JPH057820B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH057820B2 JPH057820B2 JP58238098A JP23809883A JPH057820B2 JP H057820 B2 JPH057820 B2 JP H057820B2 JP 58238098 A JP58238098 A JP 58238098A JP 23809883 A JP23809883 A JP 23809883A JP H057820 B2 JPH057820 B2 JP H057820B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- secondary electrons
- objective lens
- sample
- electron
- magnetic pole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 14
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 5
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、2次電子収集効率を向上させた走査
電子顕微鏡に関する。
電子顕微鏡に関する。
近時、透過結像型電子顕微鏡に走査機能を付加
することが多いが、第1図はその様な装置の要部
を示す一例である。図において、1は図示しない
電子銃から放射された電子線であり、該電子線1
は対物レンズの上磁極片と励磁コイル3側に近い
下磁極片4の間に挿入された試料5に照射され
る。6は2次電子検出器であり、シンチレータ、
ライトパイプ、2次電子増倍管等より構成される
検出部7、電極8及び接地電位のシールド筒9よ
り構成され、該電極8はシンチレータの周縁部に
配設された正の電位(例えば10KV)が検出器高
圧電源10より印加されている。
することが多いが、第1図はその様な装置の要部
を示す一例である。図において、1は図示しない
電子銃から放射された電子線であり、該電子線1
は対物レンズの上磁極片と励磁コイル3側に近い
下磁極片4の間に挿入された試料5に照射され
る。6は2次電子検出器であり、シンチレータ、
ライトパイプ、2次電子増倍管等より構成される
検出部7、電極8及び接地電位のシールド筒9よ
り構成され、該電極8はシンチレータの周縁部に
配設された正の電位(例えば10KV)が検出器高
圧電源10より印加されている。
以上の様に構成された装置において、電子線1
が試料5に照射されると、試料5からの2次電子
eは、第1図に示す様に対物レンズ上磁極片2と
対物レンズ下磁極片4で形成される強い磁場にト
ラツプされて、ほぼ電子線1の光軸Zを中心に周
囲を回転しながら電子線1の入射方向に向かつて
上昇する。そして、該2次電子eは、やがて2次
電子検出器6の電極8が形成する電場の方向に曲
げられ検出部7によつて検出され図示しない陰極
線管によつて2次電子像として表示される。
が試料5に照射されると、試料5からの2次電子
eは、第1図に示す様に対物レンズ上磁極片2と
対物レンズ下磁極片4で形成される強い磁場にト
ラツプされて、ほぼ電子線1の光軸Zを中心に周
囲を回転しながら電子線1の入射方向に向かつて
上昇する。そして、該2次電子eは、やがて2次
電子検出器6の電極8が形成する電場の方向に曲
げられ検出部7によつて検出され図示しない陰極
線管によつて2次電子像として表示される。
一方、電子線1の照射により試料5より発生す
る2次電子eはあらゆる方向に放出されるため、
光軸Zから大きく外れた2次電子e1,e2は、第1
図に示す様に2次電子検出器6に到達せずに対物
レンズ上磁極片2の内壁に衝突してしまう。又、
その軌跡が電子線光軸Zから大きく外れた2次電
子e3もシールド筒9等に衝突する。これらの2次
電子検出器6に到達しない2次電子e1,e2,e3
は、該2次電子が衝突した部分で吸収されたり、
又新たな2次電子を発生させる。そのため、この
2次電子検出器に到達しない2次電子e1等の影響
によつて、2次電子検出器6の検出収集効率を低
下さると共に、2次電子検出器6に到達しない2
次電子e1等が対物レンズ内壁等に衝突することに
よつて新たに発生する2次電子を増加させ、S/
Nを低下させる原因となり、2次電子像などの像
質を悪くする欠点があつた。
る2次電子eはあらゆる方向に放出されるため、
光軸Zから大きく外れた2次電子e1,e2は、第1
図に示す様に2次電子検出器6に到達せずに対物
レンズ上磁極片2の内壁に衝突してしまう。又、
その軌跡が電子線光軸Zから大きく外れた2次電
子e3もシールド筒9等に衝突する。これらの2次
電子検出器6に到達しない2次電子e1,e2,e3
は、該2次電子が衝突した部分で吸収されたり、
又新たな2次電子を発生させる。そのため、この
2次電子検出器に到達しない2次電子e1等の影響
によつて、2次電子検出器6の検出収集効率を低
下さると共に、2次電子検出器6に到達しない2
次電子e1等が対物レンズ内壁等に衝突することに
よつて新たに発生する2次電子を増加させ、S/
Nを低下させる原因となり、2次電子像などの像
質を悪くする欠点があつた。
本発明は以上の点に鑑みなされたもので、対物
レンズの上下磁極片間に挿入れさた試料へ電子線
を照射し、該試料より発生する2次電子を対物レ
ンズ上磁極片の上方に配置された2次電子検出器
によつて検出するように構成した走査電子顕微鏡
において、該試料より発生する2次電子を前記2
次電子検出器に収集するための2次電子収集用レ
ンズを前記試料と2次電子検出器との間に設けた
ことを特徴としてる。
レンズの上下磁極片間に挿入れさた試料へ電子線
を照射し、該試料より発生する2次電子を対物レ
ンズ上磁極片の上方に配置された2次電子検出器
によつて検出するように構成した走査電子顕微鏡
において、該試料より発生する2次電子を前記2
次電子検出器に収集するための2次電子収集用レ
ンズを前記試料と2次電子検出器との間に設けた
ことを特徴としてる。
以下、本発明の一実施例を添付図面により詳細
する。
する。
第2図は本発明の一実施例装置の要部の構成断
面図である。尚、第1図と同一部分には同一番号
を付してその説明は省略する。第2図に示す実施
例装置が第1図に示す従来装置と異なる点は、試
料上の2次電子放出点から放出される2次電子を
2次電子検出器6近傍の光軸Z上のA点に結像さ
せる電磁レンズ11を、試料5と2次電子検出器
6との間に設けた点にある。該電磁レンズ11
は、2eVの近傍にピークを持つ低いエネルギーの
2次電子に対して、所謂遠焦点の弱励磁レンズと
して使用されるため、試料照射用の60KeV程度
のエネルギーを有する電子線1への影響は殆んど
無視できる。
面図である。尚、第1図と同一部分には同一番号
を付してその説明は省略する。第2図に示す実施
例装置が第1図に示す従来装置と異なる点は、試
料上の2次電子放出点から放出される2次電子を
2次電子検出器6近傍の光軸Z上のA点に結像さ
せる電磁レンズ11を、試料5と2次電子検出器
6との間に設けた点にある。該電磁レンズ11
は、2eVの近傍にピークを持つ低いエネルギーの
2次電子に対して、所謂遠焦点の弱励磁レンズと
して使用されるため、試料照射用の60KeV程度
のエネルギーを有する電子線1への影響は殆んど
無視できる。
この様に構成された装置では、試料5から発生
した2次電子eは対物レンズ上磁極片2と対物レ
ンズ下磁極片4で形成される強い磁場にトラツプ
されて、ほぼ電子線1の光軸Zを中心に周囲を回
転しながら電子線1の入射方向に向かつて上昇し
やがて結像点Aの近傍に到達する。一方、光軸Z
より外れた2次電子e1,e2,e3は、該電磁レンズ
11によるレンズ作用により結像点Aの方向に軌
道修正される。ところで、結像点Aの近傍に配置
された2次電子検出器6の電極8には高電圧が印
加されており、結像点A近傍まで移動した2次電
子eや軌道修正された2次電子e1等は、該電極8
が形成する電界に引きつけられて2次電子検出器
6に入射し検出される。そのため、対物レンズ内
壁やシールド筒9に衝突する2次電子が極端に減
少し試料5よりの2次電子収集率が向上する。更
に、対物レンズ内壁に衝突する2次電子e1等によ
つて新たに発生する2次電子が2次電子検出器6
によつて検出されるのが抑えられるためS/Nを
向上することができ、従つて2次電子像等の像質
を向上することができる。
した2次電子eは対物レンズ上磁極片2と対物レ
ンズ下磁極片4で形成される強い磁場にトラツプ
されて、ほぼ電子線1の光軸Zを中心に周囲を回
転しながら電子線1の入射方向に向かつて上昇し
やがて結像点Aの近傍に到達する。一方、光軸Z
より外れた2次電子e1,e2,e3は、該電磁レンズ
11によるレンズ作用により結像点Aの方向に軌
道修正される。ところで、結像点Aの近傍に配置
された2次電子検出器6の電極8には高電圧が印
加されており、結像点A近傍まで移動した2次電
子eや軌道修正された2次電子e1等は、該電極8
が形成する電界に引きつけられて2次電子検出器
6に入射し検出される。そのため、対物レンズ内
壁やシールド筒9に衝突する2次電子が極端に減
少し試料5よりの2次電子収集率が向上する。更
に、対物レンズ内壁に衝突する2次電子e1等によ
つて新たに発生する2次電子が2次電子検出器6
によつて検出されるのが抑えられるためS/Nを
向上することができ、従つて2次電子像等の像質
を向上することができる。
尚、本発明は以上の実施例に限定されず、例え
ば本実施例においては対物レンズの内側に2次電
子収集用の電磁レンズを設けたが、該2次電子収
集用の電磁レンズにかえて、第3図に示すように
2次電子に対して結像点Aを得るように対物レン
ズにギヤツプΔGを設けても同様な効果を得るこ
とができる。
ば本実施例においては対物レンズの内側に2次電
子収集用の電磁レンズを設けたが、該2次電子収
集用の電磁レンズにかえて、第3図に示すように
2次電子に対して結像点Aを得るように対物レン
ズにギヤツプΔGを設けても同様な効果を得るこ
とができる。
本発明によれば、2次電子収集用レンズを光軸
Z上且つ上磁極片内部に設置したので、2次電子
収集用レンズが試料を見込む立体角が大きいもの
となり、対物レンズ内壁に衝突する2次電子量が
減少する。この結果、試料よりの2次電子収集率
が向上する。更に、対物レンズ内壁に衝突する2
次電子によつて新たに発生する2次電子が2次電
子検出器によつて検出されるのが抑えられるため
S/Nを向上することができ、従つて2次電子像
の像質を更に向上することができる。
Z上且つ上磁極片内部に設置したので、2次電子
収集用レンズが試料を見込む立体角が大きいもの
となり、対物レンズ内壁に衝突する2次電子量が
減少する。この結果、試料よりの2次電子収集率
が向上する。更に、対物レンズ内壁に衝突する2
次電子によつて新たに発生する2次電子が2次電
子検出器によつて検出されるのが抑えられるため
S/Nを向上することができ、従つて2次電子像
の像質を更に向上することができる。
第1図は従来装置の構成断面図、第2図は本発
明の一実施例を示す構成断面図、第3図は他の実
施例を説明するための図である。 1……電子線、2……対物レンズ上磁極片、3
……励磁コイル、4……対物レンズ下磁極片、5
……試料、6……2次電子検出器、7……検出
部、8……電極、9……シールド筒、10……検
出器高圧電源。
明の一実施例を示す構成断面図、第3図は他の実
施例を説明するための図である。 1……電子線、2……対物レンズ上磁極片、3
……励磁コイル、4……対物レンズ下磁極片、5
……試料、6……2次電子検出器、7……検出
部、8……電極、9……シールド筒、10……検
出器高圧電源。
Claims (1)
- 1 対物レンズの上下磁極片間に挿入された試料
へ電子線を照射し、該試料より発生する2次電子
を対物レンズ上磁極片の上片に配置された2次電
子検出器によつて検出するように構成した走査電
子顕微鏡において、該試料より発生する2次電子
を前記2次電子検出器に収集するための2次電子
収集用レンズを前記光軸Z上且つ上磁極片内部に
設けたことを特徴とする走査電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23809883A JPS60130044A (ja) | 1983-12-16 | 1983-12-16 | 走査電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23809883A JPS60130044A (ja) | 1983-12-16 | 1983-12-16 | 走査電子顕微鏡 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60130044A JPS60130044A (ja) | 1985-07-11 |
JPH057820B2 true JPH057820B2 (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=17025138
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23809883A Granted JPS60130044A (ja) | 1983-12-16 | 1983-12-16 | 走査電子顕微鏡 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60130044A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3638682A1 (de) * | 1986-11-13 | 1988-05-19 | Siemens Ag | Spektrometerobjektiv fuer korpuskularstrahlmesstechnik |
EP0290620B1 (en) * | 1986-11-28 | 1994-10-12 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Apparatus for observation using charged particle beams and method of surface observation using charged particle beams |
JP2010055756A (ja) | 2008-08-26 | 2010-03-11 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線の照射方法及び荷電粒子線装置 |
JP5478683B2 (ja) * | 2012-08-27 | 2014-04-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線の照射方法及び荷電粒子線装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52162853U (ja) * | 1976-06-04 | 1977-12-09 |
-
1983
- 1983-12-16 JP JP23809883A patent/JPS60130044A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60130044A (ja) | 1985-07-11 |
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