JPH0553241U - 基板洗浄装置 - Google Patents

基板洗浄装置

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JPH0553241U
JPH0553241U JP10996391U JP10996391U JPH0553241U JP H0553241 U JPH0553241 U JP H0553241U JP 10996391 U JP10996391 U JP 10996391U JP 10996391 U JP10996391 U JP 10996391U JP H0553241 U JPH0553241 U JP H0553241U
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和憲 藤川
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 洗浄液採取管や採取用ポンプ等の配管を不要
にし、かつ薬液供給量制御手段の複雑な演算を簡素化す
る。 【構成】 基板Wの洗浄槽1に洗浄液供給管3を接続し、
洗浄液供給管3に複数種の薬液貯溜容器5A〜5Cを連通し
て、その洗浄液供給管3内で純水Wと薬液QA〜QCとを調合
して洗浄槽1内へアンモニア過水洗浄液又は塩酸過水洗
浄液を供給する。洗浄液供給管3に透過光測定手段100と
して紫外光検出部13及び赤外光検出部14とを付設し、洗
浄液2を洗浄槽1内へ供給する途中で、紫外光検出手部13
で洗浄液2中の過酸化水素水の濃度を検出するととも
に、赤外光検出部14で洗浄液2中のアンモニア水の濃度
又は塩酸の濃度を検出する。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
この考案は、基板の洗浄装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
この種の装置としては従来より、例えば特開昭61−281532号公報に開 示されたものが知られている。 それは図10に示すように、洗浄液2中に基板Wを浸漬してその表面を洗浄す る洗浄槽101と、各薬液供給管106及び各薬液導入弁109を介して洗浄槽 101にそれぞれ連通され、アンモニア水QAを貯溜した容器105A及び過酸化 水素水QBを貯溜した容器105Bと、洗浄槽101から採取した洗浄液2中の薬 液濃度を測定して薬液導入弁109を制御する薬液供給量制御手段110とを具 備して成る。
【0003】 上記薬液供給量制御手段110は、マイクロコンピュータ111及びインター フェイス112と、それぞれ洗浄液採取管103の前段透過光測定部103aに 付設された紫外光検出手段113A及び後段の透過光測定部103bに付設され た紫外光検出手段113Bと、弁駆動回路114とを具備して成り、上記2つの 紫外光検出手段で洗浄液2の吸光度を測定して、洗浄液2中の過酸化水素水の濃 度とアンモニア水の濃度を検出し得るように構成されている。 なお、符号105Cは塩酸QCを貯溜した容器、105Dは純水を貯溜した容器 であり、洗浄液2中の水素イオン濃度がPH4以下に成るように、塩酸QCを後段 の透過光測定部103bに供給するように構成されている。
【0004】 この従来技術は、水溶液中にアンモニアと過酸化水素とが共存する場合に、以 下の手法により洗浄液中の過酸化水素水の濃度とアンモニア水の濃度を検出し得 るようにしたものである。 300nm付近の吸光度を測定して過酸化水素による酸素濃度のみを独立に測定 しようとする場合、上記水溶液の酸素濃度は水素イオン濃度の影響を受ける。 一方、この水溶液に過剰の酸を添加して、常に水溶液の水素イオン濃度をPH 4以下にしておくと、アンモニア濃度に関係なく一定の紫外光領域の吸光度を示 す。 つまり、過酸化水素水の濃度は、水溶液の水素イオン濃度をPH4以下にして おき、紫外光領域の吸光度を測定することにより求め、アンモニア水の濃度は、 酸を添加しないときと、酸を添加したときの紫外光領域の吸光度を測定すること により求める。
【0005】
【考案が解決しようとする課題】
上記従来技術では、過酸化水素水の濃度は、水溶液の水素イオン濃度をPH4 以下にしておき、紫外光領域の吸光度を測定することにより求め、アンモニア水 の濃度は、酸を添加しないときと、酸を添加したときの紫外光領域の吸光度を測 定することにより求める手法であるため、以下のような不都合がある。 洗浄液採取管103の前段透過光測定部103aと後段の透過光測定部103 bとに、それぞれ紫外光検出手段113A・113Bを必要とし、しかも、洗浄 液2中の水素イオン濃度がPH4以下になるように、塩酸QCを後段の透過光測 定部103bに供給する必要がある。このため、洗浄液採取管103や採取用ポ ンプ108A・108B等の配管が複雑化するうえ、上記薬液供給量制御手段1 10の演算も複雑化する。 本考案はこのような事情を考慮してなされたもので、上記洗浄液採取管や採取 用ポンプ等の配管を不要にし、かつ薬液供給量制御手段の演算を簡素化すること を技術課題とする。
【0006】
【考案の原理】
本考案者等は、水溶液中にアンモニアと過酸化水素とが共存する場合、又は水 溶液中に塩酸と過酸化水素とが共存する場合に、実験により赤外光で洗浄液中の アンモニア水の濃度又は塩酸の濃度を検出し得ることを知見して、上記課題を解 決するに至った。以下図2〜図8を参照しつつ、その基本原理について説明する。
【0007】 図2は、アンモニアと過酸化水素とが共存する洗浄液の分光透過率を示すグラ フであり、この洗浄液の構成比率は、アンモニア水:過酸化水素水:純水=1: 1:1である。この図からアンモニア過水中のアンモニア水による赤外光の吸収 は、2200nmで顕著に見られることが分かる。 図3は、塩酸と過酸化水素とが共存する洗浄液の分光透過率を示すグラフであ り、この洗浄液の構成比率は、塩酸:過酸化水素水:純水=1:1:1である。 この図から塩酸過水中の塩酸による赤外光の吸収は、1820nm付近と2100 〜2300nmで顕著に見られることが分かる。
【0008】 図4及び図5はアンモニアと過酸化水素とが共存する洗浄液のアンモニア水の 濃度と吸光度との関係を示すグラフであり、これらの図からアンモニア過水中の アンモニア濃度と赤外光の吸光度はリニアな関係があり、赤外光により濃度検出 が可能であることを示している。 なお、図4の洗浄液の構成比率は、アンモニア水:過酸化水素水:純水(変数 )=1:1:χであり、赤外光の波長は2200nmである。また図5の洗浄液の 構成比率は、アンモニア水(変数):過酸化水素水:純水=χ:1:50であり、 赤外光の波長は2210nmである。
【0009】 図6及び図7は塩酸と過酸化水素とが共存する洗浄液の塩酸の濃度と吸光度と の関係を示すグラフであり、これらの図から塩酸過水中の塩酸濃度と赤外光の吸 光度はリニアな関係があり、赤外光により濃度検出が可能であることを示してい る。 なお、図6の洗浄液の構成比率は、塩酸:過酸化水素水:純水(変数)=1:1 :χであり、赤外光の波長は1820nm及び2180nmである。また図7の洗浄 液の構成比率は、塩酸(変数):過酸化水素水:純水=χ:1:50であり、赤外 光の波長は1810nm及び2210nmである。
【0010】 図8はアンモニア水と過酸化水素とが共存する洗浄液の過酸化水素水の濃度と 吸光度との関係を示すグラフであり、これらの図からアンモニア過水中の過酸化 水素の濃度と紫外光の吸光度はリニアな関係があり、周知のように紫外光により 過酸化水素の濃度検出が可能であることを示している。 なお、この洗浄液の構成比率は、アンモニア水:過酸化水素水(変数):純水= 1:χ:50であり、紫外光の波長は300nm及び310nmである。
【0011】 図9は塩酸と過酸化水素とが共存する洗浄液の過酸化水素水の濃度と吸光度と の関係を示すグラフであり、これらの図から塩酸過水中の過酸化水素の濃度と紫 外光の吸光度はリニアな関係があり、上記と同様、紫外光により過酸化水素の濃 度検出が可能であることを示している。 なお、この洗浄液の構成比率は、塩酸:過酸化水素水(変数):純水=1:χ: 50であり、紫外光の波長は300nm及び310nmである。
【0012】 以上のことから、水溶液中にアンモニアと過酸化水素とが共存する洗浄液の場 合、又は水溶液中に塩酸と過酸化水素とが共存する洗浄液の場合に、紫外光で洗 浄液中の過酸化水素水の濃度を検出するとともに、赤外光で洗浄液中のアンモニ ア水の濃度又は塩酸の濃度を検出することができる。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本考案は上記知見に基づいてなされたもので、前記課題を解決するものとして 、以下のように構成される。 即ち、洗浄液中に基板を浸漬してその表面を洗浄する洗浄槽と、純水の主要通 路をなし、その通路内で純水と複数種の薬液とを調合して複数種の洗浄液を洗浄 槽内へ供給する洗浄液供給管と、各薬液供給管及び各薬液導入手段を介して洗浄 液供給管に連通された複数種の薬液貯溜容器と、各薬液導入手段を制御する薬液 供給量制御手段とを具備して成り、 上記複数種の薬液貯溜容器は、過酸化水素水を貯溜した容器と、少なくともア ンモニア水を貯溜した容器又は塩酸を貯溜した容器とから成り、 上記洗浄液供給管には純水を流通させ、この純水に上記過酸化水素水及びアン モニア水を供給してアンモニア過水洗浄液を調合し、又は上記純水に上記過酸化 水素水及び塩酸を供給して塩酸過水洗浄液を調合するように構成し、 上記薬液供給量制御手段は、洗浄液供給管に付設された透過光測定手段を備え 、前記透過光測定手段によって紫外光の吸光度を測定して前記複数種の洗浄液中 の過酸化水素水の濃度を検出するとともに、赤外光の吸光度を測定して前記複数 種の洗浄液中のアンモニア水の濃度又は塩酸の濃度を検出するように構成したこ とを特徴とするものである。
【0014】
【作 用】
本考案では、洗浄液供給管内で純水と過酸化水素水及びアンモニア水を調合し てアンモニア過水洗浄液を作り、又は上記純水と上記過酸化水素水及び塩酸を調 合して塩酸過水洗浄液を作る。この洗浄液を洗浄槽内へ供給する途中で、上記透 過光測定手段により紫外光の吸光度を測定して上記洗浄液中の過酸化水素水の濃 度を独立に検出し、一方赤外光の吸光度を測定して洗浄液中のアンモニア水の濃 度又は塩酸の濃度を独立に検出する。この検出結果に基づき、薬液供給量制御手 段で各薬液導入手段を個別に制御する。これにより、従来例のような洗浄液採取 管や採取用ポンプ等の配管を不要にし、かつ従来例のような複雑な演算を簡素化 することができる。
【0015】
【実施例】
以下本考案の実施例を図面に基づいてさらに詳しく説明する。図1は本考案の 実施例に係る基板洗浄装置の概要図である。 この実施例は、洗浄液2中に基板Wを浸漬してその表面を洗浄する洗浄槽1と 、純水DWの主要通路をなし、その通路内で純水DWと複数種の薬液QA〜QCとを 調合して複数種の洗浄液2を洗浄槽1内へ供給する洗浄液供給管3と、各薬液供 給管6A〜6C及び各薬液導入手段7A〜7Cを介して洗浄液供給管3に連通された 複数種の薬液貯溜容器5A〜5Cと、各薬液導入手段7A〜7Cを制御する薬液供給 量制御手段10とを具備して成る。
【0016】 上記洗浄槽1は石英ガラスで形成され、その下部に純水供給管3を接続して成 る。そして槽内は整流多孔板1aで上下に仕切り、洗浄槽1の上部側壁を外側へ 向けて広がり形状をなすように形成して渦流の発生を防止し、かつ整流多孔板1 aで処理液2を均一に上昇させてオーバーフローさせ、その上昇流でキャリア1 7に収容した基板Wの表面を洗浄し、槽内の洗浄液2を迅速に交換し得るように 構成されている。なお、上記洗浄槽1は排液槽20内に設けられ、オーバーフロ ーした洗浄液2は排液管21を介して排液ドレン22へ流下するように構成され ている。
【0017】 洗浄液給液管3には、上流側に向けて順次ラインミキサー4と複数の薬液導入 弁9が付設され、純水Dを供給する純水の主要通路として構成され、かつ純水 DWと各薬液QA〜QCとを調合して洗浄槽1に供給するように構成されている。 上記ラインミキサー4は、純水Dと薬液Q〜QCとを均一に混合するため のもので、このラインミキサー4に代えて他の混合器を用いても良く、管路が十 分に長ければかかる混合器を省くことも出来る。
【0018】 各薬液導入手段7A〜7Cは、薬液Q〜QCを洗浄液給液管3へ圧送する圧送 ポンプ8と、各薬液給液管6〜6Cを開閉する薬液導入弁9とから成り、薬液 供給量制御手段10により、圧送ポンプ8及び薬液導入弁9を選択的に開閉制御 して、所定の薬液Q〜QCを洗浄液給液管3へ圧送するように構成されている。 なお、各薬液導入手段7A〜7Cは、圧送ポンプ8と薬液導入弁9の少なくとも 一方のみで構成することもできる。 ここで、薬液貯溜容器6〜6C内の薬液は、Q=NH4OH、QB=H22 、QC=Hclである。
【0019】 薬液供給量制御手段10は、例えば図1に示すように、複数種の洗浄処理毎の 薬液供給量を設定入力する設定入力部11と、洗浄液供給管3の透過光測定部3 aに付設された紫外光検出部13及び赤外光検出部14とから構成される透過光 測定手段100と、紫外光検出部13及び赤外光検出部14からの吸光度信号を 受けて薬液濃度を演算し、各圧送ポンプ8及び各薬液導入弁9に向けて制御信号 I〜ICを出力する制御部12とから成る。
【0020】 ちなみに、本実施例では次のような洗浄プログラムを実行することができる。 ステップ1:純水+Q+QB ステップ2:純水 ステップ3:純水+Q+QC ステップ4:純水(終了)
【0021】 上記紫外光検出部13は、紫外光を多く発光する光源13aと、紫外光のうち 300nm近傍の光を感度領域とする受光素子13bとを備え、また赤外光検出部 14は、赤外光を多く発光する光源14aと、赤外光のうち2200nm近傍の光 を感度領域とする受光素子14bとを備える。 この紫外光検出部13は、上記洗浄液供給管3の透過光測定部3a内を流れる 複数種の洗浄液2中の過酸化水素水の吸光度を検出し、赤外光検出部14は、上 記洗浄液供給管3の透過光測定部3a内を流れる複数種の洗浄液2中のアンモニ ア水及び塩酸の吸光度を検出する。
【0022】 上記制御部12は、紫外光検出部13及び赤外光検出部14で検出した吸光度 に対応する各薬液濃度を演算し、あらかじめ入力された洗浄処理プログラム及び 設定入力された薬液濃度とを対比して過不足無く薬液を供給するため、各圧送ポ ンプ8及び各薬液導入弁9を駆動制御するように構成されている。
【0023】 なお、上記実施例では洗浄槽1の下部に洗浄液供給管3を接続したものについ て例示したが、これに限らず洗浄槽1の上部の一側より洗浄液を供給して、他側 よりオーバーフローさせるようにしても良い。 また上記実施例では、透過光測定手段100が、紫外光用の光源13a及び受 光素子13bから成る紫外光検出部13と、赤外光用の光源14a及び受光素子 14bから成る赤外光検出部14とにより構成されているものとして説明したが 、これには限らない。
【0024】 例えば紫外光及び赤外光の両方の発光領域を有する光源であれば、単一の光源 を用いることもできる。 また、洗浄液中の過酸化水素水の濃度を測定するタイミングとアンモニア水又 は塩酸の濃度を測定するタイミングとを、あらかじめ測定プログラム等で峻別す ることにより、紫外光と赤外光との双方の感度領域を有する単一の受光素子を用 いて紫外光の吸光度と赤外光の吸光度とを独立に検出することもできる。
【0025】
【考案の効果】
以上の説明で明らかなように、本考案では洗浄液供給管内で調合した洗浄液を 洗浄槽内へ供給する途中で、透過光測定手段により紫外光の吸光度を測定して上 記洗浄液中の過酸化水素水の濃度を独立に検出し、一方赤外光の吸光度を測定し て洗浄液中のアンモニア水の濃度又は塩酸の濃度を独立に検出し、この検出結果 に基づき、薬液供給量制御手段で各薬液導入手段を個別に制御するように構成し たので、従来例のような洗浄液採取管や採取用ポンプ等の配管を不要にし、かつ 従来例のような複雑な演算を簡素化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の実施例に係る基板洗浄装置の概要図で
ある。
【図2】アンモニアと過酸化水素とが共存する洗浄液の
分光透過率を示すグラフである。
【図3】塩酸と過酸化水素とが共存する洗浄液の分光透
過率を示すグラフである。
【図4】アンモニアと過酸化水素とが共存する洗浄液の
アンモニア濃度と吸光度の関係を示すグラフ図である。
【図5】アンモニアと過酸化水素とが共存する洗浄液の
アンモニア濃度と吸光度の関係を示すグラフである。
【図6】塩酸と過酸化水素とが共存する洗浄液の塩酸濃
度と吸光度の関係を示すグラフである。
【図7】塩酸と過酸化水素とが共存する洗浄液の塩酸濃
度と吸光度の関係を示すグラフである。
【図8】アンモニアと過酸化水素とが共存する洗浄液の
過酸化水素水の濃度と吸光度の関係を示すグラフであ
る。
【図9】塩酸と過酸化水素とが共存する洗浄液の過酸化
水素水の濃度と吸光度の関係を示すグラフである。
【図10】従来例の基板洗浄装置の概要図である。
【符号の説明】
1…洗浄槽、 2…洗浄液、3…洗
浄液給液管、 3a…透過光測定部、5〜5
C…薬液貯溜容器、 6〜6C…薬液供給管、7
〜7C…薬液導入手段、 10…薬液供給量制御
手段、100…透過光測定手段、 DW…純水、
A…アンモニア水、 QB…過酸化水素
水、QC…塩酸、 W…基板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C11D 7:04 7:18) (72)考案者 藤川 和憲 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内 (72)考案者 荒木 浩之 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 洗浄液中に基板を浸漬してその表面を洗
    浄する洗浄槽と、 純水の主要通路をなし、その通路内で純水と複数種の薬
    液とを調合して複数種の洗浄液を洗浄槽内へ供給する洗
    浄液供給管と、 各薬液供給管及び各薬液導入手段を介して洗浄液供給管
    に連通された複数種の薬液貯溜容器と、 各薬液導入手段を制御する薬液供給量制御手段とを具備
    して成り、 前記複数種の薬液貯溜容器は、過酸化水素水を貯溜した
    容器と、少なくともアンモニア水を貯溜した容器又は塩
    酸を貯溜した容器とから成り、 前記洗浄液供給管には純水を流通させ、この純水に前記
    過酸化水素水及びアンモニア水を供給してアンモニア過
    水洗浄液を調合し、又は前記純水に前記過酸化水素水及
    び塩酸を供給して塩酸過水洗浄液を調合するように構成
    し、 前記薬液供給量制御手段は、洗浄液供給管に付設された
    透過光測定手段を備え、前記透過光測定手段によって紫
    外光の吸光度を測定して前記複数種の洗浄液中の過酸化
    水素水の濃度を検出するとともに、赤外光の吸光度を測
    定して前記複数種の洗浄液中のアンモニア水の濃度又は
    塩酸の濃度を検出するように構成したことを特徴とする
    基板洗浄装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09283488A (ja) * 1996-04-12 1997-10-31 Lg Semicon Co Ltd 半導体ウェハ洗浄装置
JP2010232520A (ja) * 2009-03-27 2010-10-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 処理液供給装置および処理液供給方法
KR20160138145A (ko) * 2014-03-27 2016-12-02 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 기판 처리 장치, 및 기판 처리 장치의 배관 세정 방법

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