JPH0560557A - 光学式微小変位測定方法及び装置 - Google Patents
光学式微小変位測定方法及び装置Info
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- JPH0560557A JPH0560557A JP22617291A JP22617291A JPH0560557A JP H0560557 A JPH0560557 A JP H0560557A JP 22617291 A JP22617291 A JP 22617291A JP 22617291 A JP22617291 A JP 22617291A JP H0560557 A JPH0560557 A JP H0560557A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 反射率の低い被測定物についての微小変位や
表面粗さを高精度で測定する。 【構成】 光源1からの光束の一部を光量検出器10で
受光し、反射光束を受光する2分割受光素子9A,9B
の出力から光量検出器10の出力の一定値を減算し、被
測定物6以外の反射光束に対応する出力による変位出力
への影響を除去する。
表面粗さを高精度で測定する。 【構成】 光源1からの光束の一部を光量検出器10で
受光し、反射光束を受光する2分割受光素子9A,9B
の出力から光量検出器10の出力の一定値を減算し、被
測定物6以外の反射光束に対応する出力による変位出力
への影響を除去する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、被測定物の微小変位や
表面粗さを光学的手段により測定する光学式微小変位測
定方法及び装置に関する。
表面粗さを光学的手段により測定する光学式微小変位測
定方法及び装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、焦点ずれを検出して被測定物
の微小変位や表面粗さを測定する光学式微小変位測定装
置としては、例えば、臨界角法を用いたもの(光技術コ
ンタクトVol.26,No.11,1988,p.7
48〜755)、非点収差法を用いたもの(光技術コン
タクトVol.26,No.11,1988,p.75
6〜762)、フーコー法を用いたもの(光技術コンタ
クトVol.26,No11,1988,p.773〜
784)等がある。
の微小変位や表面粗さを測定する光学式微小変位測定装
置としては、例えば、臨界角法を用いたもの(光技術コ
ンタクトVol.26,No.11,1988,p.7
48〜755)、非点収差法を用いたもの(光技術コン
タクトVol.26,No.11,1988,p.75
6〜762)、フーコー法を用いたもの(光技術コンタ
クトVol.26,No11,1988,p.773〜
784)等がある。
【0003】ここで、臨界角法は、プリズムの有する固
有の臨界角近傍に入射する光ビーム強度が微小な角度変
化に対して急激な変化を呈する性質を利用したものであ
り、かかる臨界角法による従来の光学式微小変位測定装
置の構成の一例を図4に示す。同図中、101はレーザ
光源である半導体レーザ、102はコリメートレンズ、
103は偏光ビームスプリッタ、104は1/4波長
板、105は対物レンズ、106は被測定物、107は
ビームスプリッタ、108A,108Bは臨界角プリズ
ム、109A、109Bは2分割受光素子であり、半導
体レーザ101からのレーザ光はコリメートレンズ10
2により平行光束に変換され、S偏光で偏光ビームスプ
リッタ103を介して1/4波長板104へ導かれる。
この1/4波長板104に導かれたレーザ光は円偏光の
光束に変換された後、対物レンズ105を介して被測定
物106の表面に集光される。被測定物106で反射さ
れたレーザ光は1/4波長板104でP偏光にされた
後、偏光ビームスプリッタ103を透過してビームスプ
リッタ107に導かれ、分光される。分光された光はそ
れぞれ、反射面が臨界角に設定されている臨界角プリズ
ム108A,108Bで反射され、それぞれ2分割受光
素子109A,109B,に入射され、光量が検出され
る。
有の臨界角近傍に入射する光ビーム強度が微小な角度変
化に対して急激な変化を呈する性質を利用したものであ
り、かかる臨界角法による従来の光学式微小変位測定装
置の構成の一例を図4に示す。同図中、101はレーザ
光源である半導体レーザ、102はコリメートレンズ、
103は偏光ビームスプリッタ、104は1/4波長
板、105は対物レンズ、106は被測定物、107は
ビームスプリッタ、108A,108Bは臨界角プリズ
ム、109A、109Bは2分割受光素子であり、半導
体レーザ101からのレーザ光はコリメートレンズ10
2により平行光束に変換され、S偏光で偏光ビームスプ
リッタ103を介して1/4波長板104へ導かれる。
この1/4波長板104に導かれたレーザ光は円偏光の
光束に変換された後、対物レンズ105を介して被測定
物106の表面に集光される。被測定物106で反射さ
れたレーザ光は1/4波長板104でP偏光にされた
後、偏光ビームスプリッタ103を透過してビームスプ
リッタ107に導かれ、分光される。分光された光はそ
れぞれ、反射面が臨界角に設定されている臨界角プリズ
ム108A,108Bで反射され、それぞれ2分割受光
素子109A,109B,に入射され、光量が検出され
る。
【0004】このように、被測定物106が対物レンズ
105の焦点に位置している場合には、反射光は平行と
なり、臨界角プリズム108A,108Bにおける反射
率は全光束で一定となり、2分割受光素子109A,1
09Bに受光される光量は等しくなる。しかし、被測定
物106が対物レンズ105の焦点より遠くに位置して
いる場合には反射光は収束光となるので臨界角プリズム
108A,108Bに入る光束の入射角はその光軸に対
して臨界角プリズム108Aで図中右側、臨界角プリズ
ム108bで図中上側は臨界角より小さくなり、反射率
が低下して、2分割受光素子109A,109Bに受光
される光量に差が生じる。同様に被測定物106が対物
レンズ105の焦点より近い地点に位置している場合に
は反射光は発散光となり、上述した場合とは逆になり、
2分割受光素子109A,109Bに受光される光量に
差が生じる。このような光量の差から被測定物106
の、対物レンズ105の焦点位置からの変位を検出し、
被測定物106の微小変位や表面粗さを測定することが
できる。
105の焦点に位置している場合には、反射光は平行と
なり、臨界角プリズム108A,108Bにおける反射
率は全光束で一定となり、2分割受光素子109A,1
09Bに受光される光量は等しくなる。しかし、被測定
物106が対物レンズ105の焦点より遠くに位置して
いる場合には反射光は収束光となるので臨界角プリズム
108A,108Bに入る光束の入射角はその光軸に対
して臨界角プリズム108Aで図中右側、臨界角プリズ
ム108bで図中上側は臨界角より小さくなり、反射率
が低下して、2分割受光素子109A,109Bに受光
される光量に差が生じる。同様に被測定物106が対物
レンズ105の焦点より近い地点に位置している場合に
は反射光は発散光となり、上述した場合とは逆になり、
2分割受光素子109A,109Bに受光される光量に
差が生じる。このような光量の差から被測定物106
の、対物レンズ105の焦点位置からの変位を検出し、
被測定物106の微小変位や表面粗さを測定することが
できる。
【0005】一方、非点収差法は、円筒レンズを用いて
検出像に非点収差を与え、測定物の位置の移動変位量を
像の変形に変換するものであり、この方法による微小変
位測定装置では、被測定物が対物レンズの合焦点位置の
場合には、受光ビームは円形状となるが、結像位置が近
い場合には縦長な楕円形状になり、また、遠い場合には
横長な楕円形状となるので、これを4分割フォトダイオ
ードで光電変換し、縦方向、横方向のそれぞれの和を求
め、更にそれらの差の出力信号を求め、被測定物の移動
変位量に比例した出力を得るものである。
検出像に非点収差を与え、測定物の位置の移動変位量を
像の変形に変換するものであり、この方法による微小変
位測定装置では、被測定物が対物レンズの合焦点位置の
場合には、受光ビームは円形状となるが、結像位置が近
い場合には縦長な楕円形状になり、また、遠い場合には
横長な楕円形状となるので、これを4分割フォトダイオ
ードで光電変換し、縦方向、横方向のそれぞれの和を求
め、更にそれらの差の出力信号を求め、被測定物の移動
変位量に比例した出力を得るものである。
【0006】また、フーコー法による微小変位測定装置
は、光学的ナイフエッジ効果を持つ分割プリズムを用い
て被測定物からの反射光束を2光束に分割し、2分割フ
ォトダイオードに入射させるものであり、対物レンズと
被測定面との距離が変化すると被測定物からの反射光束
の広がり角が変化するため、2分割フォトダイオードの
受光量に差が生ずるので、これにより被測定物の変位量
を求めるものである。
は、光学的ナイフエッジ効果を持つ分割プリズムを用い
て被測定物からの反射光束を2光束に分割し、2分割フ
ォトダイオードに入射させるものであり、対物レンズと
被測定面との距離が変化すると被測定物からの反射光束
の広がり角が変化するため、2分割フォトダイオードの
受光量に差が生ずるので、これにより被測定物の変位量
を求めるものである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】前述した従来の光学式
微小変位測定装置においては、通常、被測定物106の
反射率が10%以上必要であるといわれており、実際に
反射率が10%以下の被測定物についての微小変位や表
面粗さを測定すると測定精度が低いという問題がある。
微小変位測定装置においては、通常、被測定物106の
反射率が10%以上必要であるといわれており、実際に
反射率が10%以下の被測定物についての微小変位や表
面粗さを測定すると測定精度が低いという問題がある。
【0008】本発明はこのような事情に鑑み、反射率の
低い被測定物についての微小変位や表面粗さも高精度で
測定できる光学式微小変位測定方法及び装置を提供する
ことを目的とする。
低い被測定物についての微小変位や表面粗さも高精度で
測定できる光学式微小変位測定方法及び装置を提供する
ことを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成する本発
明に係る光学式微小変位測定方法は、光源からの光束を
照射光学系により被測定物に照射し、焦点誤差検出光学
系に入射する反射光束の強度分布より焦点誤差を検出す
る光学式微小変位測定方法において、上記被測定物が存
在しない場合に上記焦点誤差検出光学系に入射する照射
光学系からの反射光束の光量を補正光量として予め測定
しておき、被測定物の微小変位を測定する際に上記焦点
誤差検出光学系に入射する反射光束の全体光量から上記
補正光量を差し引き強度分布を求めることを特徴とし、
また、本発明に係る光学式微小変位測定装置は、光源か
らの光束を被測定物に照射する照射光学系と、分割検出
器を有して誤分割検出器に入射する反射光束の強度分布
より焦点誤差を検出する焦点誤差検出光学系とを有する
光学式微小変位測定装置であって、上記光源からの光束
を分割して一方を上記照射光学系に送る光源出射光分割
手段と、この光源出射光分割手段で分割された他方の光
束を受光して光量を検出する光量検知用検出器と、焦点
誤差検出光学系の分割検出器の出力から上記光量検出器
の出力の一定倍率を減算する回路とを有することを特徴
とする。
明に係る光学式微小変位測定方法は、光源からの光束を
照射光学系により被測定物に照射し、焦点誤差検出光学
系に入射する反射光束の強度分布より焦点誤差を検出す
る光学式微小変位測定方法において、上記被測定物が存
在しない場合に上記焦点誤差検出光学系に入射する照射
光学系からの反射光束の光量を補正光量として予め測定
しておき、被測定物の微小変位を測定する際に上記焦点
誤差検出光学系に入射する反射光束の全体光量から上記
補正光量を差し引き強度分布を求めることを特徴とし、
また、本発明に係る光学式微小変位測定装置は、光源か
らの光束を被測定物に照射する照射光学系と、分割検出
器を有して誤分割検出器に入射する反射光束の強度分布
より焦点誤差を検出する焦点誤差検出光学系とを有する
光学式微小変位測定装置であって、上記光源からの光束
を分割して一方を上記照射光学系に送る光源出射光分割
手段と、この光源出射光分割手段で分割された他方の光
束を受光して光量を検出する光量検知用検出器と、焦点
誤差検出光学系の分割検出器の出力から上記光量検出器
の出力の一定倍率を減算する回路とを有することを特徴
とする。
【0010】
【作用】焦点誤差検出光学系による焦点誤差の検出は、
分割検出器における出力差により求めるが、被測定物の
反射率の違いを補正するために、通常、出力差を合計出
力で除算したものにより変位差をもとめる。しかし、被
測定物以外の、例えば照射光学系内の対物レンズでの反
射光束も焦点誤差検出系に入射することになり、被測定
物での反射率が小さい場合には、被測定物以外での反射
光束の変位量へ与える影響が大となる。本発明は被測定
物以外での反射光束に対応する出力を分割検出器の出力
から減算し、被測定物での反射率が小さい場合でも精度
よく変位量等を測定するものである。また、上記構成の
装置は、光源出射光分割手段で分割した一部の光を受光
する光量検出用検出器の出力の一定倍率を焦点誤差検出
光学系の分割検出器の出力から、減算する減算回路を備
えているので、被測定物がない状態での上記減算回路か
らの出力が零となるように減算する光量検出用検出器の
出力の倍率を設定すれば、光量の変動に応じて被測定物
以外での反射光束が除去される。
分割検出器における出力差により求めるが、被測定物の
反射率の違いを補正するために、通常、出力差を合計出
力で除算したものにより変位差をもとめる。しかし、被
測定物以外の、例えば照射光学系内の対物レンズでの反
射光束も焦点誤差検出系に入射することになり、被測定
物での反射率が小さい場合には、被測定物以外での反射
光束の変位量へ与える影響が大となる。本発明は被測定
物以外での反射光束に対応する出力を分割検出器の出力
から減算し、被測定物での反射率が小さい場合でも精度
よく変位量等を測定するものである。また、上記構成の
装置は、光源出射光分割手段で分割した一部の光を受光
する光量検出用検出器の出力の一定倍率を焦点誤差検出
光学系の分割検出器の出力から、減算する減算回路を備
えているので、被測定物がない状態での上記減算回路か
らの出力が零となるように減算する光量検出用検出器の
出力の倍率を設定すれば、光量の変動に応じて被測定物
以外での反射光束が除去される。
【0011】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
【0012】図1には一実施例に係る光学式微小変位測
定装置の構成を示す。同図中,1はレーザ光源である半
導体レーザ、2はコリメートレンズ、3は偏光ビームス
プリッタ、4は1/4波長板、5は対物レンズ、6は被
測定物、7はビームスプリッタ、8A、8Bは臨界角プ
リズム、9A,9Bは2分割受光素子であり、10は偏
光ビームスプリッタ3を透過した光を受光する光量検出
用検出器である。本実施例の装置では、半導体レーザ1
からのレーザ光はコリメートレンズ2により平行光束に
変換され、S偏光で偏光ビームスプリッタ3を介して1
/4波長板104へ導かれるが、半導体レーザ1からの
レーザ光をS偏光から少しずらしておくと、一部の光が
偏光ビームスプリッタ3を透過して光量検出用検出器1
0に入る。この光量検出用検出器10の出力をモニター
することにより半導体レーザ1からのレーザ光の出力変
動を検知することができる。
定装置の構成を示す。同図中,1はレーザ光源である半
導体レーザ、2はコリメートレンズ、3は偏光ビームス
プリッタ、4は1/4波長板、5は対物レンズ、6は被
測定物、7はビームスプリッタ、8A、8Bは臨界角プ
リズム、9A,9Bは2分割受光素子であり、10は偏
光ビームスプリッタ3を透過した光を受光する光量検出
用検出器である。本実施例の装置では、半導体レーザ1
からのレーザ光はコリメートレンズ2により平行光束に
変換され、S偏光で偏光ビームスプリッタ3を介して1
/4波長板104へ導かれるが、半導体レーザ1からの
レーザ光をS偏光から少しずらしておくと、一部の光が
偏光ビームスプリッタ3を透過して光量検出用検出器1
0に入る。この光量検出用検出器10の出力をモニター
することにより半導体レーザ1からのレーザ光の出力変
動を検知することができる。
【0013】一方、1/4波長板4に導かれたレーザ光
は円偏光の光束に変換された後、対物レンズ5を介して
被測定物6の表面に集光される。被測定物6で反射され
たレーザ光は1/4波長板4でP偏光にされた後、偏光
ビームスプリッタ3を透過してビームスプリッタ7に導
かれ、分光される。分光された光はそれぞれ、反射面が
臨界角に設定されている臨界角プリズム8A,8Bで反
射され、それぞれ2分割受光素子9A,9Bに入射さ
れ、光量が検出される。本実施例では2分割受光素子9
A,9Bと光量検出用検出器10との出力から被測定物
6の変位や表面粗さを求める。
は円偏光の光束に変換された後、対物レンズ5を介して
被測定物6の表面に集光される。被測定物6で反射され
たレーザ光は1/4波長板4でP偏光にされた後、偏光
ビームスプリッタ3を透過してビームスプリッタ7に導
かれ、分光される。分光された光はそれぞれ、反射面が
臨界角に設定されている臨界角プリズム8A,8Bで反
射され、それぞれ2分割受光素子9A,9Bに入射さ
れ、光量が検出される。本実施例では2分割受光素子9
A,9Bと光量検出用検出器10との出力から被測定物
6の変位や表面粗さを求める。
【0014】被測定物6の反射光束に対する2分割光量
素子9Aの出力をA,B,2分割受光素子の出力をC,
Dとすると、通常の変位計出力は次記数1で示される値
にセットされている。なお、ここで、(A+B+C+
D)で割るのは被測定物6の反射率を補正するためであ
る。
素子9Aの出力をA,B,2分割受光素子の出力をC,
Dとすると、通常の変位計出力は次記数1で示される値
にセットされている。なお、ここで、(A+B+C+
D)で割るのは被測定物6の反射率を補正するためであ
る。
【0015】
【数1】
【0016】しかし、実際には被測定物6以外、例えば
対物レンズ5での反射光束に対応する出力a,b,c,
dが2分割検出器9A,9Bに出力される。但し、a,
b,c,dは被測定物6の変位等に関係なく一定でa=
b=c=dである。したがって、実際の変位計出力は次
記数2で表される。
対物レンズ5での反射光束に対応する出力a,b,c,
dが2分割検出器9A,9Bに出力される。但し、a,
b,c,dは被測定物6の変位等に関係なく一定でa=
b=c=dである。したがって、実際の変位計出力は次
記数2で表される。
【0017】
【数2】
【0018】すなわち、通常の場合の変位計出力は(a
+b+c+d)の分だけ大きい数値で割られていること
になる。この誤差は被測定物6の反射率は大きい場合は
問題ないが、反射率が小さい場合は変位量の誤差が大き
くなる。つまり、図2に示すように、被測定物6が高反
射率の場合の変位−出力特性の傾きと比較して、低反射
率の場合の傾きは小さくなる。本実施例では、かかる誤
差を以下のように補正する。
+b+c+d)の分だけ大きい数値で割られていること
になる。この誤差は被測定物6の反射率は大きい場合は
問題ないが、反射率が小さい場合は変位量の誤差が大き
くなる。つまり、図2に示すように、被測定物6が高反
射率の場合の変位−出力特性の傾きと比較して、低反射
率の場合の傾きは小さくなる。本実施例では、かかる誤
差を以下のように補正する。
【0019】本実施例での変位出力の回路を図3に示
す。図中、9A,9B,10は図1の2分割受光素子9
A,9B,光量検出用検出器10に対応する。そして、
2分割受光素子9A,9Bの各受光素子にはそれぞれプ
リアンプ11A,11B,11C,11Dが接続されて
おり、また、光量検出用検出器10には4つのプリアン
プ12A,12B,12C,12Dが並列に接続されて
いる。これらプリアンプ11A〜11Dとプリアンプ1
2A〜12Dとは減算器13A,13B,13C,13
Dに接続されており、13Aでは11Aと12Aとの
差、13Bでは11Bと12Bとの差、13Cでは11
Cと12Cとの差、13Dでは11Dと12Dとの差が
それぞれ出力されるようになっている。また、減算器1
3Aと13Cとは加算器14Aに接続され、減算器13
Bと13Dとは加算器14Bに接続されている。さら
に、加算器14Aと14Bとの差と和とは、それぞれ減
算器15及び加算器16で求められるようになってい
る。そして、除算器17により減算器15の出力を加算
器16の出力で除した値が出力されるようになってい
る。
す。図中、9A,9B,10は図1の2分割受光素子9
A,9B,光量検出用検出器10に対応する。そして、
2分割受光素子9A,9Bの各受光素子にはそれぞれプ
リアンプ11A,11B,11C,11Dが接続されて
おり、また、光量検出用検出器10には4つのプリアン
プ12A,12B,12C,12Dが並列に接続されて
いる。これらプリアンプ11A〜11Dとプリアンプ1
2A〜12Dとは減算器13A,13B,13C,13
Dに接続されており、13Aでは11Aと12Aとの
差、13Bでは11Bと12Bとの差、13Cでは11
Cと12Cとの差、13Dでは11Dと12Dとの差が
それぞれ出力されるようになっている。また、減算器1
3Aと13Cとは加算器14Aに接続され、減算器13
Bと13Dとは加算器14Bに接続されている。さら
に、加算器14Aと14Bとの差と和とは、それぞれ減
算器15及び加算器16で求められるようになってい
る。そして、除算器17により減算器15の出力を加算
器16の出力で除した値が出力されるようになってい
る。
【0020】本実施例の装置では、予め以下の調整をす
る。まず、被測定物6を焦点位置に置き、分割受光素子
9A,9BのA,B,C,Dでの出力が同じになるよう
にプリアンプ11A〜11Dを調整する。次に、被測定
物6がない状態で各減算器13A〜13Dの出力が零と
なるように、プリアンプ12A〜12Dの増幅率を調整
する。これにより、被測定物6以外の反射が減算器13
A〜13Dでキャンセルされ補正されることになる。ま
た、光源1の出力が変動してもそれに応じて受光器10
に入射する光量も変動し、これに伴い減算器13A〜1
3Dでの減算量も変動するので、常に光源1の出力の変
動に応じた適正な補正が行われることになる。
る。まず、被測定物6を焦点位置に置き、分割受光素子
9A,9BのA,B,C,Dでの出力が同じになるよう
にプリアンプ11A〜11Dを調整する。次に、被測定
物6がない状態で各減算器13A〜13Dの出力が零と
なるように、プリアンプ12A〜12Dの増幅率を調整
する。これにより、被測定物6以外の反射が減算器13
A〜13Dでキャンセルされ補正されることになる。ま
た、光源1の出力が変動してもそれに応じて受光器10
に入射する光量も変動し、これに伴い減算器13A〜1
3Dでの減算量も変動するので、常に光源1の出力の変
動に応じた適正な補正が行われることになる。
【0021】このように、本実施例では、被測定物6以
外の反射光束に応じた出力(上記数2のa,b,c,
d)が減算されるので、被測定物6の反射率が低い場合
でも適正な変位等を測定することができる。なお、被測
定物6の反射率が低い場合の絶対的な光量不足による測
定精度の低下は、問題ないことが次の通り確認された。
例えば、被測定物6の反射率を1%、各光学素子による
損失合計を50%、受光素子で検知できる光量を1μ
W,臨界角プリズムでの透過損失を50%とすると、必
要な光量Pは P=(1×10-6×4)/ (0.01×0.5 ×0.5)=1.6 mW となり、光量不足は全く問題とならない。
外の反射光束に応じた出力(上記数2のa,b,c,
d)が減算されるので、被測定物6の反射率が低い場合
でも適正な変位等を測定することができる。なお、被測
定物6の反射率が低い場合の絶対的な光量不足による測
定精度の低下は、問題ないことが次の通り確認された。
例えば、被測定物6の反射率を1%、各光学素子による
損失合計を50%、受光素子で検知できる光量を1μ
W,臨界角プリズムでの透過損失を50%とすると、必
要な光量Pは P=(1×10-6×4)/ (0.01×0.5 ×0.5)=1.6 mW となり、光量不足は全く問題とならない。
【0022】以上、実施例では臨界角法を用いたものに
ついて説明したが、非点収差法やフーコー法を用いたも
のについても同様に本発明を適用できることはいうまで
もない。また、補正方法は実施例に示した回路や調整方
法に限定されるものではない。
ついて説明したが、非点収差法やフーコー法を用いたも
のについても同様に本発明を適用できることはいうまで
もない。また、補正方法は実施例に示した回路や調整方
法に限定されるものではない。
【0023】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると反
射率の低い被測定物についての微小変位や表面粗さも高
精度で測定することができる。
射率の低い被測定物についての微小変位や表面粗さも高
精度で測定することができる。
【図1】一実施例に係る光学式微小変位測定装置を示す
構成図である。
構成図である。
【図2】変位−出力特性図である。
【図3】図1の装置の変位出力の回路図である。
【図4】従来技術に係る光学式微小変位測定装置を示す
構成図である。
構成図である。
1 半導体レーザ 2 コリメートレンズ 3 偏光ビームスプリッタ 4 1/4波長板 5 対物レンズ 6 被測定物 7 ビームスプリッタ 8A,8B 臨界角プリズム 9A,9B 2分割受光素子 10 光量検出用検出器
Claims (3)
- 【請求項1】 光源からの光束を照射光学系により被測
定物に照射し、焦点誤差検出光学系に入射する反射光束
の強度分布より焦点誤差を検出する光学式微小変位測定
方法において、上記被測定物が存在しない場合に上記焦
点誤差検出光学系に入射する照射光学系からの反射光束
の光量を補正光量として予め測定しておき、被測定物の
微小変位を測定する際に上記焦点誤差検出光学系に入射
する反射光束の全体光量から上記補正光量を差し引き強
度分布を求めることを特徴とする光学式微小変位測定方
法。 - 【請求項2】 光源からの光束を被測定物に照射する照
射光学系と、分割検出器を有して該分割検出器に入射す
る反射光束の強度分布より焦点誤差を検出する焦点誤差
検出光学系とを有する光学式微小変位測定装置であっ
て、上記光源からの光束を分割して一方を上記照射光学
系に送る光源出射光分割手段と、この光源出射光分割手
段で分割された他方の光束を受光して光量を検出する光
量検知用検出器と、焦点誤差検出光学系の分割検出器の
全体出力から上記光量検出器の出方を減算する回路とを
有することを特徴とする光学式微小変位測定装置。 - 【請求項3】 請求項2において、光量検知用検出器の
出力信号を焦点誤差検出光学系の分割検出器の分割数と
同数の出力に分割する手段と、この分割された出力をそ
れぞれ変化させる手段とを備えたことを特徴とする光学
式微小変位測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22617291A JPH0560557A (ja) | 1991-09-05 | 1991-09-05 | 光学式微小変位測定方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22617291A JPH0560557A (ja) | 1991-09-05 | 1991-09-05 | 光学式微小変位測定方法及び装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0560557A true JPH0560557A (ja) | 1993-03-09 |
Family
ID=16841011
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22617291A Withdrawn JPH0560557A (ja) | 1991-09-05 | 1991-09-05 | 光学式微小変位測定方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0560557A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002310623A (ja) * | 2001-04-06 | 2002-10-23 | Fotonikusu:Kk | 表面形状測定方法および表面形状測定装置 |
CN109458934A (zh) * | 2018-07-04 | 2019-03-12 | 重庆大学 | 一种光学微位移测量*** |
-
1991
- 1991-09-05 JP JP22617291A patent/JPH0560557A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002310623A (ja) * | 2001-04-06 | 2002-10-23 | Fotonikusu:Kk | 表面形状測定方法および表面形状測定装置 |
JP4580579B2 (ja) * | 2001-04-06 | 2010-11-17 | 株式会社ナノテックス | 表面形状測定方法および表面形状測定装置 |
CN109458934A (zh) * | 2018-07-04 | 2019-03-12 | 重庆大学 | 一种光学微位移测量*** |
CN109458934B (zh) * | 2018-07-04 | 2023-11-07 | 重庆大学 | 一种光学微位移测量*** |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981203 |