JPH0568825B2 - - Google Patents
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- JPH0568825B2 JPH0568825B2 JP60290304A JP29030485A JPH0568825B2 JP H0568825 B2 JPH0568825 B2 JP H0568825B2 JP 60290304 A JP60290304 A JP 60290304A JP 29030485 A JP29030485 A JP 29030485A JP H0568825 B2 JPH0568825 B2 JP H0568825B2
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 114
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 35
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 17
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 claims description 14
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 9
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 9
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 claims description 8
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 claims 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 7
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/24—Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
- H01J61/28—Means for producing, introducing, or replenishing gas or vapour during operation of the lamp
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/52—Cooling arrangements; Heating arrangements; Means for circulating gas or vapour within the discharge space
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Discharge Lamps And Accessories Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高光度輻射源に関し、特に高光度輻射
源の冷却のよび電極寿命の改良に関する。
源の冷却のよび電極寿命の改良に関する。
従来の技術
ノドウエル他（１人は本発明の発明者）の1977
年５月31日登録の米国特許第4027185号に、高光
度輻射源が記載されている。この文献には電極寿
命を増すための効率的な冷却系を有する高光度輻
射源を作るのに用いる斬新な方法および装置が記
載されている。この技術はアーク（電弧）室内部
の液体壁を形成するために液体に渦巻き運動を与
える段階を含む。この液体はアークの周囲を冷却
しその直径を制限する。
年５月31日登録の米国特許第4027185号に、高光
度輻射源が記載されている。この文献には電極寿
命を増すための効率的な冷却系を有する高光度輻
射源を作るのに用いる斬新な方法および装置が記
載されている。この技術はアーク（電弧）室内部
の液体壁を形成するために液体に渦巻き運動を与
える段階を含む。この液体はアークの周囲を冷却
しその直径を制限する。
発明が解決しようとする課題
しかし、電極寿命およびアーク効率を高めるた
めの改良がなされてきた。前記米国特許に記載さ
れる装置において、流れのパターン（型）を滑ら
かにするために渦流室内に必要な半径方向の圧力
勾配が、望ましくない程高い液体圧力を必要とす
る。又冷却用液体が乱流を伴いながらアーク室に
導入されアーク放電の収束が効率的に行なわれな
い欠点があつた。さらに渦巻き流れる気体と液体
との間に望ましくない放出室の相互作用があつ
た。これは液体の小滴を陽極先端領域に到達させ
て電極寿命も損つた。
めの改良がなされてきた。前記米国特許に記載さ
れる装置において、流れのパターン（型）を滑ら
かにするために渦流室内に必要な半径方向の圧力
勾配が、望ましくない程高い液体圧力を必要とす
る。又冷却用液体が乱流を伴いながらアーク室に
導入されアーク放電の収束が効率的に行なわれな
い欠点があつた。さらに渦巻き流れる気体と液体
との間に望ましくない放出室の相互作用があつ
た。これは液体の小滴を陽極先端領域に到達させ
て電極寿命も損つた。
課題を解決するための手段
本発明によれば、
細長い円筒形アーク室１１、該アーク室内に同
軸線上に配置される第１及び第２電極装置２１，
４４、前記第１電極装置２１の周りに延在する環
形空洞７４と、液体を前記環形空洞７４に、つい
で第１軸方向に向かつて前記アーク室１１に噴射
して前記アーク室の内周面上に円筒状液体壁を発
生させ、アーク放電の周囲を冷却することにより
該アーク放電を収束させるようにする液体噴射装
置２５とを有する液体渦流発生装置、及び渦流運
動をする不活性気体を前記円筒状液体壁の内部を
通つて前記アーク室内に噴射する装置８２から成
る高光度輻射を行なう装置１０において、 前記液体渦流発生装置は、前記アーク室１１に
連通する環形中間室２６、及び前記環形空洞７４
を前記環形中間室２６に連通させそこを通過する
液体流を制限する円周開口２７から成る環状渦流
制限装置を有し、 前記円周開口２７の軸方向間〓幅は前記環形空
洞７４と前記環形中間室２６の軸方向〓幅よりも
小さいことを特徴とする前記高光度輻射を行なう
装置１０が与えられる。
軸線上に配置される第１及び第２電極装置２１，
４４、前記第１電極装置２１の周りに延在する環
形空洞７４と、液体を前記環形空洞７４に、つい
で第１軸方向に向かつて前記アーク室１１に噴射
して前記アーク室の内周面上に円筒状液体壁を発
生させ、アーク放電の周囲を冷却することにより
該アーク放電を収束させるようにする液体噴射装
置２５とを有する液体渦流発生装置、及び渦流運
動をする不活性気体を前記円筒状液体壁の内部を
通つて前記アーク室内に噴射する装置８２から成
る高光度輻射を行なう装置１０において、 前記液体渦流発生装置は、前記アーク室１１に
連通する環形中間室２６、及び前記環形空洞７４
を前記環形中間室２６に連通させそこを通過する
液体流を制限する円周開口２７から成る環状渦流
制限装置を有し、 前記円周開口２７の軸方向間〓幅は前記環形空
洞７４と前記環形中間室２６の軸方向〓幅よりも
小さいことを特徴とする前記高光度輻射を行なう
装置１０が与えられる。
本発明の他の面によれば、細長い円筒形アーク
室１１、該アーク室内に同軸線上に配置される第
１及び第２電極装置２１，４４、前記第１電極装
置２１の周りに延在する環形空洞７４と、液体を
前記環形空洞７４に、ついで第１軸方向に向かつ
て前記アーク室１１に噴射して前記アーク室の内
週面上に円筒状液体壁を発生させ、アーク放電の
周囲を冷却することにより該アーク放電を収束さ
せるようにする液体噴射装置２５とを有する液体
渦流発生装置、及び渦流運動をする不活性気体を
前記円筒状液体壁の内部を通つて前記アーク室内
に噴射する装置８２とから成る高光度輻射を行な
う装置１０において、 前記液体渦流発生装置は、前記アーク室１１に
連通す環形中間室２６、及び前記環形空洞７４を
前記環形中間室２６に連通させそこを通過する液
体流を制限する円周開口２７から成る環状渦流制
限装置を有し、 前記円周開口２７の軸方向間〓幅は前記環形空
洞７４と前記環形中間室２６の軸方向間〓幅より
も小さく、 前記環形中間室２６から、前記第１電極装置２
１に沿つて延びると共に、前記円筒状液体壁の内
部を画成する前記円筒状液体壁の平衡表面と大体
一致する直径を有し、かつ気体が液体と接触する
前に前記液体と前記気体の渦流運動を起こさせる
に十分な距離だけ延びるノズル２２を含むことを
特徴とする前記高光度輻射を行なう装置１０が与
えれれる。
室１１、該アーク室内に同軸線上に配置される第
１及び第２電極装置２１，４４、前記第１電極装
置２１の周りに延在する環形空洞７４と、液体を
前記環形空洞７４に、ついで第１軸方向に向かつ
て前記アーク室１１に噴射して前記アーク室の内
週面上に円筒状液体壁を発生させ、アーク放電の
周囲を冷却することにより該アーク放電を収束さ
せるようにする液体噴射装置２５とを有する液体
渦流発生装置、及び渦流運動をする不活性気体を
前記円筒状液体壁の内部を通つて前記アーク室内
に噴射する装置８２とから成る高光度輻射を行な
う装置１０において、 前記液体渦流発生装置は、前記アーク室１１に
連通す環形中間室２６、及び前記環形空洞７４を
前記環形中間室２６に連通させそこを通過する液
体流を制限する円周開口２７から成る環状渦流制
限装置を有し、 前記円周開口２７の軸方向間〓幅は前記環形空
洞７４と前記環形中間室２６の軸方向間〓幅より
も小さく、 前記環形中間室２６から、前記第１電極装置２
１に沿つて延びると共に、前記円筒状液体壁の内
部を画成する前記円筒状液体壁の平衡表面と大体
一致する直径を有し、かつ気体が液体と接触する
前に前記液体と前記気体の渦流運動を起こさせる
に十分な距離だけ延びるノズル２２を含むことを
特徴とする前記高光度輻射を行なう装置１０が与
えれれる。
本発明のもう一つの面によれば、細長い円筒形
アーク室１１、該アーク室内に同軸線上に配置さ
れる第１及び第２電極装置２１，４４、前記第１
電極装置２１の周りに延在する環形空洞７４と、
液体を前記環形空洞７４に、ついで第１軸方向に
向かつて前記アーク室１１に噴射して前記アーク
室の内周面上に円筒状液体壁を発生させ、アーク
放電の周囲を冷却することにより該アーク放電を
収束させるようにする液体噴射装置２５とを有す
る液体渦流発生装置、及び渦流運動をする不活性
気体を前記円筒状液体壁の内部を通つて前記アー
ク室内に噴射する装置８２から成る高光度輻射を
行なう装置１０において、 前記液体渦流発生装置は、前記アーク室１１に
連通する環形中間室２６、及び前記環形空洞７４
を前記環形中間室２６に連通させそこを通過する
液体流を制限する円周開口２７から成る環状渦流
制限装置を有し、 前記円周開口２７の軸方向間〓幅は前記環形空
洞７４と前記環形中間室２６の軸方向間〓幅より
も小さく、 前記第２電極装置４４には前記アーク室１１内
からの液体および気体の通路を画成する装置が取
付けられ、前記装置は前記アーク室１１内からの
液体および気体の前記第１軸方向の流れを相対的
に妨害しない通路を画成し、かつ前記第１軸方向
とは反対の第２軸方向に向かう前記液体および気
体の流れを妨害する通路を画成するように形成さ
れ、 前記第２電力装置４４は前記アーク室１１から
流出する液体及び気体を受容するための装置、及
び冷却液体を放出する装置を有することを特徴と
する前記高光度輻射を行なう装置１０が与えられ
る。
アーク室１１、該アーク室内に同軸線上に配置さ
れる第１及び第２電極装置２１，４４、前記第１
電極装置２１の周りに延在する環形空洞７４と、
液体を前記環形空洞７４に、ついで第１軸方向に
向かつて前記アーク室１１に噴射して前記アーク
室の内周面上に円筒状液体壁を発生させ、アーク
放電の周囲を冷却することにより該アーク放電を
収束させるようにする液体噴射装置２５とを有す
る液体渦流発生装置、及び渦流運動をする不活性
気体を前記円筒状液体壁の内部を通つて前記アー
ク室内に噴射する装置８２から成る高光度輻射を
行なう装置１０において、 前記液体渦流発生装置は、前記アーク室１１に
連通する環形中間室２６、及び前記環形空洞７４
を前記環形中間室２６に連通させそこを通過する
液体流を制限する円周開口２７から成る環状渦流
制限装置を有し、 前記円周開口２７の軸方向間〓幅は前記環形空
洞７４と前記環形中間室２６の軸方向間〓幅より
も小さく、 前記第２電極装置４４には前記アーク室１１内
からの液体および気体の通路を画成する装置が取
付けられ、前記装置は前記アーク室１１内からの
液体および気体の前記第１軸方向の流れを相対的
に妨害しない通路を画成し、かつ前記第１軸方向
とは反対の第２軸方向に向かう前記液体および気
体の流れを妨害する通路を画成するように形成さ
れ、 前記第２電力装置４４は前記アーク室１１から
流出する液体及び気体を受容するための装置、及
び冷却液体を放出する装置を有することを特徴と
する前記高光度輻射を行なう装置１０が与えられ
る。
実施例
以下に添付図面を参照しつつ、本発明の具体的
実施例を記載する。
実施例を記載する。
高光度輻射を行なう装置１０が第１図に切断図
により示される。これは水晶製の細長い円筒形ア
ーク室１１、陰極ハウジングすなわち電極ハウジ
ング１２、陽極ハウジングすなわち電極ハウジン
グ１３、及び放出区域１４とを含む。アークを維
持するのに十分な電流が与えられるまで、電極管
のアーク放電を開始し維持するための起動回路お
よび電極供給回路の形で支援装置が与えられる。
同様に冷却液のための液体ポンプおよび熱交換装
置が与えられ、アーク室に気体を循環させる気体
ポンプも必要である。これらの要件は前記米国特
許第4027187号に記載され、それを本明細書に引
用的に取り入れらる。
により示される。これは水晶製の細長い円筒形ア
ーク室１１、陰極ハウジングすなわち電極ハウジ
ング１２、陽極ハウジングすなわち電極ハウジン
グ１３、及び放出区域１４とを含む。アークを維
持するのに十分な電流が与えられるまで、電極管
のアーク放電を開始し維持するための起動回路お
よび電極供給回路の形で支援装置が与えられる。
同様に冷却液のための液体ポンプおよび熱交換装
置が与えられ、アーク室に気体を循環させる気体
ポンプも必要である。これらの要件は前記米国特
許第4027187号に記載され、それを本明細書に引
用的に取り入れらる。
電極ハウジング１２は陰極であるタングステン
電極、すなわち第１電極装置２１を含む。外方環
１５を有するノズル２２が皿頭ねじ２３を用いて
陰極ハウジング２０（第２図をも参照）に取付け
られ、渦流室部材２４が平頭ねじ３０により陰極
ハウジング２０に取付けられる。リング・ナツト
３４が陰極取付ブラケツト３３内に取付けられ、
渦流室部材２４および電極ハウジング１２の残部
を作動位置に保持するように働く。
電極、すなわち第１電極装置２１を含む。外方環
１５を有するノズル２２が皿頭ねじ２３を用いて
陰極ハウジング２０（第２図をも参照）に取付け
られ、渦流室部材２４が平頭ねじ３０により陰極
ハウジング２０に取付けられる。リング・ナツト
３４が陰極取付ブラケツト３３内に取付けられ、
渦流室部材２４および電極ハウジング１２の残部
を作動位置に保持するように働く。
液体渦流発生装置は第１電極装置２１の周りに
延在する環形空洞７４と、液体をこの環形空洞７
４に、ついでアーク室１１内に噴射してアーク室
の内周面上に円筒状液体壁を発生させる液体噴射
装置２５、及び環形中間室２６を含んでいる。
延在する環形空洞７４と、液体をこの環形空洞７
４に、ついでアーク室１１内に噴射してアーク室
の内周面上に円筒状液体壁を発生させる液体噴射
装置２５、及び環形中間室２６を含んでいる。
陰極ハウジング２０およびそれに取付けられた
時のノズル２２の形態を第２図に図示する。環形
空洞７４は、ノズル２２の外方環１５の外周に形
成されている。外方環１５の内側にはアーク室１
１に連通しかつ放射状に拡がる環形中間室２６が
形成されている。環形空洞７４の外周と外方環１
５との間の半径方向における距離は、空洞を円周
方向に沿つて進むにしたがい減少する。したがつ
て環形空洞７４の断面積、したがつて容積も円周
方向に沿つて進む距離に比例して減少する。この
容積の変化率は水ジエツト導入点、すなわち液体
噴射装置２５から空洞に沿つて一定であることが
望ましい。
時のノズル２２の形態を第２図に図示する。環形
空洞７４は、ノズル２２の外方環１５の外周に形
成されている。外方環１５の内側にはアーク室１
１に連通しかつ放射状に拡がる環形中間室２６が
形成されている。環形空洞７４の外周と外方環１
５との間の半径方向における距離は、空洞を円周
方向に沿つて進むにしたがい減少する。したがつ
て環形空洞７４の断面積、したがつて容積も円周
方向に沿つて進む距離に比例して減少する。この
容積の変化率は水ジエツト導入点、すなわち液体
噴射装置２５から空洞に沿つて一定であることが
望ましい。
Ｏリング４１付き管インサート４０が水晶アー
ク管４２の端に滑動連結され渦流室部材２４の中
に取付けられる。アーム管４２の端の回りに火花
防止器４３が配置される。
ク管４２の端に滑動連結され渦流室部材２４の中
に取付けられる。アーム管４２の端の回りに火花
防止器４３が配置される。
アーク室１１の反対端を参照すると分かるよう
に、陽極ハウジング１３は陽極先端５０を有する
陽極すなわち第２電極装置４４を含む。アーク室
１１から流出する液体及び気体を受容するための
装置、すなわち膨張ノズル５１は第２電極装置４
４と陽極の先端５０を収容する。第２電極装置４
４とその先端５０は平頭ねじ５２を用いて膨張ノ
ズル５１に結合される。平頭ねじ６０を用いて第
２電極装置４４に連結される陽極インサート・リ
テーナ５４の中に陽極インサート５３が保持され
る。Ｏリング６１が第２電極装置４４と陽極イン
サート・リテーナ５４の間のシールとして働く。
に、陽極ハウジング１３は陽極先端５０を有する
陽極すなわち第２電極装置４４を含む。アーク室
１１から流出する液体及び気体を受容するための
装置、すなわち膨張ノズル５１は第２電極装置４
４と陽極の先端５０を収容する。第２電極装置４
４とその先端５０は平頭ねじ５２を用いて膨張ノ
ズル５１に結合される。平頭ねじ６０を用いて第
２電極装置４４に連結される陽極インサート・リ
テーナ５４の中に陽極インサート５３が保持され
る。Ｏリング６１が第２電極装置４４と陽極イン
サート・リテーナ５４の間のシールとして働く。
膨脹ノズル５１は急激な傾斜部分を含んでいな
い。第１図に示されるようにアーク室１１に隣接
する部分、すなわちアーク室１１から放出された
液体および気体をまず受け取る部分である第１次
受容区域１６か放出区域１４に至るまで連続的に
円錐形に拡大される。放出区域１４は液体および
気体を放出室（図示せず）の中に放出し、そこで
液体および気体が分離する。液体および気体は双
方とも適当な熱交換器（図示せず）を通して圧送
された後、再循環される。環形冷却室６２が第２
電極装置４４及び陽極インサート５３を冷却する
ために設けられる。冷却液体は陽極冷却液体を排
出する装置、すなわち排出ズル６４から排出さ
れ、再循環のために放出室（図示せず）に送られ
る。
い。第１図に示されるようにアーク室１１に隣接
する部分、すなわちアーク室１１から放出された
液体および気体をまず受け取る部分である第１次
受容区域１６か放出区域１４に至るまで連続的に
円錐形に拡大される。放出区域１４は液体および
気体を放出室（図示せず）の中に放出し、そこで
液体および気体が分離する。液体および気体は双
方とも適当な熱交換器（図示せず）を通して圧送
された後、再循環される。環形冷却室６２が第２
電極装置４４及び陽極インサート５３を冷却する
ために設けられる。冷却液体は陽極冷却液体を排
出する装置、すなわち排出ズル６４から排出さ
れ、再循環のために放出室（図示せず）に送られ
る。
第２電極装置４４は膨張ノズル５１に隣接する
前方部分を有する。フイン７０が第２電極装置４
４の周囲を取り巻き、その一部となる。前部７１
は後方に向けて滑らかに傾斜し、後部７２は凹形
をなしているが、この前部および後部の形態は後
述する目的を有する。前方のフイン７３は第２電
極装置４４の中間にあるフイン７０と同じ全体形
態を有するが、それよりも小形である。
前方部分を有する。フイン７０が第２電極装置４
４の周囲を取り巻き、その一部となる。前部７１
は後方に向けて滑らかに傾斜し、後部７２は凹形
をなしているが、この前部および後部の形態は後
述する目的を有する。前方のフイン７３は第２電
極装置４４の中間にあるフイン７０と同じ全体形
態を有するが、それよりも小形である。
装置を作動する場合、高電流の電源（図示せ
ず）が第１電極装置２１と第２電極装置４４との
間に接続される。液体ポンプおよび熱交換器（図
示せず）が液体を陰極ハウジング２０の中に送
る。液体の流れ第１電極装置２１の内部７５を冷
却する。陰極ハウジング２０（第２図）は、ノズ
ル２２が取付けられる環形空洞７４の幅の最大の
所に位置する液体噴射装置２５から、液体の単一
流を放出する。第２図で良く分かるように、水流
は環形空洞７４に沿つて進行する。一方、前述し
たように環形空洞７４の外周と外方環１５との間
の半径方向における距離は円周方向に沿つて進む
につれて一様に減ずる。液体が空洞７４の中を進
行すると同時に、外方環１５と対向する渦流室部
材２４の面との間の環状渦流制限装置、すなわち
円周開口２７を通つて環形空洞７４から環形中間
室２６へ押し出される。
ず）が第１電極装置２１と第２電極装置４４との
間に接続される。液体ポンプおよび熱交換器（図
示せず）が液体を陰極ハウジング２０の中に送
る。液体の流れ第１電極装置２１の内部７５を冷
却する。陰極ハウジング２０（第２図）は、ノズ
ル２２が取付けられる環形空洞７４の幅の最大の
所に位置する液体噴射装置２５から、液体の単一
流を放出する。第２図で良く分かるように、水流
は環形空洞７４に沿つて進行する。一方、前述し
たように環形空洞７４の外周と外方環１５との間
の半径方向における距離は円周方向に沿つて進む
につれて一様に減ずる。液体が空洞７４の中を進
行すると同時に、外方環１５と対向する渦流室部
材２４の面との間の環状渦流制限装置、すなわち
円周開口２７を通つて環形空洞７４から環形中間
室２６へ押し出される。
この円周開口２７は所要の半径方向の液体運動
に必要な圧力と流量を与えるのに充分な軸方向間
〓幅と半径値を有し、これによつて液体の乱流を
減少するようにしいている。本願明細書ではこの
軸方向間〓幅とは、アーク室１１の縦軸に直交す
る面と面との間〓の幅をいう。したがつて円周開
口２７の軸方向間〓幅は、外方環１５の自由端の
面と、これに対向する渦流室部材２４の面との間
の間〓の幅をいう。又半径値とはアーク室１１の
縦軸に対して直角方向における半径の長さであ
る。又環状渦流制限装置の軸方向間〓幅は、環形
空洞７４の軸方向間〓幅、すなわち環形空洞７４
において、これを形成している陰極ハウジング２
０の面と、これに対向する渦流室部材２４の面と
の間〓の幅よりも小さい。又環状渦流制限装置の
軸方向間〓幅は、環形中間室２６の軸方向間〓
幅、すなわち環形中間室２６においてこれを形成
しているノズル２２の面と、これに対向する渦流
室部材２４の面との間〓の幅よりも小さい。
に必要な圧力と流量を与えるのに充分な軸方向間
〓幅と半径値を有し、これによつて液体の乱流を
減少するようにしいている。本願明細書ではこの
軸方向間〓幅とは、アーク室１１の縦軸に直交す
る面と面との間〓の幅をいう。したがつて円周開
口２７の軸方向間〓幅は、外方環１５の自由端の
面と、これに対向する渦流室部材２４の面との間
の間〓の幅をいう。又半径値とはアーク室１１の
縦軸に対して直角方向における半径の長さであ
る。又環状渦流制限装置の軸方向間〓幅は、環形
空洞７４の軸方向間〓幅、すなわち環形空洞７４
において、これを形成している陰極ハウジング２
０の面と、これに対向する渦流室部材２４の面と
の間〓の幅よりも小さい。又環状渦流制限装置の
軸方向間〓幅は、環形中間室２６の軸方向間〓
幅、すなわち環形中間室２６においてこれを形成
しているノズル２２の面と、これに対向する渦流
室部材２４の面との間〓の幅よりも小さい。
５〜20米ガロン／分（19〜76／分）の水流に
おいて、44.5mm（1.75in）の半径を有する環状渦
流制限装置、すなわち円周開口２７の適当な軸方
向間〓幅は0.15〜0.38mm（．006″〜．015″）であ
ると判明した。このような寸法によつて液体の不
規則性も除去されて、環形中間室２６への液体の
流れパターンが滑らかになり、前記の不必要な乱
流が防止される。
おいて、44.5mm（1.75in）の半径を有する環状渦
流制限装置、すなわち円周開口２７の適当な軸方
向間〓幅は0.15〜0.38mm（．006″〜．015″）であ
ると判明した。このような寸法によつて液体の不
規則性も除去されて、環形中間室２６への液体の
流れパターンが滑らかになり、前記の不必要な乱
流が防止される。
渦巻き流れる液体が渦流室部材２４から離れる
とき、ノズル２２の外端から形成される分離円筒
８１に出会う。分離円筒８１はアーク室１１の内
側周囲に形成される円筒状液体壁の平衡表面と大
体一致する位置をとるように形成される。この分
離円筒８１は、第１軸方向、すなわちノズル２２
からアーク室１１を経て第２電極４４への液体及
び気体の流れの方向、における液体の流れを確立
させる作用をする。
とき、ノズル２２の外端から形成される分離円筒
８１に出会う。分離円筒８１はアーク室１１の内
側周囲に形成される円筒状液体壁の平衡表面と大
体一致する位置をとるように形成される。この分
離円筒８１は、第１軸方向、すなわちノズル２２
からアーク室１１を経て第２電極４４への液体及
び気体の流れの方向、における液体の流れを確立
させる作用をする。
以上の液体の運動と同時に、気体が入口６３か
ら導入され、気体を接線方向に空洞８２内に噴射
することにより気体渦流が空洞８２内に樹立され
る。気体は内の液体壁の渦流運動によつて渦流を
生じるであろうが、気体に接線方向速度を与える
ことが望ましい。渦巻き流れる気体は第１電極２
１の外形と分離円筒８１により画成される内径と
の間の円周開口部に誘導される。ここでもまた、
分離円筒８１の物理的制約により気体の軸方向流
が樹立され、気体および液体の乱流により相互作
用が生ずる可能性を減じる。
ら導入され、気体を接線方向に空洞８２内に噴射
することにより気体渦流が空洞８２内に樹立され
る。気体は内の液体壁の渦流運動によつて渦流を
生じるであろうが、気体に接線方向速度を与える
ことが望ましい。渦巻き流れる気体は第１電極２
１の外形と分離円筒８１により画成される内径と
の間の円周開口部に誘導される。ここでもまた、
分離円筒８１の物理的制約により気体の軸方向流
が樹立され、気体および液体の乱流により相互作
用が生ずる可能性を減じる。
このように、渦巻き流れる気体は分離円筒８１
により誘導されてアーク室に入り、第２電極装置
４４に向つて、すなわち第２軸方向に向かつて進
行する。渦巻き流れる液体はアーク管４２の内側
に液体壁を形成する。陽極ハウジング１３の膨張
ノズル５１は連続的に外方に傾斜し、液体および
気体の乱流を最少限にする。液体および気体の混
合体は放出区域１４から放出室（図示せず）に放
出される。水および気体は膨張ノズル５１を離れ
る際に避けられない乱流の結果、液体は第２電極
装置４４に沿つてアークに対抗して、すなわち第
１図で見て右から左へと流れることになる。この
運動は、気体流の瞬間的な逆流を生ずるアーク電
流の変動によつて助長される。この液体が陽極の
先端５０の領域に達すると、液体は蒸発し分解す
る。そのため電極の先端５０に熱衝撃を生じ、電
極の寿命を著しく縮めることもあり得る。アーク
自体も冷却さ、消滅することもある。
により誘導されてアーク室に入り、第２電極装置
４４に向つて、すなわち第２軸方向に向かつて進
行する。渦巻き流れる液体はアーク管４２の内側
に液体壁を形成する。陽極ハウジング１３の膨張
ノズル５１は連続的に外方に傾斜し、液体および
気体の乱流を最少限にする。液体および気体の混
合体は放出区域１４から放出室（図示せず）に放
出される。水および気体は膨張ノズル５１を離れ
る際に避けられない乱流の結果、液体は第２電極
装置４４に沿つてアークに対抗して、すなわち第
１図で見て右から左へと流れることになる。この
運動は、気体流の瞬間的な逆流を生ずるアーク電
流の変動によつて助長される。この液体が陽極の
先端５０の領域に達すると、液体は蒸発し分解す
る。そのため電極の先端５０に熱衝撃を生じ、電
極の寿命を著しく縮めることもあり得る。アーク
自体も冷却さ、消滅することもある。
この問題に対処するために、水が陽極の先端５
０に向つて動くのを防止し、アーク室１１内から
の液体および気体の通路を画成する装置すなわ
ち、フイ７０，７３が配置される。フイン７０，
７３は逸出する液体粒子を捕捉しそれらを液体と
共に排出する。フイン７０，７３は陽極の先端５
０から遠ざかる液体の運動を妨げない前部形態
と、第１軸方向とは反対の第２軸方向に向かう運
動、すなわち陽極の先端５０に向つて動く液体を
阻止する後部形態とを有する。よつて前部表面７
１は凸形をとり、後部表面７２は凹形をとること
になる。
０に向つて動くのを防止し、アーク室１１内から
の液体および気体の通路を画成する装置すなわ
ち、フイ７０，７３が配置される。フイン７０，
７３は逸出する液体粒子を捕捉しそれらを液体と
共に排出する。フイン７０，７３は陽極の先端５
０から遠ざかる液体の運動を妨げない前部形態
と、第１軸方向とは反対の第２軸方向に向かう運
動、すなわち陽極の先端５０に向つて動く液体を
阻止する後部形態とを有する。よつて前部表面７
１は凸形をとり、後部表面７２は凹形をとること
になる。
放出区域１４を通して液体および気体の混合体
が放出された後、液体および気体は直接に、また
はそれぞれの熱交換器（図示せず）を通して、陰
極ハウジンウグ組立体１２にあるそれぞれの入力
に再循環される。
が放出された後、液体および気体は直接に、また
はそれぞれの熱交換器（図示せず）を通して、陰
極ハウジンウグ組立体１２にあるそれぞれの入力
に再循環される。
本発明の範囲内において、上記実施例に関して
多くの変更が考えられる。例えば、分離円筒８１
およびノズル２２は記載されたように単一材料か
ら切削しないで、別々の部品とすることも、勿論
可能である。第２電極装置４４は液体粒子が陽極
の先端５０に向つて進行しないように種々の異な
る形態の何れをとることもできる。前記の環状渦
流制限装置は前記の状況の下では十分に作動する
が、別の作動条件下では調整することにより対応
することができる。
多くの変更が考えられる。例えば、分離円筒８１
およびノズル２２は記載されたように単一材料か
ら切削しないで、別々の部品とすることも、勿論
可能である。第２電極装置４４は液体粒子が陽極
の先端５０に向つて進行しないように種々の異な
る形態の何れをとることもできる。前記の環状渦
流制限装置は前記の状況の下では十分に作動する
が、別の作動条件下では調整することにより対応
することができる。
以上述べた具体的な実施例はあくまで説明のた
めだけのものであつて、本願特許請求の範囲に述
べられた本発明の範囲を制限するものと見なすべ
きではない。
めだけのものであつて、本願特許請求の範囲に述
べられた本発明の範囲を制限するものと見なすべ
きではない。
発明の効果
本発明によれば、高光度輻射を行なう装置に特
定の構成の環状渦流制限装置、すなわち円周開口
を設け、これによつてこの開口を通る液体流を制
限してアーク室へ冷却液体を噴射する前に冷却液
体の乱流を減少させるようにしたので、アーク放
電の収束が効率的に行なわえる効果を有する。
定の構成の環状渦流制限装置、すなわち円周開口
を設け、これによつてこの開口を通る液体流を制
限してアーク室へ冷却液体を噴射する前に冷却液
体の乱流を減少させるようにしたので、アーク放
電の収束が効率的に行なわえる効果を有する。
第１図は本発明による高光度輻射を行なう装置
の切断図、第２図は第１図の−線に沿う切断
図、第３図は第１図の装置の環状渦流制限装置の
一部を拡大した切断図である。 １０……高光度輻射を行なう装置、１１……円
筒形アーク室、２１……第１電極装置、２５……
液体噴射装置、２６……環形中間室、２７……円
周開口（環状渦流制限装置）、４４……第２電極
装置、７４……環形空洞。
の切断図、第２図は第１図の−線に沿う切断
図、第３図は第１図の装置の環状渦流制限装置の
一部を拡大した切断図である。 １０……高光度輻射を行なう装置、１１……円
筒形アーク室、２１……第１電極装置、２５……
液体噴射装置、２６……環形中間室、２７……円
周開口（環状渦流制限装置）、４４……第２電極
装置、７４……環形空洞。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 細長い円筒形アーク室１１、 該アーク室内に同軸線上に配置される第１及び
第２電極装置２１，４４、 前記第１電極装置２１の周りに延在する環形空
洞７４と、液体を前記環形空洞７４に、ついで第
１軸方向に向かつて前記アーク室１１に噴射して
前記アーク室の内周面上に円筒状液体壁を発生さ
せ、アーク放電の周囲を冷却することにより該ア
ーク放電を収束させるようにする液体噴射装置２
５とを有する液体渦流発生装置、及び 渦流運動をする不活性気体を前記円筒状液体壁
の内部を通つて前記アーク室内に噴射する装置８
２から成る高光度輻射を行なう装置１０におい
て、 前記液体渦流発生装置は、前記アーク室１１に
連通する環形中間室２６、及び前記環形空洞７４
を前記環形中間室２６に連通させそこを通過する
液体流を制限する円周開口２７から成る環状渦流
制限装置を有し、 前記円周開口２７の軸方向間〓幅は前記環形空
洞７４と前記環形中間室２６の軸方向間〓幅より
も小さいことを特徴とする前記高光度輻射を行な
う装置１０。 ２ 前記円周開口２７が前記環形中間室２６の外
周の回りに延びる一定の軸方向間〓幅を有する特
許請求の範囲第１項に記載の装置。 ３ 前記環形空洞７４は前記液体噴射装置２５の
位置において最大の断面積であり、かつ前記液体
噴射装置２５の位置から前記環形空洞７４の円周
に沿つて減少する断面積を有する特許請求の範囲
第１項に記載の装置。 ４ 前記環形空洞７４の断面積は前記空洞の周り
の円周距離に関し一定比率で減少する、特許請求
の範囲第３項に記載の装置。 ５ 前記第１電極２１は、渦流室部材２４と外方
環１５とを有する電極ハウジング１２内に取付け
られ、前記円周開口２７は前記外方環１５とこれ
に近接する前記渦流室２４の壁との間に形成さ
れ、前記渦流室部材２４からの液体が前記円周開
口２７を通つて前記環形中間室２６に、ついで前
記アーク室１１に流れる、特許請求の範囲第１項
に記載の装置。 ６ 細長い円筒形アーク室１１、 該アーク室内に同軸線上に配置される第１及び
第２電極装置２１，４４、 前記第１電極装置２１の周りに延在する環形空
洞７４と、液体を前記環形空洞７４に、ついで第
１軸方向に向かつて前記アーク室１１に噴射して
前記アーク室の内周面上に円筒状液体壁を発生さ
せ、アーク放電の周囲を冷却することにより該ア
ーク放電を収束させるようにする液体噴射装置２
５とを有する液体渦流発生装置、及び 渦流運動をする不活性気体を前記円筒状液体壁
の内部を通つて前記アーク室内に噴射する装置８
２とから成る高光度輻射を行なう装置１０におい
て、 前記液体渦流発生装置は、前記アーク室１１に
連通する環形中間室２６、及び前記環形空洞７４
を前記環形中間室２６に連通させそこを通過する
液体流を制限する円周開口２７から成る環状渦流
制限装置を有し、 前記円周開口２７の軸方向間〓幅は前記環形空
洞７４と前記環形中間室２６の軸方向間〓幅より
も小さく、 前記環形中間室２６から、前記第１電極装置２
１に沿つて延びると共に、前記円筒状液体壁の内
部を画成する前記円筒状液体壁の平衡表面と大体
一致する直径を有し、かつ気体が液体と接触する
前に前記液体と前記気体の渦流運動を起こさせる
に十分な距離だけ延びるノズル２２を含むことを
特徴とする前記高光度輻射を行なう装置１０。 ７ 前記不活性気体は前記ノズルの内径と前記第
１電極装置２１の外周との間で前記アーク室１１
内に噴射される、特許請求の範囲第６項に記載の
装置。 ８ 細長い円筒形アーク室１１、 該アーク室内に同軸線上に配置される第１及び
第２電極装置２１，４４、 前記第１電極装置２１の周りに延在する環形空
洞７４と、液体を前記環形空洞７４に、ついで第
１軸方向に向かつて前記アーク室１１に噴射して
前記アーク室の内周面上に円筒状液体壁を発生さ
せ、アーク放電の周囲を冷却することにより該ア
ーク放電を収束させるようにする液体噴射装置２
５とを有する液体渦流発生装置、及び 渦流運動をする不活性気体を前記円筒状液体壁
の内部を通つて前記アーク室内に噴射する装置８
２から成る高光度輻射を行なう装置１０におい
て、 前記液体渦流発生装置は、前記アーク室１１に
連通する環形中間室２６、及び前記環形空洞７４
を前記環形中間室２６に連通させそこを通過する
液体流を制限する円周開口２７から成る環状渦流
制限装置を有し、 前記円周開口２７の軸方向間〓幅は前記環形空
洞７４と前記環形中間室２６の軸方向間〓幅より
も小さく、 前記第２電極装置４４は前記アーク室１１内か
らの液体および気体の通路を画成する装置を有
し、該装置は前記アーク室１１内からの液体およ
び気体の前記第１軸方向の流れを相対的に妨害し
ないよう画成され、かつ前記第１軸方向とは反対
の第２軸方向に向かう前記液体および気体の流れ
を妨害するよう画成され、 前記第２電極装置４４は前記アーク室１１から
流出する液体及び気体を受容するための装置、及
び冷却液体を放出する装置を有することを特徴と
する前記高光度輻射を行なう装置１０。 ９ 前記液体および気体の通路を画成する装置は
少なくとも１個のフイン７０である特許請求の範
囲第８項に記載の装置。 １０ 前記液体および気体の通路を画成する装置
は、第２電極装置４４の陽極の先端近くに設けた
比較的小形のフイン７３の第１の組と、前記陽極
の中間部分近くに設けた比較的大形のフイン７０
の第２の組から成る特許請求の範囲第８項に記載
の装置。 １１ 前記流出する液体及び気体を受容するため
の装置は、前記アーク室１１の出口端部に連通
し、かつ前記出口端部に近接する第１次受容区域
１６から放出区域１４まで連続的に延びる膨脹ノ
ズル５１である特許請求の範囲第８項に記載の装
置。 １２ 前記冷却液体を放出する装置は、前記第２
電極装置４４に近接して取付けられ、前記第２電
極装置４４から前記放出区域１４に向けて冷却液
体を放出するように作動する出口ノズル６４であ
る特許請求の範囲第１１項に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CA470997 | 1984-12-24 | ||
| CA000470997A CA1239437A (en) | 1984-12-24 | 1984-12-24 | High intensity radiation method and apparatus having improved liquid vortex flow |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61155999A JPS61155999A (ja) | 1986-07-15 |
| JPH0568825B2 true JPH0568825B2 (ja) | 1993-09-29 |
Family
ID=4129455
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60290304A Granted JPS61155999A (ja) | 1984-12-24 | 1985-12-23 | 高光度輻射を行なう装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4700102A (ja) |
| EP (1) | EP0186879B1 (ja) |
| JP (1) | JPS61155999A (ja) |
| CN (1) | CN1007561B (ja) |
| CA (1) | CA1239437A (ja) |
| DE (1) | DE3583497D1 (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4937490A (en) * | 1988-12-19 | 1990-06-26 | Vortek Industries Ltd. | High intensity radiation apparatus and fluid recirculating system therefor |
| US5561735A (en) * | 1994-08-30 | 1996-10-01 | Vortek Industries Ltd. | Rapid thermal processing apparatus and method |
| US5556791A (en) * | 1995-01-03 | 1996-09-17 | Texas Instruments Incorporated | Method of making optically fused semiconductor powder for solar cells |
| GB9506010D0 (en) * | 1995-03-23 | 1995-08-23 | Anderson John E | Electromagnetic energy directing method and apparatus |
| CA2310883A1 (en) | 1999-06-07 | 2000-12-07 | Norman L. Arrison | Method and apparatus for fracturing brittle materials by thermal stressing |
| US6912356B2 (en) * | 1999-06-07 | 2005-06-28 | Diversified Industries Ltd. | Method and apparatus for fracturing brittle materials by thermal stressing |
| US6621199B1 (en) | 2000-01-21 | 2003-09-16 | Vortek Industries Ltd. | High intensity electromagnetic radiation apparatus and method |
| KR101067902B1 (ko) | 2001-12-26 | 2011-09-27 | 맷슨 테크날러지 캐나다 인코퍼레이티드 | 온도 측정 및 열처리 방법과 시스템 |
| DE10393962B4 (de) | 2002-12-20 | 2019-03-14 | Mattson Technology Inc. | Verfahren und Vorrichtung zum Stützen eines Werkstücks und zur Wärmebehandlung des Werkstücks |
| JP5630935B2 (ja) | 2003-12-19 | 2014-11-26 | マトソン テクノロジー、インコーポレイテッド | 工作物の熱誘起運動を抑制する機器及び装置 |
| US7781947B2 (en) | 2004-02-12 | 2010-08-24 | Mattson Technology Canada, Inc. | Apparatus and methods for producing electromagnetic radiation |
| US20050180141A1 (en) * | 2004-02-13 | 2005-08-18 | Norman Arrison | Protection device for high intensity radiation sources |
| US8454356B2 (en) | 2006-11-15 | 2013-06-04 | Mattson Technology, Inc. | Systems and methods for supporting a workpiece during heat-treating |
| US9070590B2 (en) | 2008-05-16 | 2015-06-30 | Mattson Technology, Inc. | Workpiece breakage prevention method and apparatus |
| EA201391270A1 (ru) | 2011-03-10 | 2014-08-29 | Месокоут, Инк. | Способ и устройство для плакирования металлических изделий |
| US9196760B2 (en) | 2011-04-08 | 2015-11-24 | Ut-Battelle, Llc | Methods for producing complex films, and films produced thereby |
| CA2864929C (en) | 2012-02-24 | 2015-12-22 | Mattson Technology, Inc. | Apparatus and methods for generating electromagnetic radiation |
| CN105209178B (zh) | 2013-03-15 | 2018-09-07 | 梅索涂层公司 | 三元陶瓷热喷涂粉末和涂覆方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5340274A (en) * | 1976-09-27 | 1978-04-12 | Stanley Electric Co Ltd | Apparatus for controlling vapour pressure in liquiddgrowth furnace for semiconductor |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3292028A (en) * | 1962-06-20 | 1966-12-13 | Giannini Scient Corp | Gas vortex-stabilized light source |
| US3405305A (en) * | 1964-12-28 | 1968-10-08 | Giannini Scient Corp | Vortex-stabilized radiation source with a hollowed-out electrode |
| US3366815A (en) * | 1965-12-29 | 1968-01-30 | Union Carbide Corp | High pressure arc cooled by a thin film of liquid on the wall of the envelope |
| US4027185A (en) * | 1974-06-13 | 1977-05-31 | Canadian Patents And Development Limited | High intensity radiation source |
-
1984
- 1984-12-24 CA CA000470997A patent/CA1239437A/en not_active Expired
-
1985
- 1985-12-20 DE DE8585116346T patent/DE3583497D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1985-12-20 EP EP85116346A patent/EP0186879B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-12-23 JP JP60290304A patent/JPS61155999A/ja active Granted
- 1985-12-23 CN CN85109598.4A patent/CN1007561B/zh not_active Expired
- 1985-12-24 US US06/812,977 patent/US4700102A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5340274A (en) * | 1976-09-27 | 1978-04-12 | Stanley Electric Co Ltd | Apparatus for controlling vapour pressure in liquiddgrowth furnace for semiconductor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0186879A2 (en) | 1986-07-09 |
| DE3583497D1 (de) | 1991-08-22 |
| JPS61155999A (ja) | 1986-07-15 |
| EP0186879B1 (en) | 1991-07-17 |
| CN1007561B (zh) | 1990-04-11 |
| CA1239437A (en) | 1988-07-19 |
| CN85109598A (zh) | 1986-07-16 |
| US4700102A (en) | 1987-10-13 |
| EP0186879A3 (en) | 1988-11-17 |
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