JPH0553059B2 - - Google Patents
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- JPH0553059B2 JPH0553059B2 JP60085446A JP8544685A JPH0553059B2 JP H0553059 B2 JPH0553059 B2 JP H0553059B2 JP 60085446 A JP60085446 A JP 60085446A JP 8544685 A JP8544685 A JP 8544685A JP H0553059 B2 JPH0553059 B2 JP H0553059B2
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- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 59
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 5
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
-
- H—ELECTRICITY
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- H01L21/681—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、半導体ウエハの加工工程において該
ウエハの位置及び姿勢（水平面内における角位
置）を精密に決める機能を備えたアライメント装
置に関するものである。
ウエハの位置及び姿勢（水平面内における角位
置）を精密に決める機能を備えたアライメント装
置に関するものである。
半導体ウエハ１は一般に第２図に示すごとく、
ほぼ円形の薄板に構成され、粗位置決め（プリア
ライメント）を行う為の切欠（オリフラ）１ａが
設けられている。
ほぼ円形の薄板に構成され、粗位置決め（プリア
ライメント）を行う為の切欠（オリフラ）１ａが
設けられている。
このウエハ１を自動機器に供給して露光などの
加工を行う場合、精密な位置決めをする為の準備
工程としてプリアライメントが行われる。
加工を行う場合、精密な位置決めをする為の準備
工程としてプリアライメントが行われる。
上記のプリアライメントの技術として、第３図
に示すような３点ローラ式のプリアライメント装
置が公知である。
に示すような３点ローラ式のプリアライメント装
置が公知である。
本第３図に仮想線で描いた１はウエハの外形を
対比する為に示したものであり、所望のプリアラ
イメント位置を表わしている。
対比する為に示したものであり、所望のプリアラ
イメント位置を表わしている。
オリフラ１ａに沿つて３個のローラ２ａ，２
ｂ，２ｃが設けられている。詳しくは、両端のロ
ーラ２ａ，２ｃがオリフラ１ａに接し、中央のロ
ーラ２ｂはオリフラ１ａから微小寸法ｄだけ離間
するようにオフセツトされている。
ｂ，２ｃが設けられている。詳しくは、両端のロ
ーラ２ａ，２ｃがオリフラ１ａに接し、中央のロ
ーラ２ｂはオリフラ１ａから微小寸法ｄだけ離間
するようにオフセツトされている。
左端のローラ２ａは図の左回りに、中央のロー
ラ２ｂと右端のローラ２ｃとは右回りに、それぞ
れ回転せしめられる。
ラ２ｂと右端のローラ２ｃとは右回りに、それぞ
れ回転せしめられる。
上記３個のローラ（３点ローラと呼ぶ）２ａ，
２ｂ，２ｃに対して適宜に離れた位置に、位置決
め用のローラ３が設けられ、かつ、ウエハ１を矢
印Ａの如く（即ち、位置決めローラと３点ローラ
との中間に向かう方向に）押動する手段が設けら
れる。
２ｂ，２ｃに対して適宜に離れた位置に、位置決
め用のローラ３が設けられ、かつ、ウエハ１を矢
印Ａの如く（即ち、位置決めローラと３点ローラ
との中間に向かう方向に）押動する手段が設けら
れる。
上記の矢印Ａ方向の押動手段としては、プリア
ライメントの途中では例えばエアーを吹きつける
方法が用いられ、プリアライメントを終了する時
点ではプツシヤローラなどの機械的部材が用いら
れる。
ライメントの途中では例えばエアーを吹きつける
方法が用いられ、プリアライメントを終了する時
点ではプツシヤローラなどの機械的部材が用いら
れる。
第４図に示すごとく、任意の姿勢にウエハ１を
供給して矢印Ａ方向に押しつけると（偶然にオリ
フラ１ａが３点ローラ２ａ〜２ｃに正対した場合
を除き）ウエハ１の周囲の円弧部分が中央のロー
ラ２ｂに接する。この状態（第４図）において両
端のローラ２ａ，２ｃはウエハ１に摺触しないの
で、ウエハ１は中央のローラ２ｂによつて矢印Ｌ
の如く図示左回り方向に回動せしめられる。
供給して矢印Ａ方向に押しつけると（偶然にオリ
フラ１ａが３点ローラ２ａ〜２ｃに正対した場合
を除き）ウエハ１の周囲の円弧部分が中央のロー
ラ２ｂに接する。この状態（第４図）において両
端のローラ２ａ，２ｃはウエハ１に摺触しないの
で、ウエハ１は中央のローラ２ｂによつて矢印Ｌ
の如く図示左回り方向に回動せしめられる。
ウエハ１が回動して、第３図に示したようにオ
リフラ１ａが３点ローラ２ａ〜２ｃに正対する姿
勢になると、該オリフラ１ａは中央のローラ２ｂ
から離間して、両端のローラ２ａ，２ｃの摺触を
受ける。ところが、この状態（第３図）において
は両端のローラ２ａと同２ｃとがそれぞれ反対方
向に回転しているので、ウエハ１が受ける回転駆
動力が相殺され、該ウエハ１が静止するので、両
端のローラ２ａ，２ｃを停止させ、矢印Ａ方向の
押動によつてウエハ１をローラ２ａ，２ｃ，３に
押しつけてプリアライメントを完了する。
リフラ１ａが３点ローラ２ａ〜２ｃに正対する姿
勢になると、該オリフラ１ａは中央のローラ２ｂ
から離間して、両端のローラ２ａ，２ｃの摺触を
受ける。ところが、この状態（第３図）において
は両端のローラ２ａと同２ｃとがそれぞれ反対方
向に回転しているので、ウエハ１が受ける回転駆
動力が相殺され、該ウエハ１が静止するので、両
端のローラ２ａ，２ｃを停止させ、矢印Ａ方向の
押動によつてウエハ１をローラ２ａ，２ｃ，３に
押しつけてプリアライメントを完了する。
上に述べたプリアライメント作動の完了を検出
するために、第５図に示した点P1に光センサが
設けられる。本第５図において、１点鎖線で描い
た１-1はプリアライメント装置に供給された状態
のウエハを示していて、この状態のウエハは前述
のように矢印Ｌ方向に回動せしめられ、実線で示
した１-3位置にプリアライメントされる。ウエハ
がプリアライメント完了位置１-3になると点P1に
対向するので、この点P1に設けた光センサがプ
リアライメント作動の完了を検知する。
するために、第５図に示した点P1に光センサが
設けられる。本第５図において、１点鎖線で描い
た１-1はプリアライメント装置に供給された状態
のウエハを示していて、この状態のウエハは前述
のように矢印Ｌ方向に回動せしめられ、実線で示
した１-3位置にプリアライメントされる。ウエハ
がプリアライメント完了位置１-3になると点P1に
対向するので、この点P1に設けた光センサがプ
リアライメント作動の完了を検知する。
２点鎖線で示した１-2は、プリアライメント作
動の前半を終つた状態を示し、この状態において
３点ローラ２ａ，２ｂ，２ｃを停止させるととも
に矢印Ａ方向にローラ（図示せず）でウエハ１-2
を押しつけてプリアライメント作動を完了させ
る。従つて、図示のP2点にも光センサを設けて
おくと、プリアライメント作動の前半工程から後
半工程に移行すべきタイミングを掴むのに好都合
である。このP2の点にも光センサを設ける構成
は、本発明者が創作して別途に出願中の発明であ
る。
動の前半を終つた状態を示し、この状態において
３点ローラ２ａ，２ｂ，２ｃを停止させるととも
に矢印Ａ方向にローラ（図示せず）でウエハ１-2
を押しつけてプリアライメント作動を完了させ
る。従つて、図示のP2点にも光センサを設けて
おくと、プリアライメント作動の前半工程から後
半工程に移行すべきタイミングを掴むのに好都合
である。このP2の点にも光センサを設ける構成
は、本発明者が創作して別途に出願中の発明であ
る。
以上のようにしてプリアライメントを終えたウ
エハは、第６図に示すごとく回動アーム６により
吸着把持されてＸ−Ｙテーブル４上に搬送され
る。ウエハ１には精密位置決め用のアライメント
パターン１ｂが設けられており、Ｘ−Ｙテーブル
４上に搬送、載置されたウエハ１′のアライメン
トパターン１b′に対向するように光学系（図示省
略）の対物レンズ５が設置されている。
エハは、第６図に示すごとく回動アーム６により
吸着把持されてＸ−Ｙテーブル４上に搬送され
る。ウエハ１には精密位置決め用のアライメント
パターン１ｂが設けられており、Ｘ−Ｙテーブル
４上に搬送、載置されたウエハ１′のアライメン
トパターン１b′に対向するように光学系（図示省
略）の対物レンズ５が設置されている。
Ｘ−Ｙテーブル４は、光学系によつてアライメ
ントパターン１b′を拡大投影しつつ、その位置が
所定の個所へ来るようにＸ−Ｙテーブル４を図の
Ｘ−X′方向、Ｙ−Y′方向にサブミクロンオーダ
で微動させる。これによつてウエハ１の精密位置
決め（アライメント）が完了する。
ントパターン１b′を拡大投影しつつ、その位置が
所定の個所へ来るようにＸ−Ｙテーブル４を図の
Ｘ−X′方向、Ｙ−Y′方向にサブミクロンオーダ
で微動させる。これによつてウエハ１の精密位置
決め（アライメント）が完了する。
上に述べた精密位置決めの操作を迅速に、しか
も高精度で行うには、準備工程としてのプリアラ
イメントが出来る限り精密に行われることが望ま
しい。ところが、第６図に示した従来技術におい
ては、プリアライメントを精密に行つても、これ
を吸着把持し、搬送し、Ｘ−Ｙテーブル４上の吸
着手段（図示せず）に受渡す途中で位置ずれを生
じるという問題が有る。その上、ウエハ１を吸着
把持して搬送することは、ウエハの清浄を維持す
る為に余り好ましくない。
も高精度で行うには、準備工程としてのプリアラ
イメントが出来る限り精密に行われることが望ま
しい。ところが、第６図に示した従来技術におい
ては、プリアライメントを精密に行つても、これ
を吸着把持し、搬送し、Ｘ−Ｙテーブル４上の吸
着手段（図示せず）に受渡す途中で位置ずれを生
じるという問題が有る。その上、ウエハ１を吸着
把持して搬送することは、ウエハの清浄を維持す
る為に余り好ましくない。
そこで、プリアライメント済みのウエハを把持
し直して搬送、受渡しすることなく、プリアライ
メント済みのウエハを吸着保持したままで光学系
に対向する位置まで移動させるため、第７図に示
す構成が考えられる。この構成（第７図）は本発
明者が創作して別途に出願中のものである。
し直して搬送、受渡しすることなく、プリアライ
メント済みのウエハを吸着保持したままで光学系
に対向する位置まで移動させるため、第７図に示
す構成が考えられる。この構成（第７図）は本発
明者が創作して別途に出願中のものである。
真空吸着ベツド７はＸ−Ｙテーブル（図示せ
ず）の最上面に設けられ、長ストロークのＸ−Ｙ
テーブルによつて矢印Ｘ−X′，Ｙ−Y′方向に移
動せしめられる。このＸ−Ｙテーブルはセンチメ
ートル単位の長ストローク移動と、ミクロン単位
の精密な微動との両方が可能な構造である。
ず）の最上面に設けられ、長ストロークのＸ−Ｙ
テーブルによつて矢印Ｘ−X′，Ｙ−Y′方向に移
動せしめられる。このＸ−Ｙテーブルはセンチメ
ートル単位の長ストローク移動と、ミクロン単位
の精密な微動との両方が可能な構造である。
この構成（第７図）によれば、Ｘ−Ｙテーブル
を操作して矢印X′方向に移動させた位置（実線
で示す）においてウエハ１のプリアライメントを
行い、Ｘ−Ｙテーブルの操作によつてウエハ１を
吸着している真空吸着ベツド７を矢印Ｘ方向に移
動させて仮想線で示した７′位置にする。このＸ
方向移動により、ウエハ１は１′位置となり、ア
ライメントパターン１ｂが１b′位置に移動せしめ
られて対物レンズ５に正対する。
を操作して矢印X′方向に移動させた位置（実線
で示す）においてウエハ１のプリアライメントを
行い、Ｘ−Ｙテーブルの操作によつてウエハ１を
吸着している真空吸着ベツド７を矢印Ｘ方向に移
動させて仮想線で示した７′位置にする。このＸ
方向移動により、ウエハ１は１′位置となり、ア
ライメントパターン１ｂが１b′位置に移動せしめ
られて対物レンズ５に正対する。
この構成（第７図）においては、真空吸着ベツ
ド７によるプリアライメント済みウエハ１の吸着
を解除せずに、そのまま光学系による精密位置決
め作動に移行できる。
ド７によるプリアライメント済みウエハ１の吸着
を解除せずに、そのまま光学系による精密位置決
め作動に移行できる。
しかし、この第７図の構成を実施する場合、前
に述べたように点P1，P2に設けた光センサが、
Ｘ−Ｙテーブルの移動を妨げない位置に設置し、
しかもＸ−Ｙテーブルが一旦矢印Ｘ方向に長スト
ローク移動しても、同X′方向に長ストローク復
帰したとき、該光センサはプリアライメントさる
べきウエハ位置（実線で示した１）に対して精密
に所定の関係位置に復元しなければならない。
に述べたように点P1，P2に設けた光センサが、
Ｘ−Ｙテーブルの移動を妨げない位置に設置し、
しかもＸ−Ｙテーブルが一旦矢印Ｘ方向に長スト
ローク移動しても、同X′方向に長ストローク復
帰したとき、該光センサはプリアライメントさる
べきウエハ位置（実線で示した１）に対して精密
に所定の関係位置に復元しなければならない。
その上、前述のようにしてＸ−Ｙテーブルを長
ストロークで移動せしめたとき、これに搭載され
ているプリアライメント用の３点ローラ２ａ，２
ｂ，２ｃが光学系の機器、特に対物レンズに干渉
しないようにする工夫も必要である。
ストロークで移動せしめたとき、これに搭載され
ているプリアライメント用の３点ローラ２ａ，２
ｂ，２ｃが光学系の機器、特に対物レンズに干渉
しないようにする工夫も必要である。
３点ローラ（その駆動手段を含む）が光学系と
干渉しないようにするには、第１図に示すように
３点ローラ２ａ，２ｂ，２ｃ及びその駆動手段１
５を搭載した上下移動架台１６を設けるととも
に、Ｘ−Ｙテーブルの上段のテーブル４ｃに対し
て案内柱１７を固定し、上記の案内柱１７によつ
て上下移動架台１６を上下に案内するように構成
することが考えられる。このように構成しておく
と、プリアライメント作動を行わせるときは上下
移動架台１６を上昇させて３点ローラ２ａ，２
ｂ，２ｃをウエハ１に当接せしめ、Ｘ−Ｙテーブ
ルを対物レンズ５の下方へ移動させるときは仮想
線で示した１６′のように上下移動架台を下降さ
せて３点ローラを２a′，２b′，２c′のようにウエ
ハ１よりも下げればよい。このように３点ローラ
（駆動手段を含む）を搭載した上下移動架台を設
けた構成は、本発明者が創作して別途出願中の発
明である。
干渉しないようにするには、第１図に示すように
３点ローラ２ａ，２ｂ，２ｃ及びその駆動手段１
５を搭載した上下移動架台１６を設けるととも
に、Ｘ−Ｙテーブルの上段のテーブル４ｃに対し
て案内柱１７を固定し、上記の案内柱１７によつ
て上下移動架台１６を上下に案内するように構成
することが考えられる。このように構成しておく
と、プリアライメント作動を行わせるときは上下
移動架台１６を上昇させて３点ローラ２ａ，２
ｂ，２ｃをウエハ１に当接せしめ、Ｘ−Ｙテーブ
ルを対物レンズ５の下方へ移動させるときは仮想
線で示した１６′のように上下移動架台を下降さ
せて３点ローラを２a′，２b′，２c′のようにウエ
ハ１よりも下げればよい。このように３点ローラ
（駆動手段を含む）を搭載した上下移動架台を設
けた構成は、本発明者が創作して別途出願中の発
明である。
ところが、上に述べたようにして３点ローラと
光学系（対物レンズ）との干渉を回避するのみで
は充分でなく、第５図の点P1，P2に設けた光セ
ンサも、Ｘ−Ｙテーブルの長ストローク移動に際
して光学系（対物レンズ）と干渉しないように退
避せしめる機能が必要である。
光学系（対物レンズ）との干渉を回避するのみで
は充分でなく、第５図の点P1，P2に設けた光セ
ンサも、Ｘ−Ｙテーブルの長ストローク移動に際
して光学系（対物レンズ）と干渉しないように退
避せしめる機能が必要である。
本発明は上述の事情に鑑みて為されたもので、
Ｘ−Ｙテーブル上に載置された位置のウエハを介
して、光センサの投光手段（例えばLED）と、
光センサの受光手段（例えばフオトトランジス
タ）とを対向せしめて支承し、かつ、該光センサ
の設置によつてＸ−Ｙテーブルの作動を妨げる虞
れ無く、しかもＸ−Ｙテーブルの作動に拘らず設
置位置精度を保ち得る、ウエハのアライメント装
置を提供しようとするものである。
Ｘ−Ｙテーブル上に載置された位置のウエハを介
して、光センサの投光手段（例えばLED）と、
光センサの受光手段（例えばフオトトランジス
タ）とを対向せしめて支承し、かつ、該光センサ
の設置によつてＸ−Ｙテーブルの作動を妨げる虞
れ無く、しかもＸ−Ｙテーブルの作動に拘らず設
置位置精度を保ち得る、ウエハのアライメント装
置を提供しようとするものである。
［発明の概要］
上記の目的を達成するために、本発明は、オリ
フラ及びアライメント用パターンを設けた円板状
の半導体ウエハを、該ウエハの周囲に摺触してこ
れを回動させる複数個のローラと、該ウエハの円
周部に当接する位置決めローラとによつてプリア
ライメントし、上記のプリアライメント済みウエ
ハに設けた上記のパターンが光学系の対物レンズ
に正対するように該ウエハを移動せしめ、上記の
パターンが精密に所定の位置、姿勢となるように
該ウエハを搭載したＸ−Ｙテーブルを微動せしめ
るように構成したウエハのアライメント装置にお
いて、前記のＸ−Ｙテーブルが水平面内で一定距
離を往復移動してプリアライメント手段と光学系
との間を往復する構造とするとともに、該Ｘ−Ｙ
テーブルの最上段のテーブルに上下移動架台を設
けて、該上下移動架台に前記の複数個のローラを
搭載し、かつ、上記のＸ−Ｙテーブルの最上段の
テーブルに対して回動可能にレバー部材を軸支
し、該レバー部材に光センサの投光手段及び受光
手段を取り付け、上記の投、受光手段はレバー部
材を起こしたときウエハを挟んで上下方向に正対
するとともに、レバー部材を倒すとウエハの上面
よりも低い位置になつて前記の光学系の機器と干
渉しなくなるように構成したことを特徴とする。
フラ及びアライメント用パターンを設けた円板状
の半導体ウエハを、該ウエハの周囲に摺触してこ
れを回動させる複数個のローラと、該ウエハの円
周部に当接する位置決めローラとによつてプリア
ライメントし、上記のプリアライメント済みウエ
ハに設けた上記のパターンが光学系の対物レンズ
に正対するように該ウエハを移動せしめ、上記の
パターンが精密に所定の位置、姿勢となるように
該ウエハを搭載したＸ−Ｙテーブルを微動せしめ
るように構成したウエハのアライメント装置にお
いて、前記のＸ−Ｙテーブルが水平面内で一定距
離を往復移動してプリアライメント手段と光学系
との間を往復する構造とするとともに、該Ｘ−Ｙ
テーブルの最上段のテーブルに上下移動架台を設
けて、該上下移動架台に前記の複数個のローラを
搭載し、かつ、上記のＸ−Ｙテーブルの最上段の
テーブルに対して回動可能にレバー部材を軸支
し、該レバー部材に光センサの投光手段及び受光
手段を取り付け、上記の投、受光手段はレバー部
材を起こしたときウエハを挟んで上下方向に正対
するとともに、レバー部材を倒すとウエハの上面
よりも低い位置になつて前記の光学系の機器と干
渉しなくなるように構成したことを特徴とする。
次に、本発明の１実施例を第１図について説明
する。
する。
本実施例のＸ−Ｙテーブル４′は、下段４ａ、
中段４ｂ、上段４ｃの３個のテーブルを積み重ね
た構造で、下段のテーブル４ａはベース部材であ
る。
中段４ｂ、上段４ｃの３個のテーブルを積み重ね
た構造で、下段のテーブル４ａはベース部材であ
る。
中段のテーブル４ｂはＹ軸方向（紙面と垂直）
に往復移動して、これに搭載した上段のテーブル
４ｃはＸ−X′方向に往往駆動される。
に往復移動して、これに搭載した上段のテーブル
４ｃはＸ−X′方向に往往駆動される。
上記上段のテーブル４ｃは、その頂面に真空吸
着ベツド７を一体的に設けてあり、該上段のテー
ブル４ｃ上に載置されたウエハ１がプリアライメ
ントを終了すると、このウエハ１を吸着保持す
る。
着ベツド７を一体的に設けてあり、該上段のテー
ブル４ｃ上に載置されたウエハ１がプリアライメ
ントを終了すると、このウエハ１を吸着保持す
る。
上段のテーブルが矢印Ｘ方向に駆動されると４
c′位置になり、これに吸着保持されたウエハは
１′位置となる。
c′位置になり、これに吸着保持されたウエハは
１′位置となる。
ウエハが１′位置になると、このウエハ１′に設
けられたアライメント用のパターン１b′が対物レ
ンズ５に対向し、この状態で中段テーブル４ｂを
Ｙ軸方向に精密に微動させるとともに、上段のテ
ーブル４c′をＸ−X′方向に精密に微動せしめ、対
物レンズ５を含む光学系（図示省略）によつてウ
エハ１′のアライメントパターン１b′を精密にア
ライメントする。
けられたアライメント用のパターン１b′が対物レ
ンズ５に対向し、この状態で中段テーブル４ｂを
Ｙ軸方向に精密に微動させるとともに、上段のテ
ーブル４c′をＸ−X′方向に精密に微動せしめ、対
物レンズ５を含む光学系（図示省略）によつてウ
エハ１′のアライメントパターン１b′を精密にア
ライメントする。
光センサ支承レバー１８を２個構成し、それぞ
れ軸１８ａによつて上段のテーブル４ｃに対して
回動可能に枢支する。
れ軸１８ａによつて上段のテーブル４ｃに対して
回動可能に枢支する。
上記のレバー１８のそれぞれに、各１対のフオ
トトランジスタ１０-1，１０-2およびLED１１-
１，１１-2を取りつける。実線で描いたレバー１
８は起立せしめた状態を示してあり、この状態に
おいてフオトトランジスタ１０-1とLED１１-1、
及びフオトトランジスタ１０-2とLED１１-2と
は、それぞれウエハ１を介して上下に正対するよ
うに構成してある。
トトランジスタ１０-1，１０-2およびLED１１-
１，１１-2を取りつける。実線で描いたレバー１
８は起立せしめた状態を示してあり、この状態に
おいてフオトトランジスタ１０-1とLED１１-1、
及びフオトトランジスタ１０-2とLED１１-2と
は、それぞれウエハ１を介して上下に正対するよ
うに構成してある。
本発明は上記のようにして、投光手段（本例に
おいてはLED）及び受光手段（本例においては
フオトトランジスタ）を、ウエハを介して対向せ
しめて光センサを構成する。本発明を実施する
際、投光手段、受光手段の何れを上方に、何れを
下方に配設しても良い。
おいてはLED）及び受光手段（本例においては
フオトトランジスタ）を、ウエハを介して対向せ
しめて光センサを構成する。本発明を実施する
際、投光手段、受光手段の何れを上方に、何れを
下方に配設しても良い。
本第１図は、本発明の１実施例について、その
構成と作用とを説明するために模式化して描いて
あり、各構成部材の正確な投影図ではない。
構成と作用とを説明するために模式化して描いて
あり、各構成部材の正確な投影図ではない。
本例の装置（第１図）において、実線で示した
位置でプリアライメントを行う際、フオトトラン
ジスタ１０-1とLED１１-1とを対向せしめて構成
した光センサは、第５図に示した点P1の光セン
サとしてプリアライメント作動の完了を検知す
る。
位置でプリアライメントを行う際、フオトトラン
ジスタ１０-1とLED１１-1とを対向せしめて構成
した光センサは、第５図に示した点P1の光セン
サとしてプリアライメント作動の完了を検知す
る。
また、フオトトランジスタ１０-2とLED１１-2
とを対向せしめて構成した光センサは同じく点
P2に設けた光センサとして、オリフラが３点ロ
ーラに対向した状態を検知する。
とを対向せしめて構成した光センサは同じく点
P2に設けた光センサとして、オリフラが３点ロ
ーラに対向した状態を検知する。
プリアライメントを完了して矢印Ｘ方向に移動
して、ウエハ１を１′位置（対物レンズ５の下方）
に移動せしめる際、上下移動架台１６を１６′位
置まで下降させて光学系との干渉を防止するとと
もに、光センサ支承レバー１８を１８′姿勢（仮
想線）に倒して光学系（対物レンズ）との干渉を
回避する。
して、ウエハ１を１′位置（対物レンズ５の下方）
に移動せしめる際、上下移動架台１６を１６′位
置まで下降させて光学系との干渉を防止するとと
もに、光センサ支承レバー１８を１８′姿勢（仮
想線）に倒して光学系（対物レンズ）との干渉を
回避する。
本実施例（第１図）の装置においては、フオト
トランジスタ１０-1，１０-2とLED１１-1，１１
−２とはそれぞれ支承レバー１８に対して取り付け
られているので、これを起立回動、傾倒回動させ
ても双方の構成部材の正対関係が狂う虞れが無
い。また、上記光センサ支承レバー１８はＸ−Ｙ
テーブルの上段のテーブル（本例においては４
ｃ）に対して枢支してあるので、Ｘ−Ｙテーブル
を長ストロークで走行させても、プリアライメン
ト位置を検出するための設置位置精度が狂う虞れ
が無い。この効果が得られるのは、３点ローラ２
ａ，２ｂ，２ｃと光センサ１０-1，１０-2，１１
−１，１１-2との双方が、何れも上段のテーブル４
ｃに対して支承してあるからである。
トランジスタ１０-1，１０-2とLED１１-1，１１
−２とはそれぞれ支承レバー１８に対して取り付け
られているので、これを起立回動、傾倒回動させ
ても双方の構成部材の正対関係が狂う虞れが無
い。また、上記光センサ支承レバー１８はＸ−Ｙ
テーブルの上段のテーブル（本例においては４
ｃ）に対して枢支してあるので、Ｘ−Ｙテーブル
を長ストロークで走行させても、プリアライメン
ト位置を検出するための設置位置精度が狂う虞れ
が無い。この効果が得られるのは、３点ローラ２
ａ，２ｂ，２ｃと光センサ１０-1，１０-2，１１
−１，１１-2との双方が、何れも上段のテーブル４
ｃに対して支承してあるからである。
以上説明したように、本発明の装置によれば、
Ｘ−Ｙテーブル上に載置された位置のウエハを介
して、光センサの投光手段（例えばLED）と、
光センサの受光手段（例えばフオトトランジス
タ）とを対向せしめて支承しても、該光センサの
設置によつてＸ−Ｙテーブルの作動を妨げる虞れ
無く、しかもＸ−Ｙテーブルの作動に拘らず光セ
ンサの設置位を正確に保持することができる。
Ｘ−Ｙテーブル上に載置された位置のウエハを介
して、光センサの投光手段（例えばLED）と、
光センサの受光手段（例えばフオトトランジス
タ）とを対向せしめて支承しても、該光センサの
設置によつてＸ−Ｙテーブルの作動を妨げる虞れ
無く、しかもＸ−Ｙテーブルの作動に拘らず光セ
ンサの設置位を正確に保持することができる。
第１図は本発明を適用したウエハ用アライメン
ト装置の１実施例を示す模式的な側面図、第２図
はウエハの外観図、第３図は３点ローラ式プリア
ライメント装置のローラ配置を示す平面図、第４
図は同じく作動説明図、第５図は従来のアライメ
ント装置の１例を示す平面図である。第６図は従
来のアライメント装置の説明図、第７図は改良形
アライメント装置の説明図である。 １，１′……ウエハ、１ａ……オリフラ、１ｂ，
１b′……アライメント用パターン、１-1，１-2，
１-3……ウエハ、２ａ，２ｂ，２ｃ……３点ロー
ラ、２a′，２b′，２c′……３点ローラ、３，３′…
…位置決めローラ、４……Ｘ−Ｙテーブル、４ａ
……下段のテーブル、４ｂ……中段のテーブル、
４ｃ……上段のテーブル、５……対物レンズ、
７，７′……真空吸着ベツド、１０-1，１０-2…
…フオトトランジスタ、１１-1，１１-2……
LED、１５……３点ローラ駆動手段、１６……
上下移動架台、１７……上下移動架台の案内柱、
１８……光センサ支承レバー、１８ａ……支承レ
バーの枢支軸。
ト装置の１実施例を示す模式的な側面図、第２図
はウエハの外観図、第３図は３点ローラ式プリア
ライメント装置のローラ配置を示す平面図、第４
図は同じく作動説明図、第５図は従来のアライメ
ント装置の１例を示す平面図である。第６図は従
来のアライメント装置の説明図、第７図は改良形
アライメント装置の説明図である。 １，１′……ウエハ、１ａ……オリフラ、１ｂ，
１b′……アライメント用パターン、１-1，１-2，
１-3……ウエハ、２ａ，２ｂ，２ｃ……３点ロー
ラ、２a′，２b′，２c′……３点ローラ、３，３′…
…位置決めローラ、４……Ｘ−Ｙテーブル、４ａ
……下段のテーブル、４ｂ……中段のテーブル、
４ｃ……上段のテーブル、５……対物レンズ、
７，７′……真空吸着ベツド、１０-1，１０-2…
…フオトトランジスタ、１１-1，１１-2……
LED、１５……３点ローラ駆動手段、１６……
上下移動架台、１７……上下移動架台の案内柱、
１８……光センサ支承レバー、１８ａ……支承レ
バーの枢支軸。
Claims (1)
- １ オリフラ及びアライメント用パターンを設け
た円板状の半導体ウエハを、該ウエハの周囲に摺
触してこれを回動させる複数個のローラと、該ウ
エハの円周部に当接する位置決めローラとによつ
てプリアライメントし、上記のプリアライメント
済みウエハに設けた上記のパターンが光学系の対
物レンズに正対するように該ウエハを移動せし
め、上記のパターンが精密に所定の位置、姿勢と
なるように該ウエハを搭載したＸ−Ｙテーブルを
微動せしめるように構成したウエハのアライメン
ト装置において、前記のＸ−Ｙテーブルが水平面
内で一定距離を往復移動してプリアライメント手
段と光学系との間を往復する構造とするととも
に、該Ｘ−Ｙテーブルの最上段のテーブルに上下
移動架台を設けて、該上下移動架台に前記の複数
個のローラを搭載し、かつ、上記のＸ−Ｙテーブ
ルの最上段のテーブルに対して回動可能にレバー
部材を軸支し、該レバー部材に光センサの投光手
段及び受光手段を取り付け、上記の投、受光手段
はレバー部材を起こしたときウエハを挟んで上下
方向に正対するとともに、レバー部材を倒すとウ
エハの上面よりも低い位置になつて前記の光学系
の機器と干渉しなくなるように構成したことを特
徴とするウエハのアライメント装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60085446A JPS61244038A (ja) | 1985-04-23 | 1985-04-23 | ウエハのアライメント装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60085446A JPS61244038A (ja) | 1985-04-23 | 1985-04-23 | ウエハのアライメント装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61244038A JPS61244038A (ja) | 1986-10-30 |
| JPH0553059B2 true JPH0553059B2 (ja) | 1993-08-09 |
Family
ID=13859100
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60085446A Granted JPS61244038A (ja) | 1985-04-23 | 1985-04-23 | ウエハのアライメント装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61244038A (ja) |
-
1985
- 1985-04-23 JP JP60085446A patent/JPS61244038A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61244038A (ja) | 1986-10-30 |
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