JPH0552003B2 - - Google Patents
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- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高分子フイルム上にアンダーコートと
してウレタン系樹脂を設け、更にポリビニルアル
コール系樹脂を設け、更に該フイルムの両面に
SiO、SiO2、TiO2、ZrO2、Al2O3、Ta2O5、
Nb2O3、SnO2、Ceo2の群から選ばれた少なくと
も１種以上の金属酸化物層を設け、更に片面もし
くは両面上に導電層として酸化インジウムを主成
分とする被膜を形成した透明積層導電フイルムに
関するものである。Detailed Description of the Invention The present invention provides a polymer film with a urethane resin as an undercoat, a polyvinyl alcohol resin on both sides of the film, and a polyvinyl alcohol resin on both sides of the film.
SiO, SiO2 , TiO2 , ZrO2 , Al2O3 , Ta2O5 ,
A transparent laminate in which a layer of at least one metal oxide selected from the group of Nb 2 O 3 , SnO 2 , and CEO 2 is provided, and a film mainly composed of indium oxide is formed as a conductive layer on one or both sides. It relates to conductive films.
透明導電体としては、以前より酸化スズ、酸化
インジウム膜をガラス基板上に形成したものが知
られており、今日では各種デイスプレイの電極や
透明な面発熱体等に広く利用されている。 As transparent conductors, those formed by forming tin oxide or indium oxide films on glass substrates have been known for some time, and today they are widely used in electrodes of various displays, transparent surface heating elements, and the like.
一方、透明導電フイルムは従来のガラス基板を
高分子フイルムに置き替えたものであり、薄くて
軽量、割れなくフレキシブルであり、加工性が良
く、大面積が可能であるなどガラス基板にはない
種々の特徴を持つており特に液晶用の電極材料と
しては有望である。 On the other hand, transparent conductive film replaces the conventional glass substrate with a polymer film, and has various advantages that glass substrates do not have, such as being thin, lightweight, unbreakable, flexible, easy to process, and can be made into large areas. It has the following characteristics and is particularly promising as an electrode material for liquid crystals.
透明導電体のフイルム化はポリエステルフイル
ムによつて始まつたが、通常２軸延伸法により作
製するため複屈折を生じ、TN（ツイスト・ネマ
テイツク）型液晶表示素子の透明電極として用い
ることができなかつた。 The production of transparent conductor films began with polyester films, but since they are usually produced using a biaxial stretching method, they produce birefringence and cannot be used as transparent electrodes in TN (twisted nematic) type liquid crystal display elements. Ta.
そのため一軸延伸ポリエステルフイルムが液晶
素子用透明電極として検討されているが、これを
用いる場合は光学異方成の軸を液晶素子に用いら
れる偏向板の軸に一致させなくてはならず、作業
性が非常に悪い。 Therefore, uniaxially stretched polyester film is being considered as a transparent electrode for liquid crystal elements, but when using this, the axis of optical anisotropy must be aligned with the axis of the polarizing plate used in liquid crystal elements, making it easier to work with. is very bad.
又、一軸延伸であるため、熱時の収縮率に異方
性があり、光学的にも外観的にも透明電極として
の性能を損なう。 Furthermore, since it is uniaxially stretched, there is anisotropy in the shrinkage rate when heated, which impairs the performance as a transparent electrode both optically and in appearance.
その他セルロース系のフイルムなどが検討され
ているが、耐熱性がなく液晶表示素子の加工工程
でかなり変形するため使用することが困難であ
る。 Other cellulose-based films are being considered, but they are difficult to use because they are not heat resistant and deform considerably during the manufacturing process of liquid crystal display elements.
従つて液晶表示素子用電極としては、特に限定
するものではないが透明性が良く、非晶質で、耐
熱性のあるフイルムを用いなくてはならない。 Therefore, as electrodes for liquid crystal display elements, although not particularly limited, it is necessary to use a film that has good transparency, is amorphous, and has heat resistance.
そこで鋭意研究を行つた結果、複屈折率が位相
差にして40度以内であり、かつ光弾性定数が2.0
mm／Kg以下であり、更に200℃に於ける熱収縮率
が５％以下である高分子フイルムが最も適してい
ることを見出した。 As a result of intensive research, we found that the birefringence is within 40 degrees as a phase difference, and the photoelastic constant is 2.0.
mm/Kg or less, and a polymer film having a heat shrinkage rate of 5% or less at 200°C is most suitable.
しかしながら従来のガラス基板では生じなかつ
たフイルム化に伴なう水蒸気や空気の拡散により
液晶の著しい劣化及び障害が起こることが判明し
た。 However, it has been found that significant deterioration and failure of the liquid crystal occur due to the diffusion of water vapor and air accompanying film formation, which did not occur with conventional glass substrates.
更に一般的に高分子フイルムは傷がつき易く加
工時に多数の傷が入り外観上、透明性の点で大き
は問題となつておりから何らかの保護コートが必
要である。 Furthermore, polymer films are generally easily scratched and many scratches occur during processing, which poses major problems in terms of appearance and transparency, so some kind of protective coating is required.
そこで鋭意検討した結果、水蒸気及び空気バリ
ア層としてSiO、SiO2、TiO2、ZrO2、Al2O3、
Ta2O5、Nb2O3、SnO2、Ceo2のうち、少くとも
１種以上の透明な金属酸化物層と、更にバリヤー
向上のため、空気に対して最も効果の高い高分子
であるポリビニルアルコール系樹脂をベースフイ
ルムにアンダーコートした有機物層の上に設ける
ことによつて、水蒸気や空気の透過を防止し、更
にはもう一方の高分子フイルムに設ける金属酸化
物層によつてベースフイルム、アンダーコートの
ウレタン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂か
らのイオン性不純物の拡散を防止し、且つ高分子
フイルムの保護コートとしての特性を得ることに
よつて液晶の寿命を飛躍的に向上することが出来
る透明積層導電フイルムを見出したので以下に於
て詳細に説明する。 As a result of intensive study, we found that SiO, SiO 2 , TiO 2 , ZrO 2 , Al 2 O 3 ,
It is the most effective polymer against air because it has a transparent metal oxide layer of at least one of Ta 2 O 5 , Nb 2 O 3 , SnO 2 , and CEO 2 and also improves the barrier. By providing polyvinyl alcohol resin on the organic layer undercoated on the base film, it prevents the permeation of water vapor and air, and furthermore, the metal oxide layer provided on the other polymer film prevents the base film from passing through. By preventing the diffusion of ionic impurities from the undercoat urethane resin and polyvinyl alcohol resin, and by obtaining properties as a protective coat for the polymer film, the lifespan of the liquid crystal can be dramatically improved. A transparent laminated conductive film that can be made has been found and will be described in detail below.
まず第１に液晶用としては透明積層導電フイル
ムを用いる際のベースフイルムは、特に限定する
ものではないが厚さにかゝわらず複屈折率は40度
以上の位相差があつてはならない。 First of all, when using a transparent laminated conductive film for liquid crystal, the base film is not particularly limited, but regardless of the thickness, the birefringence must not have a phase difference of 40 degrees or more.
通常TN型液晶表示素子は明視野で用いるが、
フイルムの複屈折が大きな場合、地の部分が着色
し、文字部分のコントラストが小さくなるという
欠点が生じる。 Normally, TN type liquid crystal display elements are used in bright field.
If the birefringence of the film is large, the background portion will be colored and the contrast of the text portion will be reduced.
従つてベースフイルム並びに金属酸化物、有機
物層の複屈折は全くないことが好ましいが、生産
工程に於けるバラツキ等も考慮した場合は複屈折
率の程度は、厚さにかゝわらず位相差にして40度
が限界であることを見出した。 Therefore, it is preferable that the base film, metal oxide, and organic material layers have no birefringence at all, but when considering variations in the production process, the degree of birefringence should be determined by the retardation regardless of the thickness. I found that the limit was 40 degrees.
尚この測定は位相差メータにて金属酸化物、有
機物層を設けたベースフイルムの主軸方向の光波
の速度差から生ずる位相差を測定することにより
得られる。 This measurement is obtained by measuring the phase difference caused by the speed difference of light waves in the principal axis direction of the base film provided with the metal oxide and organic layers using a phase difference meter.
第２の条件として光弾性定数であるが、これは
フイルムに力を加え変形した場合に於ける複屈折
の生じ易さを表わしている定数である。 The second condition is the photoelastic constant, which is a constant that represents the ease with which birefringence occurs when a force is applied to the film and the film is deformed.
一般にフイルム電極を用いた液晶セルに於いて
は、フイルム電極をセツトする場合とか、フイル
ム電極を接着する場合など、フイルム電極に張力
や圧縮応力が加わることがあるが、この際の大き
な複屈折を生じたのでは第１の条件で記した如
く、表示のコントラストが小さくなる。 Generally, in liquid crystal cells using film electrodes, tension or compressive stress may be applied to the film electrodes when setting the film electrodes or bonding the film electrodes. If this occurs, the contrast of the display will become smaller, as described in the first condition.
更に重要な点は、フイルム電極を用いる場合
は、液晶の曲面表示が行なわれる場合があり、こ
の時フイルムにかなりの張力及び圧縮力がかゝる
ため応力下に於いて大きな複屈折を生じる材料で
は、同様の理由により表示コントラストを小さく
するため好ましくない。 An even more important point is that when film electrodes are used, curved liquid crystal display may be performed, and in this case considerable tension and compression forces are applied to the film, so materials that exhibit large birefringence under stress may be used. For the same reason, this is not preferable because it reduces the display contrast.
従つてフイルム電極に用いるベースフイルム並
びに金属酸化物、有機物層は応力下に於いて、出
来る限り複屈折をじない材質が好ましい。 Therefore, the base film, metal oxide, and organic layer used in the film electrode are preferably made of materials that exhibit as little birefringence as possible under stress.
こゝで種々の透明プラスチツクにつき検討した
結果、光弾性定数は2.0mm／Kgが限界であり、こ
れ以下の値が好ましい。 As a result of examining various transparent plastics, the photoelastic constant was found to have a limit of 2.0 mm/Kg, and values below this value are preferred.
一般に光弾性定数の小さな材料としては、ヤン
グ率が大きく、即ち歪みが生難く、組成的には大
きな分極率を有する分子を含まないことが好まし
い。 Generally, as a material with a small photoelastic constant, it is preferable that the Young's modulus is large, that is, it is difficult to cause distortion, and the composition does not contain molecules having a large polarizability.
尚、光弾性定数の測定は光弾性装置を用い、金
属酸化物、有機物層を設けたベースフイルムにか
けた応力と生じた光弾性縞の関係から求められ
る。 Note that the photoelastic constant is measured using a photoelastic device and is determined from the relationship between the stress applied to the base film provided with the metal oxide and organic layer and the photoelastic fringes generated.
第３の条件としてベースフイルムの熱的性質で
あるが、まず透明積層導電フイルムの作製時、金
属酸化物の安定化のため100℃から200℃の範囲で
熱処理を行うが、フイルムの収縮率が大きい場合
には、金属酸化物膜に応力集中が起り、シワやク
ラツクが生じる。 The third condition is the thermal properties of the base film. First, when producing the transparent laminated conductive film, heat treatment is performed in the range of 100°C to 200°C to stabilize the metal oxide, but the shrinkage rate of the film is If it is large, stress concentration occurs in the metal oxide film, causing wrinkles and cracks.
また電極パターンに加工する工程に於いては、
洗浄、乾燥等の工程を数回経るが、電導性金属酸
化物層がついたベースフイルムの熱収縮率が大き
な場合は、パターン精度が損なわれ、その後の加
工に支障をきたす。 In addition, in the process of processing into electrode patterns,
It goes through several processes such as washing and drying, but if the base film with the conductive metal oxide layer has a large thermal shrinkage rate, pattern accuracy will be impaired and subsequent processing will be hindered.
その他液晶表示体を組み込んだ機器が比較的高
温になる場合があり、この様な環境では電極フイ
ルムが収縮・変形し、その機能を損なう恐れがあ
る。 Other devices incorporating liquid crystal displays may reach relatively high temperatures, and in such environments, the electrode film may shrink or deform, potentially impairing its functionality.
この様な理由から、液晶用電極に用いるフイル
ムは耐熱性が必要であり、最低限度200℃に於け
る収縮率が５％以下であることが好ましい。 For these reasons, the film used for the liquid crystal electrode needs to be heat resistant, and preferably has a minimum shrinkage rate of 5% or less at 200°C.
第４には液晶等に用いる場合にはフイルム側か
らの水蒸気や空気の透過を防止しなければならな
い。 Fourthly, when used for liquid crystals or the like, it is necessary to prevent water vapor and air from permeating from the film side.
一般的に用いられるシツフベース系、アゾ系、
アゾキシ系、ビフエニル系、フエニルシクロヘキ
シル系の液晶いずれに於いても、加水分解を受け
易いため水蒸気透過は寿命に直接的な影響を与え
る。 Commonly used Schiff base type, azo type,
All azoxy, biphenyl, and phenylcyclohexyl liquid crystals are susceptible to hydrolysis, so water vapor permeation has a direct effect on their lifetime.
特にシツフベース系では注意が必要である。 Particular care must be taken with Schizuf-based systems.
又空気が透過した場合は液晶内に気泡が生じ大
きな障害となる。 Furthermore, if air passes through the liquid crystal, air bubbles will be generated within the liquid crystal, causing a major problem.
従つてガラス基板を高分子フイルム化するため
には、どうしても水蒸気や空気の透過を防がねば
液晶用途には用いることが出来ない。 Therefore, in order to turn a glass substrate into a polymer film, it is necessary to prevent the permeation of water vapor and air before it can be used for liquid crystal applications.
そこで防止法としては水蒸気や空気をトラツプ
出来るベースフイルムを用いれば良いが、液晶等
に用いる際の最も好ましい条件である複屈折率が
位相差にして40度以内で、かつ光弾性定数が2.0
mm／Kg以下という光学定数を満足するためには無
定形高分子でなければ達成出来ない。 Therefore, as a prevention method, it is possible to use a base film that can trap water vapor and air, but the most preferable conditions when using it for liquid crystals, etc. are that the birefringence is within 40 degrees as a phase difference, and the photoelastic constant is 2.0.
In order to satisfy the optical constant of mm/Kg or less, it can only be achieved using amorphous polymers.
しかしながらこれら無定形高分子フイルムの水
蒸気や空気の透過率は一般的に大きく、液晶劣化
を防止することは困難である。 However, these amorphous polymer films generally have high transmittance to water vapor and air, making it difficult to prevent liquid crystal deterioration.
更には、ベースフイルム、アンダーコートのウ
レタン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂から
のイオン性不純物の拡散によつて液晶の劣化が著
しく促進される。 Furthermore, the deterioration of the liquid crystal is significantly accelerated due to the diffusion of ionic impurities from the base film, the urethane resin of the undercoat, and the polyvinyl alcohol resin.
このためには何らかのバリヤー層が必要である
が、有機物層では実際上イオン性不純物をトラツ
プすることは出来ない。 For this purpose, some kind of barrier layer is required, but an organic layer cannot actually trap ionic impurities.
そこで種々の金属酸化物膜や有機物につき意検
討した結果可視領域に於いて、透過率が85％以上
で、かつ水蒸気透過率が３×10-5ｇ／cm2・
24Hr・atm以下で又空気透過率が５×10-5c.c.／
cm2・24Hr・atm以下の金属酸化物層並びに有機
物層を設けることによつて液晶用の信頼性試験で
ある80℃、90％RHの環境下に於いて、実用化が
可能な基準を大巾に向上する1800時間の使用に耐
えることを見出したものである。 Therefore, after considering various metal oxide films and organic substances, we found that the transmittance in the visible range is 85% or more, and the water vapor permeability is 3 x 10 -5 g/cm 2 .
At less than 24Hr・atm, the air permeability is 5×10 -5 cc/
By providing a metal oxide layer and an organic layer with a thickness of cm2 /24Hr/atm or less, we have significantly exceeded the standards for practical use in the 80℃, 90%RH environment that is the reliability test for liquid crystals. It has been found that it can withstand 1800 hours of use, which improves the width.
これらの金属酸化物層としては、SiO、SiO2、
TiO2、ZrO2、Al2O3、Ta2O5、Nb2O3、SnO2、
CeO2の群から選ばれた少なくとも一種以上を用
い、次に空気バリヤーとしての有機物層は分子間
力が強く官能基濃度も高いポリビニルアルコール
樹脂が最も好ましく上記の金属酸化物層で有機
物、ベースフイルムをサンドイツチすることによ
りその目的を達するができる。 These metal oxide layers include SiO, SiO 2 ,
TiO2 , ZrO2 , Al2O3 , Ta2O5 , Nb2O3 , SnO2 ,
At least one selected from the group of CeO 2 is used, and the organic material layer as an air barrier is most preferably polyvinyl alcohol resin, which has strong intermolecular forces and a high concentration of functional groups. You can reach that goal by making sand german.
ここでバリヤー層として金属酸化物と有機物を
組み合せる理由であるが、金属酸化物は本来、拡
散以外にガスの透過はなく、理想的な物質である
が、一般に金属酸化物を高分子フイルム上に形成
する方法としては、気相法であるスパツタリング
や蒸着法等で作製するが、装置内にある微粒子、
ベースフイルムの汚れや作成時の応力等で生じる
ピンホールを皆無にすることは不可能であり、金
属酸化物の単独層だけでは充分なバリヤー層とは
なり得ない。 The reason for combining a metal oxide and an organic material as a barrier layer here is that metal oxides are ideal materials because they do not allow gas to pass through other than by diffusion, but metal oxides are generally coated on polymer films. As for the method of forming it, it is produced by sputtering or vapor deposition method, which is a gas phase method, but the fine particles in the equipment,
It is impossible to completely eliminate pinholes caused by contamination of the base film, stress during production, etc., and a single layer of metal oxide alone cannot serve as a sufficient barrier layer.
次に空気バリヤー層として有機物を単独層とし
て設けた場合であるが、この目的に適する有機物
としては、セルロース系やポリアクリルニトリル
系、ポリ塩化ビニリデン系、ポリアミド系樹脂等
があるが、分子間力が強く官能基濃度が高いポリ
ビニルアルコール系樹脂が最も好ましい。 Next is the case where an organic material is provided as a single layer as an air barrier layer. Examples of organic materials suitable for this purpose include cellulose, polyacrylonitrile, polyvinylidene chloride, and polyamide resins. Most preferred is a polyvinyl alcohol resin that has a strong functional group concentration and a high functional group concentration.
しかしながらポリビニルアルコール系樹脂は親
水性であるため高分子フイルムには直接強固には
付着させることは出来ず、又高湿度下では水を吸
着し、水素結合を切断させ、構造の緻密性が損な
われ空気バリヤー性が急激に低下する。 However, since polyvinyl alcohol resin is hydrophilic, it cannot be firmly attached directly to polymer films, and under high humidity it adsorbs water, breaks hydrogen bonds, and impairs the denseness of the structure. Air barrier properties deteriorate rapidly.
更にポリビニルアルコール樹脂は導電膜のエツ
チング液である塩酸におかされるため、単独では
用いるこのは出来ない。 Furthermore, polyvinyl alcohol resin cannot be used alone because it is exposed to hydrochloric acid, which is an etching solution for conductive films.
そこで以上の欠点を改善するため鋭意検討した
結果、まず基板である高分子フイルムに空気バリ
ヤー性に最も優れたポリビニルアルコール系樹脂
を強固に付着させるためウレタン系樹脂を用い、
更に高湿度下での劣化を防止し、更に耐塩酸性の
ため金属酸化物をポリビニルアルコール系樹脂上
に形成し、更にもう一方の高分子フイルム面上に
も設けることによつて水蒸気、空気、イオン性不
純物の防止等が出来て、欠点が全て解決出来るこ
とを見い出したものである。 Therefore, as a result of intensive study to improve the above drawbacks, we first used urethane resin to firmly adhere polyvinyl alcohol resin, which has the best air barrier properties, to the polymer film that is the substrate.
Furthermore, metal oxides are formed on the polyvinyl alcohol resin to prevent deterioration under high humidity conditions and to provide resistance to hydrochloric acid, and are also provided on the other polymer film surface to prevent water vapor, air, and ions. It has been discovered that it is possible to prevent sexual impurities and solve all of the drawbacks.
これらの金属酸化物層の厚さは特に限定しない
が、100〜5000Åの範囲が好ましい。 The thickness of these metal oxide layers is not particularly limited, but is preferably in the range of 100 to 5000 Å.
厚さが100Å未満では連続的な膜を形成しない
ため目的とする水蒸気や空気の透過の防止を達成
することは困難である。 If the thickness is less than 100 Å, a continuous film will not be formed, making it difficult to achieve the desired prevention of water vapor and air permeation.
又5000Åを越えた厚さでは、酸化物層にクラツ
クが入つたりして好ましくない。 Moreover, if the thickness exceeds 5000 Å, cracks may occur in the oxide layer, which is undesirable.
バリヤー層としての有機物層の厚さは特に限定
するものではないが、性能面からは、余り薄い場
合は本来のバリヤーコートとしての性能が期待出
来なくなるため、0.5μｍ以上の厚みは必要であ
る。 The thickness of the organic material layer as a barrier layer is not particularly limited, but from a performance standpoint, if it is too thin, the original performance as a barrier coat cannot be expected, so a thickness of 0.5 μm or more is required.
又、20μｍを越える厚みでは、応力が強く、カ
ール等の問題が生じる。 Moreover, if the thickness exceeds 20 μm, stress will be strong and problems such as curling will occur.
又、導電層として酸化インジウムを主成分とす
る複膜を形成する前、耐擦過傷性向上を目的に、
高分子フイルム上に該フイルムに適しなアンダー
コートを設けてもさしつかえない。 In addition, before forming a multilayer film mainly composed of indium oxide as a conductive layer, for the purpose of improving scratch resistance,
An undercoat suitable for the polymeric film may be provided on the polymeric film.
以上記した様に従来のガラス基板に替えて高分
子フイルムベースによる透明導電性フイルムを用
いることにより、薄く、フレキシブルである新し
いタイプの液晶素子の作製が可能になると共に、
生産面に於いては取扱いが容易で、打抜き加工も
可能であり、生産性を飛躍的に向上することが出
来る。 As described above, by using a transparent conductive film based on a polymer film in place of a conventional glass substrate, it becomes possible to create a new type of liquid crystal element that is thin and flexible.
In terms of production, it is easy to handle and can be punched, making it possible to dramatically improve productivity.
更に性能面ではフイルム側からの水蒸気や空気
透過並びに有機物層からのイオン性不純物を防止
したため、寿命の大巾な向上が計られ、又高分子
フイルムの欠点である容易に傷が入る点をも改善
したものである。 Furthermore, in terms of performance, it prevents water vapor and air permeation from the film side as well as ionic impurities from the organic layer, which significantly improves the service life and also eliminates the drawback of polymer films, which are easily scratched. This is an improvement.
以上主として液晶用の電極材料について述べた
が、高分子フイルム上に有機物を設け、該高分子
フイルムの両面上に特定の有機物層と金属酸化物
層を設け、更に片面もしくは両面上に酸化インジ
ウムを主体とする被膜を有した透明積層導電フイ
ルムは、他の用途においてもフイルム面からの水
蒸気や空気並びにイオン性不純物の拡散を防ぎ、
例えば種々の電気特性、信頼性等の低下を防止す
ることが出来、液晶用の電極材料同様きわめて有
用なものである。 The above has mainly described electrode materials for liquid crystals, but an organic material is provided on a polymer film, a specific organic material layer and a metal oxide layer are provided on both sides of the polymer film, and indium oxide is further provided on one or both surfaces. The transparent laminated conductive film with the main coating prevents the diffusion of water vapor, air, and ionic impurities from the film surface in other applications as well.
For example, it can prevent deterioration of various electrical properties, reliability, etc., and is extremely useful like electrode materials for liquid crystals.
以下、実施例により更に詳細に説明する。 Hereinafter, it will be explained in more detail with reference to Examples.
実施例
ベースフイルムとしては、100μｍ厚のポリエ
ーテルスルホンフイルムを用い、アンダーコート
としてウレタン樹脂（武田薬品工業(株)タケネート
Ａ−３）を5μｍ厚に、更にポリビニルアルコー
ル樹脂を5μｍ厚にコートした。Examples A polyether sulfone film with a thickness of 100 μm was used as the base film, and as an undercoat, it was coated with a urethane resin (Takenate A-3, manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.) in a thickness of 5 μm, and further with a polyvinyl alcohol resin in a thickness of 5 μm.
更にこの両面に金属酸化物としてTa2O5をスパ
ツタ法で各500Å厚に形成し、次に導電層として
酸化インジウムをスパツタ法により250Å厚に設
け透明積層導電フイルムを作成した。 Furthermore, Ta 2 O 5 was formed as a metal oxide on both sides by sputtering to a thickness of 500 Å each, and then indium oxide was formed as a conductive layer to a thickness of 250 Å by sputtering to produce a transparent laminated conductive film.
この際の金属酸化物（Ta2O5）層までを含めた
フイルムの複屈折率は20度であり、光弾性定数は
1.75mm／Kgであつた。 At this time, the birefringence of the film including the metal oxide (Ta 2 O 5 ) layer is 20 degrees, and the photoelastic constant is
It was 1.75mm/Kg.
又、金属酸化物、有機物層を付与したフイルム
の水蒸気透過率は３×10-5ｇ／cm2・24Hr・atm
であり、空気透過率は５×10-5c.c.／cm2・24Hr・
atmであり、可視光領域に於ける透過率は87％で
あつた。 In addition, the water vapor permeability of the film provided with metal oxide and organic layers is 3×10 -5 g/cm 2・24Hr・atm
and the air permeability is 5×10 -5 cc/cm 2・24Hr・
ATM, and the transmittance in the visible light region was 87%.
又比較例として同一のベースフイルムに同様な
方法で直接酸化インジウムを250Å厚につけた透
明積層導電膜を作成した。 As a comparative example, a transparent laminated conductive film was prepared by directly applying indium oxide to a thickness of 250 Å on the same base film using the same method.
尚、この際のベースフイルムの水蒸気透過率は
１×10-2ｇ／cm2・24Hr・atm、又空気透過率は
２×10-2c.c.／cm2・24Hr・atmであつた。 The water vapor permeability of the base film at this time was 1×10 -2 g/cm 2 ·24 Hr·atm, and the air permeability was 2×10 -2 cc/cm 2 ·24 Hr·atm.
以上の２種類の積層導電フイルムを用いて液晶
表示用のセルを作製し、80℃、90％RHの環境下
で信頼性試験を行つた。 A cell for a liquid crystal display was fabricated using the above two types of laminated conductive films, and a reliability test was conducted under an environment of 80°C and 90% RH.
この結果金属酸化物であるTa2O5を設けたセル
では、実用化が可能な基準を大巾に上回る1800時
間の使用が可能であつた。 As a result, a cell equipped with Ta 2 O 5 , a metal oxide, could be used for 1800 hours, far exceeding the standard for practical use.
一方、ベースフイルムに直接酸化インジウム薄
膜を付した比較例より作製したセルでは、約500
時間で使用が不可能となつた。 On the other hand, in a comparative example in which the indium oxide thin film was directly attached to the base film, the
It became unusable over time.
以上実施例で示した様に水蒸気や空気並びにイ
オン性不純物の透過を防止する金属酸化物層や有
機物層を設けることによつて、液晶の寿命を飛躍
的に向上出来る透明積層導電フイルムであること
がわかる。 As shown in the examples above, the transparent laminated conductive film can dramatically improve the lifespan of liquid crystals by providing a metal oxide layer or an organic layer that prevents the permeation of water vapor, air, and ionic impurities. I understand.
Claims (1)
としてウレタン系樹脂層を設け、更にポリビニル
アルコール系樹脂層を設け、更に該フイルムの両
面に金属酸化物のSiO、SiO2、TiO2、ZrO2、
Al2O3、Ta2O5、Nb2O3、SnO2、Ceo2、の群から
選ばれた少なくとも１種以上の金属酸化物層を設
け、更に該フイルムの片面もしくは両面上に導電
層として酸化インジウムを主成分とする被膜を形
成したことを特徴とする液晶用透明積層導電フイ
ルム。1. A urethane resin layer is provided as an undercoat on one side of a transparent polymer film, a polyvinyl alcohol resin layer is further provided, and metal oxides such as SiO, SiO 2 , TiO 2 , ZrO 2 ,
A layer of at least one metal oxide selected from the group consisting of Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 , Nb 2 O 3 , SnO 2 , and CEO 2 is provided, and a conductive layer is further provided on one or both sides of the film. A transparent laminated conductive film for liquid crystals, characterized by forming a film containing indium oxide as a main component.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59201887A JPS6179646A (en) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | Transparent laminated conductive film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59201887A JPS6179646A (en) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | Transparent laminated conductive film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6179646A JPS6179646A (en) | 1986-04-23 |
| JPH0552003B2 true JPH0552003B2 (en) | 1993-08-04 |
Family
ID=16448483
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59201887A Granted JPS6179646A (en) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | Transparent laminated conductive film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6179646A (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5346752A (en) * | 1990-10-17 | 1994-09-13 | Mitsubishi Kasei Corporation | Heat-resistant moistureproof film |
| US5149591A (en) * | 1991-03-28 | 1992-09-22 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Blends of polyvinyl alcohol and polyurethane water dispersions for increased humidity resistance of water soluble white sidewall paints |
| KR100905478B1 (en) * | 2001-10-05 | 2009-07-02 | 가부시키가이샤 브리지스톤 | Transparent conductive Film and Touch panel |
-
1984
- 1984-09-28 JP JP59201887A patent/JPS6179646A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6179646A (en) | 1986-04-23 |
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