JPH0552998A - Light exposure device - Google Patents
Light exposure deviceInfo
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- JPH0552998A JPH0552998A JP3211706A JP21170691A JPH0552998A JP H0552998 A JPH0552998 A JP H0552998A JP 3211706 A JP3211706 A JP 3211706A JP 21170691 A JP21170691 A JP 21170691A JP H0552998 A JPH0552998 A JP H0552998A
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- Particle Accelerators (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、基板に被着した感光性
被膜であるレジストをシンクロトロン放射光により感光
させる露光装置、特にシンクロトロン放射光をその光軸
に垂直な面に左右の対称性良く投影できるとともに、然
も投影されたシンクロトロン放射光の強度分布が均一に
なる露光装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus which exposes a resist, which is a photosensitive film deposited on a substrate, with synchrotron radiation, and more particularly, to symmetric radiation of synchrotron radiation with respect to a plane perpendicular to its optical axis. The present invention relates to an exposure apparatus capable of projecting with good performance and having a uniform intensity distribution of projected synchrotron radiation.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図１は、光源にシンクロトロン放射光を
使用する露光装置を説明するための図であって、同図
(a) は装置構成を模式的に示す要部側断面図、同図(b)
はスリットをシンクロトロン放射光の進行方向から見た
模式的な正面図、同図(c) はシンクロトロン放射光のＡ
−Ａ線断面図、同図(d) はシンクロトロン放射光のＢ−
Ｂ線断面図である。2. Description of the Related Art FIG. 1 is a diagram for explaining an exposure apparatus using synchrotron radiation as a light source.
(a) is a side sectional view of the main part schematically showing the device configuration, (b)
Is a schematic front view of the slit as seen from the traveling direction of the synchrotron radiation, and (c) is the A of the synchrotron radiation.
-Cross section of line A, Figure (d) shows synchrotron radiation B-
It is a B line sectional view.
【０００３】また、図３は、従来の露光装置を説明する
ための図であって、同図(a) は可変スリット形成手段を
シンクロトロン放射光の進行側からみた正面図、同図
(b) はレジストに投影（照射）されたシンクロトロン放
射光の高さ方向の強度分布を模式的に示す図、同図(c)
は、レジストに投影されたシンクロトロン放射光の水平
方向の強度分布を模式的に示す図、同図(d) はシンクロ
トロン放射光とスリットとの平行状態を模式的に示す
図、同図(e) はシンクロトロン放射光の正規な投影像を
模式的に示す図、同図(f) はシンクロトロン放射光の投
影像の歪みを模式的に示す図である。FIG. 3 is a view for explaining a conventional exposure apparatus, and FIG. 3 (a) is a front view of the variable slit forming means as seen from the advancing side of synchrotron radiation.
(b) is a diagram schematically showing the intensity distribution in the height direction of the synchrotron radiation projected (irradiated) on the resist, (c) of the same figure.
Is a diagram schematically showing the horizontal intensity distribution of the synchrotron radiation projected onto the resist. (D) is a diagram schematically showing the parallel state of the synchrotron radiation and the slit. (e) is a diagram schematically showing a regular projection image of synchrotron radiation, and (f) is a diagram schematically showing distortion of the projection image of synchrotron radiation.
【０００４】光源にシンクロトロン放射光を使用する露
光装置は、図１(a) に示すように、電子等の高速の荷電
粒子ｅを偏向してシンクロトロン放射光Ｓを放射する電
子蓄積リング10と、図３(a) に示すようにシンクロトロ
ン放射光Ｓが通過するビームライン11内に配設され、シ
ンクロトロン放射光Ｓを透過しない材料、例えば銅板か
ら形成された平らで鉛直方向に切り立った端面13a,14a
をそれぞれ対向して水平方向に移動する第１及び第２の
水平方向移動板13,14 と、この第１及び第２の水平方向
移動板13,14 と同様に銅板から形成された平らで水平方
向に伸びる端面15a,16a をそれぞれ対向して鉛直方向に
移動する第１及び第２の鉛直方向移動板15,16 とで構成
し、互いに対向する端面(13a,14a),(15a,16a) をそれぞ
れ離隔してなるスリット17( 図１(b),図３(a) 参照) で
シンクロトロン放射光Ｓを通過させる可変スリット形成
手段12と、可変スリット形成手段12が如上のように形成
したスリット17を通過して入射したシンクロトロン放射
光Ｓを集光してその強度を高めるとともに、このシンク
ロトロン放射光Ｓの進行方向を変えて感光性被膜、例え
ば基板31に被着したレジスト32にマスク30を介して照射
する反射ミラー18とを含んで構成されていた。Dew using synchrotron radiation as a light source
As shown in Fig. 1 (a), the optical device uses high-speed charging of electrons.
Electrons that deflect the particle e and emit the synchrotron radiation S
Child storage ring 10 and synchrotro as shown in Fig. 3 (a).
Is arranged in the beam line 11 through which the synchrotron radiation S passes,
Material that does not transmit synchrotron radiation S, such as a copper plate
End faces 13a, 14a formed from
And the first and second moving in the horizontal direction facing each other.
Horizontal movement plates 13 and 14, and the first and second horizontal direction
Flat and horizontal shape made of copper plate like moving plates 13 and 14
The end faces 15a and 16a extending in
Consists of moving first and second vertical moving plates 15 and 16
The end faces (13a, 14a), (15a, 16a) facing each other.
With the slit 17 (See Fig. 1 (b) and Fig. 3 (a))
Variable slit formation for passing synchrotron radiation S
The means 12 and the variable slit forming means 12 are formed as described above.
Synchrotron radiation incident through a slit 17
The light S is condensed to increase its intensity, and this sink
A photosensitive film, for example, by changing the traveling direction of the rotron radiation S
For example, the resist 32 adhered to the substrate 31 is irradiated through the mask 30.
And a reflecting mirror 18 that does.
【０００５】このような露光装置による基板31に被着し
たレジストの感光は、図１及び図３で示すように電子蓄
積リング10が放射したシンクロトロン放射光Ｓを可変ス
リット形成手段12に照射し、この可変スリット形成手段
12のスリット17を通過したシンクロトロン放射光Ｓを反
射ミラー、例えばトロイダルミラー18により集光すると
ともにその進行方向を変えて基板31のレジスト32にマス
ク30を介して照射することより行なっていた。The exposure of the resist deposited on the substrate 31 by such an exposure apparatus irradiates the variable slit forming means 12 with the synchrotron radiation S emitted from the electron storage ring 10 as shown in FIGS. , This variable slit forming means
The synchrotron radiation light S that has passed through the 12 slits 17 is condensed by a reflection mirror, for example, a toroidal mirror 18, and the traveling direction is changed, and the resist 32 on the substrate 31 is irradiated through the mask 30.
【０００６】なお、図１(c) は、シンクロトロン放射光
のＡ−Ａ線断面図、すなわちスリット17から見て上流側
のシンクロトロン放射光Ｓの強度分布を模式的に示すも
のであり、また、図１(d) はシンクロトロン放射光のＢ
−Ｂ線断面図、すなわちスリット17から見て下流側のシ
ンクロトロン放射光Ｓの強度分布を模式的に示すもので
ある。Incidentally, FIG. 1 (c) is a sectional view of the synchrotron radiation, taken along the line AA, that is, schematically showing the intensity distribution of the synchrotron radiation S on the upstream side as seen from the slit 17. In addition, Fig. 1 (d) shows B of synchrotron radiation.
3 is a cross-sectional view taken along line -B, that is, schematically showing the intensity distribution of the synchrotron radiation S on the downstream side when viewed from the slit 17.
【０００７】ところで、従来の露光装置においては、そ
の可変スリット形成手段12の第１及び第２の水平方向移
動板13,14 はロッド移動装置（図示せず）で駆動されて
水平方向、すなわち紙面左右にそれぞれ独立に移動する
ように構成され、また第１及び第２の鉛直方向移動板1
5,16 は如上のロッド移動装置とは別のロッド移動装置
（図示せず）で駆動されて鉛直方向に移動するように構
成されていた。By the way, in the conventional exposure apparatus, the first and second horizontal moving plates 13 and 14 of the variable slit forming means 12 are driven by a rod moving device (not shown) in the horizontal direction, that is, the paper surface. The first and second vertical moving plates 1 are configured to move independently to the left and right.
5 and 16 were configured to move in the vertical direction by being driven by a rod moving device (not shown) other than the above rod moving device.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、露光装
置を設置した床面が、真の水平面に対して僅かに傾斜し
ていたり可変スリット形成手段12のビームライン11への
取付け誤差等の各種の要因により、図３(d) に示すよう
にシンクロトロン放射光Ｓを上下に線対称に分断する平
面Ｘと可変スリット形成手段12が形成するスリット17を
上下に線対称に分断する平面Ｘ’とが平行にならずにΔ
θの角度をなすことも少なくない。However, various factors such as the floor surface on which the exposure device is installed are slightly inclined with respect to the true horizontal plane, the mounting error of the variable slit forming means 12 to the beam line 11 and the like are caused. Thus, as shown in FIG. 3 (d), a plane X that vertically divides the synchrotron radiation S into a line symmetry and a plane X ′ that vertically divides the slit 17 formed by the variable slit forming means 12 into a line symmetry are formed. Not parallel
It is not uncommon to make an angle of θ.
【０００９】このため、図３(b) 及び図３(c) に示すよ
うに、基板31に被着したレジスト32の表面に投影 (照
射) したシンクロトロン放射光Ｓの強度分布が一様にな
らなかったり、またレジスト32に投影されるシンクロト
ロン放射光Ｓの投影像が、本来は図３(e) のように左右
対称となるべきところ、同図(f) に示すように対称が崩
れるという問題もあった。Therefore, as shown in FIGS. 3 (b) and 3 (c), the intensity distribution of the synchrotron radiation light S projected (irradiated) on the surface of the resist 32 deposited on the substrate 31 is uniform. If it does not, or the projected image of the synchrotron radiation S projected on the resist 32 should originally be symmetrical as shown in FIG. 3 (e), the symmetry is broken as shown in FIG. 3 (f). There was also a problem.
【００１０】本発明は、このような問題を解消する為に
なされたものであって、その目的はシンクロトロン放射
光をその光軸に垂直な面 (レジスト) に左右の対称性良
く投影できるとともに、然も投影されたシンクロトロン
放射光の強度分布が均一になる露光装置の提供にある。The present invention has been made in order to solve such a problem, and its purpose is to project synchrotron radiation on a surface (resist) perpendicular to the optical axis with good left-right symmetry. The object of the present invention is to provide an exposure apparatus which makes the intensity distribution of projected synchrotron radiation uniform.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】前記目的は、図３に示す
ように平らで鉛直方向に切り立った端面21a,22a をそれ
ぞれ対向して水平方向に移動する第１及び第２の水平方
向移動板21,22 と、平らで水平方向に伸びる端面23a,24
a をそれぞれ対向して鉛直方向に移動する第１及び第２
の鉛直方向移動板23,24 とを含んで構成し、互いに対向
する端面(21a,22a),(23a,24a) をそれぞれ離隔して形成
されるスリット19でシンクロトロン放射光Ｓを通過させ
る傾斜機能付き可変スリット形成手段20と、スリット19
を通過して入射したシンクロトロン放射光Ｓを集光する
とともに、このシンクロトロン放射光Ｓの進行方向を変
えて感光性被膜31に照射する反射ミラー11とを含んでな
る露光装置において、第１及び第２の水平方向移動板2
1,22 がそれぞれの端面21a,22a と垂直方向にそれぞれ
独立に傾斜するとともに、第１及び第２の鉛直方向移動
板23,24 がそれぞれの端面23a,24a と垂直方向にそれぞ
れ独立に傾斜するように構成したことを特徴とする露光
装置により達成される。As shown in FIG. 3, the above-mentioned object is to provide first and second horizontal moving plates which horizontally move by facing end faces 21a, 22a which are flat and vertically raised. 21,22 and end faces 23a, 24 that are flat and extend horizontally
The first and second parts that vertically move a facing each other
Of the vertical moving plates 23 and 24, and an inclination for allowing the synchrotron radiation S to pass through the slits 19 formed by separating the end faces (21a, 22a) and (23a, 24a) facing each other from each other. Variable slit forming means 20 with function and slit 19
In the exposure apparatus including: a reflection mirror 11 that collects the synchrotron radiation light S that has passed through and is incident and changes the traveling direction of the synchrotron radiation light S to irradiate the photosensitive film 31. And the second horizontal moving plate 2
1, 22 inclines vertically to the respective end faces 21a, 22a, and the first and second vertical moving plates 23, 24 incline vertically to the respective end faces 23a, 24a. This is achieved by an exposure apparatus having the above structure.
【００１２】[0012]
【作用】本発明の露光装置の傾斜機能付き可変スリット
形成手段20の第１及び第２の水平方向移動板21,22 と第
１及び第２の鉛直方向移動板23,24 は、それぞれが独立
に直線運動するとともに、それぞれの端面21a,22a,23a,
24a と垂直方向に自在に傾斜するように構成されてい
る。The first and second horizontal moving plates 21 and 22 and the first and second vertical moving plates 23 and 24 of the variable slit forming means 20 with a tilt function of the exposure apparatus of the present invention are independent of each other. Linear movement to each end face 21a, 22a, 23a,
It is configured to freely tilt in the direction perpendicular to 24a.
【００１３】したがって、図３(d) に示す如くシンクロ
トロン放射光Ｓを上下に線対称に分断する平面Ｘとスリ
ット19を上下に線対称に分断する平面Ｘ’とがΔθの角
度をなす場合には、平面Ｘ’をΔθだけ傾けて平面Ｘと
平行にすることができる。Therefore, as shown in FIG. 3 (d), when the plane X that vertically divides the synchrotron radiation S vertically and the plane X'that vertically divides the slit 19 vertically symmetrically make an angle of Δθ. In addition, the plane X ′ can be inclined by Δθ so as to be parallel to the plane X.
【００１４】かくして、本発明の露光装置は、シンクロ
トロン放射光をその光軸に垂直な面(例えば、レジスト)
に左右の対称性良く投影できるとともに、然も投影さ
れたシンクロトロン放射光の強度分布を均一にする。Thus, in the exposure apparatus of the present invention, the synchrotron radiation is directed to a surface (eg resist) perpendicular to the optical axis thereof.
It is possible to project with high symmetry to the left and right, and to make the intensity distribution of the projected synchrotron radiation uniform.
【００１５】[0015]
【実施例】以下、本発明の一実施例の露光装置について
図１及び図３を参照しながら説明する。図２は、本発明
の一実施例の露光装置の模式的な要部断面図である。な
お、本明細書においては、同一部品、同一材料等に対し
ては全図をとおして同じ符号を付与してある。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An exposure apparatus according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 2 is a schematic sectional view of an essential part of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. In the present specification, the same parts, the same materials and the like are designated by the same reference numerals throughout the drawings.
【００１６】本発明の一実施例の露光装置は、図１及び
図２により説明した従来の露光装置の可変スリット形成
手段12に換えて、傾斜機能付き可変スリット形成手段20
の主要部をビームライン11内に配設して構成したもので
ある。The exposure apparatus according to one embodiment of the present invention is replaced with the variable slit forming means 12 of the conventional exposure apparatus described with reference to FIGS.
The main part of is arranged in the beam line 11.
【００１７】この傾斜機能付き可変スリット形成手段20
は、シンクロトロン放射光Ｓを殆ど透過しない材料、例
えば銅板よりなり、ビームライン11内で平らで鉛直方向
に切り立ったそれぞれの端面21a,22a が互いに対向する
第１及び第２の水平方向移動板21,22 と、この第１及び
第２の水平方向移動板21,22 と同様に銅板よりなり、ビ
ームライン11内で平らで水平方向に伸びるそれぞれの端
面23a,24a が互いに対向する第１及び第２の鉛直方向移
動板23,24 と、それぞれの軸心を水平にしてビームライ
ン11のロッド挿通孔11a を挿通した状態で、第１( 第
２) の水平方向移動板21(22)の端面21a(22a) と反対側
の端面の両側にそれぞれの一端を連結するとともに、そ
れぞれの他端をビームライン11外で別々のロッド移動装
置（図示せず）に連結した第１（第２）及び第１’（第
２’）の水平方向移動ロッド25(26),25'(26') と、およ
び、それぞれの軸心を鉛直方向にしてビームライン11の
ロッド挿通孔11aを挿通した状態で、第１（第２）の垂
直方向移動板23(24)の端面23a(24a)と反対側の端面の両
側にそれぞれの一端を連結するとともに、それぞれの他
端部をビームライン11外で別々のロッド移動装置（図示
せず）に連結した第１（第２）及び第１’（第２’）の
鉛直方向移動ロッド27(28) ,27'(28') とを含んで構成
したものである。The variable slit forming means 20 with this tilting function
Is made of a material that hardly transmits the synchrotron radiation S, for example, a copper plate, and the first and second horizontal moving plates that have flat end faces 21a and 22a that are flat and vertically standing in the beam line 11 face each other. 21,22 and the first and second horizontal direction moving plates 21,22 are made of copper plates, and the first and second end faces 23a, 24a extending horizontally in the beam line 11 are opposed to each other. The second vertical moving plates 23, 24 and the first (second) horizontal moving plates 21 (22) are inserted in the rod insertion holes 11a of the beam line 11 with their axes centered horizontally. The first (second) connecting one end to each side of the end face opposite to the end face 21a (22a) and connecting the other end to a different rod moving device (not shown) outside the beam line 11 And the first '(second') horizontal movement rods 25 (26), 25 '(26'), And with the respective axial centers being in the vertical direction and inserted through the rod insertion holes 11a of the beam line 11, on the opposite side of the end surface 23a (24a) of the first (second) vertical moving plate 23 (24). A first (second) and a first '(second') in which one end is connected to both sides of the end face and the other end is connected to a different rod moving device (not shown) outside the beam line 11. ) Vertical moving rods 27 (28) and 27 '(28').
【００１８】なお、如上の水平方向移動ロッド( 鉛直方
向移動ロッド) を一つずつ進退自在に挿通させたビーム
ライン11のそれぞれのロッド挿通孔11a は、水平方向移
動ロッド( 鉛直方向移動ロッド) を挿通して一方の端部
をこのロッドの周囲に鑞付けされるとともに、他端をロ
ッド挿通孔11a の周囲に鑞付けされたフレキシブルベロ
ーズ29により密閉されている。In addition, each rod insertion hole 11a of the beam line 11 in which the above horizontal moving rods (vertical moving rods) are inserted so as to be able to move forward and backward one by one, the horizontal moving rods (vertical moving rods) are One end is inserted and brazed around the rod, and the other end is sealed by a flexible bellows 29 which is brazed around the rod insertion hole 11a.
【００１９】したがって、例えば、第１及び第１’の水
平方向移動ロッド25,25'を介して第１の水平方向移動板
21に連結した前述のロッド移動装置（図示せず）を駆動
し、第１及び第１’の水平方向移動ロッド25,25'を同一
方向に同一距離移動すれば、第１の水平方向移動板21は
水平方向に移動、また移動方向が逆若しくは移動方向が
同じでも移動距離を違えれば第１の水平方向移動板21は
その端面21a が鉛直方向から僅かに傾斜することとな
る。Therefore, for example, the first horizontal moving plate is provided via the first and the first 'horizontal moving rods 25, 25'.
If the above-mentioned rod moving device (not shown) connected to 21 is driven to move the first and first 'horizontal moving rods 25, 25' in the same direction by the same distance, the first horizontal moving plate 21 moves in the horizontal direction, and even if the moving direction is opposite or the same moving direction, if the moving distance is different, the end face 21a of the first horizontal moving plate 21 will be slightly inclined from the vertical direction.
【００２０】なお、第２の水平方向移動板22及び第１及
び第２の鉛直方向移動板23,24 も、上述した要領に従っ
て平行移動もそれぞれの端面22a,23a,24a の傾斜を自在
に行なえる。The second horizontal moving plate 22 and the first and second vertical moving plates 23, 24 can also be moved in parallel in accordance with the above-described procedure so that the respective end faces 22a, 23a, 24a can be freely tilted. It
【００２１】かくして、本発明の一実施例の露光装置
は、図３(d) におけるシンクロトロン放射光の水平軸と
可変スリットの水平軸との僅かなずれΔθを解消できる
こととなり、シンクロトロン放射光の基板上での強度分
布を均一になるように調整できることとなる。Thus, the exposure apparatus of one embodiment of the present invention can eliminate the slight deviation Δθ between the horizontal axis of the synchrotron radiation and the horizontal axis of the variable slit in FIG. 3 (d), and the synchrotron radiation can be eliminated. The intensity distribution on the substrate can be adjusted to be uniform.
【００２２】[0022]
【発明の効果】以上説明したように本発明の露光装置
は、シンクロトロン放射光をその光軸に垂直な面に左右
の対称性良く投影できるとともに、然も投影されたシン
クロトロン放射光の強度分布を均一にする。As described above, the exposure apparatus of the present invention is capable of projecting synchrotron radiation on a plane perpendicular to its optical axis with good left-right symmetry, and at the same time, the intensity of the projected synchrotron radiation. Make the distribution uniform.
【００２３】シンクロトロン放射光の強度分布を均一に
してレジストに照射できる露光装置できる。It is possible to provide an exposure apparatus capable of irradiating a resist with a uniform intensity distribution of synchrotron radiation.
【図１】は、光源にシンクロトロン放射光を使用する露
光装置を説明するための図、FIG. 1 is a diagram for explaining an exposure apparatus that uses synchrotron radiation as a light source,
【図２】は、本発明の一実施例の露光装置の模式的な要
部断面図、FIG. 2 is a schematic sectional view of an essential part of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention,
【図３】は、従来の露光装置を説明するための図であ
る。FIG. 3 is a diagram for explaining a conventional exposure apparatus.
10は、電子蓄積リング、 11は、ビームライン、 12は、可変スリット形成手段、 17と19は、スリット、 18は、反射ミラー、 20は、傾斜機能付き可変スリット形成手段、 21は、第１の水平方向移動板、 22は、第２の水平方向移動板、 23は、第１の鉛直方向移動板、 24は、第２の鉛直方向移動板をそれぞれ示す。 10 is an electron storage ring, 11 is a beam line, 12 is a variable slit forming means, 17 and 19 are slits, 18 is a reflecting mirror, 20 is a variable slit forming means with a tilting function, and 21 is a first Horizontal moving plate, 22 is a second horizontal moving plate, 23 is a first vertical moving plate, and 24 is a second vertical moving plate.
Claims (1)
2a) をそれぞれ対向して水平方向に移動する第１及び第
２の水平方向移動板(21,22) と、平らで水平方向に伸び
る端面(23a,24a) をそれぞれ対向して鉛直方向に移動す
る第１及び第２の鉛直方向移動板(23,24) とを含んで構
成し、互いに対向する端面(21a,22a),(23a,24a) をそれ
ぞれ離隔して形成されるスリット(19)でシンクロトロン
放射光(S) を通過させる傾斜機能付き可変スリット形成
手段(20)と、 スリット(19)を通過して入射したシンクロトロン放射光
(S) を集光するとともに、このシンクロトロン放射光
(S) の進行方向を変えて感光性被膜(31)に照射する反射
ミラー(11)とを含んでなる露光装置において、 第１及び第２の水平方向移動板(21,22) がそれぞれの端
面(21a,22a) と垂直方向にそれぞれ独立に傾斜するとと
もに、第１及び第２の鉛直方向移動板(23,24)がそれぞ
れの端面(23a,24a) と垂直方向にそれぞれ独立に傾斜す
るように構成したことを特徴とする露光装置。1. A flat vertical end face (21a, 2a)
2a) facing each other and moving horizontally in the first and second horizontal moving plates (21, 22) and flat end surfaces (23a, 24a) extending in the horizontal direction facing each other and moving vertically Slits (19) which are formed by including the first and second vertical moving plates (23, 24) and are formed by separating end faces (21a, 22a), (23a, 24a) facing each other. Variable slit forming means (20) with a tilt function that allows the synchrotron radiation (S) to pass through, and the synchrotron radiation that enters through the slit (19).
(S) is focused and the synchrotron radiation
In an exposure apparatus comprising a reflection mirror (11) for changing the traveling direction of (S) and irradiating the photosensitive film (31), the first and second horizontal moving plates (21, 22) are respectively provided. The end faces (21a, 22a) are vertically inclined independently of each other, and the first and second vertical moving plates (23, 24) are independently inclined vertically to the respective end faces (23a, 24a). An exposure apparatus having the above structure.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3211706A JPH0552998A (en) | 1991-08-23 | 1991-08-23 | Light exposure device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3211706A JPH0552998A (en) | 1991-08-23 | 1991-08-23 | Light exposure device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0552998A true JPH0552998A (en) | 1993-03-02 |
Family
ID=16610247
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3211706A Withdrawn JPH0552998A (en) | 1991-08-23 | 1991-08-23 | Light exposure device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0552998A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8525075B2 (en) * | 2004-05-06 | 2013-09-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation apparatus |
| CN103901731A (en) * | 2012-12-28 | 2014-07-02 | 上海微电子装备有限公司 | Movable knife edge device |
-
1991
- 1991-08-23 JP JP3211706A patent/JPH0552998A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8525075B2 (en) * | 2004-05-06 | 2013-09-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation apparatus |
| CN103901731A (en) * | 2012-12-28 | 2014-07-02 | 上海微电子装备有限公司 | Movable knife edge device |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981112 |