JPH0548202B2

JPH0548202B2 -

Info

Publication number: JPH0548202B2
Application number: JP27691785A
Authority: JP
Inventors: Takeo Mogi; Hiroshi Ooshiba; Yasunari Sakuraba
Original assignee: Hodogaya Chemical Co Ltd
Current assignee: Hodogaya Chemical Co Ltd
Priority date: 1985-12-11
Filing date: 1985-12-11
Publication date: 1993-07-20
Also published as: JPS62138404A

Description

【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕芝地の雑草防除用除草剤に関する。〔従来の技術〕日本芝はゴルフ場、公園、路傍、一般家庭の庭
等いたるところで栽培され、美観の保持、防災、
リクリエーシヨンの場としてますます重要性が増
してきている。芝生の生育管理上、特に雑草の防
除が重要であるが、侵入してくる雑草種は多く、
それぞれ生理生態を異にするため、根絶の難かし
い多年生雑草が優先する芝生が多くなつてきてい
る。最近、広汎に侵入している雑草はホワイトクロ
ーバー、セイヨウタンポポ、ギシギシ、カタバ
ミ、オオバコ等の広葉多年草とヒメクグ、ハマス
ゲ、スギナ等、カヤツリグサ科、トクサ科の多年
草である。式(1)−および式(1)−で示される化合物群は
いずれも上記の雑草に程度の差はあつてもかなり
の活性を示す。しかしながら、芝生に安全に、こ
れらの雑草を一回の散布で根絶する薬剤はなく、
数種の組合せでも、特にセイヨウタンポポ、ギシ
ギシ、オオバコ、スギナ、ヒメグサ、ハマスゲは
一時的に枯れる程度で、しばらくすると再生して
しまう。このため、雑草の生えているところだけ多量に
投入するスポツト処理がなされることが多いが、
手間がかかるだけでなく、周囲の芝生に悪影響を
及ぼし、時には裸地となつてしまう。なお侵入量
の多い場所では、現実にはスボツト処理が不可能
と言つても良い。一方、式(2)で示される化合物は古くから知られ
た除草剤で、現在、非農耕地、樹園地等で少量使
われている。日本芝への適用例はなく、本発明者
らの検討によると、日本芝はかなり式(2)の化合物
に耐性を示し、特にコウライシバでは著るしい耐
性を示す。その性格は、種子にはほとんど非選択
的に活性が高いが、生育ステージが進むと急激に
活性が低下する、いわゆる土壌処理型の除草剤で
あつて、式(1)−および式(1)−の化合物群が茎
葉処理剤であるのと異なつている。〔発明が解決しようとする課題〕本発明はこれらホルモン型除草剤の欠点を解消
し、防除の難かしい広葉、トクサ科、カヤツリグ
サ科の多年草を容易に防除し、しかも芝生には何
らの悪影響も与えない優れた除草剤を提供するこ
とを目的としている。〔課題を解決するための手段〕本発明者らは上記の課題を達成するべく、数多
くの除草剤の組み合わせを検討した結果、異なつ
た処理適期を有する式(1)−および式(1)−の化
合物群（以後化合物(1)群と略称する）と式(2)の化
合物を組み合わせることによつて、雑草の発生前
から生育後期まで、それぞれの単剤が持つ除草活
性をはるかに越えた雑草活性が得られることを見
い出し、本発明を完成するに至つた。すなわち本発明は、除草活性成分として、一般
式(1)−または(1)−で示される化合物と式(2)で
示される化合物とを含有する除草剤である。（式(1)−中Ａは炭素原子または窒素原子を示
し、Ａが炭素原子のとき、Ｘが水素原子ならばＹ
は塩素原子であり、Ｘが塩素原子またはメチル基
ならばＹは水素原子である。R₁は水素原子また
はメチル基、R₂は低級アルキル基（C₂〜C₄）、ブ
トキシエチル基またはアルカリ金属を示す。Ａが
窒素原子のとき、ＸおよびＹは塩素原子であり、
R₁は水素原子、R₂は低級アルキル基（C₂〜C₄）、
ブトキシエチル基またはアルカリ金属を示す。式(1)−中Ｘは塩素原子またはメトキシ基、Ｒ
は水素原子、低級アルキル基（C₂〜C₄）または
アルカリ金属を示す。）本発明ではそれぞれの単剤が持つ除草活性をは
るかに越えた除草活性を得ることができるが、日
本芝に対しては化合物(1)群単用と同じ害徴にとど
まり、害徴が増すことはない。したがつて化合物
(1)群の投薬量を芝生に安全な水準にとどめなが
ら、化合物(2)を加えることにより、雑草の防除能
力を極限まで高めることができる。すなわち、芝
生と雑草間の高度の選択性を得ることができる。
さらに本発明においては、速効性や耐降雨性も高
まり、取扱いの簡単な粒剤、微粒剤とすることも
容易で、実用的価値をさらに高めることができ
た。本発明の効果は、化合物(1)群と化合物(2)が１：
10〜10：１の広い範囲にわたつて認められ、雑草
種、散布時期、剤型あるいは防除コスト等の目的
別に、適切な化合物、混合割合を選択することが
できる。処理量は防除目的とする雑草種、生育程度、使
用剤型、化合物によつて異なるが、化合物(1)群
が、有効成分にして、10a当り10ｇ〜500ｇで、
化合物(2)が50ｇないし1000ｇであるが、好ましく
はいずれも20ｇないし500ｇであり、化合物(2)が
500ｇを越える場合には、粒剤施用でのハマスゲ
の防除を目的としたときである。散布に際しては、現地混用も採用でき、また、
水和剤、乳剤、粉剤、微粒剤等に一体製剤するこ
ともできる。散布地の状況、労力およびコスト等
に対応して、適切な剤型を選ぶことができる。一体製剤の場合、キヤリアーとしては不活性な
有機溶媒、たとえばキシレン、シクロヘキサノン
等が使用できる。固体担体としては、たとえばク
レー、タルク、ベントナイト等が使用できる。乳
化剤、分散剤としては、陰イオン系あるいは非イ
オン系の界面活性剤を使用することができる。〔実施例〕以下に実施例をあげて、本発明をさらに具体的
に示す。本発明の代表的化合物について、構造式、化合
物No.、試験例で使用した剤型と有効成分の含有量
を表１に示した。

【表】

【表】製剤例１化合物(2)の50％水和剤化合物(2)の90部にホワイトカーボン３部とカオ
リンクレー７部を加えて、ジエツトミルで微粉砕
し、得られた微粉砕物55.6部にカオリンクレー
38.4部、分散剤としてソルポール5039（東邦化学
工業株式会社−以下東邦化学と略称する、登録商
標）４部およびソルポール5050を２部加え、混合
機を使用して良く混合し、化合物(2)の50％水和剤
を得た。（部はいずれも重量部を示す。以下同じ）製剤例２化合物No.１の50％乳剤化合物No.１の50部にキシレン30部とシクロヘキ
サノン10部を加えて攪拌溶解後、ソルポール
800A（東邦化学登録商標）10部を加えて撹拌溶解
し、化合物No.１の50％乳剤を得た。製剤例３化合物No.３の50％水和剤化合物No.３の50部に、ホワイトカーボン３部と
クレー16部を加えて擂潰機で粉砕し、これに粉末
界面活性剤のソルポール5039を４部、ソルポール
5050（東邦化学登録商標）を２部およびクレー25
部を追加し、良く混合し化合物No.３の50％水和剤
を得た。製剤例４化合物No.３化合物(2)25％ 25％水和剤製剤例１と３で得られた化合物(2)および化合物
No.３の50％水和剤を、それぞれ５部ずつ良く混合
して、化合物No.３の25％と化合物(2)の25％とを含
有する水和剤を得た。（これを製剤No.11と称す
る）。製剤例５化合物No.５化合物(2)３％５％粒剤化合物(2)の50％水和剤を10部、クレー60部およ
びベンナイト26部を混合してニーダーに移し、化
合物No.５の50％乳剤を６部とポリオキシエチレン
ドデシルエーテル0.7部を水で希釈してニーダー
中に注加した。練つた後に0.7mmスクリーンの造
粒機にかけ、取り出してから乾燥して、化合物No.
５の３％と化合物(2)の５％とを含有する粒剤を得
た。（これを製剤No.12と称する）製剤例６化合物No.８化合物(2)１％５％粒剤化合物(2)の50％水和剤を10部、クレー60部およ
びベントナイト29部を嵌合し、化合物No.８の１部
を水に希釈して加え、ニーダーで練つてから造粒
機にかけて造粒し、乾燥して、化合物No.８の１％
と化合物(2)の５％を含有する粒剤を得た。（これ
を製剤No.13と称する）製剤例７化合物No.６化合物(2)２％２％微粒剤炭酸カルシウム微粒とゼオライト微粒（48〜
150メツシユ）を２：１に混合したキヤリアー92
部をスピードニーダーに入れ、撹拌中に化合物No.
６の２部をゆつくり滴下した後、ポリオキシエチ
レンドデシルエーテル１部を粘性が下がる程度の
少量の水で希釈したものを滴下し、さらに化合物
(2)の50％水和剤４部を入れてコーデイングし、最
後にホワイトカーボン１部を加え、しばらく撹拌
を続けた後、取り出して風乾し、化合物No.６の２
％と化合物(2)の２％とを含有する微粒剤を得た。
（これを製剤No.14と称する）試験例１洪積火山灰土で充填した200cm²の素焼鉢にオオ
バコとセイヨウタンポポをそれぞれ３株ずつ移植
し、生育管理した。活着後の生育盛期時に、化合
物群(1)と化合物(2)の所定希釈液に、展着剤として
ポリオキシエチレンドデシルエーテルを散布濃度
300ppmとなるように添加（乳剤は除く）し、100
／10aの液量で、スプレーガを使用し均一に散
布処理した。散布１ケ月後に観察調査した結果を
表２に示す。評価の基準は下記の通りである。０：雑草無処理同様またはシバに害徴なし１：雑草10％防除〃シバに10％害徴２：雑草20 〃〃シバに20 〃５：雑草50 〃〃シバに50 〃 10：雑草完全防除〃シバ完全枯死

【表】

【表】試験例２茎葉処理試験（混合比、速度）試験例１と同じく育てたオオバコを使い、化合
物No.１および化合物(2)の所定希釈液を単用および
混用で散布し、混合比と薬効速度の検討を行つ
た。散布２週後と１ケ月後に調査した結果を表３に
示す。評価は試験例１に準じて行つた。

【表】表２、表３の結果から、化合物(1)群と化合物(2)
を組み合わせることによつて、それぞれの単剤が
持つ除草活性をはるかに越えた除草活性が得られ
ることがわかる。また、両者を混合する場合の、
使用可能な混合比範囲は広く、しかも薬効も早く
発現することがわかる。試験例３フイールドテスト（現地混用）雑草の多いノシバ地に１区４m²の試験区を設定
し、各薬剤の所定希釈液に、展着剤としてポリオ
イキシエチレンドデシルエーテルを散布濃度
300ppmとなるように添加し、150／10aの液量
で、手押加圧噴霧器を使用して区内に均一に散布
した。散布１ケ月後に観察による量調査を行つた
結果を表４に示す。評価は各草種別に無処理と比較して行い、評価
の規準は試験例１に準じた。なお、処理時におけ
る除草の状況は下記の通りであつた。種名区内占有率(%) 草丈（cm）ホワイトクローバ 10〜30 15 セイヨウタンポポ５〜20 ５〜20 カタバミ５〜10 ５スギナ 10〜20 15〜25

【表】表４の結果からフイールドテストにおいても、
それぞれの単剤が持つ除草活性をはるに越えた雑
草活性が得られることがわかる。しかも、ノシバ
への害徴は認められない。試験例４フイールドテスト（一体製剤）雑草の多いコウライシバ地に１区10m²の試験区
を設定し、化合物(1)群と化合物(2)を一体製剤した
薬剤を、液での散布剤は試験例３と同様の方法
で、また粒剤、微粒剤は手まきで、区内に均一に
散布した。散布１ケ月後に調査を行つた結果を表
５に示す。評価方法は試験例３と同様とした。なお、処理時ににおける除草の状況は下記の通
りであつた。種名区内占有陸（％）草丈（cm）チドメグサ 10〜20 ５セイヨウタンポポ５〜20 10〜20 オオバコ５〜20 ５〜10 ヒメクグ５〜10 10〜20

【表】

〔発明の効果〕

本発明は、以上説明したように構成されている
ので、発生前から成育後期まで、それぞれの単離
が持つ除草活性をはるかに越えた除草活性を得る
ことができ、しかも日本芝に対する害徴は単用の
場合と同程度に低い。そのため、高度の選択性を
有し、また、散布に際して剤型を広く選ぶことが
でき、速効性も有するので、従来防除の難しかつ
た広葉、トクサ科、カヤツリグサ科の多年雑草
を、芝生に悪影響を与えずに防除することができ
る。

Claims

【特許請求の範囲】１除草活性成分として一般式(1)−または(1)−
で示される化合物と、式(2)で示される化合物と
を含有する除草剤。（式(1)−中Ａは炭素原子または窒素原子を示
し、Ａが炭素原子のとき、Ｘが水素原子ならばＹ
は塩素原子であり、Ｘが塩素原子またはメチル基
ならばＹは水素原子である。R₁は水素原子また
はメチル基、R₂は低級アルキル基（C₂〜C₄）、ブ
トキシエチル基またはアルカリ金属を示す。Ａが
窒素原子のとき、ＸおよびＹは塩素原子であり、
R₁は水素原子、R₂は低級アルキル基（C₂〜C₄）、
ブトキシエチル基またはアルカリ金属を示す。式(1)−中Ｘは塩素原子またはメトキシ基、Ｒ
は水素原子、低級アルキル基（C₂〜C₄）または
アルカリ金属を示す。）