55〜6.7(Z)
及び5.58〜5.73(E)ppm。
【0033】参考例15及び15’:1R,cis 3−
(ΔZ2−メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニ
ル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
(S)α−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メ
チル及び1R,cis 3−(ΔE2−メトキシ−2−メト
キシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプ
ロパンカルボン酸(S)α−シアノ−1−(3−フェノ
キシフェニル)メチル 例2で製造した酸と適当なアルコールとから出発して参
考例2におけると同様に操作し、さらに得られた生成物
をクロマトグラフィーによって分離し、ヘキサン−酢酸
エチル混合物(8/2)で溶出させて求める2つの生成
物を得た。 エステルΔE: [α]D =+7°(c=0.3%、クロロホルム) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.21〜1.27
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.83〜1.97ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.83〜3.12ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.67〜3.88
ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.33〜5.68pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7〜7.6ppm。 エステルΔZ: [α]D =+29.5°(c=0.5%、クロロホル
ム) NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.26ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.89〜2.03ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
1.28〜2.6ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.75〜3.81
ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.5ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.5〜6.7ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.98〜7.7pp
m。
(ΔZ2−メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニ
ル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
(S)α−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メ
チル及び1R,cis 3−(ΔE2−メトキシ−2−メト
キシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプ
ロパンカルボン酸(S)α−シアノ−1−(3−フェノ
キシフェニル)メチル 例2で製造した酸と適当なアルコールとから出発して参
考例2におけると同様に操作し、さらに得られた生成物
をクロマトグラフィーによって分離し、ヘキサン−酢酸
エチル混合物(8/2)で溶出させて求める2つの生成
物を得た。 エステルΔE: [α]D =+7°(c=0.3%、クロロホルム) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.21〜1.27
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.83〜1.97ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.83〜3.12ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.67〜3.88
ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.33〜5.68pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7〜7.6ppm。 エステルΔZ: [α]D =+29.5°(c=0.5%、クロロホル
ム) NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.26ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.89〜2.03ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
1.28〜2.6ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.75〜3.81
ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.5ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.5〜6.7ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.98〜7.7pp
m。
【0034】例3:1R,trans 3−(ΔZ2−メトキ
シ−2−イソプロピルオキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=イソプロピル、X=O)
シ−2−イソプロピルオキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=イソプロピル、X=O)
【0035】工程A 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−イソプロピ
ルオキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸メトキシメチル及び対応するΔE
化合物 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =−CH2
OCH3 、R3 =イソプロピル、X=O) 1.66gの1−イソプロピルオキシカルボニル−1−
メトキシメチルジフェニル−ホスフィンオキサイドを6
0ミリリットルのテトラヒドロフラン中に導入し、シク
ロヘキサン中のブチル−リチウムの20%溶液2.75
ミリリットルを−60℃にて加え、さらにテトラヒドロ
フラン10ミリリットル中のメトキシメチル−2,2−
ジメチル−3−ホルミルシクロプロパンカルボン酸93
0mgを導入した。−60℃にて6時間撹拌した後、反
応混合物を水中へ注ぎ入れ、そしてエチルエーテルで抽
出した。抽出物を減圧下での蒸留により濃縮乾固させ、
残留物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサン
と酢酸エチルとの混合物(8/2)で溶出させて650
mgのΔZ異性体と380mgΔE異性体とを得た。 異性体ΔZ: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.33
ppm。 イソプロピルのメチルにおける水素に基づくピーク、
1.31〜1.35ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.7〜1.80ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.57〜2.63ppm。 メトキシメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.5ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7ppm。 イソプロピルの水素に基づくピーク、5.08ppm。 メトキシメチルのメチレンにおける水素に基づくピー
ク、5.3ppm。 異性体ΔE: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.35
ppm。 イソプロピルのメチルにおける水素に基づくピーク、
1.3〜1.42ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.49〜1.58ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.75〜3ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.6ppm。 メトキシメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.5ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.88〜5.02pp
m。 メトキシメチルのメチレンにおける水素に基づくピー
ク、5.3ppm。
ルオキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸メトキシメチル及び対応するΔE
化合物 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =−CH2
OCH3 、R3 =イソプロピル、X=O) 1.66gの1−イソプロピルオキシカルボニル−1−
メトキシメチルジフェニル−ホスフィンオキサイドを6
0ミリリットルのテトラヒドロフラン中に導入し、シク
ロヘキサン中のブチル−リチウムの20%溶液2.75
ミリリットルを−60℃にて加え、さらにテトラヒドロ
フラン10ミリリットル中のメトキシメチル−2,2−
ジメチル−3−ホルミルシクロプロパンカルボン酸93
0mgを導入した。−60℃にて6時間撹拌した後、反
応混合物を水中へ注ぎ入れ、そしてエチルエーテルで抽
出した。抽出物を減圧下での蒸留により濃縮乾固させ、
残留物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサン
と酢酸エチルとの混合物(8/2)で溶出させて650
mgのΔZ異性体と380mgΔE異性体とを得た。 異性体ΔZ: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.33
ppm。 イソプロピルのメチルにおける水素に基づくピーク、
1.31〜1.35ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.7〜1.80ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.57〜2.63ppm。 メトキシメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.5ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7ppm。 イソプロピルの水素に基づくピーク、5.08ppm。 メトキシメチルのメチレンにおける水素に基づくピー
ク、5.3ppm。 異性体ΔE: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.35
ppm。 イソプロピルのメチルにおける水素に基づくピーク、
1.3〜1.42ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.49〜1.58ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.75〜3ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.6ppm。 メトキシメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.5ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.88〜5.02pp
m。 メトキシメチルのメチレンにおける水素に基づくピー
ク、5.3ppm。
【0036】工程B 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−イソプロピ
ルオキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=イソプロピル、X=O) 5.4gの1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−
イソプロピルオキシカルボニルエテニル)−2,2−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸メトキシメチルと10
0ミリリットルのメタノールと100ミリリットルのア
セトンと200ミリリットルの1N塩酸水溶液とを混合
し、20℃にて16時間撹拌し、次いで水中へ注ぎ入れ
た。塩化メチレンで抽出した後、抽出物を減圧下での蒸
留により濃縮乾固して4.6gの求める酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.27〜1.38
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.67〜1.77ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.38〜2.63ppm。 イソプロピルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.05ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.76ppm。 イソプロピルの水素に基づくピーク、5.17ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.08pp
m。
ルオキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=イソプロピル、X=O) 5.4gの1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−
イソプロピルオキシカルボニルエテニル)−2,2−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸メトキシメチルと10
0ミリリットルのメタノールと100ミリリットルのア
セトンと200ミリリットルの1N塩酸水溶液とを混合
し、20℃にて16時間撹拌し、次いで水中へ注ぎ入れ
た。塩化メチレンで抽出した後、抽出物を減圧下での蒸
留により濃縮乾固して4.6gの求める酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.27〜1.38
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.67〜1.77ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.38〜2.63ppm。 イソプロピルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.05ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.76ppm。 イソプロピルの水素に基づくピーク、5.17ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.08pp
m。
【0037】参考例16:1R,trans 3−(ΔZ2−
メトキシ−2−イソプロピルオキシカルボニルエテニ
ル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
(S)−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチ
ル 例3で製造した酸と適当なアルコールとから出発して参
考例2におけると同様に操作して、求める生成物を得
た。 [α]D =+9.5°(c=0.5%、クロロホルム) NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.27
ppm。 イソプロピルのメチルにおける水素に基づくピーク、
1.25〜1.35ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.72〜1.77ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.41〜2.67ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7ppm。 イソプロピルの水素に基づくピーク、5.1ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.8及び5.96pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.6pp
m。
メトキシ−2−イソプロピルオキシカルボニルエテニ
ル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
(S)−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチ
ル 例3で製造した酸と適当なアルコールとから出発して参
考例2におけると同様に操作して、求める生成物を得
た。 [α]D =+9.5°(c=0.5%、クロロホルム) NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.27
ppm。 イソプロピルのメチルにおける水素に基づくピーク、
1.25〜1.35ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.72〜1.77ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.41〜2.67ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7ppm。 イソプロピルの水素に基づくピーク、5.1ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.8及び5.96pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.6pp
m。
【0038】例4:1R,trans 3−(ΔZ2−メトキ
シ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=t−ブチル、X=O)
シ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=t−ブチル、X=O)
【0039】工程A 1R,trans 3−(ΔE2−メトキシ−2−t−ブトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸メトキシメチル及び対応するΔZエステ
ル 1.73gの1−t−ブトキシカルボニル−1−メトキ
シメチルジフェニルホスフィンオキサイドを60ミリリ
ットルのテトラヒドロフラン中に導入し、そして−60
℃にてシクロヘキサン中のブチルリチウムの20%溶液
2.75ミリリットルを加えた。テトラヒドロフラン1
0ミリリットル中のメトキシメチル−2,2−ジメチル
−3−ホルミルシクロプロパンカルボン酸930mgの
溶液を加え、−60℃にて5時間撹拌した後、反応混合
物を水中に注ぎ入れ、そしてエチルエーテルで抽出し
た。抽出物を減圧下での蒸留により濃縮乾固させ、残留
物をシリカ上でクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸
エチルとの混合物(8/2)で溶出させて0.7gのΔ
Zエステルと0.72gのΔEエステルとを得た。 エステルΔZ: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.35
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
53ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.68〜1.77ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.37〜2.6ppm。 メトキシメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.5ppm。 メトキシメチルのメチレンにおける水素に基づくピー
ク、5.3ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.8〜6ppm。 エステルΔE: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.34
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
56ppm。 メトキシメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.5ppm。
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸メトキシメチル及び対応するΔZエステ
ル 1.73gの1−t−ブトキシカルボニル−1−メトキ
シメチルジフェニルホスフィンオキサイドを60ミリリ
ットルのテトラヒドロフラン中に導入し、そして−60
℃にてシクロヘキサン中のブチルリチウムの20%溶液
2.75ミリリットルを加えた。テトラヒドロフラン1
0ミリリットル中のメトキシメチル−2,2−ジメチル
−3−ホルミルシクロプロパンカルボン酸930mgの
溶液を加え、−60℃にて5時間撹拌した後、反応混合
物を水中に注ぎ入れ、そしてエチルエーテルで抽出し
た。抽出物を減圧下での蒸留により濃縮乾固させ、残留
物をシリカ上でクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸
エチルとの混合物(8/2)で溶出させて0.7gのΔ
Zエステルと0.72gのΔEエステルとを得た。 エステルΔZ: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.35
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
53ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.68〜1.77ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.37〜2.6ppm。 メトキシメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.5ppm。 メトキシメチルのメチレンにおける水素に基づくピー
ク、5.3ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.8〜6ppm。 エステルΔE: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.34
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
56ppm。 メトキシメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.5ppm。
【0040】工程B 1R,trans 3−(ΔZ2−t−ブトキシカルボニル−
2−メトキシエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=t−ブチル、X=O)520mgの1R,trans 3−
(ΔZ2−メトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテ
ニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸メ
トキシメチルと10ミリリットルのメタノールと10ミ
リリットルのアセトンと20ミリリットルの1N塩酸水
溶液とを混合し、20℃にて16時間撹拌し、そして水
中へ注ぎ入れた。塩化メチレンで抽出しかつ減圧下での
蒸留により濃縮乾固した後、求める酸420mgを得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.26〜1.37
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
55ppm。 イソプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.65〜1.74ppm。 イソプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.37〜2.6ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.77ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.87〜6.03pp
m。
2−メトキシエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=t−ブチル、X=O)520mgの1R,trans 3−
(ΔZ2−メトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテ
ニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸メ
トキシメチルと10ミリリットルのメタノールと10ミ
リリットルのアセトンと20ミリリットルの1N塩酸水
溶液とを混合し、20℃にて16時間撹拌し、そして水
中へ注ぎ入れた。塩化メチレンで抽出しかつ減圧下での
蒸留により濃縮乾固した後、求める酸420mgを得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.26〜1.37
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
55ppm。 イソプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.65〜1.74ppm。 イソプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.37〜2.6ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.77ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.87〜6.03pp
m。
【0041】参考例17:1R,trans 3−(ΔZ2−
メトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シ
アノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例4で製造した酸から出発して参考例2におけると同様
に操作して、求める生成物を得た(MP=66℃)。 [α]D =+7.5°(c=0.5%、クロロホルム) NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
53ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.7〜1.79ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.42〜2.66ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.73ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.8〜5.97pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.47ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.58pp
m。
メトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シ
アノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例4で製造した酸から出発して参考例2におけると同様
に操作して、求める生成物を得た(MP=66℃)。 [α]D =+7.5°(c=0.5%、クロロホルム) NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
53ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.7〜1.79ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.42〜2.66ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.73ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.8〜5.97pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.47ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.58pp
m。
【0042】例5:1R,trans 3−(ΔZ2−メトキ
シ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=C2 H5 、X=O)
シ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=C2 H5 、X=O)
【0043】工程A 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−エトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸t−ブチル (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =t−ブチ
ル、R3 =C2 H5 、X=O) 小片に切断したナトリウム1.25gを25ミリリット
ルのトルエン中に導入した。0℃にて0.05ミリリッ
トルのエタノール次いで9.9gのt−ブチル−2,2
−ジメチル−3−ホルミルシクロプロパンカルボン酸を
滴加し、さらに17.7gの酢酸エチルメトキシを加え
た。20℃にて16時間撹拌した後、反応混合物を水中
へ注ぎ込み、そして塩化メチレンで抽出した。抽出物を
減圧下での蒸留により濃縮乾固し、残留物をシリカ上で
クロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合
物で溶出させて10gの求める生成物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3pp
m。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
47ppm。 エトキシのエチルにおける水素に基づくピーク、1.1
6〜1.28〜1.4及び4.05〜4.16〜4.2
8〜4.4ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.57〜1.66ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.15〜2.34及び2.4〜2.5ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.86〜6.03pp
m。
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸t−ブチル (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =t−ブチ
ル、R3 =C2 H5 、X=O) 小片に切断したナトリウム1.25gを25ミリリット
ルのトルエン中に導入した。0℃にて0.05ミリリッ
トルのエタノール次いで9.9gのt−ブチル−2,2
−ジメチル−3−ホルミルシクロプロパンカルボン酸を
滴加し、さらに17.7gの酢酸エチルメトキシを加え
た。20℃にて16時間撹拌した後、反応混合物を水中
へ注ぎ込み、そして塩化メチレンで抽出した。抽出物を
減圧下での蒸留により濃縮乾固し、残留物をシリカ上で
クロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合
物で溶出させて10gの求める生成物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3pp
m。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
47ppm。 エトキシのエチルにおける水素に基づくピーク、1.1
6〜1.28〜1.4及び4.05〜4.16〜4.2
8〜4.4ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.57〜1.66ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.15〜2.34及び2.4〜2.5ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.86〜6.03pp
m。
【0044】工程B 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−エトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=C2 H5 、X=O) 5.6gの1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−
エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸t−ブチルを60ミリリットルの
トルエン中に導入して還流させた。0.5gのp−トル
エンスルホン酸を加え、1時間還流させ、次いで反応混
合物を水中へ注ぎ入れた。有機相をデカンテーションに
より分離し、水相をエチルエーテルで抽出し、そして抽
出物を合した後、有機相を減圧下で濃縮乾固した。残留
物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢
酸エチルとの混合物(4/6)で溶出させて3.2gの
求める酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.36
ppm。 エチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.32〜1.
43及び4.03〜4.15〜4.26〜4.38pp
m。 イソプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.65〜1.74ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.35〜2.44及び2.52〜2.61ppm。 メトキシのメチルにおける水素に基づくピーク、3.7
ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.66〜6.03pp
m。 カルボキシルの水素に基づくピーク、10.01pp
m。
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=C2 H5 、X=O) 5.6gの1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−
エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸t−ブチルを60ミリリットルの
トルエン中に導入して還流させた。0.5gのp−トル
エンスルホン酸を加え、1時間還流させ、次いで反応混
合物を水中へ注ぎ入れた。有機相をデカンテーションに
より分離し、水相をエチルエーテルで抽出し、そして抽
出物を合した後、有機相を減圧下で濃縮乾固した。残留
物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢
酸エチルとの混合物(4/6)で溶出させて3.2gの
求める酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.36
ppm。 エチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.32〜1.
43及び4.03〜4.15〜4.26〜4.38pp
m。 イソプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.65〜1.74ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.35〜2.44及び2.52〜2.61ppm。 メトキシのメチルにおける水素に基づくピーク、3.7
ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.66〜6.03pp
m。 カルボキシルの水素に基づくピーク、10.01pp
m。
【0045】参考例18:1R,trans 3−(ΔZ2−
メトキシ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例5で得られた酸と適当なアルコールとから出発して参
考例2におけると同様に操作して、求める生成物を得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.21〜1.26
ppm。 エチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3〜1.4
及び4.1〜4.2〜4.3〜4.4ppm。 シクロプロピルの位置1及び位置3における水素に基づ
くピーク、1.7〜1.8及び2.43〜2.5〜2.
6〜2.7ppm。 メトキシの水素に基づくピーク、3.74ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.09〜6.05pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.43ppm。
メトキシ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例5で得られた酸と適当なアルコールとから出発して参
考例2におけると同様に操作して、求める生成物を得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.21〜1.26
ppm。 エチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3〜1.4
及び4.1〜4.2〜4.3〜4.4ppm。 シクロプロピルの位置1及び位置3における水素に基づ
くピーク、1.7〜1.8及び2.43〜2.5〜2.
6〜2.7ppm。 メトキシの水素に基づくピーク、3.74ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.09〜6.05pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.43ppm。
【0046】例6:1R,trans 3−(ΔZ2−エトキ
シ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =C2 H5 、R4 =H、R
3 =C2 H5 、X=O)
シ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =C2 H5 、R4 =H、R
3 =C2 H5 、X=O)
【0047】工程A 1R,trans 3−(ΔE2−エトキシ−2−エトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸t−ブチル (1R,trans 、ΔE、R1 =C2 H5 、R4 =t−ブ
チル、R3 =C2 H5 、X=O及びΔZ異性体)。テト
ラヒドロフラン40ミリリットル中のO,O−ジエチル
−1−エトキシ−1−エトキシカルボニルメチルホスホ
ン酸5.36gの溶液中へブチルリチウムの溶液10.
5ミリリットル(滴定値2モル/l)を−60℃にて徐
々に導入し、そして10分間撹拌した。さらに−60℃
にて3.96gの1R,trans 3−ホルミル−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸t−ブチルを導入
し、そして全体を−60℃にて5時間撹拌した。次い
で、反応混合物を水中に注ぎ入れ、そしてエチルエーテ
ルで抽出した。抽出物を減圧下での蒸留により濃縮し、
残留物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサン
と酢酸エチルとの混合物(9/1)で溶出して1.35
gの1R,trans 3−(ΔZ2−エトキシ−2−エトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸t−ブチルと3.46gの1R,trans
3−(ΔE2−エトキシ−2−エトキシカルボニルエテ
ニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸t
−ブチルとを得た。異性体ΔZ: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3pp
m。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.18〜1.43
及び3.75〜4.1ppm。 エトキシカルボニルの水素に基づくピーク、1.18〜
1.43及び4.06〜4.43ppm。 t−ブトキシのメチルにおける水素に基づくピーク、
1.47ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.57〜1.66ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.27〜2.36及び2.44〜2.53ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.95〜6.61pp
m。 異性体ΔE: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.06〜1.28
ppm。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.22〜1.33
〜1.45及び3.6〜3.7〜3.8〜3.9pp
m。 エトキシカルボニルの水素に基づくピーク、1.22〜
1.33〜1.45及び4.1〜4.2〜4.3〜4.
4ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.15〜1.47ppm。 t−ブトキシのメチルにおける水素に基づくピーク、
1.47ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.53〜2.62及び2.67〜2.76ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.54〜5.08pp
m。
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸t−ブチル (1R,trans 、ΔE、R1 =C2 H5 、R4 =t−ブ
チル、R3 =C2 H5 、X=O及びΔZ異性体)。テト
ラヒドロフラン40ミリリットル中のO,O−ジエチル
−1−エトキシ−1−エトキシカルボニルメチルホスホ
ン酸5.36gの溶液中へブチルリチウムの溶液10.
5ミリリットル(滴定値2モル/l)を−60℃にて徐
々に導入し、そして10分間撹拌した。さらに−60℃
にて3.96gの1R,trans 3−ホルミル−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸t−ブチルを導入
し、そして全体を−60℃にて5時間撹拌した。次い
で、反応混合物を水中に注ぎ入れ、そしてエチルエーテ
ルで抽出した。抽出物を減圧下での蒸留により濃縮し、
残留物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサン
と酢酸エチルとの混合物(9/1)で溶出して1.35
gの1R,trans 3−(ΔZ2−エトキシ−2−エトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸t−ブチルと3.46gの1R,trans
3−(ΔE2−エトキシ−2−エトキシカルボニルエテ
ニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸t
−ブチルとを得た。異性体ΔZ: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3pp
m。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.18〜1.43
及び3.75〜4.1ppm。 エトキシカルボニルの水素に基づくピーク、1.18〜
1.43及び4.06〜4.43ppm。 t−ブトキシのメチルにおける水素に基づくピーク、
1.47ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.57〜1.66ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.27〜2.36及び2.44〜2.53ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.95〜6.61pp
m。 異性体ΔE: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.06〜1.28
ppm。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.22〜1.33
〜1.45及び3.6〜3.7〜3.8〜3.9pp
m。 エトキシカルボニルの水素に基づくピーク、1.22〜
1.33〜1.45及び4.1〜4.2〜4.3〜4.
4ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.15〜1.47ppm。 t−ブトキシのメチルにおける水素に基づくピーク、
1.47ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.53〜2.62及び2.67〜2.76ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.54〜5.08pp
m。
【0048】工程B 1R,trans 3−(ΔZ2−エトキシ−2−エトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =C2 H5 、R4 =H、R
3 =C2 H5 、X=O) 32ミリリットルのトルエン中へ3.2gの1R,tran
s 3−(ΔE2−エトキシ−2−エトキシカルボニルエ
テニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
t−ブチルと0.32gのp−トルエンスルホン酸とを
導入した。反応混合物を還流させ、45分間保ち、次い
で減圧下での蒸留によって濃縮乾固した。エチルエーテ
ルを加え、水洗した後、有機溶液を減圧下での蒸留によ
り濃縮乾固した。残留物をシリカ上でのクロマトグラフ
にかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(4/6)で
溶出させて1.84gの求める酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.35
ppm。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3〜
1.4及び3.76〜3.88〜4.0〜4.1pp
m。 エトキシカルボニルの水素に基づくピーク、1.2〜
1.3〜1.4及び4.08〜4.2〜4.3〜4.4
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.65〜1.75ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.4〜2.49〜2.56〜2.65ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.95〜6.11pp
m。 カルボキシルの水素に基づくピーク、7.33ppm。
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =C2 H5 、R4 =H、R
3 =C2 H5 、X=O) 32ミリリットルのトルエン中へ3.2gの1R,tran
s 3−(ΔE2−エトキシ−2−エトキシカルボニルエ
テニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
t−ブチルと0.32gのp−トルエンスルホン酸とを
導入した。反応混合物を還流させ、45分間保ち、次い
で減圧下での蒸留によって濃縮乾固した。エチルエーテ
ルを加え、水洗した後、有機溶液を減圧下での蒸留によ
り濃縮乾固した。残留物をシリカ上でのクロマトグラフ
にかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(4/6)で
溶出させて1.84gの求める酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.35
ppm。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3〜
1.4及び3.76〜3.88〜4.0〜4.1pp
m。 エトキシカルボニルの水素に基づくピーク、1.2〜
1.3〜1.4及び4.08〜4.2〜4.3〜4.4
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.65〜1.75ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.4〜2.49〜2.56〜2.65ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.95〜6.11pp
m。 カルボキシルの水素に基づくピーク、7.33ppm。
【0049】参考例19:1R,trans 3−(ΔZ2−
エトキシ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 参考例2におけると同様に操作し、かつ例6で製造した
酸と適当なアルコールとから出発して求める生成物を得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.95p
pm。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.15〜1.17
〜1.38及び3.75〜3.87〜3.98〜4.1
ppm。 エトキシカルボニルの水素に基づくピーク、1.15〜
1.17〜1.38及び4.05〜4.16〜4.23
〜4.4ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.7〜1.8ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.4〜2.68ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.0ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.38ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.5pp
m。
エトキシ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 参考例2におけると同様に操作し、かつ例6で製造した
酸と適当なアルコールとから出発して求める生成物を得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.95p
pm。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.15〜1.17
〜1.38及び3.75〜3.87〜3.98〜4.1
ppm。 エトキシカルボニルの水素に基づくピーク、1.15〜
1.17〜1.38及び4.05〜4.16〜4.23
〜4.4ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.7〜1.8ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.4〜2.68ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.0ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.38ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.5pp
m。
【0050】例7:1R,trans 3−(ΔE2−エトキ
シ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔE、R1 =C2 H5 、R4 =H、R
3 =C2 H5 、X=O)塩化メチレン70ミリリットル
中の1R,trans 3−(ΔE2−エトキシ−2−エトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸t−ブチル3.38gの溶液中へ13.
4ミリリットルのトリフルオロ酢酸を0℃にて導入し、
0℃で3時間撹拌した。シクロヘキサンを導入し、そし
て減圧下での蒸留により濃縮乾固させた後の残留物をシ
リカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチ
ルとの混合物(4/6)で溶出させて1.81gの求め
る酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.19〜1.35
ppm。 エトキシカルボニルの水素に基づくピーク、1.23〜
1.35〜1.46及び4.15〜4.26〜4.38
〜4.5ppm。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.23〜1.35
〜1.46及び3.6〜3.7〜3.8〜3.95pp
m。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.43〜1.52ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.8〜2.9〜2.69〜2.78ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.96〜5.1pp
m。 カルボキシルの水素に基づくピーク、9ppm。
シ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔE、R1 =C2 H5 、R4 =H、R
3 =C2 H5 、X=O)塩化メチレン70ミリリットル
中の1R,trans 3−(ΔE2−エトキシ−2−エトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸t−ブチル3.38gの溶液中へ13.
4ミリリットルのトリフルオロ酢酸を0℃にて導入し、
0℃で3時間撹拌した。シクロヘキサンを導入し、そし
て減圧下での蒸留により濃縮乾固させた後の残留物をシ
リカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチ
ルとの混合物(4/6)で溶出させて1.81gの求め
る酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.19〜1.35
ppm。 エトキシカルボニルの水素に基づくピーク、1.23〜
1.35〜1.46及び4.15〜4.26〜4.38
〜4.5ppm。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.23〜1.35
〜1.46及び3.6〜3.7〜3.8〜3.95pp
m。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.43〜1.52ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.8〜2.9〜2.69〜2.78ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.96〜5.1pp
m。 カルボキシルの水素に基づくピーク、9ppm。
【0051】参考例20:1R,trans 3−(ΔE2−
エトキシ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例7で製造した酸から出発して参考例1におけると同様
に操作して、求める生成物を得た。 [α]D =+9.5°(c=1%、クロロホルム) NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.15〜1.25
ppm。 エトキシカルボニルの水素に基づくピーク、1.2〜
1.45及び4.15〜4.26〜4.38〜4.5p
pm。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.2〜1.45及
び3.6〜3.7〜3.8〜3.95ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.49〜1.58ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.7〜2.8〜2.85〜2.95ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、4.9〜5.0pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.43ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.6pp
m。
エトキシ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例7で製造した酸から出発して参考例1におけると同様
に操作して、求める生成物を得た。 [α]D =+9.5°(c=1%、クロロホルム) NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.15〜1.25
ppm。 エトキシカルボニルの水素に基づくピーク、1.2〜
1.45及び4.15〜4.26〜4.38〜4.5p
pm。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.2〜1.45及
び3.6〜3.7〜3.8〜3.95ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.49〜1.58ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.7〜2.8〜2.85〜2.95ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、4.9〜5.0pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.43ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.6pp
m。
【0052】例8:1R,trans 3−(2−フェノキシ
−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチ
ルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ又はΔE、R1 =フェニル、R4
=H、R3 =C2 H5 、X=O)
−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチ
ルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ又はΔE、R1 =フェニル、R4
=H、R3 =C2 H5 、X=O)
【0053】工程A 1R,trans 3−(ΔE又はΔZ2−フェノキシ−2−
エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸t−ブチル (1R,trans 、ΔE又はΔZ、R1 =フェニル、R4
=t−ブチル、R3 =C2 H5 、X=O) 小片に切断したナトリウム1.25gを25ミリリット
ルのトルエン中に導入し、かつ0.05ミリリットルの
エタノールを0℃にて導入した。次いで、9.9gの1
R,trans 2,2−ジメチル−3−ホルミルシクロプロ
パンカルボン酸t−ブチルと28gのフェノキシ酢酸エ
チルとを滴加し、20℃にて16時間撹拌した。20ミ
リリットルのトルエンを加えて4時間撹拌し、次いで反
応混合物を水と氷との混合物へ注ぎ入れ、そして塩化メ
チレンで抽出した。抽出物を減圧下での蒸留により濃縮
乾固させ、そして残留物をシリカ上でのクロマトグラフ
にかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(7/3)で
溶出させて12.47gの求める生成物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.05〜1.16〜
1.28及び3.96〜4.08〜4.2〜4.3pp
m。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.15〜1.23
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
37ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.62〜1.70ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.13〜2.4ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.23〜6.4pp
m。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.7〜7.4pp
m。
エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸t−ブチル (1R,trans 、ΔE又はΔZ、R1 =フェニル、R4
=t−ブチル、R3 =C2 H5 、X=O) 小片に切断したナトリウム1.25gを25ミリリット
ルのトルエン中に導入し、かつ0.05ミリリットルの
エタノールを0℃にて導入した。次いで、9.9gの1
R,trans 2,2−ジメチル−3−ホルミルシクロプロ
パンカルボン酸t−ブチルと28gのフェノキシ酢酸エ
チルとを滴加し、20℃にて16時間撹拌した。20ミ
リリットルのトルエンを加えて4時間撹拌し、次いで反
応混合物を水と氷との混合物へ注ぎ入れ、そして塩化メ
チレンで抽出した。抽出物を減圧下での蒸留により濃縮
乾固させ、そして残留物をシリカ上でのクロマトグラフ
にかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(7/3)で
溶出させて12.47gの求める生成物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.05〜1.16〜
1.28及び3.96〜4.08〜4.2〜4.3pp
m。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.15〜1.23
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
37ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.62〜1.70ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.13〜2.4ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.23〜6.4pp
m。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.7〜7.4pp
m。
【0054】工程B 1R,trans 3−(ΔE又はΔZ2−フェノキシ−2−
エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ又はΔE、R1 =フェニル、R4
=H、R3 =C2 H5 、X=O) 120ミリリットルのトルエン中へ12gの1R,tran
s 3−(2−フェノキシ−2−エトキシカルボニルエテ
ニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸t
−ブチルを導入し、そして還流させた後、1gのp−ト
ルエンスルホン酸を加え、還流を1時間続けた。次い
で、反応混合物を水中へ注ぎ入れ、有機相をデカンテー
ションにより分離し、そして減圧下での蒸留により濃縮
乾固させた。残留物をシリカ上でのクロマトグラフにか
け、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(4/6)で溶出
させて、7.91gの求める酸を得た。 IRスペクトル(クロロホルム) 3510cm-1における吸収、OHモノ及びダイマー酸 1720cm-1における吸収、エステルのC=O 1699cm-1における吸収、ダイマー酸 1655cm-1(屈曲)及び1651cm-1(最大)に
おける吸収、C=C共役結合 1600cm-1、1594cm-1、1491cm-1にお
ける吸収、芳香族 1380cm-1における吸収、二重ジメチル。
エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ又はΔE、R1 =フェニル、R4
=H、R3 =C2 H5 、X=O) 120ミリリットルのトルエン中へ12gの1R,tran
s 3−(2−フェノキシ−2−エトキシカルボニルエテ
ニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸t
−ブチルを導入し、そして還流させた後、1gのp−ト
ルエンスルホン酸を加え、還流を1時間続けた。次い
で、反応混合物を水中へ注ぎ入れ、有機相をデカンテー
ションにより分離し、そして減圧下での蒸留により濃縮
乾固させた。残留物をシリカ上でのクロマトグラフにか
け、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(4/6)で溶出
させて、7.91gの求める酸を得た。 IRスペクトル(クロロホルム) 3510cm-1における吸収、OHモノ及びダイマー酸 1720cm-1における吸収、エステルのC=O 1699cm-1における吸収、ダイマー酸 1655cm-1(屈曲)及び1651cm-1(最大)に
おける吸収、C=C共役結合 1600cm-1、1594cm-1、1491cm-1にお
ける吸収、芳香族 1380cm-1における吸収、二重ジメチル。
【0055】参考例21:1R,trans 3−(ΔE又は
ΔZ2−フェノキシ−2−エトキシカルボニルエテニ
ル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
(S)−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチ
ル 例8で製造した酸と適当なアルコールとから出発して参
考例2におけると同様に操作して、求める生成物を得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.06〜1.18〜
1.3及び4.01〜4.13〜4.25〜4.37p
pm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.13〜1.15
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.8〜1.9ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.3〜2.4〜2.46〜2.55ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.27〜6.46pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.36ppm。
ΔZ2−フェノキシ−2−エトキシカルボニルエテニ
ル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
(S)−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチ
ル 例8で製造した酸と適当なアルコールとから出発して参
考例2におけると同様に操作して、求める生成物を得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.06〜1.18〜
1.3及び4.01〜4.13〜4.25〜4.37p
pm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.13〜1.15
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.8〜1.9ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.3〜2.4〜2.46〜2.55ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.27〜6.46pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.36ppm。
【0056】例9:1R,cis 3−(ΔZ2−メチルチ
オ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸
オ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸
【0057】工程A 1R,cis 3−(1−ヒドロキシ−2−メチルチオ−2
−エトキシカルボニルエチル)−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸 11.54gのエチルメチルチオアセテートと11.3
6gの1R,5S−6,6−ジメチル−4(R)−ヒド
ロキシ−3−オキサビシクロ−[3,1,0]−ヘキサ
ン−2−オンとを200ミリリットルのテトラヒドロフ
ラン中で混合した。−60℃まで冷却した後、テトラヒ
ドロフラン140ミリリットル中のカリウムt−ブチラ
ート18gを導入し、その温度で1時間撹拌した。次い
で、10分間かけてかつ−20℃を越えることなく20
0ミリリットルの1N塩酸を加えた。反応混合物を1.
5lの水中に注ぎ入れ、そして塩化メチレンで抽出し
た。抽出物を減圧下で濃縮乾固させ、残留物をイソプロ
ピルエーテルから再結晶化させた。10.22gの求め
る生成物が得られた。MP=114℃。
−エトキシカルボニルエチル)−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸 11.54gのエチルメチルチオアセテートと11.3
6gの1R,5S−6,6−ジメチル−4(R)−ヒド
ロキシ−3−オキサビシクロ−[3,1,0]−ヘキサ
ン−2−オンとを200ミリリットルのテトラヒドロフ
ラン中で混合した。−60℃まで冷却した後、テトラヒ
ドロフラン140ミリリットル中のカリウムt−ブチラ
ート18gを導入し、その温度で1時間撹拌した。次い
で、10分間かけてかつ−20℃を越えることなく20
0ミリリットルの1N塩酸を加えた。反応混合物を1.
5lの水中に注ぎ入れ、そして塩化メチレンで抽出し
た。抽出物を減圧下で濃縮乾固させ、残留物をイソプロ
ピルエーテルから再結晶化させた。10.22gの求め
る生成物が得られた。MP=114℃。
【0058】工程B 6,6−ジメチル−4−[メチルチオ,エトキシカルボ
ニルメチル]−3−オキサビシクロ−[3,1,0]−
ヘキサン−2−オン 上記工程Aで得られた生成物9.67gを、80mgの
p−トルエンスルホン酸の存在下でベンゼン120ミリ
リットル中で還流させた。約60ミリリットルのベンゼ
ンを留去し、シリカゲルを満たしたディーン・スターク
装置のフラスコを装着し、還流を1.5時間続けた。減
圧下で濃縮乾固させた後、残留物をシリカ上でのクロマ
トグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(6
/4)で溶出させて7.36gの求める生成物を得た。
ニルメチル]−3−オキサビシクロ−[3,1,0]−
ヘキサン−2−オン 上記工程Aで得られた生成物9.67gを、80mgの
p−トルエンスルホン酸の存在下でベンゼン120ミリ
リットル中で還流させた。約60ミリリットルのベンゼ
ンを留去し、シリカゲルを満たしたディーン・スターク
装置のフラスコを装着し、還流を1.5時間続けた。減
圧下で濃縮乾固させた後、残留物をシリカ上でのクロマ
トグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(6
/4)で溶出させて7.36gの求める生成物を得た。
【0059】工程C 1R,cis 3−(ΔZ2−メチルチオ−2−エトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸及び1R,cis 3−(ΔE2−メチルチオ−
2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチル
シクロプロパンカルボン酸 工程Bで得た生成物6.5gを60ミリリットルのベン
ゼン中で6ミリリットルのトリエチルアミンと共に3時
間還流させた。冷却後、反応混合物を100ミリリット
ルの2N塩酸中へ撹拌しながら注ぎ入れた。有機相をデ
カントしかつ濃縮乾固させ、次いで残留物をシリカ上で
のクロマトグラフにかけ、塩化メチレンと酢酸エチルと
の混合物(8/2)で溶出させて2.5gのΔZ酸及び
170mgのΔE酸並びにΔE酸とΔZ酸との混合物
1.74gを得、この混合物からさらに220mgのΔ
E酸をシリカ上での第2回のクロマトグラフィー(塩化
メチレンと酢酸エチルとの混合物(9/1)による溶
出)で回収した。 ΔE酸 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3〜1.4
及び4.1〜4.2〜4.4〜4.5ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.27〜1.35
ppm。 シクロプロピルの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.8〜1.9〜2.8〜2.9〜3.1pp
m。 チオメチルの水素に基づくピーク、2.2ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.25〜6.41pp
m。 ΔZ酸 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3〜1.4
及び4.1〜4.2〜4.3〜4.5ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.3〜1.36p
pm。 シクロプロピルの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.9〜2.05及び2.5〜2.6〜2.8p
pm。 チオメチルの水素に基づくピーク、2.3ppm。 カルボキシルの水素に基づくピーク、6.5ppm。 エチレン水素に基づくピーク、7.4〜7.6ppm。
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸及び1R,cis 3−(ΔE2−メチルチオ−
2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチル
シクロプロパンカルボン酸 工程Bで得た生成物6.5gを60ミリリットルのベン
ゼン中で6ミリリットルのトリエチルアミンと共に3時
間還流させた。冷却後、反応混合物を100ミリリット
ルの2N塩酸中へ撹拌しながら注ぎ入れた。有機相をデ
カントしかつ濃縮乾固させ、次いで残留物をシリカ上で
のクロマトグラフにかけ、塩化メチレンと酢酸エチルと
の混合物(8/2)で溶出させて2.5gのΔZ酸及び
170mgのΔE酸並びにΔE酸とΔZ酸との混合物
1.74gを得、この混合物からさらに220mgのΔ
E酸をシリカ上での第2回のクロマトグラフィー(塩化
メチレンと酢酸エチルとの混合物(9/1)による溶
出)で回収した。 ΔE酸 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3〜1.4
及び4.1〜4.2〜4.4〜4.5ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.27〜1.35
ppm。 シクロプロピルの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.8〜1.9〜2.8〜2.9〜3.1pp
m。 チオメチルの水素に基づくピーク、2.2ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.25〜6.41pp
m。 ΔZ酸 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3〜1.4
及び4.1〜4.2〜4.3〜4.5ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.3〜1.36p
pm。 シクロプロピルの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.9〜2.05及び2.5〜2.6〜2.8p
pm。 チオメチルの水素に基づくピーク、2.3ppm。 カルボキシルの水素に基づくピーク、6.5ppm。 エチレン水素に基づくピーク、7.4〜7.6ppm。
【0060】参考例22:1R,cis 3−(ΔZ2−メ
チルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例9で製造した酸と適当なアルコールとから出発して参
考例2におけると同様に操作して、求める生成物を得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.33〜
1.45及び4.13〜4.25〜4.37〜4.48
ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.28
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.97〜2.10ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.55〜2.65〜2.74〜2.85ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.46ppm。 芳香族核の水素におけるピーク、7.0〜7.67pp
m。
チルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例9で製造した酸と適当なアルコールとから出発して参
考例2におけると同様に操作して、求める生成物を得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.33〜
1.45及び4.13〜4.25〜4.37〜4.48
ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.28
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.97〜2.10ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.55〜2.65〜2.74〜2.85ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.46ppm。 芳香族核の水素におけるピーク、7.0〜7.67pp
m。
【0061】例10:1R,trans 3−(ΔZ2−メチ
ルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸
ルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸
【0062】工程A 1R,trans 3−(ΔZ2−メチルチオ−2−エトキシ
カルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパ
ンカルボン酸t−ブチル 0℃まで冷却したナトリウム2.3gを50ミリリット
ルのエタノール中へ導入した。エチラートが生成した
後、9.9gの1R,trans 2,2−ジメチル−3−ホ
ルミルシクロプロパンカルボン酸t−ブチルと13.4
gのエチルメチルチオアセテートとを導入し、+5℃に
て16時間撹拌した。減圧下での蒸留により濃縮乾固さ
せた後、水とエチルエーテルとを加え、次いで有機相を
デカンテーションにより分離し、水洗し、そして減圧下
での蒸留により濃縮乾固させた。残留物をシリカ上での
クロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合
物(8/2)で溶出させて5.6gの求める生成物を得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.15〜1.27〜
1.38及び4.05〜4.16〜4.28〜4.4p
pm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.18〜1.27
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
43ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.67〜1.75ppm。 チオメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、2.
28ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.53〜2.78ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.7〜6.8ppm。
カルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパ
ンカルボン酸t−ブチル 0℃まで冷却したナトリウム2.3gを50ミリリット
ルのエタノール中へ導入した。エチラートが生成した
後、9.9gの1R,trans 2,2−ジメチル−3−ホ
ルミルシクロプロパンカルボン酸t−ブチルと13.4
gのエチルメチルチオアセテートとを導入し、+5℃に
て16時間撹拌した。減圧下での蒸留により濃縮乾固さ
せた後、水とエチルエーテルとを加え、次いで有機相を
デカンテーションにより分離し、水洗し、そして減圧下
での蒸留により濃縮乾固させた。残留物をシリカ上での
クロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合
物(8/2)で溶出させて5.6gの求める生成物を得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.15〜1.27〜
1.38及び4.05〜4.16〜4.28〜4.4p
pm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.18〜1.27
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
43ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.67〜1.75ppm。 チオメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、2.
28ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.53〜2.78ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.7〜6.8ppm。
【0063】工程B 1R,trans 3−(ΔZ2−メチルチオ−2−エトキシ
カルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパ
ンカルボン酸 上記で得られた生成物5gを50ミリリットルのトルエ
ン中で0.5gのp−トルエンスルホン酸の存在下に4
5分間還流させた。20℃まで冷却した後、反応混合物
を100ミリリットルの水中に注ぎ入れ、そしてエチル
エーテルで抽出した。有機相を合し、脱水し、そして減
圧下で濃縮乾固させた。残留物をシリカ上でのクロマト
グラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(4/
6)で溶出させて、3.47gの求める生成物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.27〜1.38
ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.65〜2.74〜2.82〜2.90ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.77〜1.87ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.77〜6.8pp
m。 メチルチオの水素におけるピーク、2.28ppm。 エチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.33〜
1.45及び4.1〜4.2〜4.3〜4.4ppm。
カルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパ
ンカルボン酸 上記で得られた生成物5gを50ミリリットルのトルエ
ン中で0.5gのp−トルエンスルホン酸の存在下に4
5分間還流させた。20℃まで冷却した後、反応混合物
を100ミリリットルの水中に注ぎ入れ、そしてエチル
エーテルで抽出した。有機相を合し、脱水し、そして減
圧下で濃縮乾固させた。残留物をシリカ上でのクロマト
グラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(4/
6)で溶出させて、3.47gの求める生成物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.27〜1.38
ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.65〜2.74〜2.82〜2.90ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.77〜1.87ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.77〜6.8pp
m。 メチルチオの水素におけるピーク、2.28ppm。 エチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.33〜
1.45及び4.1〜4.2〜4.3〜4.4ppm。
【0064】参考例23:1R,trans 3−(ΔZ2−
メチルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,
2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ
−1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例10で製造した酸と適当なアルコールとから出発して
参考例2におけると同様に操作して、求める生成物を得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.23〜1.3p
pm。 シクロプロパンの位置1における水素に基づくピーク、
1.8〜1.9ppm。 メチルチオのメチルにおける水素に基づくピーク、2.
3ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.7〜2.8〜2.9〜3.0ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.5ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.7〜6.9ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.0〜7.6pp
m。
メチルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,
2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ
−1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例10で製造した酸と適当なアルコールとから出発して
参考例2におけると同様に操作して、求める生成物を得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.23〜1.3p
pm。 シクロプロパンの位置1における水素に基づくピーク、
1.8〜1.9ppm。 メチルチオのメチルにおける水素に基づくピーク、2.
3ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.7〜2.8〜2.9〜3.0ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.5ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.7〜6.9ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.0〜7.6pp
m。
【0065】例11:1R,trans 3−(ΔE又はΔZ
2−フェニルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)
−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔE又はΔZ、R1 =フェニル、R4
=H、R3 =C2 H5 、X=S)工程A 1R,trans 3−(ΔE又はΔZ2−フェニルチオ−2
−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシ
クロプロパンカルボン酸t−ブチル (1R,trans 、ΔE又はΔZ、R1 =フェニル、R4
=t−ブチル、R3 =C2 H5 、X=S) 2.3gのナトリウムを50ミリリットルのエタノール
中に導入し、そしてエチラートが生成した後、9.9g
の2,2−ジメチル−3−ホルミルシクロプロパンカル
ボン酸t−ブチルと19.6gのエチルフェニルチオア
セテートとの混合物を0℃にて加え、+5℃で16時間
撹拌した。溶剤を減圧下で除去し、水とエチルエーテル
とをさらに撹拌しながら加え、次いでエーテル相をデカ
ンテーションにより分離し、減圧下での蒸留により濃縮
乾固した。残留物をシリカ上でのクロマトグラフにか
け、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(8/2)で溶出
させた。ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(9/1)で
再びクロマトグラフにかけた後、5.86gの求める生
成物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エトキシの水素に基づくピーク、0.98〜1.1〜
1.23及び4.0〜4.12〜4.23〜4.35p
pm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.23p
pm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
47ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.77〜1.85ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.57〜2.65及び2.73〜2.8ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.9〜7.1ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.2ppm。
2−フェニルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)
−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔE又はΔZ、R1 =フェニル、R4
=H、R3 =C2 H5 、X=S)工程A 1R,trans 3−(ΔE又はΔZ2−フェニルチオ−2
−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシ
クロプロパンカルボン酸t−ブチル (1R,trans 、ΔE又はΔZ、R1 =フェニル、R4
=t−ブチル、R3 =C2 H5 、X=S) 2.3gのナトリウムを50ミリリットルのエタノール
中に導入し、そしてエチラートが生成した後、9.9g
の2,2−ジメチル−3−ホルミルシクロプロパンカル
ボン酸t−ブチルと19.6gのエチルフェニルチオア
セテートとの混合物を0℃にて加え、+5℃で16時間
撹拌した。溶剤を減圧下で除去し、水とエチルエーテル
とをさらに撹拌しながら加え、次いでエーテル相をデカ
ンテーションにより分離し、減圧下での蒸留により濃縮
乾固した。残留物をシリカ上でのクロマトグラフにか
け、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(8/2)で溶出
させた。ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(9/1)で
再びクロマトグラフにかけた後、5.86gの求める生
成物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エトキシの水素に基づくピーク、0.98〜1.1〜
1.23及び4.0〜4.12〜4.23〜4.35p
pm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.23p
pm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
47ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.77〜1.85ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.57〜2.65及び2.73〜2.8ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.9〜7.1ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.2ppm。
【0066】工程B 1R,trans 3−(ΔE又はΔZ2−フェニルチオ−2
−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシ
クロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔE又はΔZ、R1 =フェニル、R4
=H、R3 =C2 H5 、X=S) 5.27gの2R,trans 3−(ΔE又はΔZ2−フェ
ニルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸t−ブチルと50
ミリリットルのトルエンと0.5gのp−トルエンスル
ホン酸とを混合し、この反応混合物を還流させかつ45
分間保った。冷却後、水中に注ぎ入れかつ撹拌し、有機
相をデカンテーションにより分離し、そしてエチルエー
テルで抽出した。有機相を合し、そして減圧下での蒸留
により濃縮乾固させた。残留物をシリカ上でのクロマト
グラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(6/
4)で溶出させて、3.32gの求める酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、0.98〜1.1〜1.
2及び3.9〜4.05〜4.2〜4.28ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.27ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.8〜1.9ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.6〜2.7〜2.8〜2.9ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.9〜7.1ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.2ppm。 カルボキシルの水素に基づくピーク、8.5ppm。
−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシ
クロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔE又はΔZ、R1 =フェニル、R4
=H、R3 =C2 H5 、X=S) 5.27gの2R,trans 3−(ΔE又はΔZ2−フェ
ニルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸t−ブチルと50
ミリリットルのトルエンと0.5gのp−トルエンスル
ホン酸とを混合し、この反応混合物を還流させかつ45
分間保った。冷却後、水中に注ぎ入れかつ撹拌し、有機
相をデカンテーションにより分離し、そしてエチルエー
テルで抽出した。有機相を合し、そして減圧下での蒸留
により濃縮乾固させた。残留物をシリカ上でのクロマト
グラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(6/
4)で溶出させて、3.32gの求める酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、0.98〜1.1〜1.
2及び3.9〜4.05〜4.2〜4.28ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.27ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.8〜1.9ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.6〜2.7〜2.8〜2.9ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.9〜7.1ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.2ppm。 カルボキシルの水素に基づくピーク、8.5ppm。
【0067】参考例24:1R,trans 3−(ΔE又は
ΔZ2−フェニルチオ−2−エトキシカルボニルエテニ
ル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
(S)−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチ
ル 例11で製造した酸と適当なアルコールとから出発して
参考例2におけるように操作して、求める生成物を得
た。MP=84℃。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.0〜1.11〜1.
23及び3.96〜4.08〜4.2〜4.3ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.18〜1.25
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.89〜1.98ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.7〜2.8及び2.83〜2.9ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.7pp
m。
ΔZ2−フェニルチオ−2−エトキシカルボニルエテニ
ル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
(S)−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチ
ル 例11で製造した酸と適当なアルコールとから出発して
参考例2におけるように操作して、求める生成物を得
た。MP=84℃。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.0〜1.11〜1.
23及び3.96〜4.08〜4.2〜4.3ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.18〜1.25
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.89〜1.98ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.7〜2.8及び2.83〜2.9ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.7pp
m。
【0068】例12:1R,cis 3−(ΔZ2−フェニ
ルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸 (1R,cis 、R1 =フェニル、R4 =H、R3 =C2
H5 、X=S)
ルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸 (1R,cis 、R1 =フェニル、R4 =H、R3 =C2
H5 、X=S)
【0069】工程A 1R,cis 3−(1−ヒドロキシ−2−フェニルチオ−
2−エトキシカルボニルエチル)−2,2−ジメチルシ
クロプロパンカルボン酸 5.25gのエチルフェニルチオアセテートと3.5g
の1R,5S−6,6−ジメチル−4(R)−ヒドロキ
シ−3−オキサビシクロ−[3,1,0]−ヘキサン−
2−オンとを100ミリリットルのテトラヒドロフラン
中に導入し、次いで−60℃にて5.6gのカリウムt
−ブチラートと50ミリリットルのテトラヒドロフラン
とを加え、−60℃にて1時間撹拌した。温度を−20
℃以上に上昇させることなく1N塩酸水溶液を加え、そ
して撹拌した後、反応混合物を水中へ注ぎ入れ、塩化メ
チレンで抽出した。抽出物を水洗し、かつ減圧下での蒸
留により濃縮乾固させた。残留物をシリカ上でのクロマ
トグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(6
/4)で溶出させて3.5gの求める酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.1〜1.35p
pm。 エチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.1〜
1.35ppm。 シクロプロピルの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.11〜1.77ppm。 エチルの位置3における水素に基づくピーク、3.7〜
4.66ppm。 エチルのメチレンにおける水素に基づくピーク、3.4
〜4.67ppm。 ヒドロキシルの水素に基づくピーク、5.94ppm。 カルボキシルの水素に基づくピーク、5.94ppm。
2−エトキシカルボニルエチル)−2,2−ジメチルシ
クロプロパンカルボン酸 5.25gのエチルフェニルチオアセテートと3.5g
の1R,5S−6,6−ジメチル−4(R)−ヒドロキ
シ−3−オキサビシクロ−[3,1,0]−ヘキサン−
2−オンとを100ミリリットルのテトラヒドロフラン
中に導入し、次いで−60℃にて5.6gのカリウムt
−ブチラートと50ミリリットルのテトラヒドロフラン
とを加え、−60℃にて1時間撹拌した。温度を−20
℃以上に上昇させることなく1N塩酸水溶液を加え、そ
して撹拌した後、反応混合物を水中へ注ぎ入れ、塩化メ
チレンで抽出した。抽出物を水洗し、かつ減圧下での蒸
留により濃縮乾固させた。残留物をシリカ上でのクロマ
トグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(6
/4)で溶出させて3.5gの求める酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.1〜1.35p
pm。 エチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.1〜
1.35ppm。 シクロプロピルの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.11〜1.77ppm。 エチルの位置3における水素に基づくピーク、3.7〜
4.66ppm。 エチルのメチレンにおける水素に基づくピーク、3.4
〜4.67ppm。 ヒドロキシルの水素に基づくピーク、5.94ppm。 カルボキシルの水素に基づくピーク、5.94ppm。
【0070】工程B 6,6−ジメチル−4−(1−フェニルチオ−1−エト
キシカルボニルメチル)−3−オキサビシクロ−[3,
1,0]−ヘキサン−2−オン 3.38gの1R,cis 3−(1−ヒドロキシ−2−フ
ェニルチオ−2−エトキシカルボニルエチル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸と50mgのp−
トルエンスルホン酸とを100ミリリットルのベンゼン
中に導入、そして還流させた。約30ミリリットルのベ
ンゼンを留去した後、シリカゲルを満たしたディーン−
スターク装置のフラスコを装着し、そして還流を、1.
5時間続けた。減圧下で蒸留により濃縮乾固させ、かつ
残留物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサン
と酢酸エチルとの混合物(6/4)で溶出させた後、
2.6gの求める生成物が得られた。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.11〜1.23〜
1.35及び4.05〜4.16〜4.28〜4.45
ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.12〜1.2p
pm。 シクロプロピルの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.95〜2.41ppm。 −S−CH−C(=O)−の水素に基づくピーク、3.
7〜3.8ppm。 3−オキサビシクロ−[3,1,0]−ヘキサン−2−
オン骨格の4位置の炭素に結合する水素に基づくピー
ク、4.5〜4.63ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.3〜7.7pp
m。
キシカルボニルメチル)−3−オキサビシクロ−[3,
1,0]−ヘキサン−2−オン 3.38gの1R,cis 3−(1−ヒドロキシ−2−フ
ェニルチオ−2−エトキシカルボニルエチル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸と50mgのp−
トルエンスルホン酸とを100ミリリットルのベンゼン
中に導入、そして還流させた。約30ミリリットルのベ
ンゼンを留去した後、シリカゲルを満たしたディーン−
スターク装置のフラスコを装着し、そして還流を、1.
5時間続けた。減圧下で蒸留により濃縮乾固させ、かつ
残留物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサン
と酢酸エチルとの混合物(6/4)で溶出させた後、
2.6gの求める生成物が得られた。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.11〜1.23〜
1.35及び4.05〜4.16〜4.28〜4.45
ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.12〜1.2p
pm。 シクロプロピルの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.95〜2.41ppm。 −S−CH−C(=O)−の水素に基づくピーク、3.
7〜3.8ppm。 3−オキサビシクロ−[3,1,0]−ヘキサン−2−
オン骨格の4位置の炭素に結合する水素に基づくピー
ク、4.5〜4.63ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.3〜7.7pp
m。
【0071】工程C 1R,cis 3−(ΔZ2−フェニルチオ−2−エトキシ
カルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパ
ンカルボン酸 (1R,cis 、R1 =フェニル、R4 =H、R3 =C2
H5 、X=S) 2.2gの6,6−ジメチル−4−(1−フェニルチオ
−1−エトキシカルボニルメチル)−3−オキサビシク
ロ−[3,1,0]−ヘキサン−2−オンと2ミリリッ
トルのトリエチルアミンとを22ミリリットルのベンゼ
ン中へ導入し、反応混合物を還流させ、3時間還流させ
続けた。20℃まで冷却した後、1N塩酸水溶液を加
え、有機相をデカンテーションにより分離し、水洗し、
そして減圧下での蒸留により濃縮乾固させた。残留物を
シリカ上でのクロマトグラフにかけ、塩化メチレンと酢
酸エチルとの混合物(8/2)で溶出させて、1.1g
の求める酸を得た。MP=約50℃。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.02〜1.13〜
1.25及び4〜4.2〜4.23〜4.35ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.38
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.9〜2.04ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.8〜3.0ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.3ppm。 エチレン水素に基づくピーク、7.7〜7.9ppm。
カルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパ
ンカルボン酸 (1R,cis 、R1 =フェニル、R4 =H、R3 =C2
H5 、X=S) 2.2gの6,6−ジメチル−4−(1−フェニルチオ
−1−エトキシカルボニルメチル)−3−オキサビシク
ロ−[3,1,0]−ヘキサン−2−オンと2ミリリッ
トルのトリエチルアミンとを22ミリリットルのベンゼ
ン中へ導入し、反応混合物を還流させ、3時間還流させ
続けた。20℃まで冷却した後、1N塩酸水溶液を加
え、有機相をデカンテーションにより分離し、水洗し、
そして減圧下での蒸留により濃縮乾固させた。残留物を
シリカ上でのクロマトグラフにかけ、塩化メチレンと酢
酸エチルとの混合物(8/2)で溶出させて、1.1g
の求める酸を得た。MP=約50℃。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.02〜1.13〜
1.25及び4〜4.2〜4.23〜4.35ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.38
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.9〜2.04ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.8〜3.0ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.3ppm。 エチレン水素に基づくピーク、7.7〜7.9ppm。
【0072】参考例25:1R,cis 3−(ΔZ2−フ
ェニルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,
2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ
−1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例12の工程Cで得られたΔZ酸と適当なアルコールと
から出発して参考例2におけると同様に操作して、求め
る生成物を得た。 NMRスペクトル 二重メチルの水素に基づくピーク、1.18〜1.27
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
2.5〜2.8ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
1.92〜2.05ppm。 エチレン水素に基づくピーク、7.6〜7.8ppm。 CNのα位における水素に基づくピーク、6.48pp
m。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.03〜1.15
〜1.27及び4.02〜4.13〜4.25〜4.3
6ppm。 チオフェニルの芳香族水素に基づくピーク、7.3pp
m。 フェノキシフェニルの芳香族水素に基づくピーク、6.
92〜7.6ppm。
ェニルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,
2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ
−1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例12の工程Cで得られたΔZ酸と適当なアルコールと
から出発して参考例2におけると同様に操作して、求め
る生成物を得た。 NMRスペクトル 二重メチルの水素に基づくピーク、1.18〜1.27
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
2.5〜2.8ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
1.92〜2.05ppm。 エチレン水素に基づくピーク、7.6〜7.8ppm。 CNのα位における水素に基づくピーク、6.48pp
m。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.03〜1.15
〜1.27及び4.02〜4.13〜4.25〜4.3
6ppm。 チオフェニルの芳香族水素に基づくピーク、7.3pp
m。 フェノキシフェニルの芳香族水素に基づくピーク、6.
92〜7.6ppm。
【0073】参考例26:1R,cis 3−(ΔE2−メ
チルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例9の工程Cで得たΔE酸と適当なアルコールとから出
発して参考例2におけると同様に操作して、求める生成
物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.26
ppm。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.25〜1.37
〜1.48及び4.1〜4.2〜4.4〜4.5pp
m。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.85〜2.0ppm。 チオメチルの水素に基づくピーク、2.25ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.8〜3.2ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.1〜6.3ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.6pp
m。
チルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例9の工程Cで得たΔE酸と適当なアルコールとから出
発して参考例2におけると同様に操作して、求める生成
物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.26
ppm。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.25〜1.37
〜1.48及び4.1〜4.2〜4.4〜4.5pp
m。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.85〜2.0ppm。 チオメチルの水素に基づくピーク、2.25ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.8〜3.2ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.1〜6.3ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.6pp
m。
【0074】例13:1R,trans 3−[(ΔE+Δ
Z)−2−メチルチオ−2−メトキシカルボニルエテニ
ル]−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸 1.42gの1R,trans 2,2−ジメチル−3−ホル
ミルシクロプロパン−1−カルボン酸と13.2gのメ
チルメチルチオアセテートとを100ミリリットルのメ
タノール中に導入し、+10℃にてメタノール100ミ
リリットル中のカリウムメチラート14gの溶液を加え
た。20℃にて18時間撹拌し、減圧下での蒸留により
濃縮乾固させ、かつ残留物をシリカ上でのクロマトグラ
フにかけ、シクロヘキサンと酢酸エチルとの混合物(1
/1)で溶出させた後、5.2gの求める生成物が得ら
れた。
Z)−2−メチルチオ−2−メトキシカルボニルエテニ
ル]−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸 1.42gの1R,trans 2,2−ジメチル−3−ホル
ミルシクロプロパン−1−カルボン酸と13.2gのメ
チルメチルチオアセテートとを100ミリリットルのメ
タノール中に導入し、+10℃にてメタノール100ミ
リリットル中のカリウムメチラート14gの溶液を加え
た。20℃にて18時間撹拌し、減圧下での蒸留により
濃縮乾固させ、かつ残留物をシリカ上でのクロマトグラ
フにかけ、シクロヘキサンと酢酸エチルとの混合物(1
/1)で溶出させた後、5.2gの求める生成物が得ら
れた。
【0075】参考例27:1R,trans 2,2−ジメチ
ル−3−(ΔZ2−メチルスルフィニル−2−メトキシ
カルボニルエテニル)−シクロプロパンカルボン酸
(S)−シアノ−(3−フェノキシフェニル)メチル:
ジアステレオマーA及びジアステレオマーB
ル−3−(ΔZ2−メチルスルフィニル−2−メトキシ
カルボニルエテニル)−シクロプロパンカルボン酸
(S)−シアノ−(3−フェノキシフェニル)メチル:
ジアステレオマーA及びジアステレオマーB
【0076】工程A 1R,trans 3−(ΔZ+ΔE2−メチルチオ−2−メ
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸(S)−シアノ−1−(3−フェノ
キシフェニル)メチル 例13で得られた酸5.1gを70ミリリットルの塩化
メチレン中に導入し、4.26gのジシクロヘキサンカ
ルボジイミドと1.95ミリリットルのピリジンとを加
え、20℃にて15分間撹拌した後、4.7gの(S)
α−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチルア
ルコールを加え、そして20℃で18時間撹拌を続け
た。ろ過した後、ろ液を減圧下での蒸留により濃縮乾固
し、残留物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ベン
ゼンで溶出して6.4gの求める生成物を得た。
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸(S)−シアノ−1−(3−フェノ
キシフェニル)メチル 例13で得られた酸5.1gを70ミリリットルの塩化
メチレン中に導入し、4.26gのジシクロヘキサンカ
ルボジイミドと1.95ミリリットルのピリジンとを加
え、20℃にて15分間撹拌した後、4.7gの(S)
α−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチルア
ルコールを加え、そして20℃で18時間撹拌を続け
た。ろ過した後、ろ液を減圧下での蒸留により濃縮乾固
し、残留物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ベン
ゼンで溶出して6.4gの求める生成物を得た。
【0077】工程B 1R,trans 2,2−ジメチル−3−(ΔZ2−メチル
スルフィニル−2−メトキシカルボニルエテニル)−シ
クロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−(3−フェノ
キシフェニル)メチル:ジアステレオマーA及びジアス
テレオマーB 6gの1R,trans 3−(ΔE+ΔZ2−メチルチオ−
2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチル
シクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−1−(3−
フェノキシフェニル)メチルと水60ミリリットルにお
けるメタ過沃素酸ナトリウム5.7gの溶液とを200
ミリリットルのメタノール中へ導入した。20℃にて2
4時間撹拌した後、1.8gのメタ過沃素酸ナトリウム
を加え、20℃にて18時間撹拌した。ろ過した後、ろ
液を減圧下での蒸留により濃縮乾固し、残留物を酢酸エ
チルで抽出した。抽出物を減圧下での蒸留により濃縮乾
固させ、次いでシリカ上でのクロマトグラフにかけ、シ
クロヘキサンと酢酸エチルとの混合物(1/1)で溶出
させて0.5gのジアステレオマーAと0.5gのジア
ステレオマーBとを得た。 ジアステレオマーA: [α]D =+152.5°(c=1%、ベンゼン) ジアステレオマーB: [α]D =+57.5°(c=0.3%、ベンゼン)
スルフィニル−2−メトキシカルボニルエテニル)−シ
クロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−(3−フェノ
キシフェニル)メチル:ジアステレオマーA及びジアス
テレオマーB 6gの1R,trans 3−(ΔE+ΔZ2−メチルチオ−
2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチル
シクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−1−(3−
フェノキシフェニル)メチルと水60ミリリットルにお
けるメタ過沃素酸ナトリウム5.7gの溶液とを200
ミリリットルのメタノール中へ導入した。20℃にて2
4時間撹拌した後、1.8gのメタ過沃素酸ナトリウム
を加え、20℃にて18時間撹拌した。ろ過した後、ろ
液を減圧下での蒸留により濃縮乾固し、残留物を酢酸エ
チルで抽出した。抽出物を減圧下での蒸留により濃縮乾
固させ、次いでシリカ上でのクロマトグラフにかけ、シ
クロヘキサンと酢酸エチルとの混合物(1/1)で溶出
させて0.5gのジアステレオマーAと0.5gのジア
ステレオマーBとを得た。 ジアステレオマーA: [α]D =+152.5°(c=1%、ベンゼン) ジアステレオマーB: [α]D =+57.5°(c=0.3%、ベンゼン)
【0078】参考例28:1R,trans 3−(ΔE2−
メトキシ−2−イソプロピルオキシカルボニルエテニ
ル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
(S)−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチ
ル 1.5gの1R,trans 3−(ΔE2−メトキシ−2−
イソプロピルオキシカルボニルエテニル)−2,2−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸(ΔZ異性体につき例
3に記載したと同様な方法で製造)と1.19gの
(S)α−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メ
チルアルコールとを15ミリリットル中の塩化メチレン
中に溶解させた。0℃にて、1.26gのジシクロヘキ
シルカルボジイミドと100mgの4−ジメチルアミノ
ピリジンとを含有する塩化メチレン溶液15ミリリット
ルを加えた。室温で16時間撹拌した後、生成した尿素
を分離し、ろ液を塩化メチレンで洗浄し、そして減圧下
で濃縮乾固させた。2.95gの粗生成物が得られ、こ
れをシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢
酸エチルとの混合物(8/2)で溶出させた。1.58
gの求める生成物が得られた。 [α]D =+2°(c=0.5%、クロロホルム)
メトキシ−2−イソプロピルオキシカルボニルエテニ
ル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
(S)−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチ
ル 1.5gの1R,trans 3−(ΔE2−メトキシ−2−
イソプロピルオキシカルボニルエテニル)−2,2−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸(ΔZ異性体につき例
3に記載したと同様な方法で製造)と1.19gの
(S)α−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メ
チルアルコールとを15ミリリットル中の塩化メチレン
中に溶解させた。0℃にて、1.26gのジシクロヘキ
シルカルボジイミドと100mgの4−ジメチルアミノ
ピリジンとを含有する塩化メチレン溶液15ミリリット
ルを加えた。室温で16時間撹拌した後、生成した尿素
を分離し、ろ液を塩化メチレンで洗浄し、そして減圧下
で濃縮乾固させた。2.95gの粗生成物が得られ、こ
れをシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢
酸エチルとの混合物(8/2)で溶出させた。1.58
gの求める生成物が得られた。 [α]D =+2°(c=0.5%、クロロホルム)
【0079】参考例29:1R,trans 3−(ΔZ2−
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(6−フェノキシ
−2−ピリジル)メチル 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸と(6−フェノキシ−2−ピリジル)メチル
アルコールとから出発して参考例28と同様にして、求
める生成物を得た。 [α]D =+22°(c=1.2%、クロロホルム)
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(6−フェノキシ
−2−ピリジル)メチル 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸と(6−フェノキシ−2−ピリジル)メチル
アルコールとから出発して参考例28と同様にして、求
める生成物を得た。 [α]D =+22°(c=1.2%、クロロホルム)
【0080】例14:1R,trans 2,2−ジメチル−
3−(ΔE2−メチルスルフィニル−2−メトキシカル
ボニルエテニル)シクロプロパンカルボン酸 5.44gのメチルメチルスルフィニルアセテートと
5.68gの1R,trans 2,2−ジメチル−3−ホル
ミルシクロプロパンカルボン酸とを50ミリリットルの
塩化メチレン中に溶解させた。3.4ミリリットルのピ
ロリジンを加え、全体を20℃にて18時間撹拌した。
塩化メチレンを加え、そして1N塩酸水溶液で洗浄し、
減圧下での蒸留により濃縮乾固させ、かつシリカ上で残
渣をクロマトグラフにかけ、酢酸エチルと酢酸との混合
物(100/2)で溶出させた後、6.2gの求める生
成物が得られた。 [α]D =+106.5°(c=1%、ベンゼン)
3−(ΔE2−メチルスルフィニル−2−メトキシカル
ボニルエテニル)シクロプロパンカルボン酸 5.44gのメチルメチルスルフィニルアセテートと
5.68gの1R,trans 2,2−ジメチル−3−ホル
ミルシクロプロパンカルボン酸とを50ミリリットルの
塩化メチレン中に溶解させた。3.4ミリリットルのピ
ロリジンを加え、全体を20℃にて18時間撹拌した。
塩化メチレンを加え、そして1N塩酸水溶液で洗浄し、
減圧下での蒸留により濃縮乾固させ、かつシリカ上で残
渣をクロマトグラフにかけ、酢酸エチルと酢酸との混合
物(100/2)で溶出させた後、6.2gの求める生
成物が得られた。 [α]D =+106.5°(c=1%、ベンゼン)
【0081】参考例30:1R,trans 2,2−ジメチ
ル−3−(ΔE2−メチルスルフィニル−2−メトキシ
カルボニルエテニル)シクロプロパンカルボン酸(S)
−シアノ−(3−フェノキシフェニル)メチル:ジアス
テレオマーA及びB 5.6gの1R,trans 2,2−ジメチル−3−(ΔE
2−メチルスルフィニル−2−メトキシカルボニルエテ
ニル)シクロプロパンカルボン酸と1.95ミリリット
ルのピリジンと4.4gのジシクロヘキシルカルボジイ
ミドとを60ミリリットルの塩化メチレン中に導入し、
そして全体を20℃にて15分間撹拌した。4.84g
の(S)α−シアノ−(3−フェノキシフェニル)メチ
ルアルコールを加え、そして20℃で16時間撹拌しか
つろ過した後、ろ液を減圧下での蒸留により濃縮乾固さ
せた。残留物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、シ
クロヘキサンと酢酸エチルとの混合物(6/4)で溶出
させて1.0gのジアステレオマーAと1.1gのジア
ステレオマーBとを得た。 ジアステレオマーA: [α]D =+26.5°(c=0.5%、ベンゼン) ジアステレオマーB: [α]D =+130°(c=0.5%、ベンゼン)
ル−3−(ΔE2−メチルスルフィニル−2−メトキシ
カルボニルエテニル)シクロプロパンカルボン酸(S)
−シアノ−(3−フェノキシフェニル)メチル:ジアス
テレオマーA及びB 5.6gの1R,trans 2,2−ジメチル−3−(ΔE
2−メチルスルフィニル−2−メトキシカルボニルエテ
ニル)シクロプロパンカルボン酸と1.95ミリリット
ルのピリジンと4.4gのジシクロヘキシルカルボジイ
ミドとを60ミリリットルの塩化メチレン中に導入し、
そして全体を20℃にて15分間撹拌した。4.84g
の(S)α−シアノ−(3−フェノキシフェニル)メチ
ルアルコールを加え、そして20℃で16時間撹拌しか
つろ過した後、ろ液を減圧下での蒸留により濃縮乾固さ
せた。残留物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、シ
クロヘキサンと酢酸エチルとの混合物(6/4)で溶出
させて1.0gのジアステレオマーAと1.1gのジア
ステレオマーBとを得た。 ジアステレオマーA: [α]D =+26.5°(c=0.5%、ベンゼン) ジアステレオマーB: [α]D =+130°(c=0.5%、ベンゼン)
【0082】参考例31:1R,trans 2,2−ジメチ
ル−3−(ΔE2−メチルスルホニル−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)シクロプロパンカルボン酸(S)−
シアノ−(3−フェノキシフェニル)メチル 1.2gの1R,trans 2,2−ジメチル−3−(ΔE
2−メチルスルフィニル−2−メトキシカルボニルエテ
ニル)シクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−(3
−フェノキシフェニル)メチル(参考例30で製造)を
30ミリリットルの塩化メチレン中に溶解し、次いで4
31mgのメタクロル過安息香酸を−20℃にて導入
し、そして全体を20℃で2時間撹拌した。ろ過し、減
圧下での蒸留によりろ液を濃縮乾固させ、残渣をシリカ
上でクロマトグラフにかけ、シクロヘキサンと酢酸エチ
ルとの混合物(6/4)で溶出させた後、0.8gの求
める生成物が得られた。 [α]D =+73°(c=0.3%、ベンゼン)
ル−3−(ΔE2−メチルスルホニル−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)シクロプロパンカルボン酸(S)−
シアノ−(3−フェノキシフェニル)メチル 1.2gの1R,trans 2,2−ジメチル−3−(ΔE
2−メチルスルフィニル−2−メトキシカルボニルエテ
ニル)シクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−(3
−フェノキシフェニル)メチル(参考例30で製造)を
30ミリリットルの塩化メチレン中に溶解し、次いで4
31mgのメタクロル過安息香酸を−20℃にて導入
し、そして全体を20℃で2時間撹拌した。ろ過し、減
圧下での蒸留によりろ液を濃縮乾固させ、残渣をシリカ
上でクロマトグラフにかけ、シクロヘキサンと酢酸エチ
ルとの混合物(6/4)で溶出させた後、0.8gの求
める生成物が得られた。 [α]D =+73°(c=0.3%、ベンゼン)
【0083】例15:1R,cis 3−(ΔZ2−メチル
チオ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸 5.68gの1R,5S6,6−ジメチル−4(R)−
ヒドロキシ−3−オキサビシクロ−[3,1,0]−ヘ
キサン−2−オンと5.28gのメチルメチルチオアセ
テートとを75ミリリットルのテトラヒドロフラン中に
溶解した。−60℃にてテトラヒドロフラン50ミリリ
ットル中のカリウムt−ブチラート8.97gの溶液を
徐々に加え、−60℃にて1時間撹拌し、次いで燐酸1
ナトリウムの飽和水溶液を加えた。酢酸エチルで抽出
し、抽出物を減圧下での蒸留により濃縮乾固させ、残渣
をベンゼン中に溶解させた後、100mgのp−トルエ
ンスルホン酸を加え、そして全体を1.5時間還流させ
た。生成した水を共沸蒸留により除去し、12ミリリッ
トルのトリエチルアミンを加え、次いで反応混合物を還
流させ、3時間保った後、減圧下での蒸留により濃縮乾
固させた。残留物をシリカ上でのクロマトグラフにか
け、シクロヘキサンと酢酸エチルとの混合物(1/1)
で溶出させて6.3gの求める生成物を得、これはNM
Rスペクトルによれば10%のE異性体を含有した。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.32〜1.35
ppm。 シクロプロパンの位置1における水素に基づくピーク、
1.9〜2.1ppm。 チオメチルの水素に基づくピーク、2.23ppm。 シクロプロパンの位置3における水素に基づくピーク、
2.52〜2.83ppm。 メトキシの水素に基づくピーク、3.85ppm。 エチレン水素(ΔEの〜1/10)に基づくピーク、
6.3〜6.5ppm。 エチレン水素(ΔZの〜9/10)に基づくピーク、
7.4〜7.6ppm。
チオ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸 5.68gの1R,5S6,6−ジメチル−4(R)−
ヒドロキシ−3−オキサビシクロ−[3,1,0]−ヘ
キサン−2−オンと5.28gのメチルメチルチオアセ
テートとを75ミリリットルのテトラヒドロフラン中に
溶解した。−60℃にてテトラヒドロフラン50ミリリ
ットル中のカリウムt−ブチラート8.97gの溶液を
徐々に加え、−60℃にて1時間撹拌し、次いで燐酸1
ナトリウムの飽和水溶液を加えた。酢酸エチルで抽出
し、抽出物を減圧下での蒸留により濃縮乾固させ、残渣
をベンゼン中に溶解させた後、100mgのp−トルエ
ンスルホン酸を加え、そして全体を1.5時間還流させ
た。生成した水を共沸蒸留により除去し、12ミリリッ
トルのトリエチルアミンを加え、次いで反応混合物を還
流させ、3時間保った後、減圧下での蒸留により濃縮乾
固させた。残留物をシリカ上でのクロマトグラフにか
け、シクロヘキサンと酢酸エチルとの混合物(1/1)
で溶出させて6.3gの求める生成物を得、これはNM
Rスペクトルによれば10%のE異性体を含有した。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.32〜1.35
ppm。 シクロプロパンの位置1における水素に基づくピーク、
1.9〜2.1ppm。 チオメチルの水素に基づくピーク、2.23ppm。 シクロプロパンの位置3における水素に基づくピーク、
2.52〜2.83ppm。 メトキシの水素に基づくピーク、3.85ppm。 エチレン水素(ΔEの〜1/10)に基づくピーク、
6.3〜6.5ppm。 エチレン水素(ΔZの〜9/10)に基づくピーク、
7.4〜7.6ppm。
【0084】参考例32:1R,cis 3−(ΔZ2−メ
チルチオ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例15で製造した6.3gの(ΔZ+ΔE)酸を75ミ
リリットルの塩化メチレン中に溶解させ、5.26gの
ジシクロヘキシルカルボジイミドを加え、20℃にて1
5分間撹拌し、次いで5.8gの(S)α−シアノ−1
−(3−フェノキシフェニル)メチルアルコールと2.
4ミリリットルのピリジンとを加え、さらに20℃にて
18時間撹拌した。ろ過し、減圧下での蒸留によりろ液
を濃縮乾固し、シリカ上で残渣をクロマトグラフにか
け、シクロヘキサンと酢酸エチルとの混合物(9/1)
で溶出させた後、求める生成物ΔZ異性体6.8gと求
める生成物ΔE異性体0.8gとを得た。 円偏光二色性(ジオキサン) 異性体ΔZ: 257nmにおける最大値、Δε=+1.15; 290nmにおける最大値、Δε=+1.0; 305nmにおける最大値、Δε=+0.9 異性体ΔE: 240nmにおける最大値、Δε=−0.6; 275nmにおける最大値、Δε=−0.25; 300nmにおける最大値、Δε=−0.6。参考例33 :1R,cis 2,2−ジメチル−3−(ΔZ
2−メチルスルフィニル−2−メトキシカルボニルエテ
ニル)シクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−(3
−フェノキシフェニル)メチル:ジアステレオマーA及
びB 1R,cis 3−(ΔZ2−メチルチオ−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸(S)−シアノ−1−(3−フェノキシフェ
ニル)メチルから出発して参考例27と同様にして、求
める生成物をジアステレオマーA及びBとして得た。 ジアステレオマーA: [α]D =+73°(c=1%、ベンゼン) ジアステレオマーB: [α]D =+52°(c=1%、ベンゼン)
チルチオ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例15で製造した6.3gの(ΔZ+ΔE)酸を75ミ
リリットルの塩化メチレン中に溶解させ、5.26gの
ジシクロヘキシルカルボジイミドを加え、20℃にて1
5分間撹拌し、次いで5.8gの(S)α−シアノ−1
−(3−フェノキシフェニル)メチルアルコールと2.
4ミリリットルのピリジンとを加え、さらに20℃にて
18時間撹拌した。ろ過し、減圧下での蒸留によりろ液
を濃縮乾固し、シリカ上で残渣をクロマトグラフにか
け、シクロヘキサンと酢酸エチルとの混合物(9/1)
で溶出させた後、求める生成物ΔZ異性体6.8gと求
める生成物ΔE異性体0.8gとを得た。 円偏光二色性(ジオキサン) 異性体ΔZ: 257nmにおける最大値、Δε=+1.15; 290nmにおける最大値、Δε=+1.0; 305nmにおける最大値、Δε=+0.9 異性体ΔE: 240nmにおける最大値、Δε=−0.6; 275nmにおける最大値、Δε=−0.25; 300nmにおける最大値、Δε=−0.6。参考例33 :1R,cis 2,2−ジメチル−3−(ΔZ
2−メチルスルフィニル−2−メトキシカルボニルエテ
ニル)シクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−(3
−フェノキシフェニル)メチル:ジアステレオマーA及
びB 1R,cis 3−(ΔZ2−メチルチオ−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸(S)−シアノ−1−(3−フェノキシフェ
ニル)メチルから出発して参考例27と同様にして、求
める生成物をジアステレオマーA及びBとして得た。 ジアステレオマーA: [α]D =+73°(c=1%、ベンゼン) ジアステレオマーB: [α]D =+52°(c=1%、ベンゼン)
【0085】参考例34:1R,cis 2,2−ジメチル
−3−(ΔZ2−メチルスルホニル−2−メトキシカル
ボニルエテニル)シクロプロパンカルボン酸(S)−シ
アノ−(3−フェノキシフェニル)メチル 1R,cis 2,2−ジメチル−3−(ΔZ2−メチルス
ルフィニル−2−メトキシカルボニルエテニル)シクロ
プロパンカルボン酸(S)−シアノ−(3−フェノキシ
フェニル)メチル(参考例33で製造)から出発して参
考例31に使用したと同様な方法で、求める生成物を得
た。 [α]D =+15°(c=1%、ベンゼン)
−3−(ΔZ2−メチルスルホニル−2−メトキシカル
ボニルエテニル)シクロプロパンカルボン酸(S)−シ
アノ−(3−フェノキシフェニル)メチル 1R,cis 2,2−ジメチル−3−(ΔZ2−メチルス
ルフィニル−2−メトキシカルボニルエテニル)シクロ
プロパンカルボン酸(S)−シアノ−(3−フェノキシ
フェニル)メチル(参考例33で製造)から出発して参
考例31に使用したと同様な方法で、求める生成物を得
た。 [α]D =+15°(c=1%、ベンゼン)
【0086】参考例35:1R,trans 3−(ΔE2−
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(6−フェノキシ
−2−ピリジル)メチル 1R,trans 3−(ΔE2−メトキシ−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸と(6−フェノキシ−2−ピリジル)メチル
アルコールとを使用して参考例28で使用したと同様な
方法で、求める生成物を得た。 [α]D =+9°(c=0.7%、クロロホルム)
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(6−フェノキシ
−2−ピリジル)メチル 1R,trans 3−(ΔE2−メトキシ−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸と(6−フェノキシ−2−ピリジル)メチル
アルコールとを使用して参考例28で使用したと同様な
方法で、求める生成物を得た。 [α]D =+9°(c=0.7%、クロロホルム)
【0087】例16:1R,trans 3−(ΔZ2−メト
キシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸工程A 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−t−ブトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸メトキシメチル:異性体E及び異性体Z 0.88gのカリウムt−ブチラートと4ミリリットル
のt−ブチルアルコールと2ミリリットルのジメチルホ
ルムアミドと4ミリリットルのテトラヒドロフランとを
混合し、そしてテトラヒドロフラン3ミリリットル中の
メチル−O,O−ジエチルホスホノt−ブトキシアセテ
ート2.13gの溶液を導入し、そして30分間撹拌し
た。さらに0℃にてテトラヒドロフラン6ミリリットル
中の1R,trans 2,2−ジメチル−3−ホルミル−シ
クロプロパンカルボン酸メトキシメチルの溶液を加え、
0℃にて1時間撹拌し、次いで反応混合物を水中に注ぎ
入れ、そしてイソプロピルエーテルで抽出した。撹拌
し、デカントし、有機相を減圧下での蒸留により濃縮乾
固し、残留物をシリカ上でのクロマトブラフにかけ、か
つベンゼンと酢酸エチルとの混合物(95/5)で溶出
させた後、0.97gのΔZ異性体と0.45gのΔE
異性体とが得られた。 異性体ΔZ: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.32
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
32ppm。 シクロプロパンの位置1における水素に基づくピーク、
1.66〜1.76ppm。 シクロプロパンの位置3における水素に基づくピーク、
2.4〜2.65ppm。 メトキシメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.5ppm。 メトキシカルボニルのメチルにおける水素に基づくピー
ク、3.75ppm。 メトキシメチルのメチレンにおける水素に基づくピー
ク、5.25ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.0〜6.2ppm。 異性体ΔE: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.18〜1.32
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
25ppm。 シクロプロパンの位置1における水素に基づくピーク、
1.5〜1.6ppm。 シクロプロパンの位置3における水素に基づくピーク、
2.68〜2.93ppm。 メトキシメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.5ppm。 メトキシカルボニルのメチルにおける水素に基づくピー
ク、3.8ppm。 メトキシメチルのメチレンにおける水素に基づくピー
ク、5.25ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.4〜5.5ppm。
キシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸工程A 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−t−ブトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸メトキシメチル:異性体E及び異性体Z 0.88gのカリウムt−ブチラートと4ミリリットル
のt−ブチルアルコールと2ミリリットルのジメチルホ
ルムアミドと4ミリリットルのテトラヒドロフランとを
混合し、そしてテトラヒドロフラン3ミリリットル中の
メチル−O,O−ジエチルホスホノt−ブトキシアセテ
ート2.13gの溶液を導入し、そして30分間撹拌し
た。さらに0℃にてテトラヒドロフラン6ミリリットル
中の1R,trans 2,2−ジメチル−3−ホルミル−シ
クロプロパンカルボン酸メトキシメチルの溶液を加え、
0℃にて1時間撹拌し、次いで反応混合物を水中に注ぎ
入れ、そしてイソプロピルエーテルで抽出した。撹拌
し、デカントし、有機相を減圧下での蒸留により濃縮乾
固し、残留物をシリカ上でのクロマトブラフにかけ、か
つベンゼンと酢酸エチルとの混合物(95/5)で溶出
させた後、0.97gのΔZ異性体と0.45gのΔE
異性体とが得られた。 異性体ΔZ: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.32
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
32ppm。 シクロプロパンの位置1における水素に基づくピーク、
1.66〜1.76ppm。 シクロプロパンの位置3における水素に基づくピーク、
2.4〜2.65ppm。 メトキシメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.5ppm。 メトキシカルボニルのメチルにおける水素に基づくピー
ク、3.75ppm。 メトキシメチルのメチレンにおける水素に基づくピー
ク、5.25ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.0〜6.2ppm。 異性体ΔE: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.18〜1.32
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
25ppm。 シクロプロパンの位置1における水素に基づくピーク、
1.5〜1.6ppm。 シクロプロパンの位置3における水素に基づくピーク、
2.68〜2.93ppm。 メトキシメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.5ppm。 メトキシカルボニルのメチルにおける水素に基づくピー
ク、3.8ppm。 メトキシメチルのメチレンにおける水素に基づくピー
ク、5.25ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.4〜5.5ppm。
【0088】工程B 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−t−ブトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸 910mgの1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2
−t−ブトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチ
ルシクロプロパンカルボン酸メトキシメチルと17.5
ミリリットルのメタノールと17.5ミリリットルのア
セトンと35ミリリットルの1N塩酸水溶液とを混合
し、そして20℃で6.5時間撹拌した。次いで、反応
混合物を水中に注ぎ込み、エチルエーテルで抽出し、そ
して抽出物を減圧下での蒸留により濃縮乾固させた。残
留物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと
酢酸エチルとの混合物(4/6)で溶出させて0.47
gの求める生成物を得た。 IRスペクトル(エタノール) OHモノマー酸及びダイマー酸:3500cm-1 エステルのC=O :1725cm-1 酸のC=O :1695cm-1 C=C Z :1640cm-1 COOMeバンド :1440cm-1 t−Bu :1372cm-1
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸 910mgの1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2
−t−ブトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチ
ルシクロプロパンカルボン酸メトキシメチルと17.5
ミリリットルのメタノールと17.5ミリリットルのア
セトンと35ミリリットルの1N塩酸水溶液とを混合
し、そして20℃で6.5時間撹拌した。次いで、反応
混合物を水中に注ぎ込み、エチルエーテルで抽出し、そ
して抽出物を減圧下での蒸留により濃縮乾固させた。残
留物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと
酢酸エチルとの混合物(4/6)で溶出させて0.47
gの求める生成物を得た。 IRスペクトル(エタノール) OHモノマー酸及びダイマー酸:3500cm-1 エステルのC=O :1725cm-1 酸のC=O :1695cm-1 C=C Z :1640cm-1 COOMeバンド :1440cm-1 t−Bu :1372cm-1
【0089】参考例36:1R,trans 3−(ΔZ2−
メトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シ
アノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチル 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−t−ブトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸と(S)−シアノ−1−(3−フェノキ
シフェニル)メチルアルコールとを使用して参考例28
に記載したと同様な方法で、求める生成物を得た。MP
=72℃。 [α]D =−90°(c=0.7%、クロロホルム)
メトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シ
アノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチル 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−t−ブトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸と(S)−シアノ−1−(3−フェノキ
シフェニル)メチルアルコールとを使用して参考例28
に記載したと同様な方法で、求める生成物を得た。MP
=72℃。 [α]D =−90°(c=0.7%、クロロホルム)
【0090】例17:1R,trans 3−(ΔZ2−t−
ブトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
ブトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
【0091】工程A 1R,trans 2,2−ジメチル−3−ホルミルシクロプ
ロパンカルボン酸メトキシメチル 25.6gの1R,trans 2,2−ジメチル−3−ホル
ミルシクロプロパンカルボン酸を250ミリリットルの
テトラヒドロフラン中に溶解し、1.64gの水素化リ
チウムを導入し、そして全体を+15℃にて30分間撹
拌した。18.2gの新たに調製したクロルメチル−メ
チルエーテルの溶液(0.225モル)を導入し、そし
て撹拌を20℃にて4時間続けた。次いで、反応混合物
を水と氷と重炭酸ナトリウムとの混合物へ注ぎ入れ、そ
して撹拌しかつイソプロピルエーテルで抽出した後、有
機相を減圧下での蒸留により濃縮乾固させた。減圧下で
蒸留した後、15.15gの求める生成物が得られた。
沸点67℃/0.05mmHg。
ロパンカルボン酸メトキシメチル 25.6gの1R,trans 2,2−ジメチル−3−ホル
ミルシクロプロパンカルボン酸を250ミリリットルの
テトラヒドロフラン中に溶解し、1.64gの水素化リ
チウムを導入し、そして全体を+15℃にて30分間撹
拌した。18.2gの新たに調製したクロルメチル−メ
チルエーテルの溶液(0.225モル)を導入し、そし
て撹拌を20℃にて4時間続けた。次いで、反応混合物
を水と氷と重炭酸ナトリウムとの混合物へ注ぎ入れ、そ
して撹拌しかつイソプロピルエーテルで抽出した後、有
機相を減圧下での蒸留により濃縮乾固させた。減圧下で
蒸留した後、15.15gの求める生成物が得られた。
沸点67℃/0.05mmHg。
【0092】工程B 1R,trans 3−(ΔZ2−t−ブトキシ−2−t−ブ
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸メトキシメチル 2.8gのカリウムt−ブチラートと13.3ミリリッ
トルのt−ブタノールと6.6ミリリットルのジメチル
ホルムアミドと13.3ミリリットルのテトラヒドロフ
ランとを混合し、そして0℃でテトラヒドロフラン1
3.3ミリリットル中のt−ブチル−O,O−ジエチル
ホスホノ−t−ブトキシアセテート8.1gの溶液を加
えた。0℃にて30分間撹拌した後、テトラヒドロフラ
ン20ミリリットル中の1R,trans 2,2−ジメチル
−3−ホルミルシクロプロパンカルボン酸メトキシメチ
ル4.66gの溶液を加え、−5℃にて1時間撹拌し
た。次いで、反応混合物を水中に注ぎ入れ、イソプロピ
ルエーテルで抽出した。有機相を減圧下での蒸留により
濃縮乾固させ、そして残留物をシリカ上でのクロマトグ
ラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(8/
2)で溶出させて、0.59gの求める生成物を得た。
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸メトキシメチル 2.8gのカリウムt−ブチラートと13.3ミリリッ
トルのt−ブタノールと6.6ミリリットルのジメチル
ホルムアミドと13.3ミリリットルのテトラヒドロフ
ランとを混合し、そして0℃でテトラヒドロフラン1
3.3ミリリットル中のt−ブチル−O,O−ジエチル
ホスホノ−t−ブトキシアセテート8.1gの溶液を加
えた。0℃にて30分間撹拌した後、テトラヒドロフラ
ン20ミリリットル中の1R,trans 2,2−ジメチル
−3−ホルミルシクロプロパンカルボン酸メトキシメチ
ル4.66gの溶液を加え、−5℃にて1時間撹拌し
た。次いで、反応混合物を水中に注ぎ入れ、イソプロピ
ルエーテルで抽出した。有機相を減圧下での蒸留により
濃縮乾固させ、そして残留物をシリカ上でのクロマトグ
ラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(8/
2)で溶出させて、0.59gの求める生成物を得た。
【0093】工程C 1R,trans 3−(ΔZ2−t−ブトキシ−2−t−ブ
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸 590mgの1R,trans 3−(ΔZ2−t−ブトキシ
−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸メトキシメチルと20
ミリリットルのメタノールと10ミリリットルのアセト
ンと20ミリリットルの1N塩酸水溶液とを混合し、そ
して20℃で6時間撹拌した。次いで、反応混合物を水
中に注ぎ入れ、そして塩化メチレンで抽出した。有機相
を減圧下での蒸留により濃縮乾固し、残留物をシリカ上
でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの
混合物(4/6)で溶出させて364mgの求める生成
物を得た。MP=85℃。
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸 590mgの1R,trans 3−(ΔZ2−t−ブトキシ
−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸メトキシメチルと20
ミリリットルのメタノールと10ミリリットルのアセト
ンと20ミリリットルの1N塩酸水溶液とを混合し、そ
して20℃で6時間撹拌した。次いで、反応混合物を水
中に注ぎ入れ、そして塩化メチレンで抽出した。有機相
を減圧下での蒸留により濃縮乾固し、残留物をシリカ上
でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの
混合物(4/6)で溶出させて364mgの求める生成
物を得た。MP=85℃。
【0094】参考例37:1R,trans 3−(ΔZ2−
t−ブトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)
−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−
シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチル 1R,trans 3−(ΔZ2−t−ブトキシ−2−t−ブ
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸と(S)−シアノ−1−(3−フェ
ノキシフェニル)メチルアルコールとから出発して参考
例28に用いたと同様な方法で、求める生成物を得た。
MP=81℃。 [α]D =−9°(c=0.5%、クロロホルム)
t−ブトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)
−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−
シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチル 1R,trans 3−(ΔZ2−t−ブトキシ−2−t−ブ
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸と(S)−シアノ−1−(3−フェ
ノキシフェニル)メチルアルコールとから出発して参考
例28に用いたと同様な方法で、求める生成物を得た。
MP=81℃。 [α]D =−9°(c=0.5%、クロロホルム)
【0095】例18:1R,trans 3−(ΔE2−t−
ブトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸 410mgの1R,trans 3−(ΔE2−t−ブトキシ
−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチ
ルシクロプロパンカルボン酸メトキシメチル(例16の
工程Aで得られる)と8ミリリットルのメタノールと8
ミリリットルのアセトンと16ミリリットルの1N塩酸
水溶液とを混合し、20℃にて6時間撹拌した。水中へ
注ぎ入れ、エチルエーテルで抽出し、かつ減圧下での蒸
留により有機相を濃縮乾固させて、300mgの求める
生成物を得た。
ブトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸 410mgの1R,trans 3−(ΔE2−t−ブトキシ
−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチ
ルシクロプロパンカルボン酸メトキシメチル(例16の
工程Aで得られる)と8ミリリットルのメタノールと8
ミリリットルのアセトンと16ミリリットルの1N塩酸
水溶液とを混合し、20℃にて6時間撹拌した。水中へ
注ぎ入れ、エチルエーテルで抽出し、かつ減圧下での蒸
留により有機相を濃縮乾固させて、300mgの求める
生成物を得た。
【0096】参考例38:1R,trans (ΔE2−t−
ブトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 1R,trans 3−(ΔE2−t−ブトキシ−2−メトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸と(S)−シアノ−1−(3−フェノキ
シフェニル)メチルアルコールとから出発して参考例2
8に使用したと同様な方法で、求める生成物を得た。M
P=80℃。 [α]D =+7°(c=1%、クロロホルム)
ブトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 1R,trans 3−(ΔE2−t−ブトキシ−2−メトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸と(S)−シアノ−1−(3−フェノキ
シフェニル)メチルアルコールとから出発して参考例2
8に使用したと同様な方法で、求める生成物を得た。M
P=80℃。 [α]D =+7°(c=1%、クロロホルム)
【0097】式(I)を有する化合物の生物学的活性の
検討 家ばえに対するノックダウン効果 試験昆虫は4日令の雌家ばえである。試験はカーンス及
びマーシュチャンバにおいて0.25g/lの濃度で直
接噴霧により行ない、この場合溶剤としてアセトン(5
%)とイソパールL(登録商標)(石油溶剤)との混合
物を使用した(使用した溶剤量、1秒間に2ミリリット
ル)。各処理につき50匹の昆虫を使用した。検査は1
0分間まで毎分、次いで15分間にて行ない、KT50
は常法により決定した。得られた実験結果を下記表に要
約する:
検討 家ばえに対するノックダウン効果 試験昆虫は4日令の雌家ばえである。試験はカーンス及
びマーシュチャンバにおいて0.25g/lの濃度で直
接噴霧により行ない、この場合溶剤としてアセトン(5
%)とイソパールL(登録商標)(石油溶剤)との混合
物を使用した(使用した溶剤量、1秒間に2ミリリット
ル)。各処理につき50匹の昆虫を使用した。検査は1
0分間まで毎分、次いで15分間にて行ない、KT50
は常法により決定した。得られた実験結果を下記表に要
約する:
【0098】
【表1】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A01N 53/00 508 D 8930−4H 510 8930−4H C07C 67/343 8018−4H 69/734 Z 9279−4H 317/44 7419−4H 323/55 7419−4H C07D 213/64 6701−4C 233/78 7252−4C 307/45 7729−4C 307/93 7729−4C (72)発明者 ジヨゼフ・カデイエルグ フランス国オルネ・スー・ボワ、リユ・ジ ユル・プランセ、6
Claims (2)
- 【請求項1】 全ての立体異性体型における又は立体異
性体の混合物としての、一般式(IV') : 【化1】 [式中、Xは酸素若しくは硫黄原子、スルホキシド基又
はスルホン基を示し、 R1 及びR3 は同一でも異なってもよく、線状、分枝鎖
状若しくは環状の飽和若しくは不飽和アルキル基(その
連鎖は1個若しくはそれ以上の複素原子により中断され
てもよく、また、1個若しくはそれ以上のハロゲン原子
により置換されてもよい)又は6〜18個の炭素原子を
有するアリール若しくはアラルキル基を示す]を有する
化合物。 - 【請求項2】 式(IV') を有する酸が、 1R,trans 3−(ΔE2−メトキシ−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸及び1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−
2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチル
シクロプロパンカルボン酸;1R,trans 3−(ΔZ2
−メチルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸;1R,tr
ans 3−(ΔZ又はΔE2−フェニルチオ−2−エトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸;1R,trans 3−(ΔE2−エトキシ
−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチ
ルシクロプロパンカルボン酸及び1R,trans 3−(Δ
Z2−エトキシ−2−エトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸;1R,ci
s 3−(ΔZ2−フェニルチオ−2−エトキシカルボニ
ルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボ
ン酸;1R,cis 3−(ΔE2−メトキシ−2−メトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸及び対応する1R,cis ΔZ酸;1R,
cis 3−(ΔZ2−メチルチオ−2−メトキシカルボニ
ルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボ
ン酸及び対応するΔE酸;1R,trans 3−(ΔE2−
メトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸及び対応す
るΔZ酸である請求項1記載の化合物。
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---|---|---|---|
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FR8217055A FR2534252A1 (fr) | 1982-10-12 | 1982-10-12 | Nouveaux derives de l'acide cyclopropane carboxylique substitues en 3 par une chaine vinylique elle-meme substituee, leur procede de preparation et leur application comme pesticides |
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JPH078834B2 JPH078834B2 (ja) | 1995-02-01 |
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FR2607133B1 (fr) * | 1986-11-20 | 1989-05-05 | Roussel Uclaf | Nouveaux derives de l'acide 2,2-dimethyl cyclopropane carboxylique portant en 3 une chaine halogenee saturee, leur procede de preparation et leur application comme pesticides |
FR2608152B1 (fr) * | 1986-12-11 | 1989-03-31 | Roussel Uclaf | Le 2,2-dimethyl 3-formyl cyclopropane carboxylate de pentafluorophenylmethyle, son procede de preparation et son application a la synthese de produits pesticides |
FR2631961B1 (fr) * | 1988-05-25 | 1991-11-08 | Roussel Uclaf | Nouveaux derives vinylsulfone norpyrethriques, leur procede de preparation et leur application dans la synthese de produits biologiquement actifs |
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JP3991812B2 (ja) * | 2001-12-11 | 2007-10-17 | 住友化学株式会社 | エステル化合物およびその用途 |
US6687479B2 (en) * | 2002-05-31 | 2004-02-03 | Xerox Corporation | Paper input guide for a transfer zone in a xerographic printing apparatus |
US20050113581A1 (en) * | 2003-11-26 | 2005-05-26 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for the preparation of carboxylic acid esters |
CN114507139B (zh) * | 2022-02-23 | 2023-04-28 | 自然资源部第三海洋研究所 | 环丙烷类化合物及其制备方法与抗流感病毒的应用 |
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HU174970B (hu) * | 1974-09-10 | 1980-04-28 | Sagami Chem Res | Sposob poluchenija organicheskikh soedinenijj soderzhahhikh sistem kol'ca ciklopropana |
JPS5813522B2 (ja) * | 1974-10-24 | 1983-03-14 | 住友化学工業株式会社 | 新しいシクロプロパンカルボン酸エステルを含有する殺虫、殺ダニ剤 |
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DE2638356A1 (de) * | 1976-08-26 | 1978-03-02 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung vinylsubstituierter cyclopropancarbonsaeureester |
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FR2426673A1 (fr) * | 1978-05-25 | 1979-12-21 | Nat Res Dev | Pesticides du type pyrethrine |
FR2453149A1 (fr) * | 1979-04-02 | 1980-10-31 | Ciba Geigy Ag | Esters d'acide dihalogenevinylcyclopropanecarboxylique, procede pour leur preparation et leur application dans la lutte antiparasitaire |
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FR2499071A1 (fr) * | 1981-02-05 | 1982-08-06 | Roussel Uclaf | Nouveaux derives de l'acide cyclopropane carboxylique substitue en 3 par une chaine vinylique, leur procede de preparation et leur application comme agents parfumants |
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- 1982-10-12 FR FR8217055A patent/FR2534252A1/fr active Granted
-
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- 1983-10-10 EG EG644/83A patent/EG16547A/xx active
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- 1983-10-11 DE DE8383401977T patent/DE3361869D1/de not_active Expired
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