JPH0559196A - Thermoplastic saturated norbornene-based resin molding and its production - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To produce a resin molding excellent in surface smoothness, low in unevenness of thickness especially in the case of a sheet and capable of providing a high-accuracy product such as an optical component by polishing the surface of a thermoplastic saturated norbornene-based resin molding. CONSTITUTION:A resin molding having the surface in which the maximum height of a part or the whole surface is <=0.05mum, preferably <=0.03mum corresponding to the purpose, obtained by adding, as necessary, a phenolic or phosphate antioxidant, on antistatic agent, a leveling agent, etc., to a thermoplastic saturated norbornene-based resin having 10000-200000, especially 25000-120000 number-average molecular weight, molding the resultant mixture by using any of various kinds of molding methods and polishing the resultant molding, especially a sheet-shaped material by using free abrasive grains (alumina, silica, etc.) preferably having 0.1-20mum, especially 0.5-10mum particle size. The above- mentioned molding is suitable especially for an optics, etc., having a requirement for a low birefringence and a low birefringence distribution in the fields where excellent surface smoothness is required.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、熱可塑性飽和ノルボル
ネン系樹脂成形品及びその製造方法に関し、さらに詳し
くは、熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂から成り少なく
とも表面の一部の最大高さＲｍａｘ値が０．０５μｍ以
下である成形品及びその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thermoplastic saturated norbornene resin molded article and a method for producing the same, and more specifically, it is made of a thermoplastic saturated norbornene resin and has a maximum height Rmax value of at least a part of its surface of 0. The present invention relates to a molded article having a diameter of 0.05 μm or less and a method for producing the same.

【０００２】[0002]

【従来の技術】レンズやプリズムなどの光学部品や、光
ディスクなどの情報記録媒体光学素子、液晶ディスプレ
イなどの情報表示媒体素子、ＣＣＤなどの撮像素子など
においては表面の平滑性が悪いと光の屈折、乱反射など
が起こるという問題があった。また、光による情報の入
出力の精度を高くするためには、複屈折が小さい、ある
いは複屈折の面内でのバラツキが小さいことが必要であ
るが、表面の凹凸が複屈折に大きく影響するため、この
点からも表面の平滑性のよいことが求められる。さら
に、利用環境との関係から耐熱性、耐湿性がよいものを
光学部品や光学素子基板とすることが好ましい。2. Description of the Related Art In optical components such as lenses and prisms, optical elements for information recording media such as optical disks, information display medium elements such as liquid crystal displays, and image pickup elements such as CCDs, if the surface is not smooth, light refraction will occur. However, there was a problem that diffuse reflection etc. occurred. Further, in order to improve the accuracy of inputting / outputting information by light, it is necessary that the birefringence be small or the in-plane variation of the birefringence be small, but the unevenness of the surface greatly affects the birefringence. Therefore, from this point as well, the smoothness of the surface is required. Further, it is preferable to use an optical component or an optical element substrate that has good heat resistance and moisture resistance in view of the environment of use.

【０００３】従来、光学部品や光学素子基板においては
主としてガラスが使われてきた。しかし、薄いと割れや
すく、厚みを持たせると重くなる、さらに、柔軟性がな
いため曲面の液晶ディスプレイ用の液晶基板などには用
いることが困難であるという欠点があった。そのため、
これらの欠点を有さない透明性の高い光学材料用の樹脂
が用いられるようになってきた。そのような光学材料用
樹脂としては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭ
Ａ）、ポリカーボネート（ＰＣ）が主として用いられて
いる。しかしながら、ＰＣは複屈折が大きく、また、Ｐ
ＭＭＡは吸水性が大きく、耐熱性も不十分であり、ます
ます高度化する要求に答えることが困難となってきてい
る。Conventionally, glass has been mainly used in optical components and optical element substrates. However, it has a drawback that it is easily cracked when it is thin, becomes heavy when it is given a thickness, and is difficult to use for a liquid crystal substrate for a curved liquid crystal display or the like because it is not flexible. for that reason,
Resins for highly transparent optical materials that do not have these drawbacks have been used. As such a resin for optical materials, polymethylmethacrylate (PMM
A) and polycarbonate (PC) are mainly used. However, PC has a large birefringence, and P
Since MMA has a large water absorbency and insufficient heat resistance, it is becoming difficult to meet increasingly sophisticated requirements.

【０００４】最近、ノルボルネン系モノマーの開環重合
体の水素添加物やノルボルネン系モノマーとエチレンと
の付加型重合体のような熱可塑性飽和ノルボルネン系樹
脂が、光学部品や光学素子基板の成形材料として注目を
あびている（特開昭６０−２６０２４号、同６４−２４
８２６号、同６０−１６８７０８号、同６１−１１５９
１２号、同６１−１２０８１６号など）。熱可塑性飽和
ノルボルネン系樹脂は透明性に優れ、複屈折が小さく、
耐熱性、耐湿性、耐水性、電器絶縁性、耐溶剤、酸やア
ルカリ等への耐薬品性にも優れている。また、ガラスに
比較して、重量の割に強度があり、柔軟性がある。しか
し、例えば、液晶基板に用いるには表面の平滑性が小さ
く、凹凸のための屈折などによって画像が歪むという問
題があるなど、使用目的によっては成形品の表面の高度
の平滑性が要求されるようになってきている。それに対
し、通常、最も表面の平滑性がよいとされている金型表
面を充分に研磨した射出成形法においても、最大高さＲ
ｍａｘ値で０．０６μｍ以上の熱可塑性飽和ノルボルネ
ン系樹脂成形品しか得られていなかった。Recently, thermoplastic saturated norbornene resins such as hydrogenated products of ring-opening polymers of norbornene monomers and addition type polymers of norbornene monomers and ethylene are used as molding materials for optical parts and optical element substrates. Attracting attention (Japanese Patent Laid-Open Nos. 60-26024 and 64-24).
No. 826, No. 60-168708, No. 61-1159.
12 and 61-120816). Thermoplastic saturated norbornene-based resin has excellent transparency, small birefringence,
It has excellent heat resistance, moisture resistance, water resistance, electrical insulation, solvent resistance, and chemical resistance to acids and alkalis. Further, it has strength and flexibility for its weight as compared with glass. However, for example, when used for a liquid crystal substrate, the surface has a low smoothness, and there is a problem that the image is distorted due to refraction due to unevenness. For example, a high degree of smoothness of the surface of the molded product is required depending on the purpose of use. Is becoming. On the other hand, even in the injection molding method in which the mold surface, which is generally considered to have the best surface smoothness, is sufficiently polished, the maximum height R
Only a thermoplastic saturated norbornene resin molded product having a max value of 0.06 μm or more was obtained.

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は少なく
とも表面の一部の最大高さＲｍａｘ値が０．０５μｍ以
下の熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂成形品及びその製
造方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a thermoplastic saturated norbornene resin molded article having a maximum height Rmax value of at least a part of the surface of 0.05 μm or less, and a method for producing the same.

【０００６】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記従来
技術の有する問題点を克服するために鋭意研究した結
果、熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂成形品の表面を研
磨することにより前記目的を達成できることを見いだし
た。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted extensive studies to overcome the problems of the prior art, and as a result, have achieved the above object by polishing the surface of a thermoplastic saturated norbornene-based resin molded product. I found what I could achieve.

【０００７】（熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂）本発
明の熱可塑性ノルボルネン系樹脂は、特開平３−１４８
８２号や特開平３−１２２１３７号などで公知の樹脂で
あり、具体的には、ノルボルネン系単量体の開環重合
体、その水素添加物、ノルボルネン系単量体の付加型重
合体、ノルボルネン系単量体とオレフィンの付加型重合
体などが挙げられる。(Thermoplastic Saturated Norbornene Resin) The thermoplastic norbornene resin of the present invention is disclosed in JP-A-3-148.
No. 82 and JP-A-3-122137, and specifically, ring-opening polymers of norbornene-based monomers, hydrogenated products thereof, addition-type polymers of norbornene-based monomers, norbornene. Examples thereof include addition type polymers of a system monomer and an olefin.

【０００８】ノルボルネン系単量体も、上記公報や特開
平２−２２７４２４号、特開平２−２７６８４２号など
で公知の単量体であって、例えば、ノルボルネン、その
アルキル、アルキリデン、芳香族置換誘導体およびこれ
ら置換または非置換のオレフィンのハロゲン、水酸基、
エステル基、アルコキシ基、シアノ基、アミド基、イミ
ド基、シリル基等の極性基置換体、例えば、２−ノルボ
ルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、５，５−ジメ
チル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネ
ン、５−ブチル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−
２−ノルボルネン、５−メトキシカルボニル−２−ノル
ボルネン、５−シアノ−２−ノルボルネン、５−メチル
−５−メトキシカルボニル−２−ノルボルネン、５−フ
ェニル−２−ノルボルネン、５−フェニル−５−メチル
−２−ノルボルネン等；シクロペンタジエンの多量体、
その上記と同様の誘導体や置換体、例えば、ジシクロペ
ンタジエン、２，３−ジヒドロジシクロペンタジエン、
１，４：５，８−ジメタノ−１，２，３，４，４ａ，
５，８，８ａ−２，３−シクロペンタジエノナフタレ
ン、６−メチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，
４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレ
ン、１，４：５，１０：６，９−トリメタノ−１，２，
３，４，４ａ，５，５ａ，６，９，９ａ，１０，１０ａ
−ドデカヒドロ−２，３−シクロペンタジエノアントラ
セン；シクロペンタジエンとテトラヒドロインデン等と
の付加物、その上記と同様の誘導体や置換体、例えば、
１，４−メタノ−１，４，４ａ，４ｂ，５，８，８ａ，
９ａ−オクタヒドロフルオレン、５，８−メタノ−１，
２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−オクタヒドロ−２，
３−シクロペンタジエノナフタレン；等が挙げられる。The norbornene-based monomer is also a monomer known in the above publications, JP-A-2-227424 and JP-A-2-276842, and examples thereof include norbornene, its alkyl, alkylidene and aromatic substituted derivatives. And halogens, hydroxyl groups of these substituted or unsubstituted olefins,
Polar group substituents such as ester group, alkoxy group, cyano group, amide group, imide group and silyl group, for example, 2-norbornene, 5-methyl-2-norbornene, 5,5-dimethyl-2-norbornene, 5- Ethyl-2-norbornene, 5-butyl-2-norbornene, 5-ethylidene-
2-norbornene, 5-methoxycarbonyl-2-norbornene, 5-cyano-2-norbornene, 5-methyl-5-methoxycarbonyl-2-norbornene, 5-phenyl-2-norbornene, 5-phenyl-5-methyl- 2-norbornene, etc .; cyclopentadiene multimers,
Derivatives and substituents similar to the above, for example, dicyclopentadiene, 2,3-dihydrodicyclopentadiene,
1,4: 5,8-dimethano-1,2,3,4,4a,
5,8,8a-2,3-cyclopentadienonaphthalene, 6-methyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4
4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 1,4: 5,10: 6,9-trimethano-1,2,
3,4,4a, 5,5a, 6,9,9a, 10,10a
-Dodecahydro-2,3-cyclopentadienoanthracene; an adduct of cyclopentadiene and tetrahydroindene, etc., a derivative or substituent similar to the above, for example,
1,4-methano-1,4,4a, 4b, 5,8,8a,
9a-octahydrofluorene, 5,8-methano-1,
2,3,4,4a, 5,8,8a-octahydro-2,
3-cyclopentadienonaphthalene; and the like.

【０００９】ノルボルネン系単量体の重合は公知の方法
でよく、必要に応じて、水素添加することにより、熱可
塑性ノルボルネン系樹脂水素添加物とすることができ
る。The polymerization of the norbornene-based monomer may be carried out by a known method, and if necessary, hydrogenation may be carried out to obtain a thermoplastic norbornene-based resin hydrogenated product.

【００１０】なお、本発明においてはノルボルネン系モ
ノマーを公知の方法で開環重合させる場合には、本発明
の効果を実質的に妨げない範囲において開環重合可能な
他のシクロオレフィン類を併用することができる。この
ようなシクロオレフィンの具体例としては、例えば、シ
クロペンテン、シクロオクテン、５，６−ジヒドロジシ
クロペンタジエンなどのごとき反応性の二重結合を１個
有する化合物が例示される。In the present invention, when the norbornene-based monomer is subjected to ring-opening polymerization by a known method, another cycloolefin capable of ring-opening polymerization is used in combination within a range that does not substantially impair the effects of the present invention. be able to. Specific examples of such a cycloolefin include compounds having one reactive double bond such as cyclopentene, cyclooctene, and 5,6-dihydrodicyclopentadiene.

【００１１】本発明で使用する熱可塑性飽和ノルボルネ
ン系樹脂の数平均分子量は、トルエン溶媒によるＧＰＣ
（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィ）法で測
定して、１０，０００〜２００，０００、好ましくは２
０，０００〜１５０，０００、より好ましくは２５，０
００〜１２０，０００である。数平均分子量が小さすぎ
ると機械的強度が劣り、大きすぎると成形性が悪くな
る。The number average molecular weight of the thermoplastic saturated norbornene resin used in the present invention is determined by GPC with a toluene solvent.
10,000 to 200,000, preferably 2 as measured by (gel permeation chromatography) method
10,000-150,000, more preferably 25.0
It is 00 to 120,000. If the number average molecular weight is too small, the mechanical strength will be poor, and if it is too large, the moldability will be poor.

【００１２】また、ノルボルネン系モノマーの開環重合
体を水素添加する場合、水素添加率は耐熱劣化性、耐光
劣化性などの観点から、９０％以上、好ましくは９５％
以上、より好ましくは、９９％以上とする。In addition, when a ring-opened polymer of a norbornene-based monomer is hydrogenated, the hydrogenation rate is 90% or more, preferably 95% from the viewpoint of heat deterioration resistance and light deterioration resistance.
Or more, More preferably, it is 99% or more.

【００１３】熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂は透明
性、耐熱性、耐湿性、耐薬品性等に優れていることか
ら、特に光学用プラスチック成形材料として有用である
ことが知られている。特に、熱可塑性飽和ノルボルネン
系樹脂は吸湿性が０．０５％以下、通常、０．０１％以
下であるので耐湿性に優れ、さらに光弾性係数が９×１
０^{ー 13}ｃｍ²／ｄｙｎｅ以下と小さいので、光学的に均一
な位相板を製造するのに最適な材料であり、その品質に
ついても信頼性が高い。Thermoplastic saturated norbornene resins are known to be particularly useful as optical plastic molding materials because they are excellent in transparency, heat resistance, moisture resistance, chemical resistance and the like. In particular, the thermoplastic saturated norbornene-based resin has a hygroscopicity of 0.05% or less, usually 0.01% or less, so that it has excellent moisture resistance and further has a photoelastic coefficient of 9 × 1.
Since 0 ^{over 13} cm ² / dyne or less and small, an optimum material for the production of optically homogeneous phase plate, reliable also its quality.

【００１４】（添加物）本発明で用いる熱可塑性飽和ノ
ルボルネン系樹脂には、所望により、フェノール系やリ
ン系などの老化防止剤、耐電防止剤、紫外線安定剤など
の各種添加剤を添加してもよい。表面粗さを小さくする
ため、溶液流延法で成形する場合には、レベリング剤の
添加は好ましい。レベリング剤は、例えば、フッ素系ノ
ニオン界面活性剤、特殊アクリル樹脂系レベリング剤、
シリコーン系レベリング剤など塗料用レベリング剤を用
いることができ、それらの中でも溶媒との相溶性の良い
ものが好ましく、添加量は、通常は５〜５０，０００ｐ
ｐｍ、好ましくは１０〜２０，０００ｐｐｍである。(Additives) The thermoplastic saturated norbornene-based resin used in the present invention may be added with various additives such as a phenol-based or phosphorus-based antioxidant, an antistatic agent, and an ultraviolet stabilizer, if desired. Good. In order to reduce the surface roughness, it is preferable to add a leveling agent when molding by a solution casting method. The leveling agent is, for example, a fluorine-based nonionic surfactant, a special acrylic resin-based leveling agent,
A leveling agent for coating materials such as a silicone-based leveling agent can be used. Among them, those having good compatibility with a solvent are preferable, and the addition amount is usually 5 to 50,000 p.
pm, preferably 10 to 20,000 ppm.

【００１５】（成形加工）本発明の熱可塑性ノルボルネ
ン系重合体水素添加物は常法に従って光学部品、光学素
子基板などに成形可能である。成形法としては、射出成
形法、押出成形法、圧縮成形法、溶液流延法など、通常
の樹脂に用いられる成形法が適用できる。しかし、通常
は成形品中に溶剤が残留しない成形法が好ましく、その
ような成形法としては、射出成形法、押出成形法、圧縮
成形法などがある。研磨の効率をよくする点から、表面
の平滑性に優れた射出成形法、特に金型を充分に研磨し
た射出成形が好ましい。(Molding) The thermoplastic norbornene-based polymer hydrogenated product of the present invention can be molded into optical parts, optical element substrates and the like according to a conventional method. As the molding method, a molding method used for ordinary resins such as an injection molding method, an extrusion molding method, a compression molding method and a solution casting method can be applied. However, a molding method in which a solvent does not remain in a molded product is usually preferable, and examples of such a molding method include an injection molding method, an extrusion molding method, and a compression molding method. From the viewpoint of improving polishing efficiency, an injection molding method having excellent surface smoothness, particularly an injection molding method in which a mold is sufficiently polished is preferable.

【００１６】（研磨加工）本発明においては、上記のご
とき方法で成形された成形品を研磨することが必要であ
る。熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂は研磨性に優れて
おり、研磨の際の発熱、吸湿などにより変質することな
く、最大高さＲｍａｘ値で０．０５μｍ以下、好ましく
は０．０３μｍ以下の表面が得られる。(Polishing) In the present invention, it is necessary to polish the molded product molded by the above method. The thermoplastic saturated norbornene-based resin has excellent polishing properties, and a surface with a maximum height Rmax value of 0.05 μm or less, preferably 0.03 μm or less, is obtained without being deteriorated by heat generation, moisture absorption, etc. during polishing. ..

【００１７】研磨する方法は、熱硬化性樹脂の平面、球
面、または非球面曲面である表面を研磨する際に通常用
いられている方法であればよく、例えば、遊離砥粒によ
るラッピング加工、同じくポリシング加工、研磨布紙加
工、鏡面切削、バレル加工などが採用でき、中でも遊離
砥粒によるポリシング加工などが好ましい。また、研磨
前の成形品の表面の最大高さが大きい場合は、遊離砥粒
によるラッピング加工を行ってある程度研磨した後、遊
離砥粒によるポリシング加工により研磨することが好ま
しい。遊離砥粒としては、アルミナ、炭化ケイ素、シリ
カなどが好ましく、粒径は０．１〜２０μｍのもの、特
に０．５〜１０μｍのものが好ましい。粒径が小さすぎ
ると研磨の効率が悪く、粒径が大きすぎると研磨面の最
大高さが大きくなる。The method of polishing may be any method which is usually used when polishing the surface of a thermosetting resin which is a flat surface, a spherical surface or an aspherical curved surface. For example, lapping by free abrasive grains, and the like. A polishing process, a polishing cloth paper process, a mirror surface cutting process, a barrel process, etc. can be adopted, and a polishing process using free abrasive grains is preferable. In addition, when the maximum height of the surface of the molded product before polishing is large, it is preferable to perform lapping with free abrasive grains to polish to some extent, and then polish with free abrasive grains to polish. As the free abrasive grains, alumina, silicon carbide, silica and the like are preferable, and those having a particle diameter of 0.1 to 20 μm, particularly 0.5 to 10 μm are preferable. If the particle size is too small, the polishing efficiency is poor, and if the particle size is too large, the maximum height of the polished surface becomes large.

【００１８】（成形品）本発明の成形品は目的に応じて
表面の少なくとも一部を最大高さＲｍａｘ値で０．０５
μｍ以下、好ましくは０．０３μｍ以下にしたものであ
る。そのため、表面の平滑性が要求される分野、特に複
屈折が小さい、あるいは複屈折のバラツキが小さいこと
が要求される分野の光学部品、光学素子、光学素子基板
などに好適である。具体的には、レンズ、プリズム、液
晶ディスプレイの部品、固体撮像素子（ＣＣＤ）の部
品、光ディスク基板、光カード基板に好適であるが、中
でも、光ディスク基板、光カード基板などに用いられ
る。シートの表面を研磨した成形品の場合、両面を研磨
することにより、厚さムラも小さくなる。(Molded Product) The molded product of the present invention has a maximum height Rmax value of 0.05 at least on a part of the surface depending on the purpose.
It is less than or equal to μm, preferably less than or equal to 0.03 μm. Therefore, it is suitable for an optical component, an optical element, an optical element substrate, and the like in a field where surface smoothness is required, particularly in a field where birefringence is small or birefringence variation is small. Specifically, it is suitable for a lens, a prism, a liquid crystal display component, a solid-state image sensor (CCD) component, an optical disc substrate, an optical card substrate, and among others, it is used for an optical disc substrate, an optical card substrate, and the like. In the case of a molded product in which the surface of the sheet is polished, polishing the both surfaces also reduces unevenness in thickness.

【００１９】（液晶基板）熱可塑性飽和ノルボルネン系
樹脂は、可撓性がよいので割れ難く、加工が容易であ
り、透明性がよいので色彩が鮮明であり、耐薬品性がよ
いためエッチング処理後のアルカリを用いたフォトレジ
ストの剥離工程に影響されず、耐熱性、耐湿性がよいの
で使用環境が広い、強度が強く薄くできるためディスプ
レイの小型化が容易であるなどの点で、液晶ディスプレ
イの部品の一つである液晶基板の材料として最適であ
る。(Liquid Crystal Substrate) The thermoplastic saturated norbornene-based resin is good in flexibility and hard to be broken, is easy to process, has good transparency, has a clear color, and has good chemical resistance. Since it is not affected by the photoresist stripping process using alkali, it can be used in a wide range of environments because it has good heat resistance and moisture resistance, and because it is strong and thin, it is easy to miniaturize the display. It is the most suitable material for the liquid crystal substrate, which is one of the parts.

【００２０】本発明の熱可塑性ノルボルネン系重合体水
素添加物は常法に従ってシートである液晶基板に成形す
る。しかし、液晶基板は、厚さムラが大きい、または表
面の平滑性に劣ると液晶ディスプレイの画像の歪みが大
きく、実用上問題がある。厚さムラは全面で±５０μｍ
以下、Ｒｍａｘ値が０．２μｍ以下でなくては、画像の
判別が困難であるなどの不都合がある。厚さムラが全面
で±２５μｍ以下、Ｒｍａｘ値が０．１μｍ以下が好ま
しく、特に厚さムラが全面で±２０μｍ以下、Ｒｍａｘ
値が０．０８μｍ以下のものが好ましい。厚さムラの小
さな成形法としては、充分に研磨した金型を用いる射出
成形法などがある。The thermoplastic norbornene-based polymer hydrogenated product of the present invention is molded into a liquid crystal substrate which is a sheet according to a conventional method. However, if the liquid crystal substrate has large thickness unevenness or poor surface smoothness, the image distortion of the liquid crystal display is large, which is a practical problem. Thickness unevenness is ± 50 μm on the entire surface
Hereinafter, if the Rmax value is not 0.2 μm or less, it is difficult to discriminate the image. It is preferable that the thickness unevenness is ± 25 μm or less on the entire surface and the Rmax value is 0.1 μm or less, and especially the thickness unevenness is ± 20 μm or less on the entire surface, Rmax
The value is preferably 0.08 μm or less. As a molding method with small thickness unevenness, there is an injection molding method using a sufficiently polished mold.

【００２１】さらに、精度の高い正確な画像を得るため
には厚さムラ、Ｒｍａｘ値は小さいほど好ましく、厚さ
ムラが全面で±１０μｍ 以下、好ましくは±５μｍ以
下、より好ましくは±２μｍ以下、Ｒｍａｘ値は０．０
７μｍ以下、好ましくは０．０５μｍ以下、より好まし
くは０．０３μｍ以下の液晶基板が必要である。しか
し、充分に研磨した金型を用いる射出成形法でも、Ｒｍ
ａｘ値が０．０６μｍ以下の液晶基板を得ることは困難
である。Ｒｍａｘ値が０．０６μｍ以下の液晶基板を得
るためには、成形後にさらに研磨すればよい。Furthermore, in order to obtain a highly accurate image, it is preferable that the thickness unevenness and the Rmax value are as small as possible. The thickness unevenness is ± 10 μm or less on the entire surface, preferably ± 5 μm or less, more preferably ± 2 μm or less, Rmax value is 0.0
A liquid crystal substrate having a thickness of 7 μm or less, preferably 0.05 μm or less, more preferably 0.03 μm or less is required. However, even with an injection molding method using a sufficiently polished mold, Rm
It is difficult to obtain a liquid crystal substrate having an ax value of 0.06 μm or less. In order to obtain a liquid crystal substrate having an Rmax value of 0.06 μm or less, further polishing may be performed after molding.

【００２２】（液晶基板）本発明の液晶基板は基本的に
熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂のシートであり、表面
の平滑性に優れていることから、画像の歪みが少なく、
また、本発明の液晶基板は透明性に優れており、そのた
め、明暗の差がはっきりした画像が得られる。さらに、
光弾性係数が小さいため、光学的に均一であり、曲面の
液晶ディスプレイのために曲げて使用することもでき
る。光弾性係数が小さいほど好ましく、９×１０^ー13ｃ
ｍ²／ｄｙｎｅ、特に７×１０^ー13ｃｍ²／ｄｙｎｅのシ
ートを用いることが好ましい。(Liquid Crystal Substrate) The liquid crystal substrate of the present invention is basically a sheet of thermoplastic saturated norbornene-based resin and has excellent surface smoothness, so that image distortion is small and
Further, the liquid crystal substrate of the present invention is excellent in transparency, so that an image with a clear difference in light and dark can be obtained. further,
Since it has a small photoelastic coefficient, it is optically uniform and can be bent and used for a curved liquid crystal display. The smaller the photoelastic coefficient is, the better, and 9 × 10 ^-13 c
m ² / dyne, it is preferable to use a sheet of particularly 7 × 10 ^{over 13} cm ² / dyne.

【００２３】さらに、本発明の液晶基板は熱可塑性飽和
ノルボルネン系樹脂のシートであることにより、耐湿
性、耐水性に優れている。液晶基板を水分が透過すると
液晶や透明電極層が劣化することがあるので、吸湿性が
０．０５％以下、特に０．０１％以下のシートを用いる
ことが好ましい。また、熱可塑性飽和ノルボルネン系樹
脂の酸素透過速度は１００μｍの厚さのシートで約１ｍ
ｌ／ｍ²・２４ｈｒｓ程度と小さいので、本願の液晶基
板は酸素の透過も充分に阻害し、酸素による液晶の劣化
も少ない。Further, since the liquid crystal substrate of the present invention is a sheet of thermoplastic saturated norbornene resin, it has excellent moisture resistance and water resistance. Since moisture may penetrate the liquid crystal substrate to deteriorate the liquid crystal and the transparent electrode layer, it is preferable to use a sheet having a hygroscopicity of 0.05% or less, particularly 0.01% or less. Further, the oxygen permeation rate of the thermoplastic saturated norbornene-based resin is about 1 m for a sheet having a thickness of 100 μm.
Since it is as small as about 1 / m ² · 24 hrs, the liquid crystal substrate of the present invention sufficiently inhibits the permeation of oxygen, and the deterioration of the liquid crystal due to oxygen is small.

【００２４】そのほか、本発明の液晶基板は熱可塑性飽
和ノルボルネン系樹脂の成形品であることにより、低複
屈折性、耐熱性、耐溶剤、酸やアルカリ等への耐薬品
性、重量に対する強度などに優れている。In addition, since the liquid crystal substrate of the present invention is a molded product of thermoplastic saturated norbornene resin, it has low birefringence, heat resistance, solvent resistance, chemical resistance to acids and alkalis, strength against weight, etc. Is excellent in

【００２５】本発明の液晶基板は基本的に熱可塑性飽和
ノルボルネン系樹脂から成るシートであるが、実際の使
用にあたっては、使用目的などに応じて、透明電極層、
液晶配向層、ガスバリア性膜、偏向子、位相フィルムな
どが積層される。また、２枚の液晶基板の間の液晶を封
入する空間を設けるためのスペーサーを積層してもよ
い。なお、酸素の透過による劣化をより小さくし耐久性
をあげるなどの目的のためには、液晶基板と透明電極層
の間、または、基板と透明電極層の接着面と反対側に接
着材層等を介して、ポリビニリデンクロライド、ポリビ
ニルアルコールなどのガスバリア性材料を積層すること
が望ましい。これらを積層したものも液晶基板という場
合がある。The liquid crystal substrate of the present invention is basically a sheet made of thermoplastic saturated norbornene resin, but in actual use, a transparent electrode layer,
A liquid crystal alignment layer, a gas barrier film, a deflector, a phase film, etc. are laminated. In addition, a spacer for providing a space for enclosing the liquid crystal between the two liquid crystal substrates may be laminated. In addition, for the purpose of reducing deterioration due to permeation of oxygen and increasing durability, an adhesive layer or the like is provided between the liquid crystal substrate and the transparent electrode layer or on the side opposite to the adhesive surface between the substrate and the transparent electrode layer. It is desirable to stack a gas barrier material such as polyvinylidene chloride or polyvinyl alcohol via the above. A laminate of these may also be referred to as a liquid crystal substrate.

【００２６】（透明電極層）液晶ディスプレイの構成部
品として使用される時点で液晶基板には透明電極層が積
層されていなければならない。透明電極層は、可視光線
のある程度以上の光透過率が必要であり、通常５０％以
上、好ましくは７０％以上、比抵抗が１００Ωcm以下、
好ましくは５０Ωcm以下のものである。具体的には、Ａ
ｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｐｈなどの金属薄
膜、Ｉｎ₂Ｏ₃（Ｓｎ）、ＳｎＯ₂（Ｓｂ）、ＳｎＯ₂（Ｆ
ｅ）、ＣｄＯ、Ｃｄ₂Ｏ₃、ＣｄＳｎＯ₄、ＴｉＯ₂、Ｚｒ
Ｏ₂、ＣｕＩなどの半導体及び酸化物半導体薄膜、Ｔｉ
Ｏ_x／Ａｇ／ＴｉＯ_x（ｘ≦２）などの多層薄膜、ポリビ
ニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、オリ
ゴ（ポリ）スチレンスルホン酸塩などの高分子電解質薄
膜系、ポリアニリン類、ポリチオフェン類、ポリピロー
ル類などの導電性高分子等を挙げることができる。これ
らの導電膜は、スプレー法、プラズマ法、気相反応系
（ＣＶＤ）、塗布法（ＣＬＤ）、真空蒸着法、ＲＦまた
はＤＣスパッタリング法、イオンプレーティング法、電
解重合法などの周知の方法でもって液晶基板上に積層さ
れる。また、導電性高分子は電解重合法または気相法に
よってフィルム中内部に形成することもできる。また、
ＴＴＦ−ＴＣＮＱ（テトラチオフルバレン−テトラシア
ノキシジメタン）などの錯体を含浸させることによって
導電性をもたせることもできる。(Transparent Electrode Layer) The transparent electrode layer must be laminated on the liquid crystal substrate when it is used as a component of a liquid crystal display. The transparent electrode layer needs to have a light transmittance of visible light above a certain level, and is usually 50% or more, preferably 70% or more, and a specific resistance of 100 Ωcm or less,
It is preferably 50 Ωcm or less. Specifically, A
Metal thin films such as u, Ag, Cu, Pt, Al, Cr and Ph, In ₂ O ₃ (Sn), SnO ₂ (Sb), SnO ₂ (F
e), CdO, Cd ₂ O ₃ , CdSnO ₄ , TiO ₂ , Zr
Semiconductors such as O ₂ and CuI and oxide semiconductor thin films, Ti
Multi-layer thin film such as O _x / Ag / TiO _x (x ≦ 2), polyvinyl benzyl trimethyl ammonium chloride, polymer electrolyte thin film system such as oligo (poly) styrene sulfonate, conductivity of polyaniline, polythiophene, polypyrrole, etc. And the like. These conductive films can be formed by a known method such as a spray method, a plasma method, a vapor phase reaction system (CVD), a coating method (CLD), a vacuum deposition method, an RF or DC sputtering method, an ion plating method and an electrolytic polymerization method. Therefore, it is laminated on the liquid crystal substrate. The conductive polymer can also be formed inside the film by an electrolytic polymerization method or a gas phase method. Also,
It is also possible to impart conductivity by impregnating with a complex such as TTF-TCNQ (tetrathiofulvalene-tetracyanoxydimethane).

【００２７】（液晶ディスプレイ）本発明の液晶ディス
プレイは、基本的には、２枚の液晶基板とその間に封入
された液晶から成る液晶セルである。液晶セルは、通
常、液晶が漏れないように、２枚の液晶基板がその間に
スペーサーと呼ばれる枠を挟み込み、スペーサーの厚み
と液晶基板の面がつくる空間に液晶が封入されている。
スペーサーは、液晶と反応したり、酸素や水分を透過し
ない材料であれば、特に限定されない。曲面の液晶ディ
スプレイの場合などでは、ある程度の柔軟性があること
が好ましい。通常、液晶が漏れないように、スペーサー
と液晶基板は接着剤で接着されている。接着剤は、液晶
と反応しやすいものでなく、十分な接着性があるもので
あれば、特に限定されない。(Liquid Crystal Display) The liquid crystal display of the present invention is basically a liquid crystal cell composed of two liquid crystal substrates and a liquid crystal enclosed between them. In a liquid crystal cell, usually, two liquid crystal substrates sandwich a frame called a spacer between them so that the liquid crystal does not leak, and the liquid crystal is sealed in a space formed by the thickness of the spacer and the surface of the liquid crystal substrate.
The spacer is not particularly limited as long as it is a material that does not react with liquid crystal or transmit oxygen or moisture. In the case of a curved liquid crystal display, it is preferable that the liquid crystal display has some flexibility. Usually, the spacer and the liquid crystal substrate are bonded with an adhesive so that the liquid crystal does not leak. The adhesive is not particularly limited as long as it does not easily react with the liquid crystal and has sufficient adhesiveness.

【００２８】また、用途、必要に応じて、偏向子、位相
フィルム、保護フィルム、反射膜またはバックライトな
どと液晶セルを組み合わせて、液晶ディスプレイとす
る。A liquid crystal display is obtained by combining a liquid crystal cell with a deflector, a phase film, a protective film, a reflective film, a backlight or the like, depending on the application and need.

【００２９】[0029]

【実施例】以下に参考例、実施例、及び比較例を挙げて
本発明をさらに具体的に説明する。EXAMPLES The present invention will be described more specifically below with reference to reference examples, examples and comparative examples.

【００３０】参考例１ ６−メチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４
ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレンの
開環重合体の水素添加物（数平均分子量２８，０００、
水素添加率ほぼ１００％、ガラス転移温度１５２℃）を
射出成形機（住友重機械工業製、ＤＩＳＣ−５ ＭII
I）により、樹脂温度３３０℃、金型温度１１０℃の条
件で射出成形を行い、直径１３０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍ
の光ディスク基板を成形した。Reference Example 1 6-Methyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4
Hydrogenated products of a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene ring-opening polymer (number average molecular weight 28,000,
Hydrogenation rate is almost 100%, glass transition temperature is 152 ℃, injection molding machine (Sumitomo Heavy Industries, Ltd., DISC-5 MII)
According to I), injection molding was performed under the conditions of resin temperature of 330 ° C and mold temperature of 110 ° C, diameter 130mm, thickness 1.2mm.
The optical disk substrate of was molded.

【００３１】この射出成形品の表面の最大高さＲｍａｘ
値は全面で最高０．１２μｍ、最低０．１１μｍであっ
た。The maximum height Rmax of the surface of this injection molded product
The value was 0.12 μm at maximum and 0.11 μm at minimum.

【００３２】実施例１ 鋳鉄製の２０インチの定盤を設置したホフマン型ラップ
盤（スピードファム社製、ＤＳＭ ２０Ｂ−５Ｌ）を用
い、またキャリア（スピードファム社製、ＥＧキャリ
ア）を治具として用いて参考例２の成形品をラッピング
加工した。Example 1 A Hoffman type lapping machine (manufactured by Speedfam, DSM 20B-5L) equipped with a cast iron 20-inch surface plate was used, and a carrier (Speedfam, EG carrier) was used as a jig. The molded product of Reference Example 2 was used for lapping.

【００３３】参考例１の成形品の表面への荷重を０．０
５〜０．１０ｋｇ／ｃｍ²に調節しながら、上下定盤を
２０〜５０ｒｐｍで回転するように調節し、平均粒子径
１２．３μｍのホワイトアルミナ製の研磨剤（スピード
ファム社製、Ａ−１２００）３００ｇに水１ｌの割合で
混合した液を６００〜１０００ｃｍ³／分でフィードし
て２０分かけて研磨した。The load on the surface of the molded article of Reference Example 1 was 0.0
The upper and lower platens were adjusted to rotate at 20 to 50 rpm while adjusting to ⁵ to 0.10 kg / cm ^2, and an abrasive made of white alumina having an average particle diameter of 12.3 μm (A-1200, manufactured by Speedfam). ) A liquid prepared by mixing 300 g with 1 l of water was fed at 600 to 1000 cm ³ / min and polished for 20 minutes.

【００３４】ポリウレタン製のポリシャ（スピードファ
ム社製、ＳＵＲＦＩＮ ０１８−３）を設置した定盤サ
イズ１６インチのホフマン型ポリシュ盤（スピードファ
ム社製、ＤＳＭ １６Ｂ−４Ｐ）を用い、またキャリア
（スピードファム社製、ＥＧキャリア）を治具として用
いてラッピング加工した成形品をポリッシング加工し
た。A Hoffman type polishing machine (DSF 16B-4P, manufactured by Speedfam) having a platen size of 16 inches and equipped with a polyurethane polisher (SURFIN 018-3, manufactured by Speedfam) was used. A molded product obtained by lapping was manufactured by using an EG carrier manufactured by the company) as a jig.

【００３５】成形品の表面への荷重を０．０５〜０．１
０ｋｇ／ｃｍ²に調整しながら、上下定盤を２０〜５０
ｒｐｍで回転するように調整して、平均粒子径１．３μ
ｍのホワイトアルミナ製の研磨剤と水を重量比１：１と
の混合液（スピードファム社製、ＰＯＬＩＰＬＡ １０
３）を２００〜４００ｃｍ³／分でフィードして６０分
かけて研磨した。The load on the surface of the molded product is 0.05 to 0.1.
Adjust the pressure to 0 kg / cm ² and move the upper and lower surface plates from 20 to 50.
Adjust to rotate at rpm, average particle size 1.3μ
m white alumina abrasive and water in a weight ratio of 1: 1 (made by Speedfam, POLIPLA 10
3) was fed at 200 to 400 cm ³ / min and polished for 60 minutes.

【００３６】この結果、成形品の最大高さＲｍａｘ値は
全面で最高０．０２１μｍ、最低０．０１６μｍであっ
た。As a result, the maximum height Rmax of the molded product was 0.021 μm at maximum and 0.016 μm at minimum.

【００３７】参考例２ ６−メチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４
ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレンの
開環重合体の水素添加物（数平均分子量は４０，００
０、水素添加率は９９．８％以上、Ｔｇは１４２℃、残
留溶媒濃度は０．０５％）１５重量部をクロロベンゼン
８５重量部に溶解して樹脂溶液を調整した。さらにレベ
リング剤（フロラード ＦＣ−４３０、住友スリーエム
製）と紫外線安定剤（Ｖｉｏｓｏｒｂ ８０、共同製薬
製）をそれぞれ、５００ｐｐｍ、３００ｐｐｍになるよ
うに添加した。この溶液を表面研磨されたガラス板上に
たらし、これをバーコーターにより幅約３００ｍｍ、長
さ約５００ｍｍに流延した。これを第１段階の乾燥とし
てガラス板ごとホットプレート上に移し、５５℃で３０
分間、さらに９０℃で３０分間乾燥させた。室温まで冷
却後、シートの一部を切取り、残留溶媒濃度を測定した
ところ、２．０重量％であった。ついで、第２段階の乾
燥としてホットプレート上で１１０℃で３０分間、さら
に１４０℃で６０分間乾燥した。室温に冷却後、樹脂膜
をガラス板から剥離し、周囲１０ｍｍ幅を切り落として
シートを得た。このシートの残留溶媒濃度は０．１１重
量％であった。Reference Example 2 6-Methyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4
Hydrogenated product of ring-opening polymer of a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene (number average molecular weight is 40,000).
0, hydrogenation rate was 99.8% or more, Tg was 142 ° C., residual solvent concentration was 0.05%), and 15 parts by weight was dissolved in 85 parts by weight of chlorobenzene to prepare a resin solution. Further, a leveling agent (Florard FC-430, manufactured by Sumitomo 3M) and an ultraviolet stabilizer (Viosorb 80, manufactured by Kyodo Pharmaceutical Co., Ltd.) were added so as to be 500 ppm and 300 ppm, respectively. This solution was poured onto a glass plate whose surface was polished, and this was cast by a bar coater to a width of about 300 mm and a length of about 500 mm. As the first stage of drying, the whole glass plate was transferred to a hot plate, and it was heated at 55 ° C for 30
And dried at 90 ° C. for 30 minutes. After cooling to room temperature, a part of the sheet was cut off and the residual solvent concentration was measured and found to be 2.0% by weight. Then, as the second stage of drying, drying was performed on a hot plate at 110 ° C. for 30 minutes and further at 140 ° C. for 60 minutes. After cooling to room temperature, the resin film was peeled from the glass plate, and a 10 mm width was cut off to obtain a sheet. The residual solvent concentration of this sheet was 0.11% by weight.

【００３８】このシートの表面を目視および光学顕微鏡
で観察したが、発泡、スジ、傷などは観察されなかっ
た。Ｔｇは１４０℃、平均厚さは約１００μｍで厚さの
ばらつきは最大でも±２μｍ以下、両面ともＲｍａｘ値
は、０．１０μｍ以下、光線透過率は９０．５％、複屈
折の絶対値の最大値は全面で２ｎｍ以下であった。The surface of this sheet was observed visually and with an optical microscope, but no bubbling, streaks, scratches, etc. were observed. Tg is 140 ° C, average thickness is about 100 μm, thickness variation is ± 2 μm or less at the maximum, Rmax value on both sides is 0.10 μm or less, light transmittance is 90.5%, and absolute value of birefringence is maximum. The value was 2 nm or less on the entire surface.

【００３９】実施例２ 鋳鉄製の５インチの定盤を設置したホフマン型ラップ盤
（スピードファム社製、ＤＳＭ ５Ｂ−８Ｌ）を用い、
またキャリア（スピードファム社製、ＥＧキャリア）を
治具として用いて参考例２で得たシートをラッピング加
工した。Example 2 A Hoffman type lapping machine (manufactured by Speedfam, DSM 5B-8L) equipped with a cast iron 5-inch surface plate was used.
The sheet obtained in Reference Example 2 was lapped using a carrier (EG carrier, manufactured by Speedfam) as a jig.

【００４０】このシートの成形品の表面への荷重を０．
０４〜０．０８ｋｇ／ｃｍ²に調節しながら、上下定盤
を２０〜５０ｒｐｍで回転するように調節し、平均粒子
径１２．３μｍのホワイトアルミナ製の研磨剤（スピー
ドファム社製、Ａ−１２００）３００ｇに水１ｌの割合
で混合した液を６００〜１０００ｃｍ³／分でフィード
して１０分かけて研磨した。The load on the surface of the molded product of this sheet was set to 0.
The upper and lower platens were adjusted to rotate at 20 to 50 rpm while adjusting to 04 to 0.08 kg / cm ^2, and a white alumina abrasive having an average particle diameter of 12.3 μm (A-1200, manufactured by Speedfam). ) A liquid obtained by mixing 300 g with 1 l of water was fed at 600 to 1000 cm ³ / min and polished for 10 minutes.

【００４１】ポリウレタン製のポリシャ（スピードファ
ム社製、ＳＵＲＦＩＮ ０１８−３）を設置した定盤サ
イズ５インチのホフマン型ポリシュ盤（スピードファム
社製、ＤＳＭ ５Ｂ−８Ｐ）を用い、またキャリア（ス
ピードファム社製、ＥＧキャリア）を治具として用いて
ラッピング加工したシートをポリッシング加工した。A Hoffman-type polisher (DSF 5B-8P, manufactured by Speedfam) with a plate size of 5 inches, on which a polyurethane polisher (SURFIN 018-3, manufactured by Speedfam) is installed, and a carrier (Speedfam) is used. The lapped sheet was polished using an EG carrier manufactured by the company) as a jig.

【００４２】シートの表面への荷重を０．０４〜０．０
８ｋｇ／ｃｍ²に調整しながら、上下定盤を２０〜５０
ｒｐｍで回転するように調整して、平均粒子径１．３μ
ｍのホワイトアルミナ製の研磨剤と水を重量比１：１と
の混合溶液（スピードファム社製、ＰＯＬＩＰＬＡ １
０３）を２００〜４００ｃｍ³／分でフィードして４０
分かけて研磨した。The load on the surface of the sheet is 0.04 to 0.0
Adjust the pressure to 8 kg / cm ² and move the upper and lower surface plates from 20 to 50.
Adjust to rotate at rpm, average particle size 1.3μ
m white alumina abrasive and water in a weight ratio of 1: 1 (Speedfam's POLIPLA 1
03) is fed at 200 to 400 cm ³ / min and 40
Polished in minutes.

【００４３】この結果、成形品の最大高さＲｍａｘ値は
全面で最高０．０４２μｍ、最低０．０３３μｍであっ
た。As a result, the maximum height Rmax of the molded product was 0.042 μm at maximum and 0.033 μm at minimum.

【００４４】[0044]

【発明の効果】本発明の成形品は熱可塑性飽和ノルボル
ネン系樹脂から成るので、それにより、耐熱性、耐湿
性、強度、耐水性、電器絶縁性、耐溶剤性、酸やアルカ
リ等への耐薬品性、複屈折が小さく、さらに、表面の少
なくとも一部が最大高さＲｍａｘ値で０．０５μｍ以下
と平滑性がよい。また、両面が最大高さＲｍａｘ値で
０．０５μｍ以下のシートにおいては厚さムラが少な
い。Since the molded article of the present invention is composed of a thermoplastic saturated norbornene-based resin, heat resistance, moisture resistance, strength, water resistance, electrical insulation, solvent resistance, resistance to acid and alkali, etc. The chemical resistance and birefringence are small, and at least a part of the surface has a maximum height Rmax value of 0.05 μm or less, which is good in smoothness. Further, in a sheet having a maximum height Rmax value of 0.05 μm or less on both sides, uneven thickness is small.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 夏梅 伊男 神奈川県川崎市川崎区夜光１−２−１ 日 本ゼオン株式会社研究開発センター内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Ima Natsume 1-2-1 Yokou, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Nihon Zeon Co., Ltd. Research and Development Center

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂から成
り、少なくとも表面の一部の最大高さＲｍａｘ値が０．
０５μｍ以下である成形品。1. A thermoplastic saturated norbornene-based resin having a maximum height Rmax value of at least a part of the surface of 0.
Molded product with a diameter of 05 μm or less. 【請求項２】 成形品が両面の最大高さＲｍａｘ値が
０．０５μｍ以下のシートである請求項１記載の成形
品。2. The molded product according to claim 1, wherein the molded product is a sheet having a maximum height Rmax value on both sides of 0.05 μm or less. 【請求項３】 熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂から成
る成形品を研磨することを特徴とする少なくとも表面の
一部の最大高さＲｍａｘ値が０．０５μｍ以下である成
形品の製造方法。3. A method for producing a molded article, wherein a maximum height Rmax value of at least a part of the surface is 0.05 μm or less, which comprises polishing a molded article made of a thermoplastic saturated norbornene resin.