JPH0553008B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 本発明は固定磁気デイスク装置に用いられる磁
気記録媒体の製造方法に関し、詳しくは磁気記録
媒体の表面膜面上の微少突起を除去する製造方法
に関する。

〔従来技術とその問題点〕

磁気記録媒体（以下、単に媒体とも称する）は
一般にアルミニウム合金、強化ガラス、ポリイミ
ドなどからなる非磁性デイスク状基板の鏡面仕上
げされている表面にアルマイト処理あるいはNi
−Ｐ無電解めつき処理などの下地処理を施し、形
成された下地膜上に磁性膜を均一に形成し、さら
に、その上に保護潤滑膜を形成して作製される。
しかし、このようにして作製された媒体の表面に
は、基板表面の加工むら、その上に各膜を形成す
るときの異物や塵埃、あるいは成膜材料の凝集な
どの要因により微少突起が存在する。固定磁気デ
イスク装置においては通常コンタクト・スター
ト・ストツプ（CSS）方式が採られるが、このよ
うな微少突起は磁気ヘツドの浮動の安定性に悪影
響を及ぼす。従つて、通常これらの突起は磁性
膜、保護潤滑膜形成後最終的に研摩などにより取
り除かれていた。例えば、バニツシユヘツドを用
いる方法が多く行われている。これは、サフアイ
アやアルミナなどの硬い材料で作製されたバニツ
シユヘツドを用い、磁気ヘツドの場合と同様に回
転している媒体上に浮上させる。このときのバニ
ツシユヘツドの浮上量を通常の磁気ヘツドの浮上
量より少なくし、媒体上の微少突起にバニツシユ
ヘツドを衝突させて微少突起を折損し、通常の磁
気ヘツドの場合には磁気ヘツドに衝突しないよう
にしてしまう方法である。しかし、この方法で
は、折損後の突起の根本部は媒体上に残つてお
り、媒体の駆動開始時、停止時にはこの残存突起
に磁気ヘツドが衝突するという問題があり、ま
た、微少突起が比較的大きい場合には、突起が折
損することにより磁性膜に欠陥部が生じることも
ある。しかも、バニツシユヘツドを媒体の半径方
向に数回往復運動させる必要があり非常に時間が
かかる。

そこで媒体表面に微少突起が発生する原因の大
部分が基板にあることに着目し、下地処理を施さ
れた磁性膜形成前の基板表面に前述のバニツシユ
ヘツドによる仕上げ加工を行うことが知られてい
る。しかし、この場合にも残存突起の影響や下地
膜がバニツシユヘツドにより受ける損傷により、
その上に形成される磁性膜に欠陥部が発生する欠
点がある。その対策として、下地処理前の基板表
面、あるいは下地処理後で磁性膜形成前の基板表
面にラツピングテープを圧着接触させて、基板を
回転させて一種の研摩を行う方法が提案されてい
る。この方法によれば基板表面の微少突起は根本
から確実にとれ良好な基板表面が得られるが、ラ
ツピングテープはテープ基材にアルミナなどの硬
い粒子を接着剤で固着させたものであり、この方
法で処理された基板表面には微少ながら加工の痕
跡が残り、充分満足すべき平滑な面が得られるに
はいたつてない。

〔発明の目的〕

本発明は、上述の欠点を除去して、下地膜形成
後の基板表面、または、磁性膜、保護潤滑膜まで
形成後の媒体表面に存在する微少突起を、基板表
面または媒体表面を損傷することなく、確実に短
時間で除去し、特性の優れた媒体を製造する方法
を提供することを目的とする。

〔発明の要点〕

本発明は、上述の目的を達成するため、鏡面仕
上げした非磁性デイスク状基板の両面上に下地膜
を形成する第１工程と、該下地膜上に磁性膜及び
保護潤滑膜を順次形成する第２工程とを備えた磁
気記録媒体の製造方法において、前記基板を回転
させながらクリーニングテープをコンタクトゴム
ローラにより基板の両面側に圧着接触させ、かつ
基板とクリーニングテープを基板の半径方向に相
対的に往復移動させる第３工程を、前記第１工程
と第２工程の間又は第２工程の後に備えることを
特徴としている。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説
明する。

第１図は本発明の方法を実施し得る装置の一実
施例の要部構成を示す上面図である。第１図に見
られるように実施例の装置は４つのブロツクから
なる。各ブロツクは基板１に対して対象的に配置
されており、架台７に回転可能に取り付けられた
コンタクトゴムローラ３、供給リール４、巻取り
リール５、テンシヨンローラ６およびそれらの間
に張られたクリーニングテープ２で構成されてい
る（図において番号は１ブロツクについてのみ付
し他も同様の構成であるので略す）。

次にこの装置を用いて本発明の磁気記録媒体の
製造方法について説明する。第１図における矢印
のａ方向へ各ブロツクを移動させて離間させる
（移動機構は図示せず）。表面に下地処理を施され
た基板１を基板駆動軸８に装着し、軸を中心に基
板１を回転駆動させる。各ブロツクを矢印のｂ方
向に移動させ、各ブロツクのクリーニングテープ
２をコンタクトゴムローラ３により基板１の両面
に圧着接触させ、基板１の両面を２個づつのクリ
ーニングテープ、従つて、合計４個のクリーニン
グテープを巻き取り移動させながら同時に研摩す
る。その状態を側面より見たＡ−Ａ断面図が第２
図、Ｂ−Ｂ断面図が第３図である。第３図に示す
ように回転している基板１の両面にクリーニング
テープ２をテンシヨンローラ６によりたわまない
ようにテンシヨンをかけながらコンタクトゴムロ
ーラ３で圧着接触した状態で、第２図に示す矢印
の方向すなわちクリーニングテープ２の各リール
の回転軸方向に基板１の半径内で架台７と共にカ
ム構造を用いて（図示はされたない）往復運動さ
せる。かくして、基板１の両面全面が４個のクリ
ーニングテープ２により研摩され、微少突起が短
時間に効率良く除去される。

クリーニングテープは、例えば、天然繊維ポリ
エステル混合の不織紙からなり、コンタクトゴム
ローラは、例えばエアシリンダの押圧力で圧接さ
れる。従つて、クリーニングテープと基板表面と
の相対運動の摩擦による研摩面には、硬質の研摩
粒子を利用しているラツピングテープの場合の様
な鋭角的な加工跡は生じない。

さらに、研摩中クリーニングテープ２は第３図
の矢印に示すように供給リール４より新しいクリ
ーニングテープ２が送り出され、研摩に使用され
表面が汚染されたクリーニングテープ２は巻取り
リール５に巻き取られ、研摩面には常に清浄なク
リーニングテープが存在することになるので基板
表面より除去された微少突起により基板表面が汚
染損傷されることもない。

本実施例は下地処理を施された基板の微少突起
の除去の場合について述べたが、最終的に保護潤
滑膜まで形成した媒体の表面の微少突起の除去に
も有効である。媒体の製造において、下地処理を
施した基板表面および最終的な媒体表面について
それぞれ本実施例による微少突起の除去を行つて
も良く、また、いずれか一方の面についてのみ行
つてもよい。

〔発明の効果〕

本発明によれば、クリーニングテープを用いる
ことにより、下地処理を施された基板表面あるい
は保護潤滑膜まで形成した媒体表面にある微少突
起を、その表面を損傷することなく、確実に短時
間で効率良く除去することができ、磁気記録媒体
の製造時間を大幅に短縮することができる。本発
明によれば表面を損傷することなく確実に痕跡の
残らぬように微少突起を除去できるので、基板に
適用した場合には、非常に良好な平滑性を有する
磁性膜を形成するとが可能となり、磁気特性の優
れた磁気記録媒体を得ることができ、磁気記録媒
体の表面に適用した場合には極めて平滑な表面が
得られるので、磁気ヘツドの浮上量を少なくして
も安定した浮上性が確保でき、高記録密度を指向
する固定磁気デイスク装置に用いられる薄膜磁気
記録媒体の製造に極めて有効である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の方法を実施し得る装置の一実
施例の要部構成を示す上面図、第２図は第１図の
Ａ−Ａ断面図、第３図は第１図のＢ−Ｂ断面図で
ある。 １……基板、２……クリーニングテープ、３…
…コンタクトゴムローラ、４……供給リール、５
……巻取りリール、６……テンシヨンローラ、７
……架台、８……基板駆動軸。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 鏡面仕上げした非磁性デイスク状基板の両面
   上に下地膜を形成する第１工程と、該下地膜上に
   磁性膜及び保護潤滑膜を順次形成する第２工程と
   を備えた磁気記録媒体の製造方法において、前記
   基板を回転させながらクリーニングテープをコン
   タクトゴムローラにより基板の両面側に圧着接触
   させ、かつ基板とクリーニングテープを基板の半
   径方向に相対的に往復移動させる第３工程を、前
   記第１工程と第２工程の間又は第２工程の後に備
   えることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。