JPH0548063A - カラー固体撮像素子及びその製造方法 - Google Patents
カラー固体撮像素子及びその製造方法Info
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- JPH0548063A JPH0548063A JP31445391A JP31445391A JPH0548063A JP H0548063 A JPH0548063 A JP H0548063A JP 31445391 A JP31445391 A JP 31445391A JP 31445391 A JP31445391 A JP 31445391A JP H0548063 A JPH0548063 A JP H0548063A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- color
- pattern
- color filter
- forming
- light receiving
- Prior art date
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- Pending
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- Optical Filters (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Color Television Image Signal Generators (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】カラーフィルタ層全体を平坦化し、かつカラー
フィルタ層全体の膜厚を低減して分光特性に優れた高感
度のカラー固体撮像素子を得ることにある。 【構成】基板100上に素子平坦化膜103を設け、こ
の平坦化膜上の受光部101に対応する領域に1色目の
フィルタ106を設け、このフィルタ106に混色防止
保護膜104を被覆すると共に、2色目のフィルタ形成
領域の混色防止保護膜104に開口部を設けてその跡に
2色目のフィルタ107を設ける。これにより、フィル
タ106とフィルタ107とは平坦化膜103の同一平
面上に設けられる。さらに混色防止保護膜104´を設
けて3色目のフィルタ108を設け、最後に表面保護膜
105を形成する。混色防止保護膜や表面保護膜は、高
分子材料あるいは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む
光硬化性組成物より形成される。
フィルタ層全体の膜厚を低減して分光特性に優れた高感
度のカラー固体撮像素子を得ることにある。 【構成】基板100上に素子平坦化膜103を設け、こ
の平坦化膜上の受光部101に対応する領域に1色目の
フィルタ106を設け、このフィルタ106に混色防止
保護膜104を被覆すると共に、2色目のフィルタ形成
領域の混色防止保護膜104に開口部を設けてその跡に
2色目のフィルタ107を設ける。これにより、フィル
タ106とフィルタ107とは平坦化膜103の同一平
面上に設けられる。さらに混色防止保護膜104´を設
けて3色目のフィルタ108を設け、最後に表面保護膜
105を形成する。混色防止保護膜や表面保護膜は、高
分子材料あるいは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む
光硬化性組成物より形成される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、カラー固体撮像素子及
びその製造方法に係り、特に酸発生剤を含んだ材料から
なる光硬化性保護膜を用いて、平坦性に優れた保護膜層
を形成し、かつ同一平面上に異なる色のカラーフィル
タ、あるいはハレーション防止パターンとカラーフィル
タとを形成することにより、固体撮像素子に形成するカ
ラーフィルタ層全体の膜厚を低減することで、素子特性
を向上するに好適なカラー固体撮像素子及びその製造方
法に関する。
びその製造方法に係り、特に酸発生剤を含んだ材料から
なる光硬化性保護膜を用いて、平坦性に優れた保護膜層
を形成し、かつ同一平面上に異なる色のカラーフィル
タ、あるいはハレーション防止パターンとカラーフィル
タとを形成することにより、固体撮像素子に形成するカ
ラーフィルタ層全体の膜厚を低減することで、素子特性
を向上するに好適なカラー固体撮像素子及びその製造方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体基板上に、パッシベーション膜で
覆われた光電変換を行なう受光部、及びこの受光部で発
生した電気信号を取り出す走査部が形成されているCC
D形やMOS形等の固体撮像素子において、前記撮像素
子の受光部にカラーフィルタを一体的に形成したカラー
固体撮像素子が知られている。
覆われた光電変換を行なう受光部、及びこの受光部で発
生した電気信号を取り出す走査部が形成されているCC
D形やMOS形等の固体撮像素子において、前記撮像素
子の受光部にカラーフィルタを一体的に形成したカラー
固体撮像素子が知られている。
【0003】例えばMOS形カラー固体撮像素子につい
ては、テレビジョン学会誌、第37巻、第7号、第55
3〜558頁(1983年)に、CCD形カラー固体撮
像素子については、東芝レビュー、第43巻、第7号、
第548〜552頁(1988年)に記載されている。
ては、テレビジョン学会誌、第37巻、第7号、第55
3〜558頁(1983年)に、CCD形カラー固体撮
像素子については、東芝レビュー、第43巻、第7号、
第548〜552頁(1988年)に記載されている。
【0004】前者においては、固体撮像素子表面の保護
及び凹凸の低減のために下地膜としてPGMA(ポリグ
リシジルメタクリレート)膜を形成し、この膜を介し
て、固体撮像素子基板上に1色目のシアンのカラーフィ
ルタを形成し、次いでPGMA膜をフィルタ層間の保護
膜として用いて2色目のイエロのカラーフィルタを積層
形成して、シアン、イエロ、グルーン(シアンとイエロ
の二層フィルタで構成)、ホワイト(フィルタ無し)の
4色のカラーフィルタを形成し、最上層にカラーフィル
タの表面保護層としてPGMA膜を形成すると共に、各
層ごとにPGMA膜を露光、現像して素子のボンディン
グパッド部上を開口し、カラーフィルタ層を形成してい
る。
及び凹凸の低減のために下地膜としてPGMA(ポリグ
リシジルメタクリレート)膜を形成し、この膜を介し
て、固体撮像素子基板上に1色目のシアンのカラーフィ
ルタを形成し、次いでPGMA膜をフィルタ層間の保護
膜として用いて2色目のイエロのカラーフィルタを積層
形成して、シアン、イエロ、グルーン(シアンとイエロ
の二層フィルタで構成)、ホワイト(フィルタ無し)の
4色のカラーフィルタを形成し、最上層にカラーフィル
タの表面保護層としてPGMA膜を形成すると共に、各
層ごとにPGMA膜を露光、現像して素子のボンディン
グパッド部上を開口し、カラーフィルタ層を形成してい
る。
【0005】また、後者では、シアン、イエロ、マゼン
タの3色のカラーフィルタを前者と同様にしてPGMA
膜を素子平坦化膜、フィルタ層間の保護膜、カラーフィ
ルタの表面保護膜として用いて、シアン、イエロ、グル
ーン(シアンとイエロの二層フィルタで構成)、マゼン
タの4色のカラーフィルタを形成し、各層ごとにPGM
A膜を露光、現像して素子のボンディングパッド部上を
開口し、カラーフィルタ層を形成している。
タの3色のカラーフィルタを前者と同様にしてPGMA
膜を素子平坦化膜、フィルタ層間の保護膜、カラーフィ
ルタの表面保護膜として用いて、シアン、イエロ、グル
ーン(シアンとイエロの二層フィルタで構成)、マゼン
タの4色のカラーフィルタを形成し、各層ごとにPGM
A膜を露光、現像して素子のボンディングパッド部上を
開口し、カラーフィルタ層を形成している。
【0006】また、特開昭60−60756号公報に記
載されているように、固体撮像素子に微小なレンズを各
画素毎に設けるマイクロレンズ付き固体撮像素子および
そのの製造方法が知られている。
載されているように、固体撮像素子に微小なレンズを各
画素毎に設けるマイクロレンズ付き固体撮像素子および
そのの製造方法が知られている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記のように従来技術
では、PGMA膜を用いてフィルタ層の下地平坦化膜や
フィルタ層間の保護膜、あるいはフィルタ層上に保護膜
を形成している。PGMA膜は熱硬化性があり、かつポ
ジ形のDeepUVレジストにもなる透明材料である。と
ころがPGMA膜は熱硬化性の材料から形成されるため
に、熱流動性が劣り、膜の平坦性が不十分である。ま
た、カラーフィルタを積層形成しているためにフィルタ
層全体の厚みが厚くなり、更に平坦性を低下されること
となる。このため、以下に示すような問題点があった。
では、PGMA膜を用いてフィルタ層の下地平坦化膜や
フィルタ層間の保護膜、あるいはフィルタ層上に保護膜
を形成している。PGMA膜は熱硬化性があり、かつポ
ジ形のDeepUVレジストにもなる透明材料である。と
ころがPGMA膜は熱硬化性の材料から形成されるため
に、熱流動性が劣り、膜の平坦性が不十分である。ま
た、カラーフィルタを積層形成しているためにフィルタ
層全体の厚みが厚くなり、更に平坦性を低下されること
となる。このため、以下に示すような問題点があった。
【0008】(1)固体撮像素子基板表面の凹凸段差を
解消させるために形成する下地平坦化膜の平坦化効果が
不十分であるため、平坦化層上に形成されたカラーフィ
ルタに膜厚差が生じ、カラーフィルタの分光特性がばら
つく。
解消させるために形成する下地平坦化膜の平坦化効果が
不十分であるため、平坦化層上に形成されたカラーフィ
ルタに膜厚差が生じ、カラーフィルタの分光特性がばら
つく。
【0009】(2)カラーフィルタ層間の保護膜、ある
いはマイクロレンズ付き固体撮像素子の場合はフィルタ
層上に形成する保護膜の平坦化効果が不十分であるた
め、 各画素毎に設けられているマイクロレンズの
厚さや高さに差が生じること により、各画素毎で
マイクロレンズの集光効果が変化して、感度のばらつ
きが生じる。
いはマイクロレンズ付き固体撮像素子の場合はフィルタ
層上に形成する保護膜の平坦化効果が不十分であるた
め、 各画素毎に設けられているマイクロレンズの
厚さや高さに差が生じること により、各画素毎で
マイクロレンズの集光効果が変化して、感度のばらつ
きが生じる。
【0010】したがって、本発明の目的は上記した問題
点を解決することにあり、その第1の目的は、平坦性の
高いフィルタ下地平坦化膜やフィルタ層間の保護膜、あ
るいは平坦性の高いフィルタ層上保護膜を形成してカラ
ーフィルタ層全体を平坦化すると共に、同一平面上に異
なる色のカラーフィルタ、あるいはハレーション防止パ
ターンとカラーフィルタとを形成してカラーフィルタ層
全体の膜厚を低減したカラー固体撮像素子を、その第2
の目的はそのようなカラー固体撮像素子を形成する改良
された製造方法を、それぞれ提供することにある。
点を解決することにあり、その第1の目的は、平坦性の
高いフィルタ下地平坦化膜やフィルタ層間の保護膜、あ
るいは平坦性の高いフィルタ層上保護膜を形成してカラ
ーフィルタ層全体を平坦化すると共に、同一平面上に異
なる色のカラーフィルタ、あるいはハレーション防止パ
ターンとカラーフィルタとを形成してカラーフィルタ層
全体の膜厚を低減したカラー固体撮像素子を、その第2
の目的はそのようなカラー固体撮像素子を形成する改良
された製造方法を、それぞれ提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記第1の目的は、光電
変換を行なう受光部と、前記受光部で発生した電気信号
を取り出す走査部と、前記受光部及び走査部を保護する
パッシベーション膜とが形成された半導体基板からなる
固体撮像素子基板上に、透明材料からなる平坦化層を設
け、前記平坦化層上の前記素子受光部に対応した位置に
透明材料からなる有機膜で保護されたカラーフィルタパ
ターンを配してなるカラー固体撮像素子において、少な
くとも2色のカラーフィルタパターンが同一平面上に存
在し、かつ前記透明材料から成る有機膜が高分子材料も
しくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組
成物から形成されて有機保護膜を構成して成るカラー固
体撮像素子により、達成される。
変換を行なう受光部と、前記受光部で発生した電気信号
を取り出す走査部と、前記受光部及び走査部を保護する
パッシベーション膜とが形成された半導体基板からなる
固体撮像素子基板上に、透明材料からなる平坦化層を設
け、前記平坦化層上の前記素子受光部に対応した位置に
透明材料からなる有機膜で保護されたカラーフィルタパ
ターンを配してなるカラー固体撮像素子において、少な
くとも2色のカラーフィルタパターンが同一平面上に存
在し、かつ前記透明材料から成る有機膜が高分子材料も
しくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組
成物から形成されて有機保護膜を構成して成るカラー固
体撮像素子により、達成される。
【0012】更に、上記第1の目的は、光電変換を行な
う受光部と、前記受光部で発生した電気信号を取り出す
走査部と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベー
ション膜とが形成された半導体基板からなる固体撮像素
子基板上に、透明材料からなる平坦化層を設け、前記平
坦化層上の走査部に対応した位置にはハレーション防止
パターンを配し、前記平坦化層上の受光部に対応した位
置には透明材料からなる有機膜で保護されたカラーフィ
ルタパターンを配してなるカラー固体撮像素子におい
て、少なくとも2色のカラーフィルタパターン同志、も
しくはハレーション防止パターンと少なくとも1色のカ
ラーフィルタパターンとが同一平面上に存在し、かつ前
記透明材料から成る有機膜が高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物から形成
されて有機保護膜を構成して成るカラー固体撮像素子に
より、達成される。
う受光部と、前記受光部で発生した電気信号を取り出す
走査部と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベー
ション膜とが形成された半導体基板からなる固体撮像素
子基板上に、透明材料からなる平坦化層を設け、前記平
坦化層上の走査部に対応した位置にはハレーション防止
パターンを配し、前記平坦化層上の受光部に対応した位
置には透明材料からなる有機膜で保護されたカラーフィ
ルタパターンを配してなるカラー固体撮像素子におい
て、少なくとも2色のカラーフィルタパターン同志、も
しくはハレーション防止パターンと少なくとも1色のカ
ラーフィルタパターンとが同一平面上に存在し、かつ前
記透明材料から成る有機膜が高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物から形成
されて有機保護膜を構成して成るカラー固体撮像素子に
より、達成される。
【0013】上記カラーフィルタの一つを、同一受光部
上に積層した2色のカラーフィルタパターンで構成する
ことができる。すなわち、上記フィルタの構成は、補色
形が好ましく、例えばマゼンタ、シアン、イエロからな
る3色のフィルタパターンで形成するが、4色目のグリ
ーンについてはシアンフィルタとイエロフィルタとの2
層構造とし、全体として4色のフィルタで構成するのが
望ましい。
上に積層した2色のカラーフィルタパターンで構成する
ことができる。すなわち、上記フィルタの構成は、補色
形が好ましく、例えばマゼンタ、シアン、イエロからな
る3色のフィルタパターンで形成するが、4色目のグリ
ーンについてはシアンフィルタとイエロフィルタとの2
層構造とし、全体として4色のフィルタで構成するのが
望ましい。
【0014】また、上記何れのカラー固体撮像素子にお
いても、各受光部に対応した位置のカラーフィルタ層上
に、一体的に集光用マイクロレンズを配設することが望
ましい。また、上記透明材料からなる平坦化層は、従来
の例えばPGMA膜のごとき熱硬化性組成物も使用可能
ではあるが、好ましくはフィルタを保護する有機膜と同
様の高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤と
を含む光硬化性組成物、もしくは分子末端がエンドキャ
プされたポリイミド前駆体を硬化して形成された透明ポ
リイミドで形成されたものが望ましい。また、マイクロ
レンズもこの光硬化性組成物で形成されたものが好まし
い。
いても、各受光部に対応した位置のカラーフィルタ層上
に、一体的に集光用マイクロレンズを配設することが望
ましい。また、上記透明材料からなる平坦化層は、従来
の例えばPGMA膜のごとき熱硬化性組成物も使用可能
ではあるが、好ましくはフィルタを保護する有機膜と同
様の高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤と
を含む光硬化性組成物、もしくは分子末端がエンドキャ
プされたポリイミド前駆体を硬化して形成された透明ポ
リイミドで形成されたものが望ましい。また、マイクロ
レンズもこの光硬化性組成物で形成されたものが好まし
い。
【0015】上記光硬化性組成物の一成分を構成する有
効な酸発生剤としては、光照射により、プロトンを発生
するものが使用され、例えば下記の式(1)、(2)、
(3)、(4)で表わされるオニウム塩、あるいはトリ
(メタンスルホニル−オキシ)ベンゼンなどが挙げられ
る。
効な酸発生剤としては、光照射により、プロトンを発生
するものが使用され、例えば下記の式(1)、(2)、
(3)、(4)で表わされるオニウム塩、あるいはトリ
(メタンスルホニル−オキシ)ベンゼンなどが挙げられ
る。
【0016】
【化9】
【0017】
【化10】
【0018】
【化11】
【0019】
【化12】
【0020】ただし、上記一般式において、X~はBr
~、BF4~、SbF6~、AsF6~、PF6~、もしくはC
F3SO3~の陰イオンを表わし、Ar1〜Ar6、R、R
´は有機基を表し、n整数を表す。
~、BF4~、SbF6~、AsF6~、PF6~、もしくはC
F3SO3~の陰イオンを表わし、Ar1〜Ar6、R、R
´は有機基を表し、n整数を表す。
【0021】また、上記光硬化性組成物の一成分を構成
する有効な高分子材料としては、例えばフェノール樹
脂、ノボラック樹脂、クレゾール樹脂、エポキシ樹脂、
ポリアルコール樹脂、もしくはオレフィン系、ラクトン
系、ラクタム系構造を有する樹脂等が挙げられる。
する有効な高分子材料としては、例えばフェノール樹
脂、ノボラック樹脂、クレゾール樹脂、エポキシ樹脂、
ポリアルコール樹脂、もしくはオレフィン系、ラクトン
系、ラクタム系構造を有する樹脂等が挙げられる。
【0022】また、光硬化性組成物を構成する高分子材
料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤との好ましい組
成比は、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料の固形分
100重量部に対して、酸発生剤が0.01〜30重量
部である。
料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤との好ましい組
成比は、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料の固形分
100重量部に対して、酸発生剤が0.01〜30重量
部である。
【0023】さらにまた、この光硬化性組成物には、例
えば下記の式(5)で表されるアミド誘導体、もしくは
例えばジフェニルシランジオール(Diphenylsilanedio
l)、やジ・ターシャリーブチル・シランジオール[di-
(t-butyl)-silanediol]のごときシラノール系化合物
を、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料の固形分10
0重量部に対して、0.1〜50重量部含ませることが
できる。
えば下記の式(5)で表されるアミド誘導体、もしくは
例えばジフェニルシランジオール(Diphenylsilanedio
l)、やジ・ターシャリーブチル・シランジオール[di-
(t-butyl)-silanediol]のごときシラノール系化合物
を、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料の固形分10
0重量部に対して、0.1〜50重量部含ませることが
できる。
【0024】
【化13】
【0025】ただし、式(5)の中でR1、R2、R3、
R5、R6は、いずれも水素、もしくは低級アルキル基を
表し、R4は低級アルキレン基を表し、nは整数を表
す。
R5、R6は、いずれも水素、もしくは低級アルキル基を
表し、R4は低級アルキレン基を表し、nは整数を表
す。
【0026】そして、上記第2の目的は、光電変換を行
なう受光部と、前記受光部で発生した電気信号を取り出
す走査部と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベ
ーション膜とが形成された半導体基板からなる固体撮像
素子基板上に、透明材料からなる平坦化層を形成する工
程と、前記平坦化層上の受光部に対応する位置にカラー
フィルタの染色母材からなるパターンを形成する工程
と、前記染色母材パターンを染色して1色目のカラーフ
ィルタパターンを形成する工程と、高分子材料もしくは
有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を
塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色目のカラー
フィルタパターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前記
1色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受光
部に対応した位置に開口部を形成し、前記平坦化層を露
出させる工程と、前記開口部にカラーフィルタの染色母
材パターンを形成、染色して2色目のカラーフィルタパ
ターンを形成する工程と、前記2色目のカラーフィルタ
パターンの混色防止保護膜を形成する工程と、前記2色
目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜上に3色
目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、少なく
とも前記3色目のカラーフィルタ層上に有機保護膜を形
成する工程とを有して成るカラー固体撮像素子の製造方
法により、達成される。
なう受光部と、前記受光部で発生した電気信号を取り出
す走査部と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベ
ーション膜とが形成された半導体基板からなる固体撮像
素子基板上に、透明材料からなる平坦化層を形成する工
程と、前記平坦化層上の受光部に対応する位置にカラー
フィルタの染色母材からなるパターンを形成する工程
と、前記染色母材パターンを染色して1色目のカラーフ
ィルタパターンを形成する工程と、高分子材料もしくは
有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を
塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色目のカラー
フィルタパターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前記
1色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受光
部に対応した位置に開口部を形成し、前記平坦化層を露
出させる工程と、前記開口部にカラーフィルタの染色母
材パターンを形成、染色して2色目のカラーフィルタパ
ターンを形成する工程と、前記2色目のカラーフィルタ
パターンの混色防止保護膜を形成する工程と、前記2色
目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜上に3色
目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、少なく
とも前記3色目のカラーフィルタ層上に有機保護膜を形
成する工程とを有して成るカラー固体撮像素子の製造方
法により、達成される。
【0027】また、上記第2の目的は、光電変換を行な
う受光部と、前記受光部で発生した電気信号を取り出す
走査部と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベー
ション膜とが形成された半導体基板からなる固体撮像素
子基板上に、透明材料からなる平坦化層を形成する工程
と、前記平坦化層上の受光部に対応する位置にカラーフ
ィルタの染色母材からなるパターンを形成する工程と、
前記染色母材パターンを染色して1色目のカラーフィル
タパターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機
ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗
布、加熱し、次いで露光、現像して、1色目のカラーフ
ィルタパターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前記1
色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受光部
に対応した位置に開口部を形成し、前記平坦化層を露出
させる工程と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材
パターンを形成、染色して2色目のカラーフィルタパタ
ーンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケイ素
系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱
し、次いで露光、現像して、2色目のカラーフィルタパ
ターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前記1、2色目
のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受光部に対
応した位置に開口部を形成し、前記1色目のカラーフィ
ルタパターンの混色防止保護膜を露出させる工程と、前
記開口部にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、
染色して3色目のカラーフィルタパターンを形成する工
程と、少なくとも前記3色目のカラーフィルタ層上に有
機保護膜を形成する工程とからなることを特徴とするカ
ラー固体撮像素子の製造方法により、達成される。
う受光部と、前記受光部で発生した電気信号を取り出す
走査部と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベー
ション膜とが形成された半導体基板からなる固体撮像素
子基板上に、透明材料からなる平坦化層を形成する工程
と、前記平坦化層上の受光部に対応する位置にカラーフ
ィルタの染色母材からなるパターンを形成する工程と、
前記染色母材パターンを染色して1色目のカラーフィル
タパターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機
ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗
布、加熱し、次いで露光、現像して、1色目のカラーフ
ィルタパターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前記1
色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受光部
に対応した位置に開口部を形成し、前記平坦化層を露出
させる工程と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材
パターンを形成、染色して2色目のカラーフィルタパタ
ーンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケイ素
系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱
し、次いで露光、現像して、2色目のカラーフィルタパ
ターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前記1、2色目
のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受光部に対
応した位置に開口部を形成し、前記1色目のカラーフィ
ルタパターンの混色防止保護膜を露出させる工程と、前
記開口部にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、
染色して3色目のカラーフィルタパターンを形成する工
程と、少なくとも前記3色目のカラーフィルタ層上に有
機保護膜を形成する工程とからなることを特徴とするカ
ラー固体撮像素子の製造方法により、達成される。
【0028】また、上記第2の目的は、光電変換を行な
う受光部と、前記受光部で発生した電気信号を取り出す
走査部と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベー
ション膜とが形成された半導体基板からなる固体撮像素
子基板上に、透明材料からなる平坦化層を形成する工程
と、前記平坦化層上の受光部に対応する位置にカラーフ
ィルタの染色母材からなるパターンを形成する工程と、
前記染色母材パターンを染色して1色目のカラーフィル
タパターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機
ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗
布、加熱し、次いで露光、現像して、1色目のカラーフ
ィルタパターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前記1
色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の2種の
受光部に対応した位置にそれぞれ開口部を形成し、前記
平坦化層を露出させる工程と、前記開口部にカラーフィ
ルタの染色母材パターンを形成、染色して2色目のカラ
ーフィルタパターンをそれぞれ形成する工程と、高分子
材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬
化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、2
色目の一方のカラーフィルタパターンに混色防止保護膜
を形成し、かつ前記1色目のカラーフィルタパターンと
は異なる所望の受光部に対応した位置と2色目の他方の
カラーフィルタパターンに対応した位置にそれぞれ開口
部を形成する工程と、前記工程により露出した2色目の
他方のカラーフィルタ表面を妨染処理する工程と、前記
それぞれの開口部にカラーフィルタの染色母材パターン
を形成、染色して3色目のカラーフィルタパターンを形
成する工程と、少なくとも前記3色目のカラーフィルタ
層上に有機保護膜を形成する工程とを有して成るカラー
固体撮像素子の製造方法によっても達成され、また、光
電変換を行なう受光部と、前記受光部で発生した電気信
号を取り出す走査部と、前記受光部及び走査部を保護す
るパッシベーション膜とが形成された半導体基板からな
る固体撮像素子基板上に、透明材料からなる平坦化層を
形成する工程と、前記平坦化層上の2種の受光部に対応
する位置にそれぞれカラーフィルタの染色母材からなる
パターンを形成する工程と、前記染色母材パターンを染
色して1色目のカラーフィルタパターンを形成する工程
と、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤と
を含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現
像して、1色目の一方のカラーフィルタパターンに混色
防止保護膜を形成し、1色目の他のカラーフィルタパタ
ーンに対応した位置に開口部を形成する工程と、前記工
程により露出した1色目の他のカラーフィルタ表面を妨
染処理する工程と、前記開口部にカラーフィルタの染色
母材パターンを形成、染色して2色目のカラーフィルタ
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、2色目のカラーフィル
タパターンに混色防止保護膜を形成し、かつ前記1、2
色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受光部
に対応した位置に開口部を形成する工程と、前記開口部
にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して
3色目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、少
なくとも前記3色目のカラーフィルタ層上に有機保護膜
を形成する工程とを有して成るカラー固体撮像素子の製
造方法によっても達成される。
う受光部と、前記受光部で発生した電気信号を取り出す
走査部と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベー
ション膜とが形成された半導体基板からなる固体撮像素
子基板上に、透明材料からなる平坦化層を形成する工程
と、前記平坦化層上の受光部に対応する位置にカラーフ
ィルタの染色母材からなるパターンを形成する工程と、
前記染色母材パターンを染色して1色目のカラーフィル
タパターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機
ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗
布、加熱し、次いで露光、現像して、1色目のカラーフ
ィルタパターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前記1
色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の2種の
受光部に対応した位置にそれぞれ開口部を形成し、前記
平坦化層を露出させる工程と、前記開口部にカラーフィ
ルタの染色母材パターンを形成、染色して2色目のカラ
ーフィルタパターンをそれぞれ形成する工程と、高分子
材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬
化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、2
色目の一方のカラーフィルタパターンに混色防止保護膜
を形成し、かつ前記1色目のカラーフィルタパターンと
は異なる所望の受光部に対応した位置と2色目の他方の
カラーフィルタパターンに対応した位置にそれぞれ開口
部を形成する工程と、前記工程により露出した2色目の
他方のカラーフィルタ表面を妨染処理する工程と、前記
それぞれの開口部にカラーフィルタの染色母材パターン
を形成、染色して3色目のカラーフィルタパターンを形
成する工程と、少なくとも前記3色目のカラーフィルタ
層上に有機保護膜を形成する工程とを有して成るカラー
固体撮像素子の製造方法によっても達成され、また、光
電変換を行なう受光部と、前記受光部で発生した電気信
号を取り出す走査部と、前記受光部及び走査部を保護す
るパッシベーション膜とが形成された半導体基板からな
る固体撮像素子基板上に、透明材料からなる平坦化層を
形成する工程と、前記平坦化層上の2種の受光部に対応
する位置にそれぞれカラーフィルタの染色母材からなる
パターンを形成する工程と、前記染色母材パターンを染
色して1色目のカラーフィルタパターンを形成する工程
と、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤と
を含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現
像して、1色目の一方のカラーフィルタパターンに混色
防止保護膜を形成し、1色目の他のカラーフィルタパタ
ーンに対応した位置に開口部を形成する工程と、前記工
程により露出した1色目の他のカラーフィルタ表面を妨
染処理する工程と、前記開口部にカラーフィルタの染色
母材パターンを形成、染色して2色目のカラーフィルタ
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、2色目のカラーフィル
タパターンに混色防止保護膜を形成し、かつ前記1、2
色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受光部
に対応した位置に開口部を形成する工程と、前記開口部
にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して
3色目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、少
なくとも前記3色目のカラーフィルタ層上に有機保護膜
を形成する工程とを有して成るカラー固体撮像素子の製
造方法によっても達成される。
【0029】また、上記透明材料からなる平坦化層を形
成する工程の後に、前記平坦化層上の固体撮像素子の走
査部に対応した位置に、カラーフィルタの染色母材パタ
ーンを形成、染色してハレーション防止パターンを形成
し、前記ハレーション防止パターン上に混色防止保護膜
を形成する工程を付加することができる。
成する工程の後に、前記平坦化層上の固体撮像素子の走
査部に対応した位置に、カラーフィルタの染色母材パタ
ーンを形成、染色してハレーション防止パターンを形成
し、前記ハレーション防止パターン上に混色防止保護膜
を形成する工程を付加することができる。
【0030】さらにまた、上記透明材料からなる平坦化
層を形成する工程の後に、前記平坦化層上の固体撮像素
子の走査部に対応した位置に、カラーフィルタの染色母
材パターンを形成、染色してハレーション防止パターン
を形成する工程と、前記ハレーション防止パターン表面
を妨染処理する工程とを付加することもできる。
層を形成する工程の後に、前記平坦化層上の固体撮像素
子の走査部に対応した位置に、カラーフィルタの染色母
材パターンを形成、染色してハレーション防止パターン
を形成する工程と、前記ハレーション防止パターン表面
を妨染処理する工程とを付加することもできる。
【0031】また、上記カラー固体撮像素子の製造方法
において、最終工程の少なくとも3色目のカラーフィル
タ層上に有機保護膜を形成する工程に引き続き、この有
機保護膜上に前記固体撮像素子の受光部に対応した位置
にマイクロレンズを形成する工程を付加することによ
り、マイクロレンズ付きのカラー固体撮像素子を製造す
ることができる。
において、最終工程の少なくとも3色目のカラーフィル
タ層上に有機保護膜を形成する工程に引き続き、この有
機保護膜上に前記固体撮像素子の受光部に対応した位置
にマイクロレンズを形成する工程を付加することによ
り、マイクロレンズ付きのカラー固体撮像素子を製造す
ることができる。
【0032】また、高分子材料もしくは有機ケイ素系材
料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、
次いで露光、現像した後に、この膜を再度加熱する工程
を付加することができる。
料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、
次いで露光、現像した後に、この膜を再度加熱する工程
を付加することができる。
【0033】また、ハレーション防止パターン形成後
に、前記ハレーション防止パターンを妨染処理する工程
を付加することができる。
に、前記ハレーション防止パターンを妨染処理する工程
を付加することができる。
【0034】また、上記透明材料からなる平坦化層を形
成する工程を、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と
酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱、露光す
る工程とするか、更には露光後にこの膜を再度加熱す工
程とすることができる。
成する工程を、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と
酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱、露光す
る工程とするか、更には露光後にこの膜を再度加熱す工
程とすることができる。
【0035】また、上記マイクロレンズを形成する工程
を、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤と
を含む光硬化性組成物を塗布、加熱、露光、現像・パタ
ーン化、加熱して形成する工程で構成することができ
る。
を、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤と
を含む光硬化性組成物を塗布、加熱、露光、現像・パタ
ーン化、加熱して形成する工程で構成することができ
る。
【0036】また、上記透明材料からなる平坦化層を形
成する工程を、分子末端がエンドキャップされたポリイ
ミド前駆体を加熱硬化してなる透明ポリイミドから形成
する工程で構成することもできる。
成する工程を、分子末端がエンドキャップされたポリイ
ミド前駆体を加熱硬化してなる透明ポリイミドから形成
する工程で構成することもできる。
【0037】また、上記高分子材料もしくは有機ケイ素
系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を用いる工程
において、使用する好ましい酸発生剤および高分子材料
については、先に本発明の第1の目的を達成する手段の
中で述べたものと同様なのでここでは説明を省略する。
系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を用いる工程
において、使用する好ましい酸発生剤および高分子材料
については、先に本発明の第1の目的を達成する手段の
中で述べたものと同様なのでここでは説明を省略する。
【0038】また、光硬化性組成物を構成する高分子材
料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤との好ましい組
成比、さらにはこれに加えることのできるアミド誘導
体、もしくはシラノール系化合物の好ましい組成比につ
いても先に本発明の第1の目的を達成する手段の中で述
べたものと同様なのでここでは説明を省略する。
料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤との好ましい組
成比、さらにはこれに加えることのできるアミド誘導
体、もしくはシラノール系化合物の好ましい組成比につ
いても先に本発明の第1の目的を達成する手段の中で述
べたものと同様なのでここでは説明を省略する。
【0039】以下、本発明のカラー固体撮像素子の構成
について図面により総括的に説明する。 (1)図1、図2、図3、図4に断面を示すように、予
め半導体基板100の主表面に光電変換を行なう受光部
と101、前記受光部で発生した電気信号を取り出す走
査部102と、前記受光部及び走査部を保護するパッシ
ベーション膜(図示せず)とが形成された固体撮像素子
と、その上に透明材料からなる平坦化層103、前記受
光部101に対応した位置に平坦化層上に少なくとも2
色のカラーフィルタパターン〔106(例えばマゼン
タ)と107(例えば一方はシアン、他方はグリーンの
一層目となるシアン)、もしくは108同志(例えば一
方はイエロ、他方はグリーンの二層目となるイエロ)〕
を同一平面上に配設した複数色のカラーフィルタ層、前
記カラーフィルタ層を保護する高分子材料もしくは有機
ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物から形
成されている透明材料からなる保護膜104から、ま
た、さらにカラーフィルタ最上層の保護膜105を介し
て、前記受光部に対応した位置に配設した凸状マイクロ
レンズ109から構成される。
について図面により総括的に説明する。 (1)図1、図2、図3、図4に断面を示すように、予
め半導体基板100の主表面に光電変換を行なう受光部
と101、前記受光部で発生した電気信号を取り出す走
査部102と、前記受光部及び走査部を保護するパッシ
ベーション膜(図示せず)とが形成された固体撮像素子
と、その上に透明材料からなる平坦化層103、前記受
光部101に対応した位置に平坦化層上に少なくとも2
色のカラーフィルタパターン〔106(例えばマゼン
タ)と107(例えば一方はシアン、他方はグリーンの
一層目となるシアン)、もしくは108同志(例えば一
方はイエロ、他方はグリーンの二層目となるイエロ)〕
を同一平面上に配設した複数色のカラーフィルタ層、前
記カラーフィルタ層を保護する高分子材料もしくは有機
ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物から形
成されている透明材料からなる保護膜104から、ま
た、さらにカラーフィルタ最上層の保護膜105を介し
て、前記受光部に対応した位置に配設した凸状マイクロ
レンズ109から構成される。
【0040】(2)図5、図6、図7、図8に断面を示
すように、予め光電変換を行なう受光部と、前記受光部
101で発生した電気信号を取り出す走査部102と、
前記受光部及び走査部を保護するパッシベーション膜
(図示せず)とが形成された固体撮像素子と、その上に
透明材料からなる平坦化層103、前記受光部に対応し
た位置に平坦化層上に少なくとも2色のカラーフィルタ
パターン〔106(例えばマゼンタ)と107(例えば
一方はシアン、他方はグリーンの一層目となるシア
ン)、もしくは108同志(例えば一方はイエロ、他方
はグリーンの二層目となるイエロ)〕を同一平面上に配
設し、かつ2色のカラーフィルタパターン(107と1
08とでグリーンを構成)が接触積層して配設し複数色
のカラーフィルタ層、前記カラーフィルタ層を保護する
高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含
む光硬化性組成物から形成されている透明材料からなる
保護膜104から、また、さらにカラーフィルタ最上層
の保護膜105を介して、前記受光部に対応した位置に
配設した凸状マイクロレンズ109から構成される。
すように、予め光電変換を行なう受光部と、前記受光部
101で発生した電気信号を取り出す走査部102と、
前記受光部及び走査部を保護するパッシベーション膜
(図示せず)とが形成された固体撮像素子と、その上に
透明材料からなる平坦化層103、前記受光部に対応し
た位置に平坦化層上に少なくとも2色のカラーフィルタ
パターン〔106(例えばマゼンタ)と107(例えば
一方はシアン、他方はグリーンの一層目となるシア
ン)、もしくは108同志(例えば一方はイエロ、他方
はグリーンの二層目となるイエロ)〕を同一平面上に配
設し、かつ2色のカラーフィルタパターン(107と1
08とでグリーンを構成)が接触積層して配設し複数色
のカラーフィルタ層、前記カラーフィルタ層を保護する
高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含
む光硬化性組成物から形成されている透明材料からなる
保護膜104から、また、さらにカラーフィルタ最上層
の保護膜105を介して、前記受光部に対応した位置に
配設した凸状マイクロレンズ109から構成される。
【0041】(3)図9、図10、図11、図12に断
面を示すように、予め光電変換を行なう受光部101
と、前記受光部で発生した電気信号を取り出す走査部1
02と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベーシ
ョン膜(図示せず)とが形成された固体撮像素子と、そ
の上に透明材料からなる平坦化層103、前記走査部に
対応した位置に配設したハレーション防止層113、ハ
レーション防止層の混色防止保護膜104´、前記受光
部101に対応した位置の平坦化層103上の混色防止
保護膜104´上に、少なくとも2色のカラーフィルタ
パターン〔106(例えばマゼンタ)と107(例えば
一方はシアン、他方はグリーンの一層目となるシア
ン)、もしくは108同志(例えば一方はイエロ、他方
はグリーンの二層目となるイエロ)〕を同一平面上に配
設した複数色のカラーフィルタ層、前記カラーフィルタ
層を保護する高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸
発生剤とを含む光硬化性組成物から形成されている透明
材料からなる保護膜104から、また、さらにカラーフ
ィルタ最上層の保護膜105を介して、前記受光部に対
応した位置に配設した凸状マイクロレンズ109から構
成される。
面を示すように、予め光電変換を行なう受光部101
と、前記受光部で発生した電気信号を取り出す走査部1
02と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベーシ
ョン膜(図示せず)とが形成された固体撮像素子と、そ
の上に透明材料からなる平坦化層103、前記走査部に
対応した位置に配設したハレーション防止層113、ハ
レーション防止層の混色防止保護膜104´、前記受光
部101に対応した位置の平坦化層103上の混色防止
保護膜104´上に、少なくとも2色のカラーフィルタ
パターン〔106(例えばマゼンタ)と107(例えば
一方はシアン、他方はグリーンの一層目となるシア
ン)、もしくは108同志(例えば一方はイエロ、他方
はグリーンの二層目となるイエロ)〕を同一平面上に配
設した複数色のカラーフィルタ層、前記カラーフィルタ
層を保護する高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸
発生剤とを含む光硬化性組成物から形成されている透明
材料からなる保護膜104から、また、さらにカラーフ
ィルタ最上層の保護膜105を介して、前記受光部に対
応した位置に配設した凸状マイクロレンズ109から構
成される。
【0042】(4)上記図9、図10、図11、図12
のフィルタ部分の構成を図5、図6、図7、図8のフィ
ルタ部分の構成で置き換えた構成であるが、これについ
てはこれら両グループの図面を単純に置換すれば良いの
で図面を省略した。
のフィルタ部分の構成を図5、図6、図7、図8のフィ
ルタ部分の構成で置き換えた構成であるが、これについ
てはこれら両グループの図面を単純に置換すれば良いの
で図面を省略した。
【0043】すなわち、予め光電変換を行なう受光部1
01と、前記受光部で発生した電気信号を取り出す走査
部102と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベ
ーション膜とが形成された固体撮像素子と、その上に透
明材料からなる平坦化層103、前記走査部に対応した
位置に配設したハレーション防止層113、ハレーショ
ン防止層の混色防止保護膜104´、前記受光部に対応
した位置の平坦化層103上の混色防止保護膜104´
上に、少なくとも2色のカラーフィルタパターン〔10
6(例えばマゼンタ)と107(例えば一方はシアン、
他方はグリーンの一層目となるシアン)、もしくは10
8同志(例えば一方はイエロ、他方はグリーンの二層目
となるイエロ)〕を同一平面上に配設し、かつ2色のカ
ラーフィルタパターン(107と108とでグリーンを
構成)が接触積層して配設し複数色のカラーフィルタ
層、前記カラーフィルタ層を保護する高分子材料もしく
は有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物
から形成されている透明材料からなる保護膜104か
ら、また、さらにカラーフィルタ最上層の保護膜105
を介して、前記受光部に対応した位置に配設した凸状マ
イクロレンズ109から構成される。
01と、前記受光部で発生した電気信号を取り出す走査
部102と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベ
ーション膜とが形成された固体撮像素子と、その上に透
明材料からなる平坦化層103、前記走査部に対応した
位置に配設したハレーション防止層113、ハレーショ
ン防止層の混色防止保護膜104´、前記受光部に対応
した位置の平坦化層103上の混色防止保護膜104´
上に、少なくとも2色のカラーフィルタパターン〔10
6(例えばマゼンタ)と107(例えば一方はシアン、
他方はグリーンの一層目となるシアン)、もしくは10
8同志(例えば一方はイエロ、他方はグリーンの二層目
となるイエロ)〕を同一平面上に配設し、かつ2色のカ
ラーフィルタパターン(107と108とでグリーンを
構成)が接触積層して配設し複数色のカラーフィルタ
層、前記カラーフィルタ層を保護する高分子材料もしく
は有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物
から形成されている透明材料からなる保護膜104か
ら、また、さらにカラーフィルタ最上層の保護膜105
を介して、前記受光部に対応した位置に配設した凸状マ
イクロレンズ109から構成される。
【0044】(5)図13、図14、図15、図16、
図17、図18に断面を示すように、予め光電変換を行
なう受光部101と、前記受光部で発生した電気信号を
取り出す走査部102と、前記受光部及び走査部を保護
するパッシベーション膜(図示せず)とが形成された固
体撮像素子と、その上に透明材料からなる平坦化層10
3、前記走査部に対応した位置に配設したハレーション
防止パターン113、前記受光部101に対応した位置
にハレーション防止パターン113と同一平面上にもカ
ラーフィルタパターン106、107を配設したフィル
タ層、前記カラーフィルタ層を保護する高分子材料もし
くは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成
物から形成されている透明材料からなる保護膜104か
ら、また、さらにカラーフィルタ最上層の保護膜105
を介して、前記受光部に対応した位置に配設した凸状マ
イクロレンズ109から構成される。
図17、図18に断面を示すように、予め光電変換を行
なう受光部101と、前記受光部で発生した電気信号を
取り出す走査部102と、前記受光部及び走査部を保護
するパッシベーション膜(図示せず)とが形成された固
体撮像素子と、その上に透明材料からなる平坦化層10
3、前記走査部に対応した位置に配設したハレーション
防止パターン113、前記受光部101に対応した位置
にハレーション防止パターン113と同一平面上にもカ
ラーフィルタパターン106、107を配設したフィル
タ層、前記カラーフィルタ層を保護する高分子材料もし
くは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成
物から形成されている透明材料からなる保護膜104か
ら、また、さらにカラーフィルタ最上層の保護膜105
を介して、前記受光部に対応した位置に配設した凸状マ
イクロレンズ109から構成される。
【0045】(6)上記図13、図14、図15、図1
6、図17、図18のフィルタ部分の構成を図5、図
6、図7、図8のフィルタ部分の構成で置き換えた構成
であるが、これについてはこれら両グループの図面を単
純に置換すれば良いので図面を省略した。すなわち、予
め光電変換を行なう受光部101と、前記受光部で発生
した電気信号を取り出す走査部102と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
固体撮像素子と、その上に透明材料からなる平坦化層1
03、前記走査部に対応した位置に配設したハレーショ
ン防止パターン113、前記受光部に対応した位置にハ
レーション防止パターンと同一平面上にもカラーフィル
タパターン(例えばマゼンタ106とシアン107)を
配設し、かつ2色のカラーフィルタパターン(例えばグ
リーンを構成する一層目のシアン107と二層目のイエ
ロ108)が接触積層して配設し複数色のカラーフィル
タ層、前記カラーフィルタ層を保護する高分子材料もし
くは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成
物から形成されている透明材料からなる保護膜104か
ら、また、さらにカラーフィルタ最上層の保護膜105
を介して、前記受光部に対応した位置に配設した凸状マ
イクロレンズ109から構成される。
6、図17、図18のフィルタ部分の構成を図5、図
6、図7、図8のフィルタ部分の構成で置き換えた構成
であるが、これについてはこれら両グループの図面を単
純に置換すれば良いので図面を省略した。すなわち、予
め光電変換を行なう受光部101と、前記受光部で発生
した電気信号を取り出す走査部102と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
固体撮像素子と、その上に透明材料からなる平坦化層1
03、前記走査部に対応した位置に配設したハレーショ
ン防止パターン113、前記受光部に対応した位置にハ
レーション防止パターンと同一平面上にもカラーフィル
タパターン(例えばマゼンタ106とシアン107)を
配設し、かつ2色のカラーフィルタパターン(例えばグ
リーンを構成する一層目のシアン107と二層目のイエ
ロ108)が接触積層して配設し複数色のカラーフィル
タ層、前記カラーフィルタ層を保護する高分子材料もし
くは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成
物から形成されている透明材料からなる保護膜104か
ら、また、さらにカラーフィルタ最上層の保護膜105
を介して、前記受光部に対応した位置に配設した凸状マ
イクロレンズ109から構成される。
【0046】つぎに、本発明のカラー固体撮像素子を製
造する一工程例を、補色形色差順次方式のカラーフィル
タを有するカラー固体撮像素子を例として説明する。 図19の工程説明:まず、図19(a)に示すよう
に、予め半導体基板手表面に光電変換を行なう受光部1
01と、前記受光部で発生した電気信号を取り出す走査
部102と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベ
ーション膜とが形成された固体撮像素子基板100上
に、透明材料からなる平坦化層103を形成する。
造する一工程例を、補色形色差順次方式のカラーフィル
タを有するカラー固体撮像素子を例として説明する。 図19の工程説明:まず、図19(a)に示すよう
に、予め半導体基板手表面に光電変換を行なう受光部1
01と、前記受光部で発生した電気信号を取り出す走査
部102と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベ
ーション膜とが形成された固体撮像素子基板100上
に、透明材料からなる平坦化層103を形成する。
【0047】次に、図19(b)に示すように、平坦化
層上にカラーフィルタの染色母材からなるパターンを形
成、染色して1色目のカラーフィルタパターン106を
形成する。次に、図19(c)に示すように、高分子材
料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化
性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色
目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜104を
形成し、1色目のカラーフィルタパターンとは異なる所
望の受光部に対応した位置に開口部110を形成する。
層上にカラーフィルタの染色母材からなるパターンを形
成、染色して1色目のカラーフィルタパターン106を
形成する。次に、図19(c)に示すように、高分子材
料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化
性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色
目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜104を
形成し、1色目のカラーフィルタパターンとは異なる所
望の受光部に対応した位置に開口部110を形成する。
【0048】次に、図19(d)に示すように、開口部
にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して
2色目のカラーフィルタパターン107を形成する。次
に、図19(e)に示すように、2色目のカラーフィル
タパターンの混色防止保護膜104’を形成する。次
に、図19(f)に示すように、2色目のカラーフィル
タパターンの混色防止保護膜上に3色目のカラーフィル
タパターン108を形成する。最後に、図19(g)に
示すように、3色目のカラーフィルタ層108上に表面
保護膜105を形成して、カラー固体撮像素子を得る。
にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して
2色目のカラーフィルタパターン107を形成する。次
に、図19(e)に示すように、2色目のカラーフィル
タパターンの混色防止保護膜104’を形成する。次
に、図19(f)に示すように、2色目のカラーフィル
タパターンの混色防止保護膜上に3色目のカラーフィル
タパターン108を形成する。最後に、図19(g)に
示すように、3色目のカラーフィルタ層108上に表面
保護膜105を形成して、カラー固体撮像素子を得る。
【0049】図20の工程説明:図20(a)に示す
ように、固体撮像素子基板上に、透明材料からなる平坦
化層103を形成し、平坦化層上にカラーフィルタの染
色母材からなるパターンを形成、染色して1色目のカラ
ーフィルタパターン106を形成し、高分子材料もしく
は有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物
を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色目のカラ
ーフィルタパターンの混色防止保護膜104を形成し、
かつ前記1色目のカラーフィルタパターンとは異なる所
望の受光部に対応した位置に開口部を形成し、前記開口
部にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色し
て2色目のカラーフィルタパターン107を形成し、高
分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む
光硬化性組成物104´を塗布、加熱する。
ように、固体撮像素子基板上に、透明材料からなる平坦
化層103を形成し、平坦化層上にカラーフィルタの染
色母材からなるパターンを形成、染色して1色目のカラ
ーフィルタパターン106を形成し、高分子材料もしく
は有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物
を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色目のカラ
ーフィルタパターンの混色防止保護膜104を形成し、
かつ前記1色目のカラーフィルタパターンとは異なる所
望の受光部に対応した位置に開口部を形成し、前記開口
部にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色し
て2色目のカラーフィルタパターン107を形成し、高
分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む
光硬化性組成物104´を塗布、加熱する。
【0050】次いで図20(b)に示すように、露光、
現像して、2色目のカラーフィルタパターンの混色防止
保護膜を形成し、かつ1、2色目のカラーフィルタパタ
ーンとは異なる所望の受光部に対応した位置に開口部1
10を形成する。
現像して、2色目のカラーフィルタパターンの混色防止
保護膜を形成し、かつ1、2色目のカラーフィルタパタ
ーンとは異なる所望の受光部に対応した位置に開口部1
10を形成する。
【0051】次に、図20(c)に示すように、2色目
のカラーフィルタパターンの一部と先の開口部に、カラ
ーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して3色目
のカラーフィルタパターン108を形成する。最後に、
図20(d)に示すように、3色目のカラーフィルタ層
108上に表面保護膜105を形成して、カラー固体撮
像素子を得る。
のカラーフィルタパターンの一部と先の開口部に、カラ
ーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して3色目
のカラーフィルタパターン108を形成する。最後に、
図20(d)に示すように、3色目のカラーフィルタ層
108上に表面保護膜105を形成して、カラー固体撮
像素子を得る。
【0052】図21の工程説明:図21(a)に示す
ように、固体撮像素子基板上に、透明材料からなる平坦
化層103を形成し、平坦化層上にカラーフィルタの染
色母材からなるパターンを形成、染色して1色目のカラ
ーフィルタパターン106を形成し、高分子材料もしく
は有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物
を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色目のカラ
ーフィルタパターンの混色防止保護膜104を形成し、
かつ前記1色目のカラーフィルタパターンとは異なる所
望の受光部に対応した位置に開口部を形成し、前記開口
部にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色し
て2色目のカラーフィルタパターン107を形成し、高
分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む
光硬化性組成物を塗布、加熱する。
ように、固体撮像素子基板上に、透明材料からなる平坦
化層103を形成し、平坦化層上にカラーフィルタの染
色母材からなるパターンを形成、染色して1色目のカラ
ーフィルタパターン106を形成し、高分子材料もしく
は有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物
を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色目のカラ
ーフィルタパターンの混色防止保護膜104を形成し、
かつ前記1色目のカラーフィルタパターンとは異なる所
望の受光部に対応した位置に開口部を形成し、前記開口
部にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色し
て2色目のカラーフィルタパターン107を形成し、高
分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む
光硬化性組成物を塗布、加熱する。
【0053】次いで図21(b)に示すように、露光、
現像して、2色目のカラーフィルタパターンの混色防止
保護膜104´を形成し、かつ1色目のカラーフィルタ
パターンとは異なる所望の受光部に対応した位置と2色
目のカラーフィルタパターンの一部に対応した位置とに
開口部110を形成する。
現像して、2色目のカラーフィルタパターンの混色防止
保護膜104´を形成し、かつ1色目のカラーフィルタ
パターンとは異なる所望の受光部に対応した位置と2色
目のカラーフィルタパターンの一部に対応した位置とに
開口部110を形成する。
【0054】次に図21(c)に示すように、この開口
部110に、カラーフィルタの染色母材パターンを形
成、染色して3色目のカラーフィルタパターン108を
形成する。最後に図21(d)に示すように、3色目の
カラーフィルタ層108上に表面保護膜105を形成し
て、カラー固体撮像素子を得る。この時、上記の工程に
おいて、2色目のカラーフィルタパターン107を露出
させた後(図21(b))に、続いて妨染処理を行なう
工程を含む場合もある。
部110に、カラーフィルタの染色母材パターンを形
成、染色して3色目のカラーフィルタパターン108を
形成する。最後に図21(d)に示すように、3色目の
カラーフィルタ層108上に表面保護膜105を形成し
て、カラー固体撮像素子を得る。この時、上記の工程に
おいて、2色目のカラーフィルタパターン107を露出
させた後(図21(b))に、続いて妨染処理を行なう
工程を含む場合もある。
【0055】図22の工程説明:図22(a)に示す
ように、固体撮像素子基板上に、透明材料からなる平坦
化層103を形成し、平坦化層上にカラーフィルタの染
色母材からなるパターンを形成、染色して1色目のカラ
ーフィルタパターン107を形成する。
ように、固体撮像素子基板上に、透明材料からなる平坦
化層103を形成し、平坦化層上にカラーフィルタの染
色母材からなるパターンを形成、染色して1色目のカラ
ーフィルタパターン107を形成する。
【0056】次に図22(b)に示すように、高分子材
料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化
性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色
目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜104を
形成し、かつ前記1色目のカラーフィルタパターンとは
異なる所望の受光部に対応した位置と1色目のカラーフ
ィルタパターンの一部に対応した位置とに開口部110
を形成する。
料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化
性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色
目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜104を
形成し、かつ前記1色目のカラーフィルタパターンとは
異なる所望の受光部に対応した位置と1色目のカラーフ
ィルタパターンの一部に対応した位置とに開口部110
を形成する。
【0057】次に図22(c)に示すように、この開口
部110にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、
染色して2色目のカラーフィルタパターン108を形成
する。 次に図22(d)に示すように、高分子材料も
しくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組
成物を塗布、加熱、露光、現像して、2色目のカラーフ
ィルタパターンの混色防止保護膜104´を形成し、か
つ1、2色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望
の受光部に対応した位置に開口部を形成し、次に、この
開口部に、3色目のカラーフィルタの染色母材パターン
を形成、染色してカラーフィルタパターン106を形成
する。
部110にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、
染色して2色目のカラーフィルタパターン108を形成
する。 次に図22(d)に示すように、高分子材料も
しくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組
成物を塗布、加熱、露光、現像して、2色目のカラーフ
ィルタパターンの混色防止保護膜104´を形成し、か
つ1、2色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望
の受光部に対応した位置に開口部を形成し、次に、この
開口部に、3色目のカラーフィルタの染色母材パターン
を形成、染色してカラーフィルタパターン106を形成
する。
【0058】最後に図22(e)に示すように、3色目
のカラーフィルタ層106上に表面保護膜105を形成
して、カラー固体撮像素子を得る。この時、上記の工程
において、1色目のカラーフィルタパターン107を露
出させた後に(図22(b))、続いて妨染処理を行な
う工程を含む場合もある。
のカラーフィルタ層106上に表面保護膜105を形成
して、カラー固体撮像素子を得る。この時、上記の工程
において、1色目のカラーフィルタパターン107を露
出させた後に(図22(b))、続いて妨染処理を行な
う工程を含む場合もある。
【0059】図23の工程説明(ハレーション防止パ
ターンを有する):図23(a)に示すように、固体撮
像素子基板上に、透明材料からなる平坦化層103を形
成し、平坦化層上にカラーフィルタの染色母材からなる
パターンを形成、染色してハレーション防止パターン1
13を形成する。次に、図23(b)に示すように、ハ
レーション防止パターンの混色防止保護層104”を形
成し、続いてカラーフィルタの染色母材からなるパター
ンを形成、染色して1色目のカラーフィルタパターン1
06を形成する。
ターンを有する):図23(a)に示すように、固体撮
像素子基板上に、透明材料からなる平坦化層103を形
成し、平坦化層上にカラーフィルタの染色母材からなる
パターンを形成、染色してハレーション防止パターン1
13を形成する。次に、図23(b)に示すように、ハ
レーション防止パターンの混色防止保護層104”を形
成し、続いてカラーフィルタの染色母材からなるパター
ンを形成、染色して1色目のカラーフィルタパターン1
06を形成する。
【0060】次に図23(c)に示すように、高分子材
料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化
性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色
目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜104を
形成し、1色目のカラーフィルタパターンとは異なる所
望の受光部に対応した位置に開口部を形成し、次に、開
口部にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色
して2色目のカラーフィルタパターン107を形成し、
次に、2色目のカラーフィルタパターンの混色防止保護
膜104´を形成し、次に、2色目のカラーフィルタパ
ターンの混色防止保護膜上に3色目のカラーフィルタパ
ターン108を形成し、次に、この3色目のカラーフィ
ルタ層108上に表面保護膜105を形成して、カラー
固体撮像素子を得る。なお、ハレーション防止パターン
113を形成する際の染色は、イエロで染色することが
好ましい。
料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化
性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色
目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜104を
形成し、1色目のカラーフィルタパターンとは異なる所
望の受光部に対応した位置に開口部を形成し、次に、開
口部にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色
して2色目のカラーフィルタパターン107を形成し、
次に、2色目のカラーフィルタパターンの混色防止保護
膜104´を形成し、次に、2色目のカラーフィルタパ
ターンの混色防止保護膜上に3色目のカラーフィルタパ
ターン108を形成し、次に、この3色目のカラーフィ
ルタ層108上に表面保護膜105を形成して、カラー
固体撮像素子を得る。なお、ハレーション防止パターン
113を形成する際の染色は、イエロで染色することが
好ましい。
【0061】図24の工程説明(ハレーション防止パ
ターンを有する):図24(a)に示すように、固体撮
像素子基板上に、透明材料からなる平坦化層103を形
成し、平坦化層上にカラーフィルタの染色母材からなる
パターンを形成、染色してハレーション防止パターン1
13を形成する。続いて図24(b)に示すように、カ
ラーフィルタの染色母材からなるパターンを形成、染色
して1色目のカラーフィルタパターン106を形成す
る。
ターンを有する):図24(a)に示すように、固体撮
像素子基板上に、透明材料からなる平坦化層103を形
成し、平坦化層上にカラーフィルタの染色母材からなる
パターンを形成、染色してハレーション防止パターン1
13を形成する。続いて図24(b)に示すように、カ
ラーフィルタの染色母材からなるパターンを形成、染色
して1色目のカラーフィルタパターン106を形成す
る。
【0062】次に図24(c)に示すように、高分子材
料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化
性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色
目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜104を
形成し、1色目のカラーフィルタパターンとは異なる所
望の受光部に対応した位置に開口部を形成し、次に、開
口部にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色
して2色目のカラーフィルタパターン107を形成し、
次に、2色目のカラーフィルタパターンの混色防止保護
膜104´を形成し、次に、2色目のカラーフィルタパ
ターンの混色防止保護膜上に3色目のカラーフィルタパ
ターン108を形成し、最後に、3色目のカラーフィル
タ層108上に表面保護膜105を形成して、カラー固
体撮像素子を得る。この時、上記の工程において、ハレ
ーション防止パターン113を形成した後に(図24
(a))、続いて妨染処理を行なう工程を含む場合もあ
る。
料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化
性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色
目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜104を
形成し、1色目のカラーフィルタパターンとは異なる所
望の受光部に対応した位置に開口部を形成し、次に、開
口部にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色
して2色目のカラーフィルタパターン107を形成し、
次に、2色目のカラーフィルタパターンの混色防止保護
膜104´を形成し、次に、2色目のカラーフィルタパ
ターンの混色防止保護膜上に3色目のカラーフィルタパ
ターン108を形成し、最後に、3色目のカラーフィル
タ層108上に表面保護膜105を形成して、カラー固
体撮像素子を得る。この時、上記の工程において、ハレ
ーション防止パターン113を形成した後に(図24
(a))、続いて妨染処理を行なう工程を含む場合もあ
る。
【0063】図25の工程説明(ハレーション防止パ
ターンを有する):図25(a)に示すように、固体撮
像素子基板上に、透明材料からなる平坦化層103を形
成し、平坦化層上にカラーフィルタの染色母材からなる
パターンを形成、染色してハレーション防止パターン1
13を形成する。次に図25(b)に示すように、高分
子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光
硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、
ハレーション防止パターンの混色防止保護膜104を形
成し、ハレーション防止パターンとは異なる所望の受光
部に対応した位置に開口部110を形成する。
ターンを有する):図25(a)に示すように、固体撮
像素子基板上に、透明材料からなる平坦化層103を形
成し、平坦化層上にカラーフィルタの染色母材からなる
パターンを形成、染色してハレーション防止パターン1
13を形成する。次に図25(b)に示すように、高分
子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光
硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、
ハレーション防止パターンの混色防止保護膜104を形
成し、ハレーション防止パターンとは異なる所望の受光
部に対応した位置に開口部110を形成する。
【0064】次に図25(c)に示すように、開口部に
カラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して1
色目のカラーフィルタパターン106を形成する。次に
図25(d)に示すように、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、1色目のカラーフィル
タパターンの混色防止保護膜104´を形成し、1色目
のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受光部に対
応した位置に開口部を形成し、次に、開口部にカラーフ
ィルタの染色母材パターンを形成、染色して2色目のカ
ラーフィルタパターン107を形成し、次に、2色目の
カラーフィルタパターンの混色防止保護膜104〃を形
成し、次に、2色目のカラーフィルタパターンの混色防
止保護膜上に3色目のカラーフィルタパターン108を
形成し、最後に、3色目のカラーフィルタ層108上に
表面保護膜105を形成して、カラー固体撮像素子を得
る。この時、上記の工程において、開口部110を形成
した後に(図25(b))、続いて妨染処理を行なう工
程を含む場合もある。
カラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して1
色目のカラーフィルタパターン106を形成する。次に
図25(d)に示すように、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、1色目のカラーフィル
タパターンの混色防止保護膜104´を形成し、1色目
のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受光部に対
応した位置に開口部を形成し、次に、開口部にカラーフ
ィルタの染色母材パターンを形成、染色して2色目のカ
ラーフィルタパターン107を形成し、次に、2色目の
カラーフィルタパターンの混色防止保護膜104〃を形
成し、次に、2色目のカラーフィルタパターンの混色防
止保護膜上に3色目のカラーフィルタパターン108を
形成し、最後に、3色目のカラーフィルタ層108上に
表面保護膜105を形成して、カラー固体撮像素子を得
る。この時、上記の工程において、開口部110を形成
した後に(図25(b))、続いて妨染処理を行なう工
程を含む場合もある。
【0065】図26の工程説明(マイクロレンズの製
造工程):図26(a)に示すように、カラーフィルタ
層の表面保護膜105上に、マイクロレンズ用の感光性
材料111を塗布、加熱する。次に図26(b)に示す
ように、露光、現像して、マイクロレンズ用の感光性材
料パターン112を形成する。最後に図26(c)に示
すように、加熱、溶融流動させて、凸状のマイクロレン
ズ109を形成し、マイクロレンズ付きカラー固体撮像
素子を得る。
造工程):図26(a)に示すように、カラーフィルタ
層の表面保護膜105上に、マイクロレンズ用の感光性
材料111を塗布、加熱する。次に図26(b)に示す
ように、露光、現像して、マイクロレンズ用の感光性材
料パターン112を形成する。最後に図26(c)に示
すように、加熱、溶融流動させて、凸状のマイクロレン
ズ109を形成し、マイクロレンズ付きカラー固体撮像
素子を得る。
【0066】次に、上述の酸発生剤について詳述する
と、酸発生剤の好適な例は、先に説明したように、一般
式(1)、(2)、(3)、(4)で表されるオニウム
塩、もしくはトリ(メタンスルホニル−オキシ)ベンゼ
ン等が挙げられるが、更に具体的に例示すると、下記の
表1〜表20に示す化合物が挙げられる。しかし、本発
明はこれらの化合物に限られるものではない。
と、酸発生剤の好適な例は、先に説明したように、一般
式(1)、(2)、(3)、(4)で表されるオニウム
塩、もしくはトリ(メタンスルホニル−オキシ)ベンゼ
ン等が挙げられるが、更に具体的に例示すると、下記の
表1〜表20に示す化合物が挙げられる。しかし、本発
明はこれらの化合物に限られるものではない。
【0067】
【表1】
【0068】
【表2】
【0069】
【表3】
【0070】
【表4】
【0071】
【表5】
【0072】
【表6】
【0073】
【表7】
【0074】
【表8】
【0075】
【表9】
【0076】
【表10】
【0077】
【表11】
【0078】
【表12】
【0079】
【表13】
【0080】
【表14】
【0081】
【表15】
【0082】
【表16】
【0083】
【表17】
【0084】
【表18】
【0085】
【表19】
【0086】
【表20】
【0087】また、高分子材料、有機ケイ素系材料につ
いても更に具体的に詳述すと、下記の表21〜表25に
示すものが挙げられるが、これに限られるものではな
い。
いても更に具体的に詳述すと、下記の表21〜表25に
示すものが挙げられるが、これに限られるものではな
い。
【0088】
【表21】
【0089】
【表22】
【0090】
【表23】
【0091】
【表24】
【0092】
【表25】
【0093】更にまた、上述の妨染処理について詳述す
ると、妨染処理の具体的な処理方法の例としては、例え
ば次ぎに示すような特許公報が挙げられ、これらにした
がって処理することができる。特開昭56−12571
1号、特開昭61−67801号、特開昭58−207
010号、特開昭59−94705号、特開昭60−6
7903号、特開昭62−138802号、特開昭58
−54303号、特開昭61−32846号、特公昭6
0−34085号、特公昭61−51286号
ると、妨染処理の具体的な処理方法の例としては、例え
ば次ぎに示すような特許公報が挙げられ、これらにした
がって処理することができる。特開昭56−12571
1号、特開昭61−67801号、特開昭58−207
010号、特開昭59−94705号、特開昭60−6
7903号、特開昭62−138802号、特開昭58
−54303号、特開昭61−32846号、特公昭6
0−34085号、特公昭61−51286号
【0094】
【作用】本発明のカラー固体撮像素子では、酸発生剤を
含んだ光硬化性の有機保護膜を用いて平坦性に優れた保
護膜層を形成することにより、カラーフィルタパターン
の膜厚バラツキを低減でき、またマイクロレンズの厚さ
や素子受光部からの高さバラツキを低減できる。さら
に、同一平面上に異なるカラーフィルタを形成すること
により、カラーフィルタ層の膜厚を低減でき、またマイ
クロレンズの素子受光部からの高さを低減できる。これ
により、分光特性を改善し、かつマイクロレンズの集光
効率を向上することで素子感度を向上したカラー固体撮
像素子である。すなわち、フィルタ全体の膜厚が薄くな
るほど受光感度が向上する。それ故、2色のフィルタを
積層してグリーンフィルタを構成する場合には、一層目
のフィルタ上に混色防止保護膜を形成してその上に二色
目のフィルタを積層するよりも、保護膜を除去して一色
目のフィルタを露出させて妨染処理し、その上に二色目
のフィルタを接触積層させた構成とする方が薄膜化に有
利である。
含んだ光硬化性の有機保護膜を用いて平坦性に優れた保
護膜層を形成することにより、カラーフィルタパターン
の膜厚バラツキを低減でき、またマイクロレンズの厚さ
や素子受光部からの高さバラツキを低減できる。さら
に、同一平面上に異なるカラーフィルタを形成すること
により、カラーフィルタ層の膜厚を低減でき、またマイ
クロレンズの素子受光部からの高さを低減できる。これ
により、分光特性を改善し、かつマイクロレンズの集光
効率を向上することで素子感度を向上したカラー固体撮
像素子である。すなわち、フィルタ全体の膜厚が薄くな
るほど受光感度が向上する。それ故、2色のフィルタを
積層してグリーンフィルタを構成する場合には、一層目
のフィルタ上に混色防止保護膜を形成してその上に二色
目のフィルタを積層するよりも、保護膜を除去して一色
目のフィルタを露出させて妨染処理し、その上に二色目
のフィルタを接触積層させた構成とする方が薄膜化に有
利である。
【0095】また、フィルタ形成に先立ち、走査部上に
ハレーション防止膜を形成することにより、受光部上に
露光工程を用いてフィルタパターンを形成する際に、走
査部からの反射光を防止することができるので高精度の
パターン形成を可能とする。
ハレーション防止膜を形成することにより、受光部上に
露光工程を用いてフィルタパターンを形成する際に、走
査部からの反射光を防止することができるので高精度の
パターン形成を可能とする。
【0096】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面にしたがって説
明をする。なお、以下の実施例で用いる酸発生剤及び高
分子材料、有機ケイ素系材料については、いずれも表1
〜表20及び表21〜表25に示したものから選び、そ
れぞれ略号として[酸発生剤No.n]、[ポリマN
o.n](ただし、n=1、2、3、・・・・)を用い
て記述する。また、各実施例で使用した高分子材料、有
機ケイ素系材料の分子量は、いずれも20〜30万のも
のである。
明をする。なお、以下の実施例で用いる酸発生剤及び高
分子材料、有機ケイ素系材料については、いずれも表1
〜表20及び表21〜表25に示したものから選び、そ
れぞれ略号として[酸発生剤No.n]、[ポリマN
o.n](ただし、n=1、2、3、・・・・)を用い
て記述する。また、各実施例で使用した高分子材料、有
機ケイ素系材料の分子量は、いずれも20〜30万のも
のである。
【0097】〈実施例1〉図1に断面を示すカラー固体
撮像素子の製造例を、図19の工程図にしたがって説明
する。先ず、図19(a)に示すように、半導体基板1
00内に予め受光部101及び走査部102が形成さ
れ、しかも、その表面がパッシベーション膜に覆われた
最大2.5μmの表面段差のある固体撮像素子基板上
に、表21に記載した高分子材料[ポリマNo.1]の
溶液に熱架橋剤として2,2’,4,4’−テトラヒド
ロキシベンゾフェノンを樹脂重量に対して1.0wt%
加えた組成物(以下、熱硬化性組成物1と記す)を塗布
し、ホットプレートを用いて200℃で10分ベークし
て、フィルタ層下地の素子平坦化膜103を2μm厚形
成した。
撮像素子の製造例を、図19の工程図にしたがって説明
する。先ず、図19(a)に示すように、半導体基板1
00内に予め受光部101及び走査部102が形成さ
れ、しかも、その表面がパッシベーション膜に覆われた
最大2.5μmの表面段差のある固体撮像素子基板上
に、表21に記載した高分子材料[ポリマNo.1]の
溶液に熱架橋剤として2,2’,4,4’−テトラヒド
ロキシベンゾフェノンを樹脂重量に対して1.0wt%
加えた組成物(以下、熱硬化性組成物1と記す)を塗布
し、ホットプレートを用いて200℃で10分ベークし
て、フィルタ層下地の素子平坦化膜103を2μm厚形
成した。
【0098】次いで、同図(b)に示すように、素子平
坦化膜上にカゼインのネガ型感光性可染性フィルタ母材
を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して1色目のフィ
ルタを形成する所望の受光部上の位置にフィルタ母材の
パターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して染色を
施し、マゼンタフィルタ(以下、Mgと略す)106を
形成した。
坦化膜上にカゼインのネガ型感光性可染性フィルタ母材
を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して1色目のフィ
ルタを形成する所望の受光部上の位置にフィルタ母材の
パターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して染色を
施し、マゼンタフィルタ(以下、Mgと略す)106を
形成した。
【0099】次に、同図(c)に示すように、[ポリマ
No.1]の溶液に表4に記載した[酸発生剤No.2
3]を樹脂重量に対して2.0wt%加えた光硬化型組
成物(以下、光硬化性組成物1と記す)を塗布し、ホッ
トプレートを用いて180℃で10分ベークし、Deep
UV光を用いて254nm測定で200mJの露光量で
所定パターンのマスクを通して露光し、メチルエチルケ
トン/エタノール(容積比5/2)混合液で2色、3色
目のフィルタを形成する領域上の未露光部を選択的に溶
解して開口部110を形成した。次いで、再度100℃
で5分ベークして、0.8μm厚のマゼンタフィルタパ
ターン106を覆う混色防止保護膜104を形成した。
No.1]の溶液に表4に記載した[酸発生剤No.2
3]を樹脂重量に対して2.0wt%加えた光硬化型組
成物(以下、光硬化性組成物1と記す)を塗布し、ホッ
トプレートを用いて180℃で10分ベークし、Deep
UV光を用いて254nm測定で200mJの露光量で
所定パターンのマスクを通して露光し、メチルエチルケ
トン/エタノール(容積比5/2)混合液で2色、3色
目のフィルタを形成する領域上の未露光部を選択的に溶
解して開口部110を形成した。次いで、再度100℃
で5分ベークして、0.8μm厚のマゼンタフィルタパ
ターン106を覆う混色防止保護膜104を形成した。
【0100】次いで、同図(d)に示すようにフィルタ
母材を0.8μm厚で成膜し、露光、現像して、先の開
口部110にフィルタ母材のパターンを選択的に形成し
た。続いて、染色液に浸漬して染色を施し、2色目(シ
アン)、3色目(グリーンGの一層目のシアン)のフィ
ルタとなるシアンフィルタ(Cy)107を形成した。
母材を0.8μm厚で成膜し、露光、現像して、先の開
口部110にフィルタ母材のパターンを選択的に形成し
た。続いて、染色液に浸漬して染色を施し、2色目(シ
アン)、3色目(グリーンGの一層目のシアン)のフィ
ルタとなるシアンフィルタ(Cy)107を形成した。
【0101】次に、同図(e)に示すように熱硬化性組
成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃で1
0分ベークして、混色防止保護膜を兼ねた平坦化膜10
4´を0.5μm厚形成した。
成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃で1
0分ベークして、混色防止保護膜を兼ねた平坦化膜10
4´を0.5μm厚形成した。
【0102】次いで、同図(f)に示すように素子平坦
化膜104´上に、フィルタ母材を0.5μm厚で成膜
し、露光、現像して3色、4色目のフィルタを形成する
所望の受光部上の位置にフィルタ母材のパターン108
を形成した。続いて、染色液に浸漬して染色を施し、3
色目(グリーンGの二層目のイエロ)、4色目のイエロ
フィルタ(Ye)108を形成した。
化膜104´上に、フィルタ母材を0.5μm厚で成膜
し、露光、現像して3色、4色目のフィルタを形成する
所望の受光部上の位置にフィルタ母材のパターン108
を形成した。続いて、染色液に浸漬して染色を施し、3
色目(グリーンGの二層目のイエロ)、4色目のイエロ
フィルタ(Ye)108を形成した。
【0103】次に、同図(g)に示すように光硬化性組
成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃で1
0分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定で
200mJの露光量で全面露光し、再度100℃で5分
ベークしてフィルタ層上に0.8μm厚の表面保護膜1
05を形成して、カラー固体撮像素子を得た。
成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃で1
0分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定で
200mJの露光量で全面露光し、再度100℃で5分
ベークしてフィルタ層上に0.8μm厚の表面保護膜1
05を形成して、カラー固体撮像素子を得た。
【0104】この時、表面保護膜上の凹凸は最大でも
0.1μmであり、平坦性に優れたフィルタ層を形成す
ることができた。このように本実施例のカラー固体撮像
素子は、Mg、Ye、CyおよびG(グリーン)からな
る4色のカラーフィルタを半導体基板100上に一体的
に形成して構成されている。そしてGフィルタに限り、
一層目のCyと二層目のYeとの二重層から構成されて
いる。また、Mgフィルタ106とCyフィルタ107
とGフィルタの一層目を構成するCy107とは、それ
ぞれ同一平面上に形成され、さらにまた、Yeフィルタ
108とGフィルタの二層目を構成するYe108とに
ついても共に同一平面上に形成されている。したがっ
て、4色のフィルタを実質的に2層のフィルタで構成し
ているので、フィルタ全体の膜厚を著しく薄型化できる
という効果がある。
0.1μmであり、平坦性に優れたフィルタ層を形成す
ることができた。このように本実施例のカラー固体撮像
素子は、Mg、Ye、CyおよびG(グリーン)からな
る4色のカラーフィルタを半導体基板100上に一体的
に形成して構成されている。そしてGフィルタに限り、
一層目のCyと二層目のYeとの二重層から構成されて
いる。また、Mgフィルタ106とCyフィルタ107
とGフィルタの一層目を構成するCy107とは、それ
ぞれ同一平面上に形成され、さらにまた、Yeフィルタ
108とGフィルタの二層目を構成するYe108とに
ついても共に同一平面上に形成されている。したがっ
て、4色のフィルタを実質的に2層のフィルタで構成し
ているので、フィルタ全体の膜厚を著しく薄型化できる
という効果がある。
【0105】〈比較例1〉実施例1の混色防止保護膜1
04および表面保護膜105として用いた光硬化性組成
物1の代わりに、いずれも従来の熱硬化性組成物1を用
い、しかも図19(c)工程の開口部110を設けず
に、1色目のMgフィルタ106の混色防止保護膜10
4上に、2色目のフィルタ(Cy)107と3色目のフ
ィルタ(Gの一層目となるCy)107とを形成し、こ
れらのフィルタ上に混色防止保護膜104を形成してか
ら、その上に3色目のフィルタ(Gの二層目となるY
e)108と4色目のフィルタ(Ye)108とを形成
し、最後に表面保護膜105を形成して比較例となる従
来のカラー固体撮像素子を製造した。
04および表面保護膜105として用いた光硬化性組成
物1の代わりに、いずれも従来の熱硬化性組成物1を用
い、しかも図19(c)工程の開口部110を設けず
に、1色目のMgフィルタ106の混色防止保護膜10
4上に、2色目のフィルタ(Cy)107と3色目のフ
ィルタ(Gの一層目となるCy)107とを形成し、こ
れらのフィルタ上に混色防止保護膜104を形成してか
ら、その上に3色目のフィルタ(Gの二層目となるY
e)108と4色目のフィルタ(Ye)108とを形成
し、最後に表面保護膜105を形成して比較例となる従
来のカラー固体撮像素子を製造した。
【0106】なお、各フィルタの膜厚、混色防止保護膜
104の膜厚および表面保護膜105の膜厚は、いずれ
も実施例1のそれらと同様にした。その結果、実施例1
に比べて、フィルタ層全体の膜厚で0.3μm厚く、し
かも表面保護膜の凹凸は0.5μmと凹凸が大きい。こ
のため、例えばテレビジョン学会誌(第37巻、第7
号、第553〜558頁、1983年)に示されている
ように、フィルタ層表面の凹凸によるレンズ効果により
分光特性が実施例1で得られた素子よりも劣っていた。
104の膜厚および表面保護膜105の膜厚は、いずれ
も実施例1のそれらと同様にした。その結果、実施例1
に比べて、フィルタ層全体の膜厚で0.3μm厚く、し
かも表面保護膜の凹凸は0.5μmと凹凸が大きい。こ
のため、例えばテレビジョン学会誌(第37巻、第7
号、第553〜558頁、1983年)に示されている
ように、フィルタ層表面の凹凸によるレンズ効果により
分光特性が実施例1で得られた素子よりも劣っていた。
【0107】〈実施例2〉図2に断面を示すマイクロレ
ンズ付きのカラー固体撮像素子を製造する例について、
図26の工程図にしたがって説明する。図26(a)に
示すように実施例1で得られた素子のフィルタ表面保護
膜105上にDeep UV用レジスト111を塗布し、ホ
ットプレートを用いて90℃で10分ベークし、Deep
UV光でレンズのパターン形成用マスク(図示せず)を
通して露光し、現像して同図(b)に示すレンズパター
ン112を形成した。
ンズ付きのカラー固体撮像素子を製造する例について、
図26の工程図にしたがって説明する。図26(a)に
示すように実施例1で得られた素子のフィルタ表面保護
膜105上にDeep UV用レジスト111を塗布し、ホ
ットプレートを用いて90℃で10分ベークし、Deep
UV光でレンズのパターン形成用マスク(図示せず)を
通して露光し、現像して同図(b)に示すレンズパター
ン112を形成した。
【0108】次いで、同図(c)に示すように200℃
で10分ベークして、レジストパターン112を溶融流
動させて凸状のマイクロレンズ109を形成した。この
実施例によれば、表面保護膜105上の凹凸が小さく、
平坦性に優れているため、マイクロレンズの厚さバラツ
キが小さく、集光効果が高く、しかも高感度のカラー固
体撮像素子を得ることができた。
で10分ベークして、レジストパターン112を溶融流
動させて凸状のマイクロレンズ109を形成した。この
実施例によれば、表面保護膜105上の凹凸が小さく、
平坦性に優れているため、マイクロレンズの厚さバラツ
キが小さく、集光効果が高く、しかも高感度のカラー固
体撮像素子を得ることができた。
【0109】〈比較例2〉比較例1で得られた素子のフ
ィルタ表面保護膜105上に、実施例2と同様の工程に
よりDeep UV用レジストを塗布して、凸状のマイクロ
レンズを形成した。その結果、表面保護膜105上の凹
凸が大きく、平坦性に劣っているため、マイクロレンズ
の厚さバラツキが大きく、実施例2と比較して感度の低
いカラー固体撮像素子となった。
ィルタ表面保護膜105上に、実施例2と同様の工程に
よりDeep UV用レジストを塗布して、凸状のマイクロ
レンズを形成した。その結果、表面保護膜105上の凹
凸が大きく、平坦性に劣っているため、マイクロレンズ
の厚さバラツキが大きく、実施例2と比較して感度の低
いカラー固体撮像素子となった。
【0110】〈実施例3〉図3に断面を示すカラー固体
撮像素子の製造例を、図20の工程図にしたがって説明
する。先ず、図20(a)に示すように、実施例1で用
いた固体撮像素子基板と同一の基板100上に、熱硬化
性組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃
で10分ベークして、フィルタ層下地の素子平坦化膜1
03を2μm厚形成した。次いで、素子平坦化膜103
上にフィルタ母材を0.5μm厚で成膜し、露光、現像
して1色目のフィルタを形成する所望の受光部上の位置
にフィルタ母材のパターンを形成した。続いて、染色液
に浸漬して染色を施し、マゼンタフィルタ(Mg)10
6を形成した。次いで、光硬化性組成物1を塗布し、ホ
ットプレートを用いて180℃で10分ベークし、Dee
p UV光を用いて254nm測定で200mJの露光量
で所定のマスクを通して露光し、メチルエチルケトン/
エタノール混合液で2色、3色目のフィルタを形成する
領域上の未露光部を選択的に溶解して開口部を形成し
た。次いで、再度100℃で5分ベークして、0.8μ
m厚の膜を形成し、マゼンタフィルタパターン106を
覆う混色防止保護膜104を形成した。次いで、フィル
タ母材を0.8μm厚で成膜し、露光、現像して、先の
開口部にフィルタ母材のパターンを選択的に形成した。
続いて、染色液に浸漬して染色を施し、シアンフィルタ
(Cy)107を、マゼンタフィルタ(Mg)106と
同一面上に形成した。続いて全面に光硬化性組成物1に
よる混色防止保護膜104´を塗布した。
撮像素子の製造例を、図20の工程図にしたがって説明
する。先ず、図20(a)に示すように、実施例1で用
いた固体撮像素子基板と同一の基板100上に、熱硬化
性組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃
で10分ベークして、フィルタ層下地の素子平坦化膜1
03を2μm厚形成した。次いで、素子平坦化膜103
上にフィルタ母材を0.5μm厚で成膜し、露光、現像
して1色目のフィルタを形成する所望の受光部上の位置
にフィルタ母材のパターンを形成した。続いて、染色液
に浸漬して染色を施し、マゼンタフィルタ(Mg)10
6を形成した。次いで、光硬化性組成物1を塗布し、ホ
ットプレートを用いて180℃で10分ベークし、Dee
p UV光を用いて254nm測定で200mJの露光量
で所定のマスクを通して露光し、メチルエチルケトン/
エタノール混合液で2色、3色目のフィルタを形成する
領域上の未露光部を選択的に溶解して開口部を形成し
た。次いで、再度100℃で5分ベークして、0.8μ
m厚の膜を形成し、マゼンタフィルタパターン106を
覆う混色防止保護膜104を形成した。次いで、フィル
タ母材を0.8μm厚で成膜し、露光、現像して、先の
開口部にフィルタ母材のパターンを選択的に形成した。
続いて、染色液に浸漬して染色を施し、シアンフィルタ
(Cy)107を、マゼンタフィルタ(Mg)106と
同一面上に形成した。続いて全面に光硬化性組成物1に
よる混色防止保護膜104´を塗布した。
【0111】次に、同図(b)に示すように、この塗布
膜104´をホットプレートを用いて180℃で10分
ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定で20
0mJの露光量でマスクを通して露光し、メチルエチル
ケトン/エタノール混合液で4色目のイエロフィルタ
(Ye)を形成する領域の未露光部を溶解して開口部1
10を形成した。次いで、この膜を再度100℃で5分
ベークして、0.2μm厚の混色防止保護膜104´と
した。
膜104´をホットプレートを用いて180℃で10分
ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定で20
0mJの露光量でマスクを通して露光し、メチルエチル
ケトン/エタノール混合液で4色目のイエロフィルタ
(Ye)を形成する領域の未露光部を溶解して開口部1
10を形成した。次いで、この膜を再度100℃で5分
ベークして、0.2μm厚の混色防止保護膜104´と
した。
【0112】次いで、同図(c)に示すように、フィル
タ母材を0.3μm厚で成膜し、露光、現像して、先の
開口部110(4色目のフィルタ形成領域)と3色目の
フィルタ(Gの二層目となる)との位置にフィルタ母材
のパターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して染色
を施し、イエロフィルタ(Ye)108を形成した。
タ母材を0.3μm厚で成膜し、露光、現像して、先の
開口部110(4色目のフィルタ形成領域)と3色目の
フィルタ(Gの二層目となる)との位置にフィルタ母材
のパターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して染色
を施し、イエロフィルタ(Ye)108を形成した。
【0113】次に、同図(d)に示すように光硬化性組
成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃で1
0分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定で
200mJの露光量で全面露光し、再度100℃で5分
ベークして、フィルタ層上に0.8μm厚の表面保護膜
105を形成して、カラー固体撮像素子を得た。このよ
うにしてMg、Cy、G、Yeの4色からなるフィルタ
が形成された。フィルタGは、先の実施例と同様にここ
でも一層目のCyと二層目のYeとの二重層からなり、
また、Mg、Cy、Gの一層目のCyは、いずれも同一
平面上に形成されている。
成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃で1
0分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定で
200mJの露光量で全面露光し、再度100℃で5分
ベークして、フィルタ層上に0.8μm厚の表面保護膜
105を形成して、カラー固体撮像素子を得た。このよ
うにしてMg、Cy、G、Yeの4色からなるフィルタ
が形成された。フィルタGは、先の実施例と同様にここ
でも一層目のCyと二層目のYeとの二重層からなり、
また、Mg、Cy、Gの一層目のCyは、いずれも同一
平面上に形成されている。
【0114】〈実施例4〉図5に断面を示すカラー固体
撮像素子の製造例を、図21の工程図にしたがって説明
する。先ず、図21(a)に示すように、実施例3の図
20(a)と同様にして、マゼンタフィルタ(Mg)1
06とシアンフィルタ(Cy)107とを形成し、次い
でその上に光硬化性組成物1からなる塗布膜104´
(混色防止保護膜となる)を形成した。
撮像素子の製造例を、図21の工程図にしたがって説明
する。先ず、図21(a)に示すように、実施例3の図
20(a)と同様にして、マゼンタフィルタ(Mg)1
06とシアンフィルタ(Cy)107とを形成し、次い
でその上に光硬化性組成物1からなる塗布膜104´
(混色防止保護膜となる)を形成した。
【0115】次に、同図(b)に示すように、この塗布
膜104´をホットプレートを用いて180℃で10分
ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定で20
0mJの露光量で所定のマスクを通して露光し、メチル
エチルケトン/エタノール混合液で3色、4色目のフィ
ルタ形成領域となる未露光部を溶解して開口部110を
形成した。次いで、この塗布膜を再度100℃で5分ベ
ークして、0.3μm厚とした。すなわち、この塗布膜
104´にて2色目のフィルタとなるシアンフィルタパ
ターン107を覆う混色防止保護膜を形成すると共に、
4色目のフィルタ形成領域と、3色目のフィルタを構成
するその一層目のシアンフィルタパターン107上の位
置にそれぞれ開口部110を形成し、再度100℃で5
分ベークした。次いで、表面が露出したシアンフィルタ
107に妨染処理を施した。
膜104´をホットプレートを用いて180℃で10分
ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定で20
0mJの露光量で所定のマスクを通して露光し、メチル
エチルケトン/エタノール混合液で3色、4色目のフィ
ルタ形成領域となる未露光部を溶解して開口部110を
形成した。次いで、この塗布膜を再度100℃で5分ベ
ークして、0.3μm厚とした。すなわち、この塗布膜
104´にて2色目のフィルタとなるシアンフィルタパ
ターン107を覆う混色防止保護膜を形成すると共に、
4色目のフィルタ形成領域と、3色目のフィルタを構成
するその一層目のシアンフィルタパターン107上の位
置にそれぞれ開口部110を形成し、再度100℃で5
分ベークした。次いで、表面が露出したシアンフィルタ
107に妨染処理を施した。
【0116】次いで、同図(c)に示すように、フィル
タ母材を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して、先の
開口部110にフィルタ母材のパターンを形成した。続
いて、染色液に浸漬して染色を施し、イエロフィルタ
(Ye)108を形成した。
タ母材を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して、先の
開口部110にフィルタ母材のパターンを形成した。続
いて、染色液に浸漬して染色を施し、イエロフィルタ
(Ye)108を形成した。
【0117】次に、同図(d)に示すように、光硬化性
組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃で
10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定
で200mJの露光量で全面露光し、再度100℃で5
分ベークして、フィルタ層上に0.8μm厚の表面保護
膜105を形成して、カラー固体撮像素子を得た。
組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃で
10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定
で200mJの露光量で全面露光し、再度100℃で5
分ベークして、フィルタ層上に0.8μm厚の表面保護
膜105を形成して、カラー固体撮像素子を得た。
【0118】この例では、Gフィルタを構成する一層目
のCy107と二層目のYe108とは直接接触してい
る。そして、Mgフィルタ106とCyフィルタ107
とGフィルタの一層目のCyフィルタとは、それぞれ同
一平面上に、また、Yeフィルタ108とGフィルタの
二層目のYeフィルタ108も共に同一平面上に形成さ
れている。したがって、本実施例のフィルタは、4色の
フィルタを実質的に2層のフィルタ層で形成しているこ
とのなり、全体の厚みが実施例1、3よりも、更に薄形
化された。
のCy107と二層目のYe108とは直接接触してい
る。そして、Mgフィルタ106とCyフィルタ107
とGフィルタの一層目のCyフィルタとは、それぞれ同
一平面上に、また、Yeフィルタ108とGフィルタの
二層目のYeフィルタ108も共に同一平面上に形成さ
れている。したがって、本実施例のフィルタは、4色の
フィルタを実質的に2層のフィルタ層で形成しているこ
とのなり、全体の厚みが実施例1、3よりも、更に薄形
化された。
【0119】〈実施例5〉図7に断面を示すカラー固体
撮像素子の製造例を、図22の工程図にしたがって説明
する。先ず、図22(a)に示すように、実施例1で用
いた固体撮像素子基板100上に、熱硬化性組成物1を
塗布し、ホットプレートを用いて200℃で10分ベー
クして、フィルタ層下地の素子平坦化膜103を2μm
厚形成した。次いで、素子平坦化膜103上にフィルタ
母材を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して所望の1
色、2色目のフィルタ形成位置にフィルタ母材のパター
ンを形成し、続いて染色液に浸漬して染色を施し、1色
目と2色目のシアンフィルタ(Cy)107を形成し
た。なお、2色目のシアンフィルタ107はGフィルタ
の一層目を形成し、後の工程で二層目のYeフィルタが
積層されるものである。
撮像素子の製造例を、図22の工程図にしたがって説明
する。先ず、図22(a)に示すように、実施例1で用
いた固体撮像素子基板100上に、熱硬化性組成物1を
塗布し、ホットプレートを用いて200℃で10分ベー
クして、フィルタ層下地の素子平坦化膜103を2μm
厚形成した。次いで、素子平坦化膜103上にフィルタ
母材を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して所望の1
色、2色目のフィルタ形成位置にフィルタ母材のパター
ンを形成し、続いて染色液に浸漬して染色を施し、1色
目と2色目のシアンフィルタ(Cy)107を形成し
た。なお、2色目のシアンフィルタ107はGフィルタ
の一層目を形成し、後の工程で二層目のYeフィルタが
積層されるものである。
【0120】次に、同図(b)に示すように、光硬化性
組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃で
10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定
で200mJの露光量で所定のマスクを通して露光し、
メチルエチルケトン/エタノール混合液で2色目(Gの
二層目)、3色目のフィルタ形成領域の未露光部を溶解
し、次いで、再度100℃で5分ベークして、0.8μ
m厚の膜を形成し、1色目のシアンフィルタパターン1
07を覆う混色防止保護膜104を形成すると共に、2
色目(Gの二層目)、3色目のフィルタ形成領域に対応
した位置にそれぞれ開口部110を形成し、再度100
℃で5分ベークした。次いで、表面が露出したGフィル
タの1層目となるシアンフィルタ107に妨染処理を施
した。
組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃で
10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定
で200mJの露光量で所定のマスクを通して露光し、
メチルエチルケトン/エタノール混合液で2色目(Gの
二層目)、3色目のフィルタ形成領域の未露光部を溶解
し、次いで、再度100℃で5分ベークして、0.8μ
m厚の膜を形成し、1色目のシアンフィルタパターン1
07を覆う混色防止保護膜104を形成すると共に、2
色目(Gの二層目)、3色目のフィルタ形成領域に対応
した位置にそれぞれ開口部110を形成し、再度100
℃で5分ベークした。次いで、表面が露出したGフィル
タの1層目となるシアンフィルタ107に妨染処理を施
した。
【0121】次いで、同図(c)に示すように、フィル
タ母材を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して、先の
開口部110にフィルタ母材のパターンを形成した。続
いて、染色液に浸漬して染色を施し、イエロフィルタ
(Ye)108を形成した。これにより2色目のシアン
フィルタ107とイエロフィルタ(Ye)108の積層
膜から成るGフィルタと3色目のイエロフィルタ(Y
e)108が形成された。
タ母材を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して、先の
開口部110にフィルタ母材のパターンを形成した。続
いて、染色液に浸漬して染色を施し、イエロフィルタ
(Ye)108を形成した。これにより2色目のシアン
フィルタ107とイエロフィルタ(Ye)108の積層
膜から成るGフィルタと3色目のイエロフィルタ(Y
e)108が形成された。
【0122】次に、同図(d)に示すように、光硬化性
組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃で
10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定
で200mJの露光量で所定のマスクを通して露光し、
メチルエチルケトン/エタノール混合液で4色目のフィ
ルタを形成する領域の未露光部を溶解し、開口部を形成
する。次いで、再度100℃で5分ベークして、膜厚を
0.8μmとし、2色、3色目のイエロフィルタパター
ン108を覆う混色防止保護膜104´を形成すると共
に、シアン、イエロフィルタパターンと異なる他の受光
部に対応した位置に、4色目のフィルタを形成する領域
となる開口部を形成して、再度100℃で5分ベークし
た。次いで、フィルタ母材を0.5μm厚で成膜し、露
光、現像して、先の開口部に4色目のフィルタ母材のパ
ターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して染色を施
し、マゼンタフィルタ(Mg)106を形成した。
組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃で
10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定
で200mJの露光量で所定のマスクを通して露光し、
メチルエチルケトン/エタノール混合液で4色目のフィ
ルタを形成する領域の未露光部を溶解し、開口部を形成
する。次いで、再度100℃で5分ベークして、膜厚を
0.8μmとし、2色、3色目のイエロフィルタパター
ン108を覆う混色防止保護膜104´を形成すると共
に、シアン、イエロフィルタパターンと異なる他の受光
部に対応した位置に、4色目のフィルタを形成する領域
となる開口部を形成して、再度100℃で5分ベークし
た。次いで、フィルタ母材を0.5μm厚で成膜し、露
光、現像して、先の開口部に4色目のフィルタ母材のパ
ターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して染色を施
し、マゼンタフィルタ(Mg)106を形成した。
【0123】最後に、同図(e)に示すように、光硬化
性組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃
で10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測
定で200mJの露光量で全面露光し、再度100℃で
5分ベークして、フィルタ層上に0.8μm厚の表面保
護膜105を形成して、カラー固体撮像素子を得た。
性組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃
で10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測
定で200mJの露光量で全面露光し、再度100℃で
5分ベークして、フィルタ層上に0.8μm厚の表面保
護膜105を形成して、カラー固体撮像素子を得た。
【0124】これにより、Cyフィルタ、Gフィルタの
一層目のCyフィルタ、Yeフィルタの3種のフィルタ
パターンが同一平面上に形成され、フィルタ全体の膜厚
を薄形化することができた。
一層目のCyフィルタ、Yeフィルタの3種のフィルタ
パターンが同一平面上に形成され、フィルタ全体の膜厚
を薄形化することができた。
【0125】〈実施例6〜9〉これらの実施例は、いず
れも先の実施例1、3〜5で半導体基板100上に素子
平坦化膜103を形成した後に、フィルタ形成工程に先
だって、素子の走査部102に対応した位置全面にフィ
ルタ母材のパターンを形成し、続いて、染色液に浸漬し
てイエロに染色を施し、フィルタ母材を露光するときの
露光光のハレーション防止パターン113を形成したも
のである。
れも先の実施例1、3〜5で半導体基板100上に素子
平坦化膜103を形成した後に、フィルタ形成工程に先
だって、素子の走査部102に対応した位置全面にフィ
ルタ母材のパターンを形成し、続いて、染色液に浸漬し
てイエロに染色を施し、フィルタ母材を露光するときの
露光光のハレーション防止パターン113を形成したも
のである。
【0126】その代表例として実施例1の素子製造に適
用した例(実施例6とする)を以下に説明する。すなわ
ち、図9は完成したカラー固体撮像素子の断面図を、図
23はこれを製造する工程図を、それぞれ示したもので
ある。
用した例(実施例6とする)を以下に説明する。すなわ
ち、図9は完成したカラー固体撮像素子の断面図を、図
23はこれを製造する工程図を、それぞれ示したもので
ある。
【0127】図23(a)に示すように、半導体基板1
00上に素子平坦化膜103を形成した後に、フィルタ
母材を0.2μm厚で成膜し、露光、現像して、素子の
走査部102に対応した位置全面にフィルタ母材のパタ
ーンを形成した。続いて、染色液に浸漬してイエロに染
色を施し、フィルタ母材を露光するときの露光光のハレ
ーション防止パターン113を形成した。
00上に素子平坦化膜103を形成した後に、フィルタ
母材を0.2μm厚で成膜し、露光、現像して、素子の
走査部102に対応した位置全面にフィルタ母材のパタ
ーンを形成した。続いて、染色液に浸漬してイエロに染
色を施し、フィルタ母材を露光するときの露光光のハレ
ーション防止パターン113を形成した。
【0128】次いで、同図(b)に示すように、光硬化
性組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃
で10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測
定で200mJの露光量で全面露光し、再度100℃で
5分ベークして、ハレーション防止パターン113上を
含む全面に0.4μm厚の混色防止保護膜104´を形
成した。
性組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃
で10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測
定で200mJの露光量で全面露光し、再度100℃で
5分ベークして、ハレーション防止パターン113上を
含む全面に0.4μm厚の混色防止保護膜104´を形
成した。
【0129】この後、実施例1の各フィルタ形成工程を
繰り返して最終的に同図(c)に示すようなカラー固体
撮像素子を得た。これにより、フィルタ形成時の露光工
程において、走査部102からの露光光の反射(ハレー
ション)が防止できるのでフィルタ母材のパターン形成
の精度が向上し、結果として高精度のフィルタを得るこ
とができた。
繰り返して最終的に同図(c)に示すようなカラー固体
撮像素子を得た。これにより、フィルタ形成時の露光工
程において、走査部102からの露光光の反射(ハレー
ション)が防止できるのでフィルタ母材のパターン形成
の精度が向上し、結果として高精度のフィルタを得るこ
とができた。
【0130】なお、上記図23(b)工程の混色防止保
護膜104´を形成した後に、上記実施例6と同様に実
施例3〜5の各フィルタ形成工程を繰り返して、それぞ
れのカラーフィルタを有するカラー固体撮像素子を得
た。
護膜104´を形成した後に、上記実施例6と同様に実
施例3〜5の各フィルタ形成工程を繰り返して、それぞ
れのカラーフィルタを有するカラー固体撮像素子を得
た。
【0131】図11は実施例3に適用した場合の実施例
7となるカラー固体撮像素子の断面図を示したものであ
る。さらに実施例4および実施例5に本実施例を適用し
た実施例8および9についてもフィルタの構成は同様で
あるのでここでは図面を省略した。
7となるカラー固体撮像素子の断面図を示したものであ
る。さらに実施例4および実施例5に本実施例を適用し
た実施例8および9についてもフィルタの構成は同様で
あるのでここでは図面を省略した。
【0132】〈実施例10〉この実施例は、図13の断
面構造を有するカラー固体撮像素子を図24の工程にし
たがって製造した例を説明するものである。図24
(a)に示すように実施例6の図23(a)と同様にし
て走査部102に位置する素子平坦化膜103上にハレ
ーション防止パターン113を形成した。次いで、この
パターンに対して妨染処理を行なった。
面構造を有するカラー固体撮像素子を図24の工程にし
たがって製造した例を説明するものである。図24
(a)に示すように実施例6の図23(a)と同様にし
て走査部102に位置する素子平坦化膜103上にハレ
ーション防止パターン113を形成した。次いで、この
パターンに対して妨染処理を行なった。
【0133】次に、同図(b)に示すように、フィルタ
母材を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して所望の位
置にフィルタ母材のパターンを形成した。続いて、染色
液に浸漬して染色を施し、マゼンタフィルタ(Mg)1
06を形成した。この実施例におけるフィルタ形成工程
は、実施例1の図19(b)と同一である。
母材を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して所望の位
置にフィルタ母材のパターンを形成した。続いて、染色
液に浸漬して染色を施し、マゼンタフィルタ(Mg)1
06を形成した。この実施例におけるフィルタ形成工程
は、実施例1の図19(b)と同一である。
【0134】以後、同図(c)に示すように、実施例1
の図19(c)〜図19(g)工程と同一工程を踏襲し
て、ハレーション防止パターン113を有するカラー固
体撮像素子を形成した。
の図19(c)〜図19(g)工程と同一工程を踏襲し
て、ハレーション防止パターン113を有するカラー固
体撮像素子を形成した。
【0135】〈実施例11〉この実施例は、図15の断
面構造を有するカラー固体撮像素子の製造例を説明する
ものである。ハレーション防止パターン113の形成工
程は図24(a)と同一であり、その後のフィルタの形
成工程は実施例3の各工程と実質的に同一である。
面構造を有するカラー固体撮像素子の製造例を説明する
ものである。ハレーション防止パターン113の形成工
程は図24(a)と同一であり、その後のフィルタの形
成工程は実施例3の各工程と実質的に同一である。
【0136】すなわち、実施例10と同様にして、1色
目のマゼンタフィルタ(Mg)106までを形成し、次
いで、光硬化性組成物1を塗布し、ホットプレートを用
いて180℃で10分ベークし、Deep UV光を用いて
254nm測定で200mJの露光量で所定のマスクを
通して露光し、メチルエチルケトン/エタノール混合液
で2色、3色目のフィルタを形成する領域上の未露光部
を溶解して開口部を形成した。次いで、再度100℃で
5分ベークして、0.8μm厚の膜を形成し、マゼンタ
フィルタパターンを覆う混色防止保護膜104を形成し
た。
目のマゼンタフィルタ(Mg)106までを形成し、次
いで、光硬化性組成物1を塗布し、ホットプレートを用
いて180℃で10分ベークし、Deep UV光を用いて
254nm測定で200mJの露光量で所定のマスクを
通して露光し、メチルエチルケトン/エタノール混合液
で2色、3色目のフィルタを形成する領域上の未露光部
を溶解して開口部を形成した。次いで、再度100℃で
5分ベークして、0.8μm厚の膜を形成し、マゼンタ
フィルタパターンを覆う混色防止保護膜104を形成し
た。
【0137】次いで、フィルタ母材を0.8μm厚で成
膜し、露光、現像して、先の開口部にフィルタ母材のパ
ターンを選択的に形成した。続いて、染色液に浸漬して
染色を施し、シアンフィルタ(Cy)107を、マゼン
タフィルタ(Mg)106と同一平面上に形成した。
膜し、露光、現像して、先の開口部にフィルタ母材のパ
ターンを選択的に形成した。続いて、染色液に浸漬して
染色を施し、シアンフィルタ(Cy)107を、マゼン
タフィルタ(Mg)106と同一平面上に形成した。
【0138】次に、光硬化性組成物1を塗布し、ホット
プレートを用いて180℃で10分ベークし、Deep U
V光を用いて254nm測定で200mJの露光量でマ
スクを通して露光し、メチルエチルケトン/エタノール
混合液で4色目のイエロフィルタ(Ye)を形成する領
域の未露光部を溶解して開口部110を形成した。次い
で、この膜を再度100℃で5分ベークして、0.2μ
m厚の膜を形成し、シアンフィルタパターン107を覆
う混色防止保護膜104´とした。
プレートを用いて180℃で10分ベークし、Deep U
V光を用いて254nm測定で200mJの露光量でマ
スクを通して露光し、メチルエチルケトン/エタノール
混合液で4色目のイエロフィルタ(Ye)を形成する領
域の未露光部を溶解して開口部110を形成した。次い
で、この膜を再度100℃で5分ベークして、0.2μ
m厚の膜を形成し、シアンフィルタパターン107を覆
う混色防止保護膜104´とした。
【0139】次いで、フィルタ母材を0.3μm厚で成
膜し、露光、現像して、先の開口部110(4色目のフ
ィルタ形成領域)と3色目のフィルタ(Gとなる)の二
層目との位置にフィルタ母材のパターンを形成した。続
いて、染色液に浸漬して染色を施し、イエロフィルタ
(Ye)108を形成した。
膜し、露光、現像して、先の開口部110(4色目のフ
ィルタ形成領域)と3色目のフィルタ(Gとなる)の二
層目との位置にフィルタ母材のパターンを形成した。続
いて、染色液に浸漬して染色を施し、イエロフィルタ
(Ye)108を形成した。
【0140】最後に、光硬化性組成物1を塗布し、ホッ
トプレートを用いて200℃で10分ベークし、Deep
UV光を用いて254nm測定で200mJの露光量で
全面露光し、再度100℃で5分ベークして、フィルタ
層上に0.8μm厚の表面保護膜105を形成して、ハ
レーション防止パターン113を有するカラー固体撮像
素子を得た。
トプレートを用いて200℃で10分ベークし、Deep
UV光を用いて254nm測定で200mJの露光量で
全面露光し、再度100℃で5分ベークして、フィルタ
層上に0.8μm厚の表面保護膜105を形成して、ハ
レーション防止パターン113を有するカラー固体撮像
素子を得た。
【0141】〈施例12〉この実施例は、ハレーション
防止パターン113の形成工程は、図24(a)と同一
であり、その後のフィルタの形成工程は実施例4の各工
程と実質的に同一である。すなわち、実施例10と同様
にして、シアンフィルタ107までを形成した。
防止パターン113の形成工程は、図24(a)と同一
であり、その後のフィルタの形成工程は実施例4の各工
程と実質的に同一である。すなわち、実施例10と同様
にして、シアンフィルタ107までを形成した。
【0142】次に、光硬化性組成物1を塗布し、ホット
プレートを用いて180℃で10分ベークし、Deep U
V光を用いて254nm測定で200mJの露光量でマ
スクを通して露光し、メチルエチルケトン/エタノール
混合液で3色、4色目のフィルタ形成領域となる未露光
部を溶解して開口部110を形成した。次いで、この塗
膜を再度100℃で5分ベークして、0.2μm厚の膜
とした。すなわち、この塗膜104´にて2色目のフィ
ルタとなるシアンフィルタパターン107を覆う混色防
止保護膜を形成すると共に、4色目の形成領域と3色目
のフィルタを形成するその一層目のシアンフィルタパタ
ーン107上の位置にそれぞれ開口部110を形成し
た。次いで、表面が露出したシアンフィルタパターン1
07に対して、妨染処理を行なった。
プレートを用いて180℃で10分ベークし、Deep U
V光を用いて254nm測定で200mJの露光量でマ
スクを通して露光し、メチルエチルケトン/エタノール
混合液で3色、4色目のフィルタ形成領域となる未露光
部を溶解して開口部110を形成した。次いで、この塗
膜を再度100℃で5分ベークして、0.2μm厚の膜
とした。すなわち、この塗膜104´にて2色目のフィ
ルタとなるシアンフィルタパターン107を覆う混色防
止保護膜を形成すると共に、4色目の形成領域と3色目
のフィルタを形成するその一層目のシアンフィルタパタ
ーン107上の位置にそれぞれ開口部110を形成し
た。次いで、表面が露出したシアンフィルタパターン1
07に対して、妨染処理を行なった。
【0143】次いで、フィルタ母材を0.5μm厚で成
膜し、露光、現像して、先の開口部110にフィルタ母
材のパターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して染
色を施し、イエロフィルタ(Ye)108を形成した。
次に、光硬化性組成物1を塗布し、ホットプレートを用
いて200℃で10分ベークし、Deep UV光を用いて
254nm測定で200mJの露光量で全面露光し、再
度100℃で5分ベークして、フィルタ層上に0.8μ
m厚の表面保護膜105を形成して、ハレーション防止
パターン113を有するカラー固体撮像素子を得た。
膜し、露光、現像して、先の開口部110にフィルタ母
材のパターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して染
色を施し、イエロフィルタ(Ye)108を形成した。
次に、光硬化性組成物1を塗布し、ホットプレートを用
いて200℃で10分ベークし、Deep UV光を用いて
254nm測定で200mJの露光量で全面露光し、再
度100℃で5分ベークして、フィルタ層上に0.8μ
m厚の表面保護膜105を形成して、ハレーション防止
パターン113を有するカラー固体撮像素子を得た。
【0144】〈実施例13〉実施例6と同様にして、ハ
レーション防止パターン113を形成した。次いで、こ
のパターンに対して妨染処理を行い、以後のフィルタ形
成工程は、実施例5の図22と実質的に同様にして行っ
た。したがって、このフィルタ形成工程は、実施例5を
参照することとし、ここでは省略する。かくして、ハレ
ーション防止パターン113と、実施例5に示した図7
のフィルタ部分とを有するカラー固体撮像素子を得た。
レーション防止パターン113を形成した。次いで、こ
のパターンに対して妨染処理を行い、以後のフィルタ形
成工程は、実施例5の図22と実質的に同様にして行っ
た。したがって、このフィルタ形成工程は、実施例5を
参照することとし、ここでは省略する。かくして、ハレ
ーション防止パターン113と、実施例5に示した図7
のフィルタ部分とを有するカラー固体撮像素子を得た。
【0145】〈実施例14〉この実施例は、図17の断
面構造を有するカラー固体撮像素子を図25の工程にし
たがって製造した例を説明するものである。
面構造を有するカラー固体撮像素子を図25の工程にし
たがって製造した例を説明するものである。
【0146】先ず、図25(a)に示すように、実施例
6と同様にして、ハレーション防止パターン113を形
成し、妨染処理を行なった。
6と同様にして、ハレーション防止パターン113を形
成し、妨染処理を行なった。
【0147】次に、同図(b)に示すように、光硬化性
組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃で
10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定
で200mJの露光量で所定のマスクを通して露光し、
メチルエチルケトン/エタノール混合液で1色目のマゼ
ンタ(Mg)フィルタ形成領域となる未露光部を溶解し
て開口部110を形成した。次いで、この膜を再度10
0℃で5分ベークして、0.8μm厚の膜を形成し、ハ
レーション防止パターン113を覆う混色防止保護膜1
04とする。このようにしてハレーション防止パターン
内の素子受光部に対応したこの開口部110に下地平坦
化層103の表面を露出させた。
組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃で
10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定
で200mJの露光量で所定のマスクを通して露光し、
メチルエチルケトン/エタノール混合液で1色目のマゼ
ンタ(Mg)フィルタ形成領域となる未露光部を溶解し
て開口部110を形成した。次いで、この膜を再度10
0℃で5分ベークして、0.8μm厚の膜を形成し、ハ
レーション防止パターン113を覆う混色防止保護膜1
04とする。このようにしてハレーション防止パターン
内の素子受光部に対応したこの開口部110に下地平坦
化層103の表面を露出させた。
【0148】次いで、同図(c)に示すように、フィル
タ母材を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して、先の
開口部110にフィルタ母材のパターンを形成した。続
いて、染色液に浸漬して染色を施し、マゼンタフィルタ
(Mg)106を形成した。
タ母材を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して、先の
開口部110にフィルタ母材のパターンを形成した。続
いて、染色液に浸漬して染色を施し、マゼンタフィルタ
(Mg)106を形成した。
【0149】次いで、この後の製造工程は、実施例1の
図19(c)〜図19(g)と同一工程により、最終工
程の図25(d)に示すように、ハレーション防止パタ
ーン113と、実施例1に示した図1のフィルタ部分と
を有するカラー固体撮像素子を得た。
図19(c)〜図19(g)と同一工程により、最終工
程の図25(d)に示すように、ハレーション防止パタ
ーン113と、実施例1に示した図1のフィルタ部分と
を有するカラー固体撮像素子を得た。
【0150】〈実施例15〉実施例14と同様にして、
シアンフィルタ(Cy)107までを形成した。この後
のフィルタ形成工程は、実施例3の図20(b)〜同図
(d)と同様にしてハレーション防止パターン113
と、実施例3に示した図3のフィルタ部分とを有するカ
ラー固体撮像素子を得た。
シアンフィルタ(Cy)107までを形成した。この後
のフィルタ形成工程は、実施例3の図20(b)〜同図
(d)と同様にしてハレーション防止パターン113
と、実施例3に示した図3のフィルタ部分とを有するカ
ラー固体撮像素子を得た。
【0151】すなわち、シアンフィルタ(Cy)107
を含む全表面に光硬化性組成物1を塗布し、ホットプレ
ートを用いて180℃で10分ベークし、Deep UV光
を用いて254nm測定で200mJの露光量でマスク
を通して露光し、メチルエチルケトン/エタノール混合
液で4色目のイエロフィルタ(Ye)を形成する領域の
未露光部を溶解して開口部110を形成した。次いで、
この膜を再度100℃で5分ベークして、0.8μm厚
の膜を形成し、シアンフィルタ107を覆う混色防止保
護膜104´を形成すると共に、4色目のイエロフィル
タ(Ye)を形成する領域の位置に開口部110を形成
した。
を含む全表面に光硬化性組成物1を塗布し、ホットプレ
ートを用いて180℃で10分ベークし、Deep UV光
を用いて254nm測定で200mJの露光量でマスク
を通して露光し、メチルエチルケトン/エタノール混合
液で4色目のイエロフィルタ(Ye)を形成する領域の
未露光部を溶解して開口部110を形成した。次いで、
この膜を再度100℃で5分ベークして、0.8μm厚
の膜を形成し、シアンフィルタ107を覆う混色防止保
護膜104´を形成すると共に、4色目のイエロフィル
タ(Ye)を形成する領域の位置に開口部110を形成
した。
【0152】次いで、素子平坦化膜上にフィルタ母材を
0.5μm厚で成膜し、露光、現像して、先の開口部1
10と3色目のフィルタ(Gとなる)の二層目の形成領
域となる位置にそれぞれフィルタ母材のパターンを形成
した。続いて、染色液に浸漬して染色を施し、イエロフ
ィルタ108を形成した。
0.5μm厚で成膜し、露光、現像して、先の開口部1
10と3色目のフィルタ(Gとなる)の二層目の形成領
域となる位置にそれぞれフィルタ母材のパターンを形成
した。続いて、染色液に浸漬して染色を施し、イエロフ
ィルタ108を形成した。
【0153】次に、光硬化性組成物1を塗布し、ホット
プレートを用いて200℃で10分ベークし、Deep U
V光を用いて254nm測定で200mJの露光量で全
面露光し、再度100℃で5分ベークして、フィルタ層
上に0.8μm厚の表面保護膜105を形成して、ハレ
ーション防止パターン113と、実施例3に示した図3
のフィルタ部分とを有するカラー固体撮像素子を得た。
プレートを用いて200℃で10分ベークし、Deep U
V光を用いて254nm測定で200mJの露光量で全
面露光し、再度100℃で5分ベークして、フィルタ層
上に0.8μm厚の表面保護膜105を形成して、ハレ
ーション防止パターン113と、実施例3に示した図3
のフィルタ部分とを有するカラー固体撮像素子を得た。
【0154】〈実施例16〉実施例14と同様にして、
シアンフィルタ107までを形成した。この後のフィル
タ形成工程は、実施例4の図21(c)〜同図(d)と
同様にしてハレーション防止パターン113と、実施例
4に示した図5のフィルタ部分とを有するカラー固体撮
像素子を得た。したがって、このフィルタ形成工程は、
実施例4を参照することとし、ここでは省略する。かく
して、ハレーション防止パターン113と、実施例4に
示した図5のフィルタ部分とを有するカラー固体撮像素
子を得た。
シアンフィルタ107までを形成した。この後のフィル
タ形成工程は、実施例4の図21(c)〜同図(d)と
同様にしてハレーション防止パターン113と、実施例
4に示した図5のフィルタ部分とを有するカラー固体撮
像素子を得た。したがって、このフィルタ形成工程は、
実施例4を参照することとし、ここでは省略する。かく
して、ハレーション防止パターン113と、実施例4に
示した図5のフィルタ部分とを有するカラー固体撮像素
子を得た。
【0155】〈実施例17〉この実施例は実施例6と同
様にして、ハレーション防止パターン113を形成し、
このパターンに対して妨染処理を行なった。次に、実施
例14の図25(b)工程と同様にして、光硬化性組成
物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃で10
分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定で2
00mJの露光量でマスクを通して露光し、メチルエチ
ルケトン/エタノール混合液で1色目のシアンフィルタ
(Cy)形成領域と、2色目のGフィルタの一層目とな
るシアンフィルタ(Cy)形成領域となる未露光部をそ
れぞれそ溶解して開口部110を形成し、下地平坦化層
を露出させた。次いで、この膜を再度100℃で5分ベ
ークして、0.5μm厚の膜とした。
様にして、ハレーション防止パターン113を形成し、
このパターンに対して妨染処理を行なった。次に、実施
例14の図25(b)工程と同様にして、光硬化性組成
物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃で10
分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定で2
00mJの露光量でマスクを通して露光し、メチルエチ
ルケトン/エタノール混合液で1色目のシアンフィルタ
(Cy)形成領域と、2色目のGフィルタの一層目とな
るシアンフィルタ(Cy)形成領域となる未露光部をそ
れぞれそ溶解して開口部110を形成し、下地平坦化層
を露出させた。次いで、この膜を再度100℃で5分ベ
ークして、0.5μm厚の膜とした。
【0156】この後のフィルタの形成工程は、実施例5
の図22の工程に準じて行った。すなわち、図22
(a)工程に準じてフィルタ母材を0.5μm厚で成膜
し、露光、現像して先の開口部110にフィルタ母材の
パターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して染色を
施し、シアンフィルタ(Cy)107を形成した。これ
によりハレーション防止パターン113と同一平面上
に、これらシアンフィルタ(Cy)107が形成され
た。
の図22の工程に準じて行った。すなわち、図22
(a)工程に準じてフィルタ母材を0.5μm厚で成膜
し、露光、現像して先の開口部110にフィルタ母材の
パターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して染色を
施し、シアンフィルタ(Cy)107を形成した。これ
によりハレーション防止パターン113と同一平面上
に、これらシアンフィルタ(Cy)107が形成され
た。
【0157】次に、図22(b)工程に準じて、光硬化
性組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃
で10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測
定で200mJの露光量で所定のマスクを通して露光
し、メチルエチルケトン/エタノール混合液で3色目の
イエロフィルタ(Ye)形成領域となる未露光部を溶解
し、開口部110を形成した。ただし、この場合には図
22(b)のように2色目のGフィルタの一層目となる
シアンフィルタ(Cy)107上の塗膜104には開口
部を設けない。次いで、再度この塗膜104を100℃
で5分ベークして、0.5μm厚の膜を形成した。これ
により1色目のシアンフィルタ107上は混色防止保護
膜104で覆い、3色目のイエロフィルタ(Ye)形成
領域には開口部110を形成した。
性組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃
で10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測
定で200mJの露光量で所定のマスクを通して露光
し、メチルエチルケトン/エタノール混合液で3色目の
イエロフィルタ(Ye)形成領域となる未露光部を溶解
し、開口部110を形成した。ただし、この場合には図
22(b)のように2色目のGフィルタの一層目となる
シアンフィルタ(Cy)107上の塗膜104には開口
部を設けない。次いで、再度この塗膜104を100℃
で5分ベークして、0.5μm厚の膜を形成した。これ
により1色目のシアンフィルタ107上は混色防止保護
膜104で覆い、3色目のイエロフィルタ(Ye)形成
領域には開口部110を形成した。
【0158】次いで、図22(c)工程に準じて、フィ
ルタ母材を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して、先
の開口部110と2色目のGフィルタの一層目となるシ
アンフィルタ(Cy)107の上部にそれぞれフィルタ
母材のパターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して
染色を施し、イエロフィルタ108を形成した。これに
より、3色目のイエロフィルタ108と2色目のGフィ
ルタの二層目となるイエロフィルタ(Ye)108とが
形成された。
ルタ母材を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して、先
の開口部110と2色目のGフィルタの一層目となるシ
アンフィルタ(Cy)107の上部にそれぞれフィルタ
母材のパターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して
染色を施し、イエロフィルタ108を形成した。これに
より、3色目のイエロフィルタ108と2色目のGフィ
ルタの二層目となるイエロフィルタ(Ye)108とが
形成された。
【0159】次に、図22(d)工程に準じて、光硬化
性組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃
で10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測
定で200mJの露光量で所定のマスクを通して露光
し、メチルエチルケトン/エタノール混合液で4色目の
マゼンタフィルタ(Mg)形成領域となる未露光部を溶
解して開口部を形成し、再度この塗膜を100℃で5分
ベークして、0.8μm厚の膜を形成した。これによ
り、イエロフィルタパターン108(Gフィルタの二層
目のイエロフィルタをも含む)を混色防止保護膜104
´で覆った。次いで、フィルタ母材を0.8μm厚で成
膜し、露光、現像して、先の開口部にフィルタ母材のパ
ターンを形成し、続いて染色液に浸漬して染色を施し、
マゼンタフィルタ(Mg)106を形成した。
性組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃
で10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測
定で200mJの露光量で所定のマスクを通して露光
し、メチルエチルケトン/エタノール混合液で4色目の
マゼンタフィルタ(Mg)形成領域となる未露光部を溶
解して開口部を形成し、再度この塗膜を100℃で5分
ベークして、0.8μm厚の膜を形成した。これによ
り、イエロフィルタパターン108(Gフィルタの二層
目のイエロフィルタをも含む)を混色防止保護膜104
´で覆った。次いで、フィルタ母材を0.8μm厚で成
膜し、露光、現像して、先の開口部にフィルタ母材のパ
ターンを形成し、続いて染色液に浸漬して染色を施し、
マゼンタフィルタ(Mg)106を形成した。
【0160】最後に、図22(e)工程に準じて、光硬
化性組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200
℃で10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm
測定で200mJの露光量で全面露光し、再度100℃
で5分ベークして、フィルタ層上に0.5μm厚の表面
保護膜を形成して、ハレーション防止パターン113を
有するカラー固体撮像素子を得た。
化性組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200
℃で10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm
測定で200mJの露光量で全面露光し、再度100℃
で5分ベークして、フィルタ層上に0.5μm厚の表面
保護膜を形成して、ハレーション防止パターン113を
有するカラー固体撮像素子を得た。
【0161】〈実施例18〉実施例6と同様にして、ハ
レーション防止パターン113を形成し、このパターン
に対して妨染処理を行なった。次に、実施例14の図2
5(b)工程と同様にして、光硬化性組成物1を塗布
し、ホットプレートを用いて180℃で10分ベーク
し、Deep UV光を用いて254nm測定で200mJ
の露光量でマスクを通して露光し、メチルエチルケトン
/エタノール混合液で1色目のマゼンタフィルタ(M
g)形成領域となる未露光部を溶解して開口部110を
形成し、下地平坦化層を露出させた。次いで、この膜を
再度100℃で5分ベークして、0.5μm厚の膜とし
た。次に、フィルタ母材を0.5μm厚で成膜し、露
光、現像して先の開口部110にフィルタ母材のパター
ンを形成し、これを染色液に浸漬して染色を施し、マゼ
ンタフィルタ(Mg)106を形成した。これにより、
マゼンタフィルタ(Mg)106は、ハレーション防止
パターン113と同一平面上に形成された。
レーション防止パターン113を形成し、このパターン
に対して妨染処理を行なった。次に、実施例14の図2
5(b)工程と同様にして、光硬化性組成物1を塗布
し、ホットプレートを用いて180℃で10分ベーク
し、Deep UV光を用いて254nm測定で200mJ
の露光量でマスクを通して露光し、メチルエチルケトン
/エタノール混合液で1色目のマゼンタフィルタ(M
g)形成領域となる未露光部を溶解して開口部110を
形成し、下地平坦化層を露出させた。次いで、この膜を
再度100℃で5分ベークして、0.5μm厚の膜とし
た。次に、フィルタ母材を0.5μm厚で成膜し、露
光、現像して先の開口部110にフィルタ母材のパター
ンを形成し、これを染色液に浸漬して染色を施し、マゼ
ンタフィルタ(Mg)106を形成した。これにより、
マゼンタフィルタ(Mg)106は、ハレーション防止
パターン113と同一平面上に形成された。
【0162】次に、熱硬化性組成物1を塗布し、ホット
プレートを用いて200℃で10分ベークして、マゼン
タフィルタ106を覆う混色防止保護膜104´を0.
3μm厚形成した。次に、フィルタ母材を0.5μm厚
で成膜し、露光、現像して、2色目(シアン)と3色目
(Gの一層目のシアン)のフィルタ形成領域にそれぞれ
フィルタ母材のパターンを形成した。続いて、染色液に
浸漬して染色を施し、シアンフィルタ107を形成し
た。
プレートを用いて200℃で10分ベークして、マゼン
タフィルタ106を覆う混色防止保護膜104´を0.
3μm厚形成した。次に、フィルタ母材を0.5μm厚
で成膜し、露光、現像して、2色目(シアン)と3色目
(Gの一層目のシアン)のフィルタ形成領域にそれぞれ
フィルタ母材のパターンを形成した。続いて、染色液に
浸漬して染色を施し、シアンフィルタ107を形成し
た。
【0163】次に、熱硬化性組成物1を塗布し、ホット
プレートを用いて200℃で10分ベークして、シアン
フィルタ107の混色防止保護膜104´を0.8μm
厚形成し、フィルタ母材を0.5μm厚で成膜し、露
光、現像して、3色目(イエロ)と4色目(Gの二層目
のイエロ)のフィルタ形成領域に、それぞれフィルタ母
材のパターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して染
色を施し、イエロフィルタ108を形成した。これによ
り、3色目のGフィルタは、一層目のシアンと二層目の
イエロの2重層で形成された。
プレートを用いて200℃で10分ベークして、シアン
フィルタ107の混色防止保護膜104´を0.8μm
厚形成し、フィルタ母材を0.5μm厚で成膜し、露
光、現像して、3色目(イエロ)と4色目(Gの二層目
のイエロ)のフィルタ形成領域に、それぞれフィルタ母
材のパターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して染
色を施し、イエロフィルタ108を形成した。これによ
り、3色目のGフィルタは、一層目のシアンと二層目の
イエロの2重層で形成された。
【0164】最後に、光硬化性組成物1を塗布し、ホッ
トプレートを用いて200℃で10分ベークし、Deep
UV光を用いて254nm測定で200mJの露光量で
全面露光し、再度100℃で5分ベークして、フィルタ
層上に0.8μm厚の表面保護膜105を形成して、ハ
レーション防止パターン113を有するカラー固体撮像
素子を得た。
トプレートを用いて200℃で10分ベークし、Deep
UV光を用いて254nm測定で200mJの露光量で
全面露光し、再度100℃で5分ベークして、フィルタ
層上に0.8μm厚の表面保護膜105を形成して、ハ
レーション防止パターン113を有するカラー固体撮像
素子を得た。
【0165】〈実施例19〉実施例18と同様にして、
1色目のマゼンタフィルタ106までを形成した。以後
の、フィルタ形成工程は、実施例3の図20の工程に準
じて行った。すなわち、図20(a)に準じ、光硬化性
組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃で
10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定
で200mJの露光量でマスクを通して露光し、メチル
エチルケトン/エタノール混合液で2色目(シアン)、
3色目(Gの一層目のシアン)のフィルタ形成領域とな
る未露光部を溶解して開口部を形成した。次いで、この
膜を再度100℃で5分ベークして、0.5μm厚の膜
104を形成し、このようにしてマゼンタフィルタ10
6を覆う混色防止保護膜を形成すると共に、マゼンタフ
ィルタ106とは異なる上記2色目、3色目のフィルタ
形成領域の位置に開口部を形成した。次いで、フィルタ
母材を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して、先の開
口部にフィルタ母材のパターンを形成した。続いて、染
色液に浸漬して染色を施し、シアンフィルタ107を形
成した。このシアンフィルタ107の一方は、2色目の
フィルタとなり、他方はGの一層目のフィルタとなる。
そして、これらシアンフィルタ107は、マゼンタフィ
ルタ106およびハレーションパターン113と共に同
一平面上に形成されている。
1色目のマゼンタフィルタ106までを形成した。以後
の、フィルタ形成工程は、実施例3の図20の工程に準
じて行った。すなわち、図20(a)に準じ、光硬化性
組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃で
10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定
で200mJの露光量でマスクを通して露光し、メチル
エチルケトン/エタノール混合液で2色目(シアン)、
3色目(Gの一層目のシアン)のフィルタ形成領域とな
る未露光部を溶解して開口部を形成した。次いで、この
膜を再度100℃で5分ベークして、0.5μm厚の膜
104を形成し、このようにしてマゼンタフィルタ10
6を覆う混色防止保護膜を形成すると共に、マゼンタフ
ィルタ106とは異なる上記2色目、3色目のフィルタ
形成領域の位置に開口部を形成した。次いで、フィルタ
母材を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して、先の開
口部にフィルタ母材のパターンを形成した。続いて、染
色液に浸漬して染色を施し、シアンフィルタ107を形
成した。このシアンフィルタ107の一方は、2色目の
フィルタとなり、他方はGの一層目のフィルタとなる。
そして、これらシアンフィルタ107は、マゼンタフィ
ルタ106およびハレーションパターン113と共に同
一平面上に形成されている。
【0166】次に、図20(b)に準じ、光硬化性組成
物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃で10
分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定で2
00mJの露光量でマスクを通して露光し、メチルエチ
ルケトン/エタノール混合液で4色目のイエロフィルタ
形成領域となる未露光部を溶解して開口部100を形成
した。次いで、再度この膜を100℃で5分ベークし
て、0.5μm厚の膜を形成した。これによりシアンフ
ィルタを覆う混色防止保護膜104´を形成すると共
に、マゼンタ、シアンフィルタとは異なる上記4色目の
イエロフィルタ形成領域となる位置に開口部110を形
成した。
物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃で10
分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定で2
00mJの露光量でマスクを通して露光し、メチルエチ
ルケトン/エタノール混合液で4色目のイエロフィルタ
形成領域となる未露光部を溶解して開口部100を形成
した。次いで、再度この膜を100℃で5分ベークし
て、0.5μm厚の膜を形成した。これによりシアンフ
ィルタを覆う混色防止保護膜104´を形成すると共
に、マゼンタ、シアンフィルタとは異なる上記4色目の
イエロフィルタ形成領域となる位置に開口部110を形
成した。
【0167】次に、図20(c)に準じ、フィルタ母材
を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して、先の開口部
110およびGの一層目のシアンフィルタ107上の位
置にそれぞれフィルタ母材のパターンを形成した。続い
て、染色液に浸漬して染色を施し、イエロフィルタ10
8を形成した。これにより、3色目のGフィルタは、一
層目のシアンと二層目のイエロの2重層で形成された。
を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して、先の開口部
110およびGの一層目のシアンフィルタ107上の位
置にそれぞれフィルタ母材のパターンを形成した。続い
て、染色液に浸漬して染色を施し、イエロフィルタ10
8を形成した。これにより、3色目のGフィルタは、一
層目のシアンと二層目のイエロの2重層で形成された。
【0168】最後に、図20(d)に準じ、光硬化性組
成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃で1
0分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定
で200mJの露光量で全面露光し、再度100℃で5
分ベークして、フィルタ層上に0.8μm厚の表面保護
膜105を形成して、ハレーション防止パターン113
を有するカラー固体撮像素子を得た。
成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃で1
0分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定
で200mJの露光量で全面露光し、再度100℃で5
分ベークして、フィルタ層上に0.8μm厚の表面保護
膜105を形成して、ハレーション防止パターン113
を有するカラー固体撮像素子を得た。
【0169】〈実施例20〉実施例19と同様にして、
シアンフィルタ107までを形成した。この後のフィル
タの形成は、先の実施例4の図21(a)〜(d)工程
に準じて形成した。すなわち、図21(a)に準じて光
硬化性組成物1を塗布し、塗膜104´を形成した。次
いで、図21(b)に準じてホットプレートを用いて1
80℃で10分ベークし、Deep UV光を用いて254
nm測定で200mJの露光量でマスクを通して露光
し、メチルエチルケトン/エタノール混合液で未露光部
を溶解して開口部110を形成した。次いで、この膜を
再度100℃で5分ベークして、0.5μm厚の膜を形
成した。これにより、2色目のシアンフィルタ107を
覆う混色防止保護膜104´を形成すると共に、マゼン
タ、シアンフィルタとは異なる4色目のイエロフィルタ
形成領域の位置と3色目のGの一層目となるシアンフィ
ルタの位置とにそれぞれに開口部110を形成した。次
いで表面が露出したシアンフィルタ107(Gの一層
目)に対して、妨染処理を行なった。
シアンフィルタ107までを形成した。この後のフィル
タの形成は、先の実施例4の図21(a)〜(d)工程
に準じて形成した。すなわち、図21(a)に準じて光
硬化性組成物1を塗布し、塗膜104´を形成した。次
いで、図21(b)に準じてホットプレートを用いて1
80℃で10分ベークし、Deep UV光を用いて254
nm測定で200mJの露光量でマスクを通して露光
し、メチルエチルケトン/エタノール混合液で未露光部
を溶解して開口部110を形成した。次いで、この膜を
再度100℃で5分ベークして、0.5μm厚の膜を形
成した。これにより、2色目のシアンフィルタ107を
覆う混色防止保護膜104´を形成すると共に、マゼン
タ、シアンフィルタとは異なる4色目のイエロフィルタ
形成領域の位置と3色目のGの一層目となるシアンフィ
ルタの位置とにそれぞれに開口部110を形成した。次
いで表面が露出したシアンフィルタ107(Gの一層
目)に対して、妨染処理を行なった。
【0170】次に、図21(c)に準じて、フィルタ母
材を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して、先の開口
部110にそれぞれフィルタ母材のパターンを形成し
た。続いて、染色液に浸漬して染色を施し、イエロフィ
ルタ108を形成した。これらイエロフィルタ108の
一方は下地のシアンフィルタ107と積層してGフィル
タを形成する。
材を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して、先の開口
部110にそれぞれフィルタ母材のパターンを形成し
た。続いて、染色液に浸漬して染色を施し、イエロフィ
ルタ108を形成した。これらイエロフィルタ108の
一方は下地のシアンフィルタ107と積層してGフィル
タを形成する。
【0171】最後に、図21(d)に準じて、光硬化性
組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃で
10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測
定で200mJの露光量で全面露光し、再度100℃で
5分ベークして、フィルタ層上に0.8μm厚の表面保
護膜105を形成して、ハレーション防止パターン11
3を有するカラー固体撮像素子を得た。
組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃で
10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測
定で200mJの露光量で全面露光し、再度100℃で
5分ベークして、フィルタ層上に0.8μm厚の表面保
護膜105を形成して、ハレーション防止パターン11
3を有するカラー固体撮像素子を得た。
【0172】〈実施例21〉実施例6と同様にして、ハ
レーション防止パターン113を形成した。次いで、こ
のパターンに対して妨染処理を行なった。次に、光硬化
性組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃
で10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測
定で200mJの露光量でマスクを通して露光し、メチ
ルエチルケトン/エタノール混合液で1色目(シアン)
と2色目(Gの一層目のシアン)のフィルタ形成領域と
なる未露光部をそれぞれ溶解して開口部110を形成し
た。次いで、この膜を再度100℃で5分ベークして、
0.5μm厚とした。これにより、ハレーション防止パ
ターン113を覆う混色防止保護膜104とすると共
に、ハレーション防止パターン内の上記フィルタ形成領
域に開口部110を形成し、下地平坦化層103を露出
させた。
レーション防止パターン113を形成した。次いで、こ
のパターンに対して妨染処理を行なった。次に、光硬化
性組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃
で10分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測
定で200mJの露光量でマスクを通して露光し、メチ
ルエチルケトン/エタノール混合液で1色目(シアン)
と2色目(Gの一層目のシアン)のフィルタ形成領域と
なる未露光部をそれぞれ溶解して開口部110を形成し
た。次いで、この膜を再度100℃で5分ベークして、
0.5μm厚とした。これにより、ハレーション防止パ
ターン113を覆う混色防止保護膜104とすると共
に、ハレーション防止パターン内の上記フィルタ形成領
域に開口部110を形成し、下地平坦化層103を露出
させた。
【0173】この後のフィルタ形成は、実施例5の図2
2の工程図に準じて行い、図7の構造のフィルタを形成
した。すなわち、図22(a)に準じてフィルタ母材を
0.5μm厚で成膜し、露光、現像して先の開口部11
0にフィルタ母材のパターンを形成した。続いて、染色
液に浸漬して染色を施し、シアンフィルタ107を形成
した。
2の工程図に準じて行い、図7の構造のフィルタを形成
した。すなわち、図22(a)に準じてフィルタ母材を
0.5μm厚で成膜し、露光、現像して先の開口部11
0にフィルタ母材のパターンを形成した。続いて、染色
液に浸漬して染色を施し、シアンフィルタ107を形成
した。
【0174】次に、図22(b)に準じて光硬化性組成
物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃で10
分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定で2
00mJの露光量で所定のマスクを通して露光し、メチ
ルエチルケトン/エタノール混合液で、3色目のイエロ
フィルタ形成領域と、2色目Gの二層目のイエロフィル
タ形成領域とに位置する未露光部をそれぞれ溶解して開
口部110を形成した。次いで、この膜を再度100℃
で5分ベークして、0.5μm厚の膜とした。これによ
り、1色目のシアンフィルタ107は混色防止保護膜1
04で覆われ、2色目のGの一層目となるシアンフィル
タ107上および3色目のイエロフィルタ形成領域上に
はそれぞれ開口部110が形成された。次いで、表面が
露出したGの一層目となるシアンフィルタ107に対し
て、妨染処理を行なった。
物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃で10
分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定で2
00mJの露光量で所定のマスクを通して露光し、メチ
ルエチルケトン/エタノール混合液で、3色目のイエロ
フィルタ形成領域と、2色目Gの二層目のイエロフィル
タ形成領域とに位置する未露光部をそれぞれ溶解して開
口部110を形成した。次いで、この膜を再度100℃
で5分ベークして、0.5μm厚の膜とした。これによ
り、1色目のシアンフィルタ107は混色防止保護膜1
04で覆われ、2色目のGの一層目となるシアンフィル
タ107上および3色目のイエロフィルタ形成領域上に
はそれぞれ開口部110が形成された。次いで、表面が
露出したGの一層目となるシアンフィルタ107に対し
て、妨染処理を行なった。
【0175】次に、図22(c)に準じてフィルタ母材
を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して先の開口部に
フィルタ母材のパターンを形成した。続いて、染色液に
浸漬して染色を施し、イエロフィルタ108を形成し
た。これにより、2色目のGフィルタと3色目のイエロ
フィルタ108が形成された。
を0.5μm厚で成膜し、露光、現像して先の開口部に
フィルタ母材のパターンを形成した。続いて、染色液に
浸漬して染色を施し、イエロフィルタ108を形成し
た。これにより、2色目のGフィルタと3色目のイエロ
フィルタ108が形成された。
【0176】次に、図22(d)に準じて光硬化性組成
物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃で10
分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定で2
00mJの露光量で所定のマスクを通して露光し、メチ
ルエチルケトン/エタノール混合液で、4色目のマゼン
タ(Mg)フィルタ形成領域となる未露光部を溶解して
開口部を形成した。次いで、この塗膜を再度100℃で
5分ベークして、0.5μm厚の膜とした。これによ
り、イエロフィルタ108を覆う混色防止保護膜104
´を形成すると共に、シアン、イエロフィルタとは異な
る4色目のマゼンタ(Mg)フィルタ形成領域に開口部
を形成した。次いで、フィルタ母材を0.5μm厚で成
膜し、露光、現像して先の開口部にフィルタ母材のパタ
ーンを形成した。次いでこれを染色液に浸漬して染色を
施し、マゼンタフィルタ106を形成した。
物1を塗布し、ホットプレートを用いて180℃で10
分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定で2
00mJの露光量で所定のマスクを通して露光し、メチ
ルエチルケトン/エタノール混合液で、4色目のマゼン
タ(Mg)フィルタ形成領域となる未露光部を溶解して
開口部を形成した。次いで、この塗膜を再度100℃で
5分ベークして、0.5μm厚の膜とした。これによ
り、イエロフィルタ108を覆う混色防止保護膜104
´を形成すると共に、シアン、イエロフィルタとは異な
る4色目のマゼンタ(Mg)フィルタ形成領域に開口部
を形成した。次いで、フィルタ母材を0.5μm厚で成
膜し、露光、現像して先の開口部にフィルタ母材のパタ
ーンを形成した。次いでこれを染色液に浸漬して染色を
施し、マゼンタフィルタ106を形成した。
【0177】最後に、図22(e)に準じて光硬化性組
成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃で1
0分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定で
200mJの露光量で全面露光し、再度100℃で5分
ベークして、フィルタ層上に0.5μm厚の表面保護膜
105を形成して、ハレーション防止パターン113を
有するカラー固体撮像素子を得た。
成物1を塗布し、ホットプレートを用いて200℃で1
0分ベークし、Deep UV光を用いて254nm測定で
200mJの露光量で全面露光し、再度100℃で5分
ベークして、フィルタ層上に0.5μm厚の表面保護膜
105を形成して、ハレーション防止パターン113を
有するカラー固体撮像素子を得た。
【0178】〈実施例22〜41〉上記実施例1、3〜
21で詳述した工程で、熱硬化性組成物1の代わりに、
光硬化性組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて2
00℃で10分ベークし、Deep UV光を用いて254
nm測定で500mJの露光量で全面露光し、再度10
0℃で5分ベークして、素子平坦化層103を形成し、
その他は実施例1、3〜21と同様にして、カラー固体
撮像素子を得た。なお、実施例22〜41の対応につい
て述べると、実施例22は実施例1に、実施例23は実
施例3に対応し、以下、順次それぞれ元の実施例番号に
対応させている。以後の実施例においてもこれと同様の
番号表示とする。
21で詳述した工程で、熱硬化性組成物1の代わりに、
光硬化性組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて2
00℃で10分ベークし、Deep UV光を用いて254
nm測定で500mJの露光量で全面露光し、再度10
0℃で5分ベークして、素子平坦化層103を形成し、
その他は実施例1、3〜21と同様にして、カラー固体
撮像素子を得た。なお、実施例22〜41の対応につい
て述べると、実施例22は実施例1に、実施例23は実
施例3に対応し、以下、順次それぞれ元の実施例番号に
対応させている。以後の実施例においてもこれと同様の
番号表示とする。
【0179】〈実施例42〜45〉上記実施例1、1
0、14、18で詳述した工程で、熱硬化性組成物1の
代わりに、光硬化性組成物1を塗布し、ホットプレート
を用いて200℃で10分ベークし、Deep UV光を用
いて254nm測定で200mJの露光量で全面露光
し、再度100℃で5分ベークして、混色防止保護膜1
04´を形成し、その他は実施例1、10、14、18
と同様にして、カラー固体撮像素子を得た。
0、14、18で詳述した工程で、熱硬化性組成物1の
代わりに、光硬化性組成物1を塗布し、ホットプレート
を用いて200℃で10分ベークし、Deep UV光を用
いて254nm測定で200mJの露光量で全面露光
し、再度100℃で5分ベークして、混色防止保護膜1
04´を形成し、その他は実施例1、10、14、18
と同様にして、カラー固体撮像素子を得た。
【0180】〈実施例46〜88〉上記実施例3〜45
で得られたカラー固体撮像素子のフィルタ層表面保護膜
105上に、実施例2と同様にして集光用のマイクロレ
ンズ109を形成し、マイクロレンズ付きカラー固体撮
像素子を得た。
で得られたカラー固体撮像素子のフィルタ層表面保護膜
105上に、実施例2と同様にして集光用のマイクロレ
ンズ109を形成し、マイクロレンズ付きカラー固体撮
像素子を得た。
【0181】ここに幾つかの代表的なマイクロレンズ付
きカラー固体撮像素子の断面図を示すと以下の通りであ
る。図示しないその他の実施例についても同様のマイク
ロレンズを形成しており、これらについては記載を省略
した。すなわち、図4は、実施例3により得られた図3
のカラー固体撮像素子上にマイクロレンズ109を形成
した実施例46に該当するものである。図6は、実施例
4により得られた図5のカラー固体撮像素子上にマイク
ロレンズ109を形成した実施例47に該当するもので
ある。図8は、実施例5により得られた図7のカラー固
体撮像素子上にマイクロレンズ109を形成した実施例
48に該当するものである。図10は、実施例6により
得られた図9のカラー固体撮像素子上にマイクロレンズ
109を形成した実施例49に該当するものである。図
12は、実施例7により得られた図11のカラー固体撮
像素子上にマイクロレンズ109を形成した実施例50
に該当するものである。図14は、実施例10により得
られた図13のカラー固体撮像素子上にマイクロレンズ
109を形成した実施例53に該当するものである。図
16は、実施例11により得られた図15のカラー固体
撮像素子上にマイクロレンズ109を形成した実施例5
4に該当するものである。図18は、実施例14により
得られた図17のカラー固体撮像素子上にマイクロレン
ズ109を形成した実施例57に該当するものである。
きカラー固体撮像素子の断面図を示すと以下の通りであ
る。図示しないその他の実施例についても同様のマイク
ロレンズを形成しており、これらについては記載を省略
した。すなわち、図4は、実施例3により得られた図3
のカラー固体撮像素子上にマイクロレンズ109を形成
した実施例46に該当するものである。図6は、実施例
4により得られた図5のカラー固体撮像素子上にマイク
ロレンズ109を形成した実施例47に該当するもので
ある。図8は、実施例5により得られた図7のカラー固
体撮像素子上にマイクロレンズ109を形成した実施例
48に該当するものである。図10は、実施例6により
得られた図9のカラー固体撮像素子上にマイクロレンズ
109を形成した実施例49に該当するものである。図
12は、実施例7により得られた図11のカラー固体撮
像素子上にマイクロレンズ109を形成した実施例50
に該当するものである。図14は、実施例10により得
られた図13のカラー固体撮像素子上にマイクロレンズ
109を形成した実施例53に該当するものである。図
16は、実施例11により得られた図15のカラー固体
撮像素子上にマイクロレンズ109を形成した実施例5
4に該当するものである。図18は、実施例14により
得られた図17のカラー固体撮像素子上にマイクロレン
ズ109を形成した実施例57に該当するものである。
【0182】〈実施例89〜132〉上記実施例1、3
〜45で得られたカラー固体撮像素子のフィルタ層表面
保護膜105上に、図26の工程(a)〜(c)にした
がい、光硬化性組成物1を塗布して膜111を形成し、
これをホットプレートを用いて90℃で10分ベーク
し、Deep UV光を用いて254nm測定で200mJ
の露光量でマスクを通して露光し、メチルエチルケトン
/エタノール混合液で、各フィルタ上部に対応する未露
光部を溶解してレンズパターン112を形成した。次い
で、200℃で10分ベークして、凸状の集光用マイク
ロレンズ109を形成し、マイクロレンズ付きカラー固
体撮像素子を得た。
〜45で得られたカラー固体撮像素子のフィルタ層表面
保護膜105上に、図26の工程(a)〜(c)にした
がい、光硬化性組成物1を塗布して膜111を形成し、
これをホットプレートを用いて90℃で10分ベーク
し、Deep UV光を用いて254nm測定で200mJ
の露光量でマスクを通して露光し、メチルエチルケトン
/エタノール混合液で、各フィルタ上部に対応する未露
光部を溶解してレンズパターン112を形成した。次い
で、200℃で10分ベークして、凸状の集光用マイク
ロレンズ109を形成し、マイクロレンズ付きカラー固
体撮像素子を得た。
【0183】〈実施例133〜314〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、下記の表26〜表30に示す光硬化性組成物2〜9
2(何れの組成物においても酸発生剤量は、樹脂固形分
量に対して3.0wt%加えた)を用いて、実施例1、
2と同様にしてカラー固体撮像素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、下記の表26〜表30に示す光硬化性組成物2〜9
2(何れの組成物においても酸発生剤量は、樹脂固形分
量に対して3.0wt%加えた)を用いて、実施例1、
2と同様にしてカラー固体撮像素子を得た。
【0184】
【表26】
【0185】
【表27】
【0186】
【表28】
【0187】
【表29】
【0188】
【表30】
【0189】〈実施例315、316〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.17]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.34]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.17]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.34]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
【0190】〈実施例317、318〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.18]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.34]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.18]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.34]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
【0191】〈実施例319、320〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.34]を3.0wt%、アミド誘導体
であるN−メチロールアクリルアミドを15.0wt%
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例1、2と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.34]を3.0wt%、アミド誘導体
であるN−メチロールアクリルアミドを15.0wt%
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例1、2と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。
【0192】〈実施例321、322〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.34]を3.0wt%、シラノール化
合物であるジフェニルシランジオールを15.0wt%
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例1、2と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.34]を3.0wt%、シラノール化
合物であるジフェニルシランジオールを15.0wt%
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例1、2と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。
【0193】〈実施例323、324〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.17]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.49]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.17]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.49]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
【0194】〈実施例325、326〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.18]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.49]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.18]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.49]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
【0195】〈実施例327、328〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.49]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.49]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
【0196】〈実施例329、330〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.49]を3.0wt%、シラノール化
合物であるジフェニルシランジオールを15.0wt%
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例1、2と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.49]を3.0wt%、シラノール化
合物であるジフェニルシランジオールを15.0wt%
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例1、2と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。
【0197】〈実施例331、332〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.17]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.54]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.17]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.54]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
【0198】〈実施例333、334〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.18]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.54]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.18]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.54]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
【0199】〈実施例335、336〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.54]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.54]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
【0200】〈実施例337、338〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.54]を3.0wt%、シラノール化
合物であるジフェニルシランジオールを15.0wt%
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例1、2と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.54]を3.0wt%、シラノール化
合物であるジフェニルシランジオールを15.0wt%
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例1、2と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。
【0201】〈実施例339、340〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.17]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.69]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.17]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.69]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
【0202】〈実施例341、342〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.18]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.69]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.18]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.69]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
【0203】〈実施例343、344〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.69]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.69]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
【0204】〈実施例345、346〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.69]を3.0wt%、シラノール化
合物であるジフェニルシランジオールを15.0wt%
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例1、2と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.69]を3.0wt%、シラノール化
合物であるジフェニルシランジオールを15.0wt%
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例1、2と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。
【0205】〈実施例347、348〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.17]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.84]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.17]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.84]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
【0206】〈実施例349、350〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.18]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.84]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.18]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.84]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
【0207】〈実施例351、352〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.84]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.84]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
【0208】〈実施例353、354〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.84]を3.0wt%、シラノール化
合物であるジフェニルシランジオールを15.0wt%
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例1、2と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.84]を3.0wt%、シラノール化
合物であるジフェニルシランジオールを15.0wt%
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例1、2と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。
【0209】〈実施例355、356〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.17]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.89]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.17]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.89]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
【0210】〈実施例357、358〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.18]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.89]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.18]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.89]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
【0211】〈実施例359、360〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.89]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.89]を3.0wt%、N−メチロー
ルアクリルアミドを15.0wt%加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例1、2と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。
【0212】〈実施例361、362〉上記実施例1、
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.89]を3.0wt%、シラノール化
合物であるジフェニルシランジオールを15.0wt%
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例1、2と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。
2で詳述した工程において、光硬化性組成物1の代わり
に、[ポリマNo.19]の樹脂100重量部に対して
[酸発生剤No.89]を3.0wt%、シラノール化
合物であるジフェニルシランジオールを15.0wt%
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例1、2と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。
【0213】〈実施例363〜370〉上記実施例1、
3〜5で詳述した工程で、熱硬化性組成物1の代わり
に、下記式(6)で表される分子末端がエンドキャップ
されたポリイミド前駆体を塗布し、ホットプレートを用
いて200℃で10分、続いて300℃で10分ベーク
して、素子平坦化層103を形成し、その他は実施例
1、3〜5と同様にして、カラー固体撮像素子を得た。
また、得られたカラー固体撮像素子について、実施例2
と同様にして、マイクロレンズ109を形成したカラー
固体撮像素子を得た。
3〜5で詳述した工程で、熱硬化性組成物1の代わり
に、下記式(6)で表される分子末端がエンドキャップ
されたポリイミド前駆体を塗布し、ホットプレートを用
いて200℃で10分、続いて300℃で10分ベーク
して、素子平坦化層103を形成し、その他は実施例
1、3〜5と同様にして、カラー固体撮像素子を得た。
また、得られたカラー固体撮像素子について、実施例2
と同様にして、マイクロレンズ109を形成したカラー
固体撮像素子を得た。
【0214】
【化14】
【0215】〈実施例371〜378〉上記実施例1、
3〜5で詳述した工程で、熱硬化性組成物1の代わり
に、下記式(7)で表される分子末端がエンドキャップ
されたポリイミド前駆体を塗布し、ホットプレートを用
いて200℃で10分、続いて300℃で10分ベーク
して、素子平坦化層103を形成し、その他は実施例
1、3〜5と同様にして、カラー固体撮像素子を得た。
また、得られたカラー固体撮像素子について、実施例2
と同様にして、マイクロレンズ109を形成したカラー
固体撮像素子を得た。
3〜5で詳述した工程で、熱硬化性組成物1の代わり
に、下記式(7)で表される分子末端がエンドキャップ
されたポリイミド前駆体を塗布し、ホットプレートを用
いて200℃で10分、続いて300℃で10分ベーク
して、素子平坦化層103を形成し、その他は実施例
1、3〜5と同様にして、カラー固体撮像素子を得た。
また、得られたカラー固体撮像素子について、実施例2
と同様にして、マイクロレンズ109を形成したカラー
固体撮像素子を得た。
【0216】
【化15】
【0217】〈実施例379〜386〉上記実施例1、
3〜5で詳述した工程で、熱硬化性組成物1の代わり
に、下記式(8)で表される分子末端がエンドキャップ
されたポリイミド前駆体を塗布し、ホットプレートを用
いて200℃で10分、続いて300℃で10分ベーク
して、素子平坦化層103を形成し、その他は実施例
1、3〜5と同様にして、カラー固体撮像素子を得た。
また、得られたカラー固体撮像素子について、実施例2
と同様にして、マイクロレンズ109を形成したカラー
固体撮像素子を得た。
3〜5で詳述した工程で、熱硬化性組成物1の代わり
に、下記式(8)で表される分子末端がエンドキャップ
されたポリイミド前駆体を塗布し、ホットプレートを用
いて200℃で10分、続いて300℃で10分ベーク
して、素子平坦化層103を形成し、その他は実施例
1、3〜5と同様にして、カラー固体撮像素子を得た。
また、得られたカラー固体撮像素子について、実施例2
と同様にして、マイクロレンズ109を形成したカラー
固体撮像素子を得た。
【0218】
【化16】
【0219】〈実施例387〜394〉上記実施例1、
3〜5で詳述した工程で、熱硬化性組成物1の代わり
に、下記式(9)で表される分子末端がエンドキャップ
されたポリイミド前駆体を塗布し、ホットプレートを用
いて200℃で10分、続いて300℃で10分ベーク
して、素子平坦化層103を形成し、その他は実施例
1、3〜5と同様にして、カラー固体撮像素子を得た。
また、得られたカラー固体撮像素子について、実施例2
と同様にして、マイクロレンズ109を形成したカラー
固体撮像素子を得た。
3〜5で詳述した工程で、熱硬化性組成物1の代わり
に、下記式(9)で表される分子末端がエンドキャップ
されたポリイミド前駆体を塗布し、ホットプレートを用
いて200℃で10分、続いて300℃で10分ベーク
して、素子平坦化層103を形成し、その他は実施例
1、3〜5と同様にして、カラー固体撮像素子を得た。
また、得られたカラー固体撮像素子について、実施例2
と同様にして、マイクロレンズ109を形成したカラー
固体撮像素子を得た。
【0220】
【化17】
【0221】
【発明の効果】光硬化性保護膜を用いることにより、平
坦性の高い素子平坦化膜、平坦性の高いフィルタ層間の
混色防止保護膜、及び平坦性の高いフィルタ層の表面保
護膜を形成してカラーフィルタ層全体を平坦化し、かつ
同一平面上に異なるカラーフィルタパターン、あるいは
ハレーション防止パターンとカラーフィルタパターンと
を形成してカラーフィルタ層全体の膜厚を低減すること
で、カラーフィルタパターンの膜厚バラツキ、フィルタ
層上に形成されるマイクロレンズの厚さバラツキや素子
受光部からの高さバラツキを低減することで、分光特性
に優れたカラー固体撮像素子が、またマイクロレンズを
素子受光部に近付けることで素子感度に優れたカラー固
体撮像素子が得られる。
坦性の高い素子平坦化膜、平坦性の高いフィルタ層間の
混色防止保護膜、及び平坦性の高いフィルタ層の表面保
護膜を形成してカラーフィルタ層全体を平坦化し、かつ
同一平面上に異なるカラーフィルタパターン、あるいは
ハレーション防止パターンとカラーフィルタパターンと
を形成してカラーフィルタ層全体の膜厚を低減すること
で、カラーフィルタパターンの膜厚バラツキ、フィルタ
層上に形成されるマイクロレンズの厚さバラツキや素子
受光部からの高さバラツキを低減することで、分光特性
に優れたカラー固体撮像素子が、またマイクロレンズを
素子受光部に近付けることで素子感度に優れたカラー固
体撮像素子が得られる。
【図1】カラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断面
図。
図。
【図2】マイクロレンズ付きカラー固体撮像素子の一実
施例を示す要部断面図。
施例を示す要部断面図。
【図3】カラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断面
図。
図。
【図4】マイクロレンズ付きカラー固体撮像素子の一実
施例を示す要部断面図。
施例を示す要部断面図。
【図5】カラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断面
図。
図。
【図6】マイクロレンズ付きカラー固体撮像素子の一実
施例を示す要部断面図。
施例を示す要部断面図。
【図7】カラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断面
図。
図。
【図8】マイクロレンズ付きカラー固体撮像素子の一実
施例を示す要部断面図。
施例を示す要部断面図。
【図9】ハレーション防止パターンを設けたカラー固体
撮像素子の一実施例を示す要部断面図。
撮像素子の一実施例を示す要部断面図。
【図10】ハレーション防止パターンを設けたマイクロ
レンズ付きカラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断
面図。
レンズ付きカラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断
面図。
【図11】ハレーション防止パターンを設けたカラー固
体撮像素子の一実施例を示す要部断面図。
体撮像素子の一実施例を示す要部断面図。
【図12】ハレーション防止パターンを設けたマイクロ
レンズ付きカラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断
面図。
レンズ付きカラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断
面図。
【図13】ハレーション防止パターンを設けたカラー固
体撮像素子の一実施例を示す要部断面図。
体撮像素子の一実施例を示す要部断面図。
【図14】ハレーション防止パターンを設けたマイクロ
レンズ付きカラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断
面図。
レンズ付きカラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断
面図。
【図15】ハレーション防止パターンを設けたカラー固
体撮像素子の一実施例を示す要部断面図。
体撮像素子の一実施例を示す要部断面図。
【図16】ハレーション防止パターンを設けたマイクロ
レンズ付きカラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断
面図。
レンズ付きカラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断
面図。
【図17】ハレーション防止パターンを設けたカラー固
体撮像素子の一実施例を示す要部断面図。
体撮像素子の一実施例を示す要部断面図。
【図18】ハレーション防止パターンを設けたマイクロ
レンズ付きカラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断
面図。
レンズ付きカラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断
面図。
【図19】カラー固体撮像素子の一製造方法の実施例を
示す製造工程図。
示す製造工程図。
【図20】カラー固体撮像素子の一製造方法の実施例を
示す製造工程図。
示す製造工程図。
【図21】カラー固体撮像素子の一製造方法の実施例を
示す製造工程図。
示す製造工程図。
【図22】カラー固体撮像素子の一製造方法の実施例を
示す製造工程図。
示す製造工程図。
【図23】ハレーション防止パターンの形成工程を有す
る一製造方法の実施例を示す製造工程図。
る一製造方法の実施例を示す製造工程図。
【図24】ハレーション防止パターンの形成工程を有す
る一製造方法の実施例を示す製造工程図。
る一製造方法の実施例を示す製造工程図。
【図25】ハレーション防止パターンの形成工程を有す
る一製造方法の実施例を示す製造工程図。
る一製造方法の実施例を示す製造工程図。
【図26】マイクロレンズの製造工程図。
100…固体撮像素子基板、 101…受光部、
102…走査部、 103…素子平坦化層、10
4、104’、104”…混色防止保護層、105…表
面保護層、106、107、108…カラーフィルタ、
109…マイクロレンズ、 110…開口部、
111…マイクロレンズレジスト膜、112…マイクロ
レンズレジストパターン、113…ハレーション防止
膜。
102…走査部、 103…素子平坦化層、10
4、104’、104”…混色防止保護層、105…表
面保護層、106、107、108…カラーフィルタ、
109…マイクロレンズ、 110…開口部、
111…マイクロレンズレジスト膜、112…マイクロ
レンズレジストパターン、113…ハレーション防止
膜。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/038 7124−2H // G03F 7/075 511 7124−2H H04N 9/07 D 8943−5C (72)発明者 泉 章也 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所茂原工場内 (72)発明者 濱本 辰雄 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所茂原工場内 (72)発明者 久慈 卓見 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所茂原工場内 (72)発明者 中野 寿夫 千葉県茂原市早野3681番地 日立デバイス エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 磯田 高志 千葉県茂原市早野3681番地 日立デバイス エンジニアリング株式会社内
Claims (36)
- 【請求項1】光電変換を行なう受光部と、前記受光部で
発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及び
走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された半
導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料から
なる平坦化層を設け、前記平坦化層上の前記素子受光部
に対応した位置に、透明材料からなる有機膜で保護され
たカラーフィルタパターンを配してなるカラー固体撮像
素子において、少なくとも2色のカラーフィルタパター
ンが同一平面上に存在し、かつ前記透明材料から成る有
機膜が高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤
とを含む光硬化性組成物から形成されて有機保護膜を構
成して成るカラー固体撮像素子。 - 【請求項2】光電変換を行なう受光部と、前記受光部で
発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及び
走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された半
導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料から
なる平坦化層を設け、前記平坦化層上の走査部に対応し
た位置にはハレーション防止パターンを配し、前記平坦
化層上の受光部に対応した位置には透明材料からなる有
機膜で保護されたカラーフィルタパターンを配してなる
カラー固体撮像素子において、少なくとも2色のカラー
フィルタパターン同志、もしくはハレーション防止パタ
ーンと少なくとも1色のカラーフィルタパターンとが同
一平面上に存在し、かつ前記透明材料から成る有機膜が
高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含
む光硬化性組成物から形成されて有機保護膜を構成して
成るカラー固体撮像素子。 - 【請求項3】上記カラーフィルタの一つを、同一受光部
上に積層した2色のカラーフィルタパターンで構成して
成る請求項1もしくは2記載のカラー固体撮像素子。 - 【請求項4】上記各受光部に対応した位置のカラーフィ
ルタ層上に、一体的に集光用マイクロレンズが形成され
て成る請求項1乃至3何れか記載のカラー固体撮像素
子。 - 【請求項5】上記透明材料からなる平坦化層が、高分子
材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬
化性組成物から形成されて成る請求項1もしくは2記載
のカラー固体撮像素子。 - 【請求項6】上記マイクロレンズが、高分子材料もしく
は有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物
から形成されて成る請求項4記載のカラー固体撮像素
子。 - 【請求項7】上記酸発生剤が下記の式(1)、(2)、
(3)もしくは(4)で表わされるオニウム塩、もしく
はトリ(メタンスルホニル−オキシ)ベンゼンから成る
請求項1、2、5もしくは6記載のカラー固体撮像素
子。 【化1】 【化2】 【化3】 【化4】 ただし、上記一般式において、X~はBr~、BF4~、S
bF6~、AsF6~、PF6~、もしくはCF3SO3~の陰
イオンを表わし、Ar1〜Ar6、R、R´は有機基を表
し、n整数を表す。 - 【請求項8】上記光硬化性組成物の高分子材料を、フェ
ノール樹脂、ノボラック樹脂、クレゾール樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリアルコール樹脂、もしくはオレフィン系、
ラクトン系、ラクタム系構造を有する樹脂で構成して成
る請求項1、2、5もしくは6記載のカラー固体撮像素
子。 - 【請求項9】上記透明材料からなる平坦化層を、分子末
端がエンドキャプされたポリイミド前駆体を硬化して形
成された透明ポリイミドで構成して成る請求項1もしく
は2記載のカラー固体撮像素子。 - 【請求項10】上記高分子材料もしくは有機ケイ素系材
料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を、高分子材料も
しくは有機ケイ素系材料の固形分100重量部に対し
て、酸発生剤を0.01〜30重量部含む組成物で構成
して成る請求項1、2、5もしくは6記載のカラー固体
撮像素子。 - 【請求項11】上記光硬化性組成物に、アミド誘導体、
もしくはシラノール化合物を、上記高分子材料もしくは
有機ケイ素系材料の固形分100重量部に対して0.1
〜50重量部含有せしめて成る請求項10記載のカラー
固体撮像素子。 - 【請求項12】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の受
光部に対応する位置にカラーフィルタの染色母材からな
るパターンを形成する工程と、前記染色母材パターンを
染色して1色目のカラーフィルタパターンを形成する工
程と、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤
とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、
現像して、1色目のカラーフィルタパターンの混色防止
保護膜を形成し、かつ前記1色目のカラーフィルタパタ
ーンとは異なる所望の受光部に対応した位置に開口部を
形成し、前記平坦化層を露出させる工程と、前記開口部
にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して
2色目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、前
記2色目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜を
形成する工程と、前記2色目のカラーフィルタパターン
の混色防止保護膜上に3色目のカラーフィルタパターン
を形成する工程と、少なくとも前記3色目のカラーフィ
ルタ層上に有機保護膜を形成する工程とを有して成るカ
ラー固体撮像素子の製造方法。 - 【請求項13】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の受
光部に対応する位置にカラーフィルタの染色母材からな
るパターンを形成する工程と、前記染色母材パターンを
染色して1色目のカラーフィルタパターンを形成する工
程と、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤
とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、
現像して、1色目のカラーフィルタパターンの混色防止
保護膜を形成し、かつ前記1色目のカラーフィルタパタ
ーンとは異なる所望の受光部に対応した位置に開口部を
形成し、前記平坦化層を露出させる工程と、前記開口部
にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して
2色目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、高
分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む
光硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像し
て、2色目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜
を形成し、かつ前記1、2色目のカラーフィルタパター
ンとは異なる所望の受光部に対応した位置に開口部を形
成し、前記1色目のカラーフィルタパターンの混色防止
保護膜を露出させる工程と、前記開口部にカラーフィル
タの染色母材パターンを形成、染色して3色目のカラー
フィルタパターンを形成する工程と、少なくとも前記3
色目のカラーフィルタ層上に有機保護膜を形成する工程
とからなることを特徴とするカラー固体撮像素子の製造
方法。 - 【請求項14】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の受
光部に対応する位置にカラーフィルタの染色母材からな
るパターンを形成する工程と、前記染色母材パターンを
染色して1色目のカラーフィルタパターンを形成する工
程と、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤
とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、
現像して、1色目のカラーフィルタパターンの混色防止
保護膜を形成し、かつ前記1色目のカラーフィルタパタ
ーンとは異なる所望の2種の受光部に対応した位置にそ
れぞれ開口部を形成し、前記平坦化層を露出させる工程
と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材パターンを
形成、染色して2色目のカラーフィルタパターンをそれ
ぞれ形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケイ素系
材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱
し、次いで露光、現像して、2色目の一方のカラーフィ
ルタパターンに混色防止保護膜を形成し、かつ前記1色
目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受光部に
対応した位置と2色目の他方のカラーフィルタパターン
に対応した位置にそれぞれ開口部を形成する工程と、前
記工程により露出した2色目の他方のカラーフィルタ表
面を妨染処理する工程と、前記それぞれの開口部にカラ
ーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して3色目
のカラーフィルタパターンを形成する工程と、少なくと
も前記3色目のカラーフィルタ層上に有機保護膜を形成
する工程とを有して成るカラー固体撮像素子の製造方
法。 - 【請求項15】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の2
種の受光部に対応する位置にそれぞれカラーフィルタの
染色母材からなるパターンを形成する工程と、前記染色
母材パターンを染色して1色目のカラーフィルタパター
ンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケイ素系
材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱
し、次いで露光、現像して、1色目の一方のカラーフィ
ルタパターンに混色防止保護膜を形成し、1色目の他の
カラーフィルタパターンに対応した位置に開口部を形成
する工程と、前記工程により露出した1色目の他のカラ
ーフィルタ表面を妨染処理する工程と、前記開口部にカ
ラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して2色
目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、高分子
材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬
化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、2
色目のカラーフィルタパターンに混色防止保護膜を形成
し、かつ前記1、2色目のカラーフィルタパターンとは
異なる所望の受光部に対応した位置に開口部を形成する
工程と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材パター
ンを形成、染色して3色目のカラーフィルタパターンを
形成する工程と、少なくとも前記3色目のカラーフィル
タ層上に有機保護膜を形成する工程とを有して成るカラ
ー固体撮像素子の製造方法。 - 【請求項16】上記透明材料からなる平坦化層を形成す
る工程の後に、前記平坦化層上の固体撮像素子の走査部
に対応した位置に、カラーフィルタの染色母材パターン
を形成、染色してハレーション防止パターンを形成し、
前記ハレーション防止パターン上に混色防止保護膜を形
成する工程を付加して成る請求項12乃至15何れか記
載のカラー固体撮像素子の製造方法。 - 【請求項17】上記透明材料からなる平坦化層を形成す
る工程の後に、前記平坦化層上の固体撮像素子の走査部
に対応した位置に、カラーフィルタの染色母材パターン
を形成、染色してハレーション防止パターンを形成する
工程と、前記ハレーション防止パターン表面を妨染処理
する工程とを付加して成る請求項12乃至15何れか記
載のカラー固体撮像素子の製造方法。 - 【請求項18】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の固
体撮像素子の走査部に対応した位置に、カラーフィルタ
の染色母材パターンを形成、染色してハレーション防止
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、前記ハレーション防止
パターン内の前記固体撮像素子の受光部に対応した位置
に開口部を形成し、前記平坦化層を露出する工程と、前
記開口部にカラーフィルタの染色母材からなるパターン
を形成し、染色母材パターンを染色して1色目のカラー
フィルタパターンを形成する工程と、高分子材料もしく
は有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物
を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色目のカラ
ーフィルタパターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前
記1色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受
光部に対応した位置に開口部を形成し、前記平坦化層を
露出させる工程と、前記開口部にカラーフィルタの染色
母材パターンを形成、染色して2色目のカラーフィルタ
パターンを形成する工程と、前記2色目のカラーフィル
タパターンの混色防止保護膜を形成する工程と、前記2
色目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜上に3
色目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、少な
くとも前記3色目のカラーフィルタ層上に有機保護膜を
形成する工程とを有して成るカラー固体撮像素子の製造
方法。 - 【請求項19】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の固
体撮像素子の走査部に対応した位置に、カラーフィルタ
の染色母材パターンを形成、染色してハレーション防止
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、前記ハレーション防止
パターン内の前記固体撮像素子の受光部に対応した位置
に開口部を形成し、前記平坦化層を露出する工程と、前
記開口部にカラーフィルタの染色母材からなるパターン
を形成し、染色母材パターンを染色して1色目のカラー
フィルタパターンを形成する工程と、高分子材料もしく
は有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物
を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色目のカラ
ーフィルタパターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前
記1色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受
光部に対応した位置に開口部を形成し、前記平坦化層を
露出させる工程と、前記開口部にカラーフィルタの染色
母材パターンを形成、染色して2色目のカラーフィルタ
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、2色目のカラーフィル
タパターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前記1、2
色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受光部
に対応した位置に開口部を形成し、前記1色目のカラー
フィルタパターンの混色防止保護膜を露出させる工程
と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材パターンを
形成、染色して3色目のカラーフィルタパターンを形成
する工程と、少なくとも前記3色目のカラーフィルタ層
上に有機保護膜を形成する工程とからなることを特徴と
するカラー固体撮像素子の製造方法。 - 【請求項20】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の固
体撮像素子の走査部に対応した位置に、カラーフィルタ
の染色母材パターンを形成、染色してハレーション防止
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、前記ハレーション防止
パターン内の前記固体撮像素子の受光部に対応した位置
に開口部を形成し、前記平坦化層を露出する工程と、前
記開口部にカラーフィルタの染色母材からなるパターン
を形成し、染色母材パターンを染色して1色目のカラー
フィルタパターンを形成する工程と、高分子材料もしく
は有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物
を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色目のカラ
ーフィルタパターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前
記1色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の2
種の受光部に対応した位置にそれぞれ開口部を形成し、
前記平坦化層を露出させる工程と、前記開口部にカラー
フィルタの染色母材パターンを形成、染色して2色目の
カラーフィルタパターンをそれぞれ形成する工程と、高
分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む
光硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像し
て、2色目の一方のカラーフィルタパターンに混色防止
保護膜を形成し、かつ前記1色目のカラーフィルタパタ
ーンとは異なる所望の受光部に対応した位置と2色目の
他方のカラーフィルタパターンに対応した位置にそれぞ
れ開口部を形成する工程と、前記工程により露出した2
色目の他方のカラーフィルタ表面を妨染処理する工程
と、前記それぞれの開口部にカラーフィルタの染色母材
パターンを形成、染色して3色目のカラーフィルタパタ
ーンを形成する工程と、少なくとも前記3色目のカラー
フィルタ層上に有機保護膜を形成する工程とを有して成
るカラー固体撮像素子の製造方法。 - 【請求項21】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の固
体撮像素子の走査部に対応した位置に、カラーフィルタ
の染色母材パターンを形成、染色してハレーション防止
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、前記ハレーション防止
パターン内の前記固体撮像素子の受光部に対応した位置
に開口部を形成し、前記平坦化層を露出する工程と、前
記開口部にカラーフィルタの染色母材からなるパターン
を形成し、染色母材パターンを染色して1色目のカラー
フィルタパターンを形成する工程と、高分子材料もしく
は有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物
を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色目の一方
のカラーフィルタパターンに混色防止保護膜を形成し、
1色目の他のカラーフィルタパターンに対応した位置に
開口部を形成する工程と、前記工程により露出した1色
目の他のカラーフィルタ表面を妨染処理する工程と、前
記開口部にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、
染色して2色目のカラーフィルタパターンを形成する工
程と、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤
とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、
現像して、2色目のカラーフィルタパターンに混色防止
保護膜を形成し、かつ前記1、2色目のカラーフィルタ
パターンとは異なる所望の受光部に対応した位置に開口
部を形成する工程と、前記開口部にカラーフィルタの染
色母材パターンを形成、染色して3色目のカラーフィル
タパターンを形成する工程と、少なくとも前記3色目の
カラーフィルタ層上に有機保護膜を形成する工程とを有
して成るカラー固体撮像素子の製造方法。 - 【請求項22】上記カラー固体撮像素子の製造方法にお
いて、ハレーション防止パターンを形成後にハレーショ
ン防止パターン表面を妨染処理する工程を付加して成る
請求項18乃至21何れか記載のカラー固体撮像素子の
製造方法。 - 【請求項23】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の固
体撮像素子の走査部に対応した位置に、カラーフィルタ
の染色母材パターンを形成、染色してハレーション防止
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、前記ハレーション防止
パターン内の前記固体撮像素子の所定の受光部に対応し
た位置に開口部を形成し、前記平坦化層を露出する工程
と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材からなるパ
ターンを形成し、染色母材パターンを染色して1色目の
カラーフィルタパターンを形成する工程と、前記1色目
のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜を形成する
工程と、前記混色防止保護膜上にカラーフィルタの染色
母材パターンを形成、染色して2色目のカラーフィルタ
パターンを形成する工程と、前記2色目のカラーフィル
タパターンの混色防止保護膜を形成する工程と、前記2
色目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜上に3
色目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、少な
くとも前記3色目のカラーフィルタ層上に有機保護膜を
形成する工程とを有して成るカラー固体撮像素子の製造
方法。 - 【請求項24】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の固
体撮像素子の走査部に対応した位置に、カラーフィルタ
の染色母材パターンを形成、染色してハレーション防止
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、前記ハレーション防止
パターン内の前記固体撮像素子の所定の受光部に対応し
た位置に開口部を形成し、前記平坦化層を露出する工程
と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材からなるパ
ターンを形成し、染色母材パターンを染色して1色目の
カラーフィルタパターンを形成する工程と、高分子材料
もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性
組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色目
のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜を形成し、
かつ前記1色目のカラーフィルタパターンとは異なる所
望の受光部に対応した位置に開口部を形成する工程と、
前記開口部にカラーフィルタの染色母材パターンを形
成、染色して2色目のカラーフィルタパターンを形成す
る工程と、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発
生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露
光、現像して、2色目のカラーフィルタパターンの混色
防止保護膜を形成し、かつ前記1、2色目のカラーフィ
ルタパターンとは異なる所望の受光部に対応した位置に
開口部を形成する工程と、前記開口部にカラーフィルタ
の染色母材パターンを形成、染色して3色目のカラーフ
ィルタパターンを形成する工程と、少なくとも前記3色
目のカラーフィルタ層上に有機保護膜を形成する工程と
を有して成るカラー固体撮像素子の製造方法。 - 【請求項25】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の固
体撮像素子の走査部に対応した位置に、カラーフィルタ
の染色母材パターンを形成、染色してハレーション防止
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、前記ハレーション防止
パターン内の前記固体撮像素子の所定の受光部に対応し
た位置に開口部を形成し、前記平坦化層を露出する工程
と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材からなるパ
ターンを形成し、染色母材パターンを染色して1色目の
カラーフィルタパターンを形成する工程と、高分子材料
もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性
組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色目
のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜を形成し、
かつ前記1色目のカラーフィルタパターンとは異なる所
望の受光部に対応した位置に開口部を形成する工程と、
前記開口部にカラーフィルタの染色母材パターンを形
成、染色して2色目のカラーフィルタパターンを形成す
る工程と、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発
生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露
光、現像して、2色目のカラーフィルタパターンの一部
分に混色防止保護膜を形成し、かつ前記1色目のカラー
フィルタパターンとは異なる所望の受光部に対応した位
置と2色目のカラーフィルタパターンの一部分に対応し
た位置に開口部を形成する工程と、前記工程により露出
した2色目のカラーフィルタ表面を妨染処理する工程
と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材パターンを
形成、染色して3色目のカラーフィルタパターンを形成
する工程と、少なくとも膳3色目のカラーフィルタ層上
に有機保護膜を形成する工程とを有して成るカラー固体
撮像素子の製造方法。 - 【請求項26】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の固
体撮像素子の走査部に対応した位置に、カラーフィルタ
の染色母材パターンを形成、染色してハレーション防止
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、前記ハレーション防止
パターン内の前記固体撮像素子の所定の受光部に対応し
た位置に開口部を形成し、前記平坦化層を露出する工程
と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材からなるパ
ターンを形成し、染色母材パターンを染色して1色目の
カラーフィルタパターンを形成する工程と、高分子材料
もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性
組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、1色目
のカラーフィルタパターンの一部分に混色防止保護膜を
形成し、1色目のカラーフィルタパターンの一部分に対
応した位置に開口部を形成する工程と、前記工程により
露出した1色目のカラーフィルタ表面を妨染処理する工
程と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材パターン
を形成、染色して2色目のカラーフィルタパターンを形
成する工程と、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と
酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、次い
で露光、現像して、2色目のカラーフィルタパターンに
混色防止保護膜を形成し、かつ前記1、2色目のカラー
フィルタパターンとは異なる所望の受光部に対応した位
置に開口部を形成する工程と、前記開口部にカラーフィ
ルタの染色母材パターンを形成、染色して3色目のカラ
ーフィルタパターンを形成する工程と、少なくとも前記
3色目のカラーフィルタ層上に有機保護膜を形成する工
程とを有して成るカラー固体撮像素子の製造方法。 - 【請求項27】上記請求項12乃至15、17乃至2
1、23乃至26何れか記載のカラー固体撮像素子の製
造方法において、最終工程の少なくとも3色目のカラー
フィルタ層上に有機保護膜を形成する工程に引き続き、
この有機保護膜上に前記固体撮像素子の受光部に対応し
た位置にマイクロレンズを形成する工程を付加して成る
カラー固体撮像素子の製造方法。 - 【請求項28】上記請求項12乃至15、17乃至2
1、23乃至26何れか記載のカラー固体撮像素子の製
造方法において、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料
と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、次
いで露光、現像した後に、この膜を再度加熱する工程を
付加して成るカラー固体撮像素子の製造方法。 - 【請求項29】上記請求項12乃至15、17乃至2
1、23乃至26何れか記載のカラー固体撮像素子の製
造方法において、ハレーション防止パターン形成後に、
前記ハレーション防止パターンを妨染処理する工程を付
加して成るカラー固体撮像素子の製造方法。 - 【請求項30】上記請求項12乃至15、17乃至2
1、23乃至26何れか記載のカラー固体撮像素子の製
造方法において、上記透明材料からなる平坦化層を形成
する工程を、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸
発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱、露光する
工程とするか、更には露光後にこの膜を再度加熱す工程
として成るカラー固体撮像素子の製造方法。 - 【請求項31】上記請求項27記載のマイクロレンズを
形成する工程を、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料
と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱、露
光、現像・パターン化、加熱して形成する工程として成
るカラー固体撮像素子の製造方法。 - 【請求項32】上記請求項12乃至15、17乃至2
1、23乃至26何れか記載のカラー固体撮像素子の製
造方法において、上記透明材料からなる平坦化層を形成
する工程を、分子末端がエンドキャップされたポリイミ
ド前駆体を加熱硬化してなる透明ポリイミドから形成す
る工程として成るカラー固体撮像素子の製造方法。 - 【請求項33】上記高分子材料もしくは有機ケイ素系材
料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を用いる工程にお
いて、前記酸発生剤を下記の式(1)、(2)、(3)
もしくは(4)で表わされるオニウム塩、もしくはトリ
(メタンスルホニル−オキシ)ベンゼンで構成して成る
請求項12乃至15、17乃至21、23乃至26、3
0乃至31何れか記載のカラー固体撮像素子の製造方
法。 【化5】 【化6】 【化7】 【化8】 ただし、上記一般式において、X~はBr~、BF4~、S
bF6~、AsF6~、PF6~、もしくはCF3SO3~の陰
イオンを表わし、Ar1〜Ar6、R、R´は有機基を表
し、n整数を表す。 - 【請求項34】上記高分子材料もしくは有機ケイ素系材
料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を用いる工程にお
いて、前記高分子材料をフェノール樹脂、ノボラック樹
脂、クレゾール樹脂、エポキシ樹脂、ポリアルコール樹
脂、もしくはオレフィン系、ラクトン系、ラクタム系構
造を有する樹脂で構成して成る請求項12乃至15、1
7乃至21、23乃至26、30乃至31何れか記載の
カラー固体撮像素子の製造方法。 - 【請求項35】上記高分子材料もしくは有機ケイ素系材
料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を用いる工程にお
いて、前記高分子材料もしくは有機ケイ素系材料の固形
分100重量部に対して、酸発生剤を0.01〜30重
量部として成る請求項12乃至15、17乃至21、2
3乃至26、30乃至31何れか記載のカラー固体撮像
素子の製造方法。 - 【請求項36】上記高分子材料もしくは有機ケイ素系材
料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を用いる工程にお
いて、前記高分子材料もしくは有機ケイ素系材料の固形
分100重量部に対して、アミド誘導体、もしくはシラ
ノール系化合物を0.01〜50重量部含有せしめて成
る請求項12乃至15、17乃至21、23乃至26、
30乃至31何れか記載のカラー固体撮像素子の製造方
法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5994291 | 1991-03-25 | ||
JP3-59942 | 1991-03-25 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0548063A true JPH0548063A (ja) | 1993-02-26 |
Family
ID=13127707
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31445391A Pending JPH0548063A (ja) | 1991-03-25 | 1991-11-28 | カラー固体撮像素子及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0548063A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR980012590A (ko) * | 1996-07-31 | 1998-04-30 | 문정환 | 고체촬상소자의 구조 및 제조방법 |
JP2002526794A (ja) * | 1998-10-01 | 2002-08-20 | アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド | 新規な感光性樹脂組成物 |
JP2003529099A (ja) * | 2000-03-24 | 2003-09-30 | アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド | 新規な感光性樹脂組成物 |
JP2007256661A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
JP2016075736A (ja) * | 2014-10-03 | 2016-05-12 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタおよび表示装置 |
-
1991
- 1991-11-28 JP JP31445391A patent/JPH0548063A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR980012590A (ko) * | 1996-07-31 | 1998-04-30 | 문정환 | 고체촬상소자의 구조 및 제조방법 |
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JP2007256661A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
JP2016075736A (ja) * | 2014-10-03 | 2016-05-12 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタおよび表示装置 |
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