JPH0566306A - カラーフイルタの製造方法 - Google Patents

カラーフイルタの製造方法

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JPH0566306A
JPH0566306A JP22905791A JP22905791A JPH0566306A JP H0566306 A JPH0566306 A JP H0566306A JP 22905791 A JP22905791 A JP 22905791A JP 22905791 A JP22905791 A JP 22905791A JP H0566306 A JPH0566306 A JP H0566306A
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JP
Japan
Prior art keywords
color filter
shielding film
color filters
light shielding
color
Prior art date
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Application number
JP22905791A
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English (en)
Inventor
Kiyoshi Ozaki
喜義 尾崎
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 カラーフィルタの製造方法に関し、カラーフ
ィルタ及びその上の電極の平坦性を向上することができ
るようにすることを目的とする。 【構成】 透明な基板10に所定のパターンのカラーフ
ィルタ16を形成し、該カラーフィルタ16の上に遮光
膜17を塗布し、該カラーフィルタ16の表面が露出す
るように該遮光膜17の表面を研磨する手順からなる構
成とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示装置等に用いる
カラーフィルタの製造方法に関する。液晶表示装置は薄
型、軽量、低消費電力等の特徴があり、OA機器や、パ
ソコンや、テレビ等に需要が拡大しつつあり、カラー表
示も普及してきている。このように需要が拡大するにつ
れて、液晶表示装置の表示の品質を向上する要求がでて
いる。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置は一対の透明な基板の間に
液晶を封入してなるものであり、カラー表示の液晶表示
装置はこれらの一対の透明な基板のうちの一方の基板に
カラーフィルタを形成してなる。また、この基板のカラ
ーフィルタの各画素領域を区画するように遮光膜(ブラ
ックマトリクス)を設けることも実施されている。さら
に、これらの一対の透明な基板にはそれぞれ電極が形成
され、液晶の各画素領域毎に電圧を印加できるようにな
っている。
【0003】図7は、カラーフィルタを有する一方の基
板の従来の製造手順を示す図である。従来は、(A)に
示されるように、基板1の表面に最初に遮光膜2を設け
ていた。この遮光膜2はブラックマトリクスと呼ばれ、
各画素領域を開放した格子状のパターンで形成され、通
常フォトリソグラフィによって形成される。次に、
(B)に示されるように、遮光膜2の上に色素顔料を分
散させた光硬化性樹脂からなる着色レジスト3を塗布
し、マスクを介して露光した後で、(C)に示されるよ
うに、エッチングすることにより、一色(例えばR)分
のカラーフィルタ4を形成していた。それから、他の二
色について同様の処理を繰り返し、(D)に示されるよ
うに、他の二色(例えばG,B)分のカラーフィルタ
5,6を形成した後で、さらに絶縁性のオーバーコート
7を塗布し、その上に電極8を形成していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のカラーフィ
ルタの製造方法においては、図7の(B)に示されるよ
うに、遮光膜2の上に着色レジスト3を塗布したときに
(及びその後で他の色の着色レジストを塗布したとき
に)、着色レジスト3の遮光膜2の上に位置する部分3
aが上方に突出する傾向があり、(C)に示されるよう
に、エッチングした後でも、カラーフィルタ4の一部に
突出した部分4aが残ることがあった。そのため、
(D)に示されるように、オーバーコート7及び電極8
の表面が凹凸を呈し、平坦性が低下することがあった。
【0005】カラーフィルタ4,5,6や、電極8の表
面の平坦性が低いと、光の透過が一様でなくなり、色む
ら等の不具合が発生し、表示品質が低下するという問題
があった。本発明の目的は、カラーフィルタ及びその上
の電極の平坦性を向上することのできるカラーフィルタ
の製造方法を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明によるカラーフィ
ルタの製造方法は、図1を参照すると、透明な基板10
に所定のパターンのカラーフィルタ16を形成し
(A)、該カラーフィルタ16の上に遮光膜17を塗布
し(B)、該カラーフィルタ16の表面が露出するよう
に該遮光膜17の表面を研磨する(C)手順からなるこ
とを特徴とするものである。
【0007】
【作用】上記構成によれば、カラーフィルタ16を形成
した後で遮光膜17を塗布してあり、遮光膜17はカラ
ーフィルタ16の各画素領域の間の微小な隙間を埋めて
カラーフィルタ16の表面を覆う。そこでカラーフィル
タ16の表面が露出するように遮光膜17の表面を研磨
すると、カラーフィルタ16の表面が平坦になる。カラ
ーフィルタ16の各画素領域の間の微小な隙間は遮光膜
17で埋まっているので、比較的に広い表面を一様に研
磨することができ、且つカス等が上記隙間に入ることが
ない。
【0008】
【実施例】図6は液晶表示装置の液晶パネルの一例を示
し、液晶パネルは一対の透明基板10,12の間に液晶
14を封入してなる。一方の基板10にはカラーフィル
タ16と遮光膜(ブラックマトリクス)17が形成さ
れ、さらにその上にオーバーコート18及び電極19が
形成されている。他方の基板12には電極20が形成さ
れる。この電極20はアクティブマトリクス駆動の電極
として各画素毎に形成され、最初の電極19は全面に形
成される。本発明は、一方の基板10のカラーフィルタ
16及び遮光膜17の形成に関するものである。
【0009】図2は本発明の第1実施例を示す図であ
る。(A)に示されるように、透明な基板10に所定の
パターンのカラーフィルタ16を形成する。カラーフィ
ルタ16の形成は、フォトリソグラフィを利用した顔料
分散法により図3の手順により実施することができる。
図3においては、(A)に示されるように、例えば赤R
の色素顔料を分散させた光硬化性樹脂からなる着色レジ
スト25をスピンコート等により塗布し、(B)に示さ
れるように、マスク26を介して露光した後で、(C)
に示されるように、エッチングすることにより、一色
(例えばR)分のカラーフィルタ16Rを形成する。そ
れから、他の二色について同様の処理を繰り返し、
(D)に示されるように、他の二色(例えばG,B)分
のカラーフィルタ16G,16Bを形成する。これらの
カラーフィルタ16R,16G,16Bは各画素領域毎
に設けられる。図1,図2,図4では、これらのカラー
フィルタ16R,16G,16Bを全てカラーフィルタ
16で示してある。
【0010】各色の着色レジスト25等は、光硬化性樹
脂に色素顔料を分散させた状態で商業的に入手可能であ
る。本発明では、商業的に入手した着色レジスト25等
にさらに特定の粒径をもつ顔料を混入させ、各色のカラ
ーフィルタ16R,16G,16Bが同じ高さになるよ
うにする。混入する顔料の粒径を変えることにより光の
透過度を調整し、色度を安定させる。
【0011】さらに、図2の(A)に示されるように、
カラーフィルタ16の形成時に、該カラーフィルタ16
の形成領域の外側に該カラーフィルタ16と同じ厚さで
該カラーフィルタ16(16R,16G,16B)の個
別の面積よりも大きな面積の付加的なパターン28を形
成しておく。この付加的なパターン28は、カラーフィ
ルタ16のうちの少なくとも一色分を形成するときに同
時に形成できる。例えば、図3のマスク26の開口部を
追加的に設けておけばよい。この付加的なパターン28
は、研磨時または研磨後にカラーフィルタ16の膜厚の
検査を行うために使用する。例えば、付加的なパターン
28の光の透過度を測定することにより、カラーフィル
タ16の膜厚を判定する。
【0012】図2において、カラーフィルタ16の形成
が終わったら、(B)に示されるように、カラーフィル
タ16の上に遮光膜17を塗布する。図2の実施例で
は、遮光膜17の塗布は印刷法により実施されている。
次に、(C)に示されるように、カラーフィルタ16の
表面が露出するように遮光膜17の表面を研磨する。こ
の研磨は、図5に示す研磨装置により実施することがで
きる。
【0013】図5に示す研磨装置はラッピングマシンの
一種であり、対向する上方定盤30と下方定盤32とを
含み、カラーフィルタ16及び遮光膜17を有する基板
10を上方定盤30に取りつけるようになっている。こ
のため、上方定盤30は中心部に基板10を保持するた
めの真空吸引口(図示せず)を有し、且つ基板10の周
辺部を固定するワークホルダ33を有する。下方定盤3
2には微粒子状の研磨材34をしみこませた布等からな
る研磨材保持部材35が取りつけられている。従って、
下方定盤32を回転させると、研磨材34により基板1
0のカラーフィルタ16及び遮光膜17が研磨される。
上方定盤30は特に駆動されないが、下方定盤32の回
転にひきずられて回転する。
【0014】遮光膜17はカラーフィルタ16の各画素
領域の間の微小な隙間を埋めてカラーフィルタ16の表
面を覆っており、そこで、カラーフィルタ16の表面が
露出するように遮光膜17の表面を研磨すると、カラー
フィルタ16の表面が平坦になる。カラーフィルタ16
の各画素領域の間の微小な隙間は遮光膜17で埋まって
いるので、比較的に広い表面を一様に研磨することがで
き、且つカス等が上記隙間に入ることがない。
【0015】図2においては、(D)において絶縁性の
材料からなるオーバーコート18を塗布し、(E)にお
いて全面電極19を形成する。
【0016】図4は本発明の第2実施例を示す図であ
る。第2実施例においては、(A)において第1実施例
と同様にカラーフィルタ16及び付加的なパターン28
を形成した後、(B)に示すように、スピンコートによ
り遮光膜17を塗布する。この遮光膜17は絶縁性のレ
ジストからなり、(C)に示されるように、マスクによ
る露光後にエッチングを行って周辺部を除去するように
なっている。この後で、(D)に示されるように、遮光
膜17の研磨を行い、カラーフィルタ16の表面を平坦
にする。次に、(E)に示されるように、電極19を形
成する。この実施例では、カラーフィルタ16の上のオ
ーバーコート18が省略されている。オーバーコート1
8が平坦に形成されており、且つ遮光膜17が絶縁性の
材料で形成されているので、オーバーコート18を省略
することができたのである。なお、第2実施例において
もオーバーコート18を設けることができ、あるいは、
第1実施例においてオーバーコート18を省略すること
ができる。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
カラーフィルタの表面を平坦にすることができ、それに
よって液晶表示装置等の表示装置に適用したときに表示
の品質を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の原理説明図である。
【図2】本発明の第1実施例を示す図である。
【図3】カラーフィルタの形成を示す図である。
【図4】本発明の第2実施例を示す図である。
【図5】研磨装置を示す図である。
【図6】液晶パネルを示す図である。
【図7】従来技術を示す図である。
【符号の説明】 10…基板 16…カラーフィルタ 17…遮光膜

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明な基板(10)に所定のパターンの
    カラーフィルタ(16)を形成し、該カラーフィルタ
    (16)の上に遮光膜(17)を塗布し、該カラーフィ
    ルタ(16)の表面が露出するように該遮光膜(17)
    の表面を研磨する手順からなるカラーフィルタの製造方
    法。
  2. 【請求項2】 前記カラーフィルタ(16)の形成時
    に、該カラーフィルタの形成領域の外側に該カラーフィ
    ルタと同じ厚さで該カラーフィルタの個別の面積よりも
    大きな面積の付加的なパターン(28)を形成し、研磨
    時または研磨後に該カラーフィルタの膜厚の検査ができ
    るようにした請求項1に記載のカラーフィルタの製造方
    法。
  3. 【請求項3】 前記カラーフィルタ(16)が色素顔料
    を分散させた光硬化性着色レジストからなる請求項1に
    記載のカラーフィルタの製造方法。
JP22905791A 1991-09-09 1991-09-09 カラーフイルタの製造方法 Pending JPH0566306A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7438947B2 (en) * 2004-11-30 2008-10-21 Tpo Displays Corp. Color filter process
JP2014002275A (ja) * 2012-06-19 2014-01-09 Mitsubishi Electric Corp 液晶表示装置およびその製造方法

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US7438947B2 (en) * 2004-11-30 2008-10-21 Tpo Displays Corp. Color filter process
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Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19990525