JPH0548063A

JPH0548063A - カラー固体撮像素子及びその製造方法

Info

Publication number: JPH0548063A
Application number: JP31445391A
Authority: JP
Inventors: Jun Tanaka; 順田中; Hisashi Sugiyama; 寿杉山; Akiya Izumi; 章也泉; Tatsuo Hamamoto; 辰雄濱本; Takaaki Kuji; 卓見久慈; Toshio Nakano; 寿夫中野; Takashi Isoda; 高志磯田
Original assignee: Hitachi Device Engineering Co Ltd; Hitachi Ltd; Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd; Hitachi Consumer Electronics Co Ltd; Japan Display Inc
Priority date: 1991-03-25
Filing date: 1991-11-28
Publication date: 1993-02-26

Abstract

(57)【要約】【目的】カラーフィルタ層全体を平坦化し、かつカラー
フィルタ層全体の膜厚を低減して分光特性に優れた高感
度のカラー固体撮像素子を得ることにある。【構成】基板１００上に素子平坦化膜１０３を設け、こ
の平坦化膜上の受光部１０１に対応する領域に１色目の
フィルタ１０６を設け、このフィルタ１０６に混色防止
保護膜１０４を被覆すると共に、２色目のフィルタ形成
領域の混色防止保護膜１０４に開口部を設けてその跡に
２色目のフィルタ１０７を設ける。これにより、フィル
タ１０６とフィルタ１０７とは平坦化膜１０３の同一平
面上に設けられる。さらに混色防止保護膜１０４´を設
けて３色目のフィルタ１０８を設け、最後に表面保護膜
１０５を形成する。混色防止保護膜や表面保護膜は、高
分子材料あるいは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む
光硬化性組成物より形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、カラー固体撮像素子及
びその製造方法に係り、特に酸発生剤を含んだ材料から
なる光硬化性保護膜を用いて、平坦性に優れた保護膜層
を形成し、かつ同一平面上に異なる色のカラーフィル
タ、あるいはハレーション防止パターンとカラーフィル
タとを形成することにより、固体撮像素子に形成するカ
ラーフィルタ層全体の膜厚を低減することで、素子特性
を向上するに好適なカラー固体撮像素子及びその製造方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体基板上に、パッシベーション膜で
覆われた光電変換を行なう受光部、及びこの受光部で発
生した電気信号を取り出す走査部が形成されているＣＣ
Ｄ形やＭＯＳ形等の固体撮像素子において、前記撮像素
子の受光部にカラーフィルタを一体的に形成したカラー
固体撮像素子が知られている。

【０００３】例えばＭＯＳ形カラー固体撮像素子につい
ては、テレビジョン学会誌、第３７巻、第７号、第５５
３〜５５８頁（１９８３年）に、ＣＣＤ形カラー固体撮
像素子については、東芝レビュー、第４３巻、第７号、
第５４８〜５５２頁（１９８８年）に記載されている。

【０００４】前者においては、固体撮像素子表面の保護
及び凹凸の低減のために下地膜としてＰＧＭＡ（ポリグ
リシジルメタクリレート）膜を形成し、この膜を介し
て、固体撮像素子基板上に１色目のシアンのカラーフィ
ルタを形成し、次いでＰＧＭＡ膜をフィルタ層間の保護
膜として用いて２色目のイエロのカラーフィルタを積層
形成して、シアン、イエロ、グルーン（シアンとイエロ
の二層フィルタで構成）、ホワイト（フィルタ無し）の
４色のカラーフィルタを形成し、最上層にカラーフィル
タの表面保護層としてＰＧＭＡ膜を形成すると共に、各
層ごとにＰＧＭＡ膜を露光、現像して素子のボンディン
グパッド部上を開口し、カラーフィルタ層を形成してい
る。

【０００５】また、後者では、シアン、イエロ、マゼン
タの３色のカラーフィルタを前者と同様にしてＰＧＭＡ
膜を素子平坦化膜、フィルタ層間の保護膜、カラーフィ
ルタの表面保護膜として用いて、シアン、イエロ、グル
ーン（シアンとイエロの二層フィルタで構成）、マゼン
タの４色のカラーフィルタを形成し、各層ごとにＰＧＭ
Ａ膜を露光、現像して素子のボンディングパッド部上を
開口し、カラーフィルタ層を形成している。

【０００６】また、特開昭６０−６０７５６号公報に記
載されているように、固体撮像素子に微小なレンズを各
画素毎に設けるマイクロレンズ付き固体撮像素子および
そのの製造方法が知られている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上記のように従来技術
では、ＰＧＭＡ膜を用いてフィルタ層の下地平坦化膜や
フィルタ層間の保護膜、あるいはフィルタ層上に保護膜
を形成している。ＰＧＭＡ膜は熱硬化性があり、かつポ
ジ形のＤeepＵＶレジストにもなる透明材料である。と
ころがＰＧＭＡ膜は熱硬化性の材料から形成されるため
に、熱流動性が劣り、膜の平坦性が不十分である。ま
た、カラーフィルタを積層形成しているためにフィルタ
層全体の厚みが厚くなり、更に平坦性を低下されること
となる。このため、以下に示すような問題点があった。

【０００８】（１）固体撮像素子基板表面の凹凸段差を
解消させるために形成する下地平坦化膜の平坦化効果が
不十分であるため、平坦化層上に形成されたカラーフィ
ルタに膜厚差が生じ、カラーフィルタの分光特性がばら
つく。

【０００９】（２）カラーフィルタ層間の保護膜、ある
いはマイクロレンズ付き固体撮像素子の場合はフィルタ
層上に形成する保護膜の平坦化効果が不十分であるた
め、各画素毎に設けられているマイクロレンズの
厚さや高さに差が生じることにより、各画素毎で
マイクロレンズの集光効果が変化して、感度のばらつ
きが生じる。

【００１０】したがって、本発明の目的は上記した問題
点を解決することにあり、その第１の目的は、平坦性の
高いフィルタ下地平坦化膜やフィルタ層間の保護膜、あ
るいは平坦性の高いフィルタ層上保護膜を形成してカラ
ーフィルタ層全体を平坦化すると共に、同一平面上に異
なる色のカラーフィルタ、あるいはハレーション防止パ
ターンとカラーフィルタとを形成してカラーフィルタ層
全体の膜厚を低減したカラー固体撮像素子を、その第２
の目的はそのようなカラー固体撮像素子を形成する改良
された製造方法を、それぞれ提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記第１の目的は、光電
変換を行なう受光部と、前記受光部で発生した電気信号
を取り出す走査部と、前記受光部及び走査部を保護する
パッシベーション膜とが形成された半導体基板からなる
固体撮像素子基板上に、透明材料からなる平坦化層を設
け、前記平坦化層上の前記素子受光部に対応した位置に
透明材料からなる有機膜で保護されたカラーフィルタパ
ターンを配してなるカラー固体撮像素子において、少な
くとも２色のカラーフィルタパターンが同一平面上に存
在し、かつ前記透明材料から成る有機膜が高分子材料も
しくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組
成物から形成されて有機保護膜を構成して成るカラー固
体撮像素子により、達成される。

【００１２】更に、上記第１の目的は、光電変換を行な
う受光部と、前記受光部で発生した電気信号を取り出す
走査部と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベー
ション膜とが形成された半導体基板からなる固体撮像素
子基板上に、透明材料からなる平坦化層を設け、前記平
坦化層上の走査部に対応した位置にはハレーション防止
パターンを配し、前記平坦化層上の受光部に対応した位
置には透明材料からなる有機膜で保護されたカラーフィ
ルタパターンを配してなるカラー固体撮像素子におい
て、少なくとも２色のカラーフィルタパターン同志、も
しくはハレーション防止パターンと少なくとも１色のカ
ラーフィルタパターンとが同一平面上に存在し、かつ前
記透明材料から成る有機膜が高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物から形成
されて有機保護膜を構成して成るカラー固体撮像素子に
より、達成される。

【００１３】上記カラーフィルタの一つを、同一受光部
上に積層した２色のカラーフィルタパターンで構成する
ことができる。すなわち、上記フィルタの構成は、補色
形が好ましく、例えばマゼンタ、シアン、イエロからな
る３色のフィルタパターンで形成するが、４色目のグリ
ーンについてはシアンフィルタとイエロフィルタとの２
層構造とし、全体として４色のフィルタで構成するのが
望ましい。

【００１４】また、上記何れのカラー固体撮像素子にお
いても、各受光部に対応した位置のカラーフィルタ層上
に、一体的に集光用マイクロレンズを配設することが望
ましい。また、上記透明材料からなる平坦化層は、従来
の例えばＰＧＭＡ膜のごとき熱硬化性組成物も使用可能
ではあるが、好ましくはフィルタを保護する有機膜と同
様の高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤と
を含む光硬化性組成物、もしくは分子末端がエンドキャ
プされたポリイミド前駆体を硬化して形成された透明ポ
リイミドで形成されたものが望ましい。また、マイクロ
レンズもこの光硬化性組成物で形成されたものが好まし
い。

【００１５】上記光硬化性組成物の一成分を構成する有
効な酸発生剤としては、光照射により、プロトンを発生
するものが使用され、例えば下記の式（１）、（２）、
（３）、（４）で表わされるオニウム塩、あるいはトリ
（メタンスルホニル−オキシ）ベンゼンなどが挙げられ
る。

【００１６】

【化９】

【００１７】

【化１０】

【００１８】

【化１１】

【００１９】

【化１２】

【００２０】ただし、上記一般式において、Ｘ~はＢｒ
~、ＢＦ₄~、ＳｂＦ₆~、ＡｓＦ₆~、ＰＦ₆~、もしくはＣ
Ｆ₃ＳＯ₃~の陰イオンを表わし、Ａｒ¹〜Ａｒ⁶、Ｒ、Ｒ
´は有機基を表し、ｎ整数を表す。

【００２１】また、上記光硬化性組成物の一成分を構成
する有効な高分子材料としては、例えばフェノール樹
脂、ノボラック樹脂、クレゾール樹脂、エポキシ樹脂、
ポリアルコール樹脂、もしくはオレフィン系、ラクトン
系、ラクタム系構造を有する樹脂等が挙げられる。

【００２２】また、光硬化性組成物を構成する高分子材
料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤との好ましい組
成比は、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料の固形分
１００重量部に対して、酸発生剤が０．０１〜３０重量
部である。

【００２３】さらにまた、この光硬化性組成物には、例
えば下記の式（５）で表されるアミド誘導体、もしくは
例えばジフェニルシランジオール（Ｄiphenylsilanedio
l）、やジ・ターシャリーブチル・シランジオール[di-
(t-butyl)-silanediol]のごときシラノール系化合物
を、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料の固形分１０
０重量部に対して、０．１〜５０重量部含ませることが
できる。

【００２４】

【化１３】

【００２５】ただし、式（５）の中でＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、
Ｒ⁵、Ｒ⁶は、いずれも水素、もしくは低級アルキル基を
表し、Ｒ⁴は低級アルキレン基を表し、ｎは整数を表
す。

【００２６】そして、上記第２の目的は、光電変換を行
なう受光部と、前記受光部で発生した電気信号を取り出
す走査部と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベ
ーション膜とが形成された半導体基板からなる固体撮像
素子基板上に、透明材料からなる平坦化層を形成する工
程と、前記平坦化層上の受光部に対応する位置にカラー
フィルタの染色母材からなるパターンを形成する工程
と、前記染色母材パターンを染色して１色目のカラーフ
ィルタパターンを形成する工程と、高分子材料もしくは
有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を
塗布、加熱し、次いで露光、現像して、１色目のカラー
フィルタパターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前記
１色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受光
部に対応した位置に開口部を形成し、前記平坦化層を露
出させる工程と、前記開口部にカラーフィルタの染色母
材パターンを形成、染色して２色目のカラーフィルタパ
ターンを形成する工程と、前記２色目のカラーフィルタ
パターンの混色防止保護膜を形成する工程と、前記２色
目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜上に３色
目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、少なく
とも前記３色目のカラーフィルタ層上に有機保護膜を形
成する工程とを有して成るカラー固体撮像素子の製造方
法により、達成される。

【００２７】また、上記第２の目的は、光電変換を行な
う受光部と、前記受光部で発生した電気信号を取り出す
走査部と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベー
ション膜とが形成された半導体基板からなる固体撮像素
子基板上に、透明材料からなる平坦化層を形成する工程
と、前記平坦化層上の受光部に対応する位置にカラーフ
ィルタの染色母材からなるパターンを形成する工程と、
前記染色母材パターンを染色して１色目のカラーフィル
タパターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機
ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗
布、加熱し、次いで露光、現像して、１色目のカラーフ
ィルタパターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前記１
色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受光部
に対応した位置に開口部を形成し、前記平坦化層を露出
させる工程と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材
パターンを形成、染色して２色目のカラーフィルタパタ
ーンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケイ素
系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱
し、次いで露光、現像して、２色目のカラーフィルタパ
ターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前記１、２色目
のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受光部に対
応した位置に開口部を形成し、前記１色目のカラーフィ
ルタパターンの混色防止保護膜を露出させる工程と、前
記開口部にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、
染色して３色目のカラーフィルタパターンを形成する工
程と、少なくとも前記３色目のカラーフィルタ層上に有
機保護膜を形成する工程とからなることを特徴とするカ
ラー固体撮像素子の製造方法により、達成される。

【００２８】また、上記第２の目的は、光電変換を行な
う受光部と、前記受光部で発生した電気信号を取り出す
走査部と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベー
ション膜とが形成された半導体基板からなる固体撮像素
子基板上に、透明材料からなる平坦化層を形成する工程
と、前記平坦化層上の受光部に対応する位置にカラーフ
ィルタの染色母材からなるパターンを形成する工程と、
前記染色母材パターンを染色して１色目のカラーフィル
タパターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機
ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗
布、加熱し、次いで露光、現像して、１色目のカラーフ
ィルタパターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前記１
色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の２種の
受光部に対応した位置にそれぞれ開口部を形成し、前記
平坦化層を露出させる工程と、前記開口部にカラーフィ
ルタの染色母材パターンを形成、染色して２色目のカラ
ーフィルタパターンをそれぞれ形成する工程と、高分子
材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬
化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、２
色目の一方のカラーフィルタパターンに混色防止保護膜
を形成し、かつ前記１色目のカラーフィルタパターンと
は異なる所望の受光部に対応した位置と２色目の他方の
カラーフィルタパターンに対応した位置にそれぞれ開口
部を形成する工程と、前記工程により露出した２色目の
他方のカラーフィルタ表面を妨染処理する工程と、前記
それぞれの開口部にカラーフィルタの染色母材パターン
を形成、染色して３色目のカラーフィルタパターンを形
成する工程と、少なくとも前記３色目のカラーフィルタ
層上に有機保護膜を形成する工程とを有して成るカラー
固体撮像素子の製造方法によっても達成され、また、光
電変換を行なう受光部と、前記受光部で発生した電気信
号を取り出す走査部と、前記受光部及び走査部を保護す
るパッシベーション膜とが形成された半導体基板からな
る固体撮像素子基板上に、透明材料からなる平坦化層を
形成する工程と、前記平坦化層上の２種の受光部に対応
する位置にそれぞれカラーフィルタの染色母材からなる
パターンを形成する工程と、前記染色母材パターンを染
色して１色目のカラーフィルタパターンを形成する工程
と、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤と
を含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現
像して、１色目の一方のカラーフィルタパターンに混色
防止保護膜を形成し、１色目の他のカラーフィルタパタ
ーンに対応した位置に開口部を形成する工程と、前記工
程により露出した１色目の他のカラーフィルタ表面を妨
染処理する工程と、前記開口部にカラーフィルタの染色
母材パターンを形成、染色して２色目のカラーフィルタ
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、２色目のカラーフィル
タパターンに混色防止保護膜を形成し、かつ前記１、２
色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受光部
に対応した位置に開口部を形成する工程と、前記開口部
にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して
３色目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、少
なくとも前記３色目のカラーフィルタ層上に有機保護膜
を形成する工程とを有して成るカラー固体撮像素子の製
造方法によっても達成される。

【００２９】また、上記透明材料からなる平坦化層を形
成する工程の後に、前記平坦化層上の固体撮像素子の走
査部に対応した位置に、カラーフィルタの染色母材パタ
ーンを形成、染色してハレーション防止パターンを形成
し、前記ハレーション防止パターン上に混色防止保護膜
を形成する工程を付加することができる。

【００３０】さらにまた、上記透明材料からなる平坦化
層を形成する工程の後に、前記平坦化層上の固体撮像素
子の走査部に対応した位置に、カラーフィルタの染色母
材パターンを形成、染色してハレーション防止パターン
を形成する工程と、前記ハレーション防止パターン表面
を妨染処理する工程とを付加することもできる。

【００３１】また、上記カラー固体撮像素子の製造方法
において、最終工程の少なくとも３色目のカラーフィル
タ層上に有機保護膜を形成する工程に引き続き、この有
機保護膜上に前記固体撮像素子の受光部に対応した位置
にマイクロレンズを形成する工程を付加することによ
り、マイクロレンズ付きのカラー固体撮像素子を製造す
ることができる。

【００３２】また、高分子材料もしくは有機ケイ素系材
料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、
次いで露光、現像した後に、この膜を再度加熱する工程
を付加することができる。

【００３３】また、ハレーション防止パターン形成後
に、前記ハレーション防止パターンを妨染処理する工程
を付加することができる。

【００３４】また、上記透明材料からなる平坦化層を形
成する工程を、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と
酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱、露光す
る工程とするか、更には露光後にこの膜を再度加熱す工
程とすることができる。

【００３５】また、上記マイクロレンズを形成する工程
を、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤と
を含む光硬化性組成物を塗布、加熱、露光、現像・パタ
ーン化、加熱して形成する工程で構成することができ
る。

【００３６】また、上記透明材料からなる平坦化層を形
成する工程を、分子末端がエンドキャップされたポリイ
ミド前駆体を加熱硬化してなる透明ポリイミドから形成
する工程で構成することもできる。

【００３７】また、上記高分子材料もしくは有機ケイ素
系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を用いる工程
において、使用する好ましい酸発生剤および高分子材料
については、先に本発明の第１の目的を達成する手段の
中で述べたものと同様なのでここでは説明を省略する。

【００３８】また、光硬化性組成物を構成する高分子材
料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤との好ましい組
成比、さらにはこれに加えることのできるアミド誘導
体、もしくはシラノール系化合物の好ましい組成比につ
いても先に本発明の第１の目的を達成する手段の中で述
べたものと同様なのでここでは説明を省略する。

【００３９】以下、本発明のカラー固体撮像素子の構成
について図面により総括的に説明する。（１）図１、図２、図３、図４に断面を示すように、予
め半導体基板１００の主表面に光電変換を行なう受光部
と１０１、前記受光部で発生した電気信号を取り出す走
査部１０２と、前記受光部及び走査部を保護するパッシ
ベーション膜（図示せず）とが形成された固体撮像素子
と、その上に透明材料からなる平坦化層１０３、前記受
光部１０１に対応した位置に平坦化層上に少なくとも２
色のカラーフィルタパターン〔１０６（例えばマゼン
タ）と１０７（例えば一方はシアン、他方はグリーンの
一層目となるシアン）、もしくは１０８同志（例えば一
方はイエロ、他方はグリーンの二層目となるイエロ）〕
を同一平面上に配設した複数色のカラーフィルタ層、前
記カラーフィルタ層を保護する高分子材料もしくは有機
ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物から形
成されている透明材料からなる保護膜１０４から、ま
た、さらにカラーフィルタ最上層の保護膜１０５を介し
て、前記受光部に対応した位置に配設した凸状マイクロ
レンズ１０９から構成される。

【００４０】（２）図５、図６、図７、図８に断面を示
すように、予め光電変換を行なう受光部と、前記受光部
１０１で発生した電気信号を取り出す走査部１０２と、
前記受光部及び走査部を保護するパッシベーション膜
（図示せず）とが形成された固体撮像素子と、その上に
透明材料からなる平坦化層１０３、前記受光部に対応し
た位置に平坦化層上に少なくとも２色のカラーフィルタ
パターン〔１０６（例えばマゼンタ）と１０７（例えば
一方はシアン、他方はグリーンの一層目となるシア
ン）、もしくは１０８同志（例えば一方はイエロ、他方
はグリーンの二層目となるイエロ）〕を同一平面上に配
設し、かつ２色のカラーフィルタパターン（１０７と１
０８とでグリーンを構成）が接触積層して配設し複数色
のカラーフィルタ層、前記カラーフィルタ層を保護する
高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含
む光硬化性組成物から形成されている透明材料からなる
保護膜１０４から、また、さらにカラーフィルタ最上層
の保護膜１０５を介して、前記受光部に対応した位置に
配設した凸状マイクロレンズ１０９から構成される。

【００４１】（３）図９、図１０、図１１、図１２に断
面を示すように、予め光電変換を行なう受光部１０１
と、前記受光部で発生した電気信号を取り出す走査部１
０２と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベーシ
ョン膜（図示せず）とが形成された固体撮像素子と、そ
の上に透明材料からなる平坦化層１０３、前記走査部に
対応した位置に配設したハレーション防止層１１３、ハ
レーション防止層の混色防止保護膜１０４´、前記受光
部１０１に対応した位置の平坦化層１０３上の混色防止
保護膜１０４´上に、少なくとも２色のカラーフィルタ
パターン〔１０６（例えばマゼンタ）と１０７（例えば
一方はシアン、他方はグリーンの一層目となるシア
ン）、もしくは１０８同志（例えば一方はイエロ、他方
はグリーンの二層目となるイエロ）〕を同一平面上に配
設した複数色のカラーフィルタ層、前記カラーフィルタ
層を保護する高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸
発生剤とを含む光硬化性組成物から形成されている透明
材料からなる保護膜１０４から、また、さらにカラーフ
ィルタ最上層の保護膜１０５を介して、前記受光部に対
応した位置に配設した凸状マイクロレンズ１０９から構
成される。

【００４２】（４）上記図９、図１０、図１１、図１２
のフィルタ部分の構成を図５、図６、図７、図８のフィ
ルタ部分の構成で置き換えた構成であるが、これについ
てはこれら両グループの図面を単純に置換すれば良いの
で図面を省略した。

【００４３】すなわち、予め光電変換を行なう受光部１
０１と、前記受光部で発生した電気信号を取り出す走査
部１０２と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベ
ーション膜とが形成された固体撮像素子と、その上に透
明材料からなる平坦化層１０３、前記走査部に対応した
位置に配設したハレーション防止層１１３、ハレーショ
ン防止層の混色防止保護膜１０４´、前記受光部に対応
した位置の平坦化層１０３上の混色防止保護膜１０４´
上に、少なくとも２色のカラーフィルタパターン〔１０
６（例えばマゼンタ）と１０７（例えば一方はシアン、
他方はグリーンの一層目となるシアン）、もしくは１０
８同志（例えば一方はイエロ、他方はグリーンの二層目
となるイエロ）〕を同一平面上に配設し、かつ２色のカ
ラーフィルタパターン（１０７と１０８とでグリーンを
構成）が接触積層して配設し複数色のカラーフィルタ
層、前記カラーフィルタ層を保護する高分子材料もしく
は有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物
から形成されている透明材料からなる保護膜１０４か
ら、また、さらにカラーフィルタ最上層の保護膜１０５
を介して、前記受光部に対応した位置に配設した凸状マ
イクロレンズ１０９から構成される。

【００４４】（５）図１３、図１４、図１５、図１６、
図１７、図１８に断面を示すように、予め光電変換を行
なう受光部１０１と、前記受光部で発生した電気信号を
取り出す走査部１０２と、前記受光部及び走査部を保護
するパッシベーション膜（図示せず）とが形成された固
体撮像素子と、その上に透明材料からなる平坦化層１０
３、前記走査部に対応した位置に配設したハレーション
防止パターン１１３、前記受光部１０１に対応した位置
にハレーション防止パターン１１３と同一平面上にもカ
ラーフィルタパターン１０６、１０７を配設したフィル
タ層、前記カラーフィルタ層を保護する高分子材料もし
くは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成
物から形成されている透明材料からなる保護膜１０４か
ら、また、さらにカラーフィルタ最上層の保護膜１０５
を介して、前記受光部に対応した位置に配設した凸状マ
イクロレンズ１０９から構成される。

【００４５】（６）上記図１３、図１４、図１５、図１
６、図１７、図１８のフィルタ部分の構成を図５、図
６、図７、図８のフィルタ部分の構成で置き換えた構成
であるが、これについてはこれら両グループの図面を単
純に置換すれば良いので図面を省略した。すなわち、予
め光電変換を行なう受光部１０１と、前記受光部で発生
した電気信号を取り出す走査部１０２と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
固体撮像素子と、その上に透明材料からなる平坦化層１
０３、前記走査部に対応した位置に配設したハレーショ
ン防止パターン１１３、前記受光部に対応した位置にハ
レーション防止パターンと同一平面上にもカラーフィル
タパターン（例えばマゼンタ１０６とシアン１０７）を
配設し、かつ２色のカラーフィルタパターン（例えばグ
リーンを構成する一層目のシアン１０７と二層目のイエ
ロ１０８）が接触積層して配設し複数色のカラーフィル
タ層、前記カラーフィルタ層を保護する高分子材料もし
くは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成
物から形成されている透明材料からなる保護膜１０４か
ら、また、さらにカラーフィルタ最上層の保護膜１０５
を介して、前記受光部に対応した位置に配設した凸状マ
イクロレンズ１０９から構成される。

【００４６】つぎに、本発明のカラー固体撮像素子を製
造する一工程例を、補色形色差順次方式のカラーフィル
タを有するカラー固体撮像素子を例として説明する。図１９の工程説明：まず、図１９（ａ）に示すよう
に、予め半導体基板手表面に光電変換を行なう受光部１
０１と、前記受光部で発生した電気信号を取り出す走査
部１０２と、前記受光部及び走査部を保護するパッシベ
ーション膜とが形成された固体撮像素子基板１００上
に、透明材料からなる平坦化層１０３を形成する。

【００４７】次に、図１９（ｂ）に示すように、平坦化
層上にカラーフィルタの染色母材からなるパターンを形
成、染色して１色目のカラーフィルタパターン１０６を
形成する。次に、図１９（ｃ）に示すように、高分子材
料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化
性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、１色
目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜１０４を
形成し、１色目のカラーフィルタパターンとは異なる所
望の受光部に対応した位置に開口部１１０を形成する。

【００４８】次に、図１９（ｄ）に示すように、開口部
にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して
２色目のカラーフィルタパターン１０７を形成する。次
に、図１９（ｅ）に示すように、２色目のカラーフィル
タパターンの混色防止保護膜１０４’を形成する。次
に、図１９（ｆ）に示すように、２色目のカラーフィル
タパターンの混色防止保護膜上に３色目のカラーフィル
タパターン１０８を形成する。最後に、図１９（ｇ）に
示すように、３色目のカラーフィルタ層１０８上に表面
保護膜１０５を形成して、カラー固体撮像素子を得る。

【００４９】図２０の工程説明：図２０（ａ）に示す
ように、固体撮像素子基板上に、透明材料からなる平坦
化層１０３を形成し、平坦化層上にカラーフィルタの染
色母材からなるパターンを形成、染色して１色目のカラ
ーフィルタパターン１０６を形成し、高分子材料もしく
は有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物
を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、１色目のカラ
ーフィルタパターンの混色防止保護膜１０４を形成し、
かつ前記１色目のカラーフィルタパターンとは異なる所
望の受光部に対応した位置に開口部を形成し、前記開口
部にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色し
て２色目のカラーフィルタパターン１０７を形成し、高
分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む
光硬化性組成物１０４´を塗布、加熱する。

【００５０】次いで図２０（ｂ）に示すように、露光、
現像して、２色目のカラーフィルタパターンの混色防止
保護膜を形成し、かつ１、２色目のカラーフィルタパタ
ーンとは異なる所望の受光部に対応した位置に開口部１
１０を形成する。

【００５１】次に、図２０（ｃ）に示すように、２色目
のカラーフィルタパターンの一部と先の開口部に、カラ
ーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して３色目
のカラーフィルタパターン１０８を形成する。最後に、
図２０（ｄ）に示すように、３色目のカラーフィルタ層
１０８上に表面保護膜１０５を形成して、カラー固体撮
像素子を得る。

【００５２】図２１の工程説明：図２１（ａ）に示す
ように、固体撮像素子基板上に、透明材料からなる平坦
化層１０３を形成し、平坦化層上にカラーフィルタの染
色母材からなるパターンを形成、染色して１色目のカラ
ーフィルタパターン１０６を形成し、高分子材料もしく
は有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物
を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、１色目のカラ
ーフィルタパターンの混色防止保護膜１０４を形成し、
かつ前記１色目のカラーフィルタパターンとは異なる所
望の受光部に対応した位置に開口部を形成し、前記開口
部にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色し
て２色目のカラーフィルタパターン１０７を形成し、高
分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む
光硬化性組成物を塗布、加熱する。

【００５３】次いで図２１（ｂ）に示すように、露光、
現像して、２色目のカラーフィルタパターンの混色防止
保護膜１０４´を形成し、かつ１色目のカラーフィルタ
パターンとは異なる所望の受光部に対応した位置と２色
目のカラーフィルタパターンの一部に対応した位置とに
開口部１１０を形成する。

【００５４】次に図２１（ｃ）に示すように、この開口
部１１０に、カラーフィルタの染色母材パターンを形
成、染色して３色目のカラーフィルタパターン１０８を
形成する。最後に図２１（ｄ）に示すように、３色目の
カラーフィルタ層１０８上に表面保護膜１０５を形成し
て、カラー固体撮像素子を得る。この時、上記の工程に
おいて、２色目のカラーフィルタパターン１０７を露出
させた後（図２１（ｂ））に、続いて妨染処理を行なう
工程を含む場合もある。

【００５５】図２２の工程説明：図２２（ａ）に示す
ように、固体撮像素子基板上に、透明材料からなる平坦
化層１０３を形成し、平坦化層上にカラーフィルタの染
色母材からなるパターンを形成、染色して１色目のカラ
ーフィルタパターン１０７を形成する。

【００５６】次に図２２（ｂ）に示すように、高分子材
料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化
性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、１色
目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜１０４を
形成し、かつ前記１色目のカラーフィルタパターンとは
異なる所望の受光部に対応した位置と１色目のカラーフ
ィルタパターンの一部に対応した位置とに開口部１１０
を形成する。

【００５７】次に図２２（ｃ）に示すように、この開口
部１１０にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、
染色して２色目のカラーフィルタパターン１０８を形成
する。次に図２２（ｄ）に示すように、高分子材料も
しくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組
成物を塗布、加熱、露光、現像して、２色目のカラーフ
ィルタパターンの混色防止保護膜１０４´を形成し、か
つ１、２色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望
の受光部に対応した位置に開口部を形成し、次に、この
開口部に、３色目のカラーフィルタの染色母材パターン
を形成、染色してカラーフィルタパターン１０６を形成
する。

【００５８】最後に図２２（ｅ）に示すように、３色目
のカラーフィルタ層１０６上に表面保護膜１０５を形成
して、カラー固体撮像素子を得る。この時、上記の工程
において、１色目のカラーフィルタパターン１０７を露
出させた後に（図２２（ｂ））、続いて妨染処理を行な
う工程を含む場合もある。

【００５９】図２３の工程説明（ハレーション防止パ
ターンを有する）：図２３（ａ）に示すように、固体撮
像素子基板上に、透明材料からなる平坦化層１０３を形
成し、平坦化層上にカラーフィルタの染色母材からなる
パターンを形成、染色してハレーション防止パターン１
１３を形成する。次に、図２３（ｂ）に示すように、ハ
レーション防止パターンの混色防止保護層１０４”を形
成し、続いてカラーフィルタの染色母材からなるパター
ンを形成、染色して１色目のカラーフィルタパターン１
０６を形成する。

【００６０】次に図２３（ｃ）に示すように、高分子材
料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化
性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、１色
目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜１０４を
形成し、１色目のカラーフィルタパターンとは異なる所
望の受光部に対応した位置に開口部を形成し、次に、開
口部にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色
して２色目のカラーフィルタパターン１０７を形成し、
次に、２色目のカラーフィルタパターンの混色防止保護
膜１０４´を形成し、次に、２色目のカラーフィルタパ
ターンの混色防止保護膜上に３色目のカラーフィルタパ
ターン１０８を形成し、次に、この３色目のカラーフィ
ルタ層１０８上に表面保護膜１０５を形成して、カラー
固体撮像素子を得る。なお、ハレーション防止パターン
１１３を形成する際の染色は、イエロで染色することが
好ましい。

【００６１】図２４の工程説明（ハレーション防止パ
ターンを有する）：図２４（ａ）に示すように、固体撮
像素子基板上に、透明材料からなる平坦化層１０３を形
成し、平坦化層上にカラーフィルタの染色母材からなる
パターンを形成、染色してハレーション防止パターン１
１３を形成する。続いて図２４（ｂ）に示すように、カ
ラーフィルタの染色母材からなるパターンを形成、染色
して１色目のカラーフィルタパターン１０６を形成す
る。

【００６２】次に図２４（ｃ）に示すように、高分子材
料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化
性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、１色
目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜１０４を
形成し、１色目のカラーフィルタパターンとは異なる所
望の受光部に対応した位置に開口部を形成し、次に、開
口部にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色
して２色目のカラーフィルタパターン１０７を形成し、
次に、２色目のカラーフィルタパターンの混色防止保護
膜１０４´を形成し、次に、２色目のカラーフィルタパ
ターンの混色防止保護膜上に３色目のカラーフィルタパ
ターン１０８を形成し、最後に、３色目のカラーフィル
タ層１０８上に表面保護膜１０５を形成して、カラー固
体撮像素子を得る。この時、上記の工程において、ハレ
ーション防止パターン１１３を形成した後に（図２４
（ａ））、続いて妨染処理を行なう工程を含む場合もあ
る。

【００６３】図２５の工程説明（ハレーション防止パ
ターンを有する）：図２５（ａ）に示すように、固体撮
像素子基板上に、透明材料からなる平坦化層１０３を形
成し、平坦化層上にカラーフィルタの染色母材からなる
パターンを形成、染色してハレーション防止パターン１
１３を形成する。次に図２５（ｂ）に示すように、高分
子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光
硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、
ハレーション防止パターンの混色防止保護膜１０４を形
成し、ハレーション防止パターンとは異なる所望の受光
部に対応した位置に開口部１１０を形成する。

【００６４】次に図２５（ｃ）に示すように、開口部に
カラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して１
色目のカラーフィルタパターン１０６を形成する。次に
図２５（ｄ）に示すように、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、１色目のカラーフィル
タパターンの混色防止保護膜１０４´を形成し、１色目
のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受光部に対
応した位置に開口部を形成し、次に、開口部にカラーフ
ィルタの染色母材パターンを形成、染色して２色目のカ
ラーフィルタパターン１０７を形成し、次に、２色目の
カラーフィルタパターンの混色防止保護膜１０４〃を形
成し、次に、２色目のカラーフィルタパターンの混色防
止保護膜上に３色目のカラーフィルタパターン１０８を
形成し、最後に、３色目のカラーフィルタ層１０８上に
表面保護膜１０５を形成して、カラー固体撮像素子を得
る。この時、上記の工程において、開口部１１０を形成
した後に（図２５（ｂ））、続いて妨染処理を行なう工
程を含む場合もある。

【００６５】図２６の工程説明（マイクロレンズの製
造工程）：図２６（ａ）に示すように、カラーフィルタ
層の表面保護膜１０５上に、マイクロレンズ用の感光性
材料１１１を塗布、加熱する。次に図２６（ｂ）に示す
ように、露光、現像して、マイクロレンズ用の感光性材
料パターン１１２を形成する。最後に図２６（ｃ）に示
すように、加熱、溶融流動させて、凸状のマイクロレン
ズ１０９を形成し、マイクロレンズ付きカラー固体撮像
素子を得る。

【００６６】次に、上述の酸発生剤について詳述する
と、酸発生剤の好適な例は、先に説明したように、一般
式（１）、（２）、（３）、（４）で表されるオニウム
塩、もしくはトリ（メタンスルホニル−オキシ）ベンゼ
ン等が挙げられるが、更に具体的に例示すると、下記の
表１〜表２０に示す化合物が挙げられる。しかし、本発
明はこれらの化合物に限られるものではない。

【００６７】

【表１】

【００６８】

【表２】

【００６９】

【表３】

【００７０】

【表４】

【００７１】

【表５】

【００７２】

【表６】

【００７３】

【表７】

【００７４】

【表８】

【００７５】

【表９】

【００７６】

【表１０】

【００７７】

【表１１】

【００７８】

【表１２】

【００７９】

【表１３】

【００８０】

【表１４】

【００８１】

【表１５】

【００８２】

【表１６】

【００８３】

【表１７】

【００８４】

【表１８】

【００８５】

【表１９】

【００８６】

【表２０】

【００８７】また、高分子材料、有機ケイ素系材料につ
いても更に具体的に詳述すと、下記の表２１〜表２５に
示すものが挙げられるが、これに限られるものではな
い。

【００８８】

【表２１】

【００８９】

【表２２】

【００９０】

【表２３】

【００９１】

【表２４】

【００９２】

【表２５】

【００９３】更にまた、上述の妨染処理について詳述す
ると、妨染処理の具体的な処理方法の例としては、例え
ば次ぎに示すような特許公報が挙げられ、これらにした
がって処理することができる。特開昭５６−１２５７１
１号、特開昭６１−６７８０１号、特開昭５８−２０７
０１０号、特開昭５９−９４７０５号、特開昭６０−６
７９０３号、特開昭６２−１３８８０２号、特開昭５８
−５４３０３号、特開昭６１−３２８４６号、特公昭６
０−３４０８５号、特公昭６１−５１２８６号

【００９４】

【作用】本発明のカラー固体撮像素子では、酸発生剤を
含んだ光硬化性の有機保護膜を用いて平坦性に優れた保
護膜層を形成することにより、カラーフィルタパターン
の膜厚バラツキを低減でき、またマイクロレンズの厚さ
や素子受光部からの高さバラツキを低減できる。さら
に、同一平面上に異なるカラーフィルタを形成すること
により、カラーフィルタ層の膜厚を低減でき、またマイ
クロレンズの素子受光部からの高さを低減できる。これ
により、分光特性を改善し、かつマイクロレンズの集光
効率を向上することで素子感度を向上したカラー固体撮
像素子である。すなわち、フィルタ全体の膜厚が薄くな
るほど受光感度が向上する。それ故、２色のフィルタを
積層してグリーンフィルタを構成する場合には、一層目
のフィルタ上に混色防止保護膜を形成してその上に二色
目のフィルタを積層するよりも、保護膜を除去して一色
目のフィルタを露出させて妨染処理し、その上に二色目
のフィルタを接触積層させた構成とする方が薄膜化に有
利である。

【００９５】また、フィルタ形成に先立ち、走査部上に
ハレーション防止膜を形成することにより、受光部上に
露光工程を用いてフィルタパターンを形成する際に、走
査部からの反射光を防止することができるので高精度の
パターン形成を可能とする。

【００９６】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面にしたがって説
明をする。なお、以下の実施例で用いる酸発生剤及び高
分子材料、有機ケイ素系材料については、いずれも表１
〜表２０及び表２１〜表２５に示したものから選び、そ
れぞれ略号として［酸発生剤Ｎｏ．ｎ]、［ポリマＮ
ｏ．ｎ］（ただし、ｎ＝１、２、３、・・・・）を用い
て記述する。また、各実施例で使用した高分子材料、有
機ケイ素系材料の分子量は、いずれも２０〜３０万のも
のである。

【００９７】〈実施例１〉図１に断面を示すカラー固体
撮像素子の製造例を、図１９の工程図にしたがって説明
する。先ず、図１９（ａ）に示すように、半導体基板１
００内に予め受光部１０１及び走査部１０２が形成さ
れ、しかも、その表面がパッシベーション膜に覆われた
最大２．５μｍの表面段差のある固体撮像素子基板上
に、表２１に記載した高分子材料［ポリマＮｏ．１］の
溶液に熱架橋剤として２，２’，４，４’−テトラヒド
ロキシベンゾフェノンを樹脂重量に対して１．０ｗｔ％
加えた組成物（以下、熱硬化性組成物１と記す）を塗布
し、ホットプレートを用いて２００℃で１０分ベークし
て、フィルタ層下地の素子平坦化膜１０３を２μｍ厚形
成した。

【００９８】次いで、同図（ｂ）に示すように、素子平
坦化膜上にカゼインのネガ型感光性可染性フィルタ母材
を０．５μｍ厚で成膜し、露光、現像して１色目のフィ
ルタを形成する所望の受光部上の位置にフィルタ母材の
パターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して染色を
施し、マゼンタフィルタ（以下、Ｍｇと略す）１０６を
形成した。

【００９９】次に、同図（ｃ）に示すように、［ポリマ
Ｎｏ．１］の溶液に表４に記載した［酸発生剤Ｎｏ．２
３］を樹脂重量に対して２．０ｗｔ％加えた光硬化型組
成物（以下、光硬化性組成物１と記す）を塗布し、ホッ
トプレートを用いて１８０℃で１０分ベークし、Ｄeep
ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定で２００ｍＪの露光量で
所定パターンのマスクを通して露光し、メチルエチルケ
トン／エタノール（容積比５／２）混合液で２色、３色
目のフィルタを形成する領域上の未露光部を選択的に溶
解して開口部１１０を形成した。次いで、再度１００℃
で５分ベークして、０．８μｍ厚のマゼンタフィルタパ
ターン１０６を覆う混色防止保護膜１０４を形成した。

【０１００】次いで、同図（ｄ）に示すようにフィルタ
母材を０．８μｍ厚で成膜し、露光、現像して、先の開
口部１１０にフィルタ母材のパターンを選択的に形成し
た。続いて、染色液に浸漬して染色を施し、２色目（シ
アン）、３色目（グリーンＧの一層目のシアン）のフィ
ルタとなるシアンフィルタ（Ｃｙ）１０７を形成した。

【０１０１】次に、同図（ｅ）に示すように熱硬化性組
成物１を塗布し、ホットプレートを用いて２００℃で１
０分ベークして、混色防止保護膜を兼ねた平坦化膜１０
４´を０．５μｍ厚形成した。

【０１０２】次いで、同図（ｆ）に示すように素子平坦
化膜１０４´上に、フィルタ母材を０．５μｍ厚で成膜
し、露光、現像して３色、４色目のフィルタを形成する
所望の受光部上の位置にフィルタ母材のパターン１０８
を形成した。続いて、染色液に浸漬して染色を施し、３
色目（グリーンＧの二層目のイエロ）、４色目のイエロ
フィルタ（Ｙｅ）１０８を形成した。

【０１０３】次に、同図（ｇ）に示すように光硬化性組
成物１を塗布し、ホットプレートを用いて２００℃で１
０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定で
２００ｍＪの露光量で全面露光し、再度１００℃で５分
ベークしてフィルタ層上に０．８μｍ厚の表面保護膜１
０５を形成して、カラー固体撮像素子を得た。

【０１０４】この時、表面保護膜上の凹凸は最大でも
０．１μｍであり、平坦性に優れたフィルタ層を形成す
ることができた。このように本実施例のカラー固体撮像
素子は、Ｍｇ、Ｙｅ、ＣｙおよびＧ（グリーン）からな
る４色のカラーフィルタを半導体基板１００上に一体的
に形成して構成されている。そしてＧフィルタに限り、
一層目のＣｙと二層目のＹｅとの二重層から構成されて
いる。また、Ｍｇフィルタ１０６とＣｙフィルタ１０７
とＧフィルタの一層目を構成するＣｙ１０７とは、それ
ぞれ同一平面上に形成され、さらにまた、Ｙｅフィルタ
１０８とＧフィルタの二層目を構成するＹｅ１０８とに
ついても共に同一平面上に形成されている。したがっ
て、４色のフィルタを実質的に２層のフィルタで構成し
ているので、フィルタ全体の膜厚を著しく薄型化できる
という効果がある。

【０１０５】〈比較例１〉実施例１の混色防止保護膜１
０４および表面保護膜１０５として用いた光硬化性組成
物１の代わりに、いずれも従来の熱硬化性組成物１を用
い、しかも図１９（ｃ）工程の開口部１１０を設けず
に、１色目のＭｇフィルタ１０６の混色防止保護膜１０
４上に、２色目のフィルタ（Ｃｙ）１０７と３色目のフ
ィルタ（Ｇの一層目となるＣｙ）１０７とを形成し、こ
れらのフィルタ上に混色防止保護膜１０４を形成してか
ら、その上に３色目のフィルタ（Ｇの二層目となるＹ
ｅ）１０８と４色目のフィルタ（Ｙｅ）１０８とを形成
し、最後に表面保護膜１０５を形成して比較例となる従
来のカラー固体撮像素子を製造した。

【０１０６】なお、各フィルタの膜厚、混色防止保護膜
１０４の膜厚および表面保護膜１０５の膜厚は、いずれ
も実施例１のそれらと同様にした。その結果、実施例１
に比べて、フィルタ層全体の膜厚で０．３μｍ厚く、し
かも表面保護膜の凹凸は０．５μｍと凹凸が大きい。こ
のため、例えばテレビジョン学会誌（第３７巻、第７
号、第５５３〜５５８頁、１９８３年）に示されている
ように、フィルタ層表面の凹凸によるレンズ効果により
分光特性が実施例１で得られた素子よりも劣っていた。

【０１０７】〈実施例２〉図２に断面を示すマイクロレ
ンズ付きのカラー固体撮像素子を製造する例について、
図２６の工程図にしたがって説明する。図２６（ａ）に
示すように実施例１で得られた素子のフィルタ表面保護
膜１０５上にＤeep ＵＶ用レジスト１１１を塗布し、ホ
ットプレートを用いて９０℃で１０分ベークし、Ｄeep
ＵＶ光でレンズのパターン形成用マスク（図示せず）を
通して露光し、現像して同図（ｂ）に示すレンズパター
ン１１２を形成した。

【０１０８】次いで、同図（ｃ）に示すように２００℃
で１０分ベークして、レジストパターン１１２を溶融流
動させて凸状のマイクロレンズ１０９を形成した。この
実施例によれば、表面保護膜１０５上の凹凸が小さく、
平坦性に優れているため、マイクロレンズの厚さバラツ
キが小さく、集光効果が高く、しかも高感度のカラー固
体撮像素子を得ることができた。

【０１０９】〈比較例２〉比較例１で得られた素子のフ
ィルタ表面保護膜１０５上に、実施例２と同様の工程に
よりＤeep ＵＶ用レジストを塗布して、凸状のマイクロ
レンズを形成した。その結果、表面保護膜１０５上の凹
凸が大きく、平坦性に劣っているため、マイクロレンズ
の厚さバラツキが大きく、実施例２と比較して感度の低
いカラー固体撮像素子となった。

【０１１０】〈実施例３〉図３に断面を示すカラー固体
撮像素子の製造例を、図２０の工程図にしたがって説明
する。先ず、図２０（ａ）に示すように、実施例１で用
いた固体撮像素子基板と同一の基板１００上に、熱硬化
性組成物１を塗布し、ホットプレートを用いて２００℃
で１０分ベークして、フィルタ層下地の素子平坦化膜１
０３を２μｍ厚形成した。次いで、素子平坦化膜１０３
上にフィルタ母材を０．５μｍ厚で成膜し、露光、現像
して１色目のフィルタを形成する所望の受光部上の位置
にフィルタ母材のパターンを形成した。続いて、染色液
に浸漬して染色を施し、マゼンタフィルタ（Ｍｇ）１０
６を形成した。次いで、光硬化性組成物１を塗布し、ホ
ットプレートを用いて１８０℃で１０分ベークし、Ｄee
p ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定で２００ｍＪの露光量
で所定のマスクを通して露光し、メチルエチルケトン／
エタノール混合液で２色、３色目のフィルタを形成する
領域上の未露光部を選択的に溶解して開口部を形成し
た。次いで、再度１００℃で５分ベークして、０．８μ
ｍ厚の膜を形成し、マゼンタフィルタパターン１０６を
覆う混色防止保護膜１０４を形成した。次いで、フィル
タ母材を０．８μｍ厚で成膜し、露光、現像して、先の
開口部にフィルタ母材のパターンを選択的に形成した。
続いて、染色液に浸漬して染色を施し、シアンフィルタ
（Ｃｙ）１０７を、マゼンタフィルタ（Ｍｇ）１０６と
同一面上に形成した。続いて全面に光硬化性組成物１に
よる混色防止保護膜１０４´を塗布した。

【０１１１】次に、同図（ｂ）に示すように、この塗布
膜１０４´をホットプレートを用いて１８０℃で１０分
ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定で２０
０ｍＪの露光量でマスクを通して露光し、メチルエチル
ケトン／エタノール混合液で４色目のイエロフィルタ
（Ｙｅ）を形成する領域の未露光部を溶解して開口部１
１０を形成した。次いで、この膜を再度１００℃で５分
ベークして、０．２μｍ厚の混色防止保護膜１０４´と
した。

【０１１２】次いで、同図（ｃ）に示すように、フィル
タ母材を０．３μｍ厚で成膜し、露光、現像して、先の
開口部１１０（４色目のフィルタ形成領域）と３色目の
フィルタ（Ｇの二層目となる）との位置にフィルタ母材
のパターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して染色
を施し、イエロフィルタ（Ｙｅ）１０８を形成した。

【０１１３】次に、同図（ｄ）に示すように光硬化性組
成物１を塗布し、ホットプレートを用いて２００℃で１
０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定で
２００ｍＪの露光量で全面露光し、再度１００℃で５分
ベークして、フィルタ層上に０．８μｍ厚の表面保護膜
１０５を形成して、カラー固体撮像素子を得た。このよ
うにしてＭｇ、Ｃｙ、Ｇ、Ｙｅの４色からなるフィルタ
が形成された。フィルタＧは、先の実施例と同様にここ
でも一層目のＣｙと二層目のＹｅとの二重層からなり、
また、Ｍｇ、Ｃｙ、Ｇの一層目のＣｙは、いずれも同一
平面上に形成されている。

【０１１４】〈実施例４〉図５に断面を示すカラー固体
撮像素子の製造例を、図２１の工程図にしたがって説明
する。先ず、図２１（ａ）に示すように、実施例３の図
２０（ａ）と同様にして、マゼンタフィルタ（Ｍｇ）１
０６とシアンフィルタ（Ｃｙ）１０７とを形成し、次い
でその上に光硬化性組成物１からなる塗布膜１０４´
（混色防止保護膜となる）を形成した。

【０１１５】次に、同図（ｂ）に示すように、この塗布
膜１０４´をホットプレートを用いて１８０℃で１０分
ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定で２０
０ｍＪの露光量で所定のマスクを通して露光し、メチル
エチルケトン／エタノール混合液で３色、４色目のフィ
ルタ形成領域となる未露光部を溶解して開口部１１０を
形成した。次いで、この塗布膜を再度１００℃で５分ベ
ークして、０．３μｍ厚とした。すなわち、この塗布膜
１０４´にて２色目のフィルタとなるシアンフィルタパ
ターン１０７を覆う混色防止保護膜を形成すると共に、
４色目のフィルタ形成領域と、３色目のフィルタを構成
するその一層目のシアンフィルタパターン１０７上の位
置にそれぞれ開口部１１０を形成し、再度１００℃で５
分ベークした。次いで、表面が露出したシアンフィルタ
１０７に妨染処理を施した。

【０１１６】次いで、同図（ｃ）に示すように、フィル
タ母材を０．５μｍ厚で成膜し、露光、現像して、先の
開口部１１０にフィルタ母材のパターンを形成した。続
いて、染色液に浸漬して染色を施し、イエロフィルタ
（Ｙｅ）１０８を形成した。

【０１１７】次に、同図（ｄ）に示すように、光硬化性
組成物１を塗布し、ホットプレートを用いて２００℃で
１０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定
で２００ｍＪの露光量で全面露光し、再度１００℃で５
分ベークして、フィルタ層上に０．８μｍ厚の表面保護
膜１０５を形成して、カラー固体撮像素子を得た。

【０１１８】この例では、Ｇフィルタを構成する一層目
のＣｙ１０７と二層目のＹｅ１０８とは直接接触してい
る。そして、Ｍｇフィルタ１０６とＣｙフィルタ１０７
とＧフィルタの一層目のＣｙフィルタとは、それぞれ同
一平面上に、また、Ｙｅフィルタ１０８とＧフィルタの
二層目のＹｅフィルタ１０８も共に同一平面上に形成さ
れている。したがって、本実施例のフィルタは、４色の
フィルタを実質的に２層のフィルタ層で形成しているこ
とのなり、全体の厚みが実施例１、３よりも、更に薄形
化された。

【０１１９】〈実施例５〉図７に断面を示すカラー固体
撮像素子の製造例を、図２２の工程図にしたがって説明
する。先ず、図２２（ａ）に示すように、実施例１で用
いた固体撮像素子基板１００上に、熱硬化性組成物１を
塗布し、ホットプレートを用いて２００℃で１０分ベー
クして、フィルタ層下地の素子平坦化膜１０３を２μｍ
厚形成した。次いで、素子平坦化膜１０３上にフィルタ
母材を０．５μｍ厚で成膜し、露光、現像して所望の１
色、２色目のフィルタ形成位置にフィルタ母材のパター
ンを形成し、続いて染色液に浸漬して染色を施し、１色
目と２色目のシアンフィルタ（Ｃｙ）１０７を形成し
た。なお、２色目のシアンフィルタ１０７はＧフィルタ
の一層目を形成し、後の工程で二層目のＹｅフィルタが
積層されるものである。

【０１２０】次に、同図（ｂ）に示すように、光硬化性
組成物１を塗布し、ホットプレートを用いて１８０℃で
１０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定
で２００ｍＪの露光量で所定のマスクを通して露光し、
メチルエチルケトン／エタノール混合液で２色目（Ｇの
二層目）、３色目のフィルタ形成領域の未露光部を溶解
し、次いで、再度１００℃で５分ベークして、０．８μ
ｍ厚の膜を形成し、１色目のシアンフィルタパターン１
０７を覆う混色防止保護膜１０４を形成すると共に、２
色目（Ｇの二層目）、３色目のフィルタ形成領域に対応
した位置にそれぞれ開口部１１０を形成し、再度１００
℃で５分ベークした。次いで、表面が露出したＧフィル
タの１層目となるシアンフィルタ１０７に妨染処理を施
した。

【０１２１】次いで、同図（ｃ）に示すように、フィル
タ母材を０．５μｍ厚で成膜し、露光、現像して、先の
開口部１１０にフィルタ母材のパターンを形成した。続
いて、染色液に浸漬して染色を施し、イエロフィルタ
（Ｙｅ）１０８を形成した。これにより２色目のシアン
フィルタ１０７とイエロフィルタ（Ｙｅ）１０８の積層
膜から成るＧフィルタと３色目のイエロフィルタ（Ｙ
ｅ）１０８が形成された。

【０１２２】次に、同図（ｄ）に示すように、光硬化性
組成物１を塗布し、ホットプレートを用いて１８０℃で
１０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定
で２００ｍＪの露光量で所定のマスクを通して露光し、
メチルエチルケトン／エタノール混合液で４色目のフィ
ルタを形成する領域の未露光部を溶解し、開口部を形成
する。次いで、再度１００℃で５分ベークして、膜厚を
０．８μｍとし、２色、３色目のイエロフィルタパター
ン１０８を覆う混色防止保護膜１０４´を形成すると共
に、シアン、イエロフィルタパターンと異なる他の受光
部に対応した位置に、４色目のフィルタを形成する領域
となる開口部を形成して、再度１００℃で５分ベークし
た。次いで、フィルタ母材を０．５μｍ厚で成膜し、露
光、現像して、先の開口部に４色目のフィルタ母材のパ
ターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して染色を施
し、マゼンタフィルタ（Ｍｇ）１０６を形成した。

【０１２３】最後に、同図（ｅ）に示すように、光硬化
性組成物１を塗布し、ホットプレートを用いて２００℃
で１０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測
定で２００ｍＪの露光量で全面露光し、再度１００℃で
５分ベークして、フィルタ層上に０．８μｍ厚の表面保
護膜１０５を形成して、カラー固体撮像素子を得た。

【０１２４】これにより、Ｃｙフィルタ、Ｇフィルタの
一層目のＣｙフィルタ、Ｙｅフィルタの３種のフィルタ
パターンが同一平面上に形成され、フィルタ全体の膜厚
を薄形化することができた。

【０１２５】〈実施例６〜９〉これらの実施例は、いず
れも先の実施例１、３〜５で半導体基板１００上に素子
平坦化膜１０３を形成した後に、フィルタ形成工程に先
だって、素子の走査部１０２に対応した位置全面にフィ
ルタ母材のパターンを形成し、続いて、染色液に浸漬し
てイエロに染色を施し、フィルタ母材を露光するときの
露光光のハレーション防止パターン１１３を形成したも
のである。

【０１２６】その代表例として実施例１の素子製造に適
用した例（実施例６とする）を以下に説明する。すなわ
ち、図９は完成したカラー固体撮像素子の断面図を、図
２３はこれを製造する工程図を、それぞれ示したもので
ある。

【０１２７】図２３（ａ）に示すように、半導体基板１
００上に素子平坦化膜１０３を形成した後に、フィルタ
母材を０．２μｍ厚で成膜し、露光、現像して、素子の
走査部１０２に対応した位置全面にフィルタ母材のパタ
ーンを形成した。続いて、染色液に浸漬してイエロに染
色を施し、フィルタ母材を露光するときの露光光のハレ
ーション防止パターン１１３を形成した。

【０１２８】次いで、同図（ｂ）に示すように、光硬化
性組成物１を塗布し、ホットプレートを用いて２００℃
で１０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測
定で２００ｍＪの露光量で全面露光し、再度１００℃で
５分ベークして、ハレーション防止パターン１１３上を
含む全面に０．４μｍ厚の混色防止保護膜１０４´を形
成した。

【０１２９】この後、実施例１の各フィルタ形成工程を
繰り返して最終的に同図（ｃ）に示すようなカラー固体
撮像素子を得た。これにより、フィルタ形成時の露光工
程において、走査部１０２からの露光光の反射（ハレー
ション）が防止できるのでフィルタ母材のパターン形成
の精度が向上し、結果として高精度のフィルタを得るこ
とができた。

【０１３０】なお、上記図２３（ｂ）工程の混色防止保
護膜１０４´を形成した後に、上記実施例６と同様に実
施例３〜５の各フィルタ形成工程を繰り返して、それぞ
れのカラーフィルタを有するカラー固体撮像素子を得
た。

【０１３１】図１１は実施例３に適用した場合の実施例
７となるカラー固体撮像素子の断面図を示したものであ
る。さらに実施例４および実施例５に本実施例を適用し
た実施例８および９についてもフィルタの構成は同様で
あるのでここでは図面を省略した。

【０１３２】〈実施例１０〉この実施例は、図１３の断
面構造を有するカラー固体撮像素子を図２４の工程にし
たがって製造した例を説明するものである。図２４
（ａ）に示すように実施例６の図２３（ａ）と同様にし
て走査部１０２に位置する素子平坦化膜１０３上にハレ
ーション防止パターン１１３を形成した。次いで、この
パターンに対して妨染処理を行なった。

【０１３３】次に、同図（ｂ）に示すように、フィルタ
母材を０．５μｍ厚で成膜し、露光、現像して所望の位
置にフィルタ母材のパターンを形成した。続いて、染色
液に浸漬して染色を施し、マゼンタフィルタ（Ｍｇ）１
０６を形成した。この実施例におけるフィルタ形成工程
は、実施例１の図１９（ｂ）と同一である。

【０１３４】以後、同図（ｃ）に示すように、実施例１
の図１９（ｃ）〜図１９（ｇ）工程と同一工程を踏襲し
て、ハレーション防止パターン１１３を有するカラー固
体撮像素子を形成した。

【０１３５】〈実施例１１〉この実施例は、図１５の断
面構造を有するカラー固体撮像素子の製造例を説明する
ものである。ハレーション防止パターン１１３の形成工
程は図２４（ａ）と同一であり、その後のフィルタの形
成工程は実施例３の各工程と実質的に同一である。

【０１３６】すなわち、実施例１０と同様にして、１色
目のマゼンタフィルタ（Ｍｇ）１０６までを形成し、次
いで、光硬化性組成物１を塗布し、ホットプレートを用
いて１８０℃で１０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて
２５４ｎｍ測定で２００ｍＪの露光量で所定のマスクを
通して露光し、メチルエチルケトン／エタノール混合液
で２色、３色目のフィルタを形成する領域上の未露光部
を溶解して開口部を形成した。次いで、再度１００℃で
５分ベークして、０．８μｍ厚の膜を形成し、マゼンタ
フィルタパターンを覆う混色防止保護膜１０４を形成し
た。

【０１３７】次いで、フィルタ母材を０．８μｍ厚で成
膜し、露光、現像して、先の開口部にフィルタ母材のパ
ターンを選択的に形成した。続いて、染色液に浸漬して
染色を施し、シアンフィルタ（Ｃｙ）１０７を、マゼン
タフィルタ（Ｍｇ）１０６と同一平面上に形成した。

【０１３８】次に、光硬化性組成物１を塗布し、ホット
プレートを用いて１８０℃で１０分ベークし、Ｄeep Ｕ
Ｖ光を用いて２５４ｎｍ測定で２００ｍＪの露光量でマ
スクを通して露光し、メチルエチルケトン／エタノール
混合液で４色目のイエロフィルタ（Ｙｅ）を形成する領
域の未露光部を溶解して開口部１１０を形成した。次い
で、この膜を再度１００℃で５分ベークして、０．２μ
ｍ厚の膜を形成し、シアンフィルタパターン１０７を覆
う混色防止保護膜１０４´とした。

【０１３９】次いで、フィルタ母材を０．３μｍ厚で成
膜し、露光、現像して、先の開口部１１０（４色目のフ
ィルタ形成領域）と３色目のフィルタ（Ｇとなる）の二
層目との位置にフィルタ母材のパターンを形成した。続
いて、染色液に浸漬して染色を施し、イエロフィルタ
（Ｙｅ）１０８を形成した。

【０１４０】最後に、光硬化性組成物１を塗布し、ホッ
トプレートを用いて２００℃で１０分ベークし、Ｄeep
ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定で２００ｍＪの露光量で
全面露光し、再度１００℃で５分ベークして、フィルタ
層上に０．８μｍ厚の表面保護膜１０５を形成して、ハ
レーション防止パターン１１３を有するカラー固体撮像
素子を得た。

【０１４１】〈施例１２〉この実施例は、ハレーション
防止パターン１１３の形成工程は、図２４（ａ）と同一
であり、その後のフィルタの形成工程は実施例４の各工
程と実質的に同一である。すなわち、実施例１０と同様
にして、シアンフィルタ１０７までを形成した。

【０１４２】次に、光硬化性組成物１を塗布し、ホット
プレートを用いて１８０℃で１０分ベークし、Ｄeep Ｕ
Ｖ光を用いて２５４ｎｍ測定で２００ｍＪの露光量でマ
スクを通して露光し、メチルエチルケトン／エタノール
混合液で３色、４色目のフィルタ形成領域となる未露光
部を溶解して開口部１１０を形成した。次いで、この塗
膜を再度１００℃で５分ベークして、０．２μｍ厚の膜
とした。すなわち、この塗膜１０４´にて２色目のフィ
ルタとなるシアンフィルタパターン１０７を覆う混色防
止保護膜を形成すると共に、４色目の形成領域と３色目
のフィルタを形成するその一層目のシアンフィルタパタ
ーン１０７上の位置にそれぞれ開口部１１０を形成し
た。次いで、表面が露出したシアンフィルタパターン１
０７に対して、妨染処理を行なった。

【０１４３】次いで、フィルタ母材を０．５μｍ厚で成
膜し、露光、現像して、先の開口部１１０にフィルタ母
材のパターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して染
色を施し、イエロフィルタ（Ｙｅ）１０８を形成した。
次に、光硬化性組成物１を塗布し、ホットプレートを用
いて２００℃で１０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて
２５４ｎｍ測定で２００ｍＪの露光量で全面露光し、再
度１００℃で５分ベークして、フィルタ層上に０．８μ
ｍ厚の表面保護膜１０５を形成して、ハレーション防止
パターン１１３を有するカラー固体撮像素子を得た。

【０１４４】〈実施例１３〉実施例６と同様にして、ハ
レーション防止パターン１１３を形成した。次いで、こ
のパターンに対して妨染処理を行い、以後のフィルタ形
成工程は、実施例５の図２２と実質的に同様にして行っ
た。したがって、このフィルタ形成工程は、実施例５を
参照することとし、ここでは省略する。かくして、ハレ
ーション防止パターン１１３と、実施例５に示した図７
のフィルタ部分とを有するカラー固体撮像素子を得た。

【０１４５】〈実施例１４〉この実施例は、図１７の断
面構造を有するカラー固体撮像素子を図２５の工程にし
たがって製造した例を説明するものである。

【０１４６】先ず、図２５（ａ）に示すように、実施例
６と同様にして、ハレーション防止パターン１１３を形
成し、妨染処理を行なった。

【０１４７】次に、同図（ｂ）に示すように、光硬化性
組成物１を塗布し、ホットプレートを用いて１８０℃で
１０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定
で２００ｍＪの露光量で所定のマスクを通して露光し、
メチルエチルケトン／エタノール混合液で１色目のマゼ
ンタ（Ｍｇ）フィルタ形成領域となる未露光部を溶解し
て開口部１１０を形成した。次いで、この膜を再度１０
０℃で５分ベークして、０．８μｍ厚の膜を形成し、ハ
レーション防止パターン１１３を覆う混色防止保護膜１
０４とする。このようにしてハレーション防止パターン
内の素子受光部に対応したこの開口部１１０に下地平坦
化層１０３の表面を露出させた。

【０１４８】次いで、同図（ｃ）に示すように、フィル
タ母材を０．５μｍ厚で成膜し、露光、現像して、先の
開口部１１０にフィルタ母材のパターンを形成した。続
いて、染色液に浸漬して染色を施し、マゼンタフィルタ
（Ｍｇ）１０６を形成した。

【０１４９】次いで、この後の製造工程は、実施例１の
図１９（ｃ）〜図１９（ｇ）と同一工程により、最終工
程の図２５（ｄ）に示すように、ハレーション防止パタ
ーン１１３と、実施例１に示した図１のフィルタ部分と
を有するカラー固体撮像素子を得た。

【０１５０】〈実施例１５〉実施例１４と同様にして、
シアンフィルタ（Ｃｙ）１０７までを形成した。この後
のフィルタ形成工程は、実施例３の図２０（ｂ）〜同図
（ｄ）と同様にしてハレーション防止パターン１１３
と、実施例３に示した図３のフィルタ部分とを有するカ
ラー固体撮像素子を得た。

【０１５１】すなわち、シアンフィルタ（Ｃｙ）１０７
を含む全表面に光硬化性組成物１を塗布し、ホットプレ
ートを用いて１８０℃で１０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光
を用いて２５４ｎｍ測定で２００ｍＪの露光量でマスク
を通して露光し、メチルエチルケトン／エタノール混合
液で４色目のイエロフィルタ（Ｙｅ）を形成する領域の
未露光部を溶解して開口部１１０を形成した。次いで、
この膜を再度１００℃で５分ベークして、０．８μｍ厚
の膜を形成し、シアンフィルタ１０７を覆う混色防止保
護膜１０４´を形成すると共に、４色目のイエロフィル
タ（Ｙｅ）を形成する領域の位置に開口部１１０を形成
した。

【０１５２】次いで、素子平坦化膜上にフィルタ母材を
０．５μｍ厚で成膜し、露光、現像して、先の開口部１
１０と３色目のフィルタ（Ｇとなる）の二層目の形成領
域となる位置にそれぞれフィルタ母材のパターンを形成
した。続いて、染色液に浸漬して染色を施し、イエロフ
ィルタ１０８を形成した。

【０１５３】次に、光硬化性組成物１を塗布し、ホット
プレートを用いて２００℃で１０分ベークし、Ｄeep Ｕ
Ｖ光を用いて２５４ｎｍ測定で２００ｍＪの露光量で全
面露光し、再度１００℃で５分ベークして、フィルタ層
上に０．８μｍ厚の表面保護膜１０５を形成して、ハレ
ーション防止パターン１１３と、実施例３に示した図３
のフィルタ部分とを有するカラー固体撮像素子を得た。

【０１５４】〈実施例１６〉実施例１４と同様にして、
シアンフィルタ１０７までを形成した。この後のフィル
タ形成工程は、実施例４の図２１（ｃ）〜同図（ｄ）と
同様にしてハレーション防止パターン１１３と、実施例
４に示した図５のフィルタ部分とを有するカラー固体撮
像素子を得た。したがって、このフィルタ形成工程は、
実施例４を参照することとし、ここでは省略する。かく
して、ハレーション防止パターン１１３と、実施例４に
示した図５のフィルタ部分とを有するカラー固体撮像素
子を得た。

【０１５５】〈実施例１７〉この実施例は実施例６と同
様にして、ハレーション防止パターン１１３を形成し、
このパターンに対して妨染処理を行なった。次に、実施
例１４の図２５（ｂ）工程と同様にして、光硬化性組成
物１を塗布し、ホットプレートを用いて１８０℃で１０
分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定で２
００ｍＪの露光量でマスクを通して露光し、メチルエチ
ルケトン／エタノール混合液で１色目のシアンフィルタ
（Ｃｙ）形成領域と、２色目のＧフィルタの一層目とな
るシアンフィルタ（Ｃｙ）形成領域となる未露光部をそ
れぞれそ溶解して開口部１１０を形成し、下地平坦化層
を露出させた。次いで、この膜を再度１００℃で５分ベ
ークして、０．５μｍ厚の膜とした。

【０１５６】この後のフィルタの形成工程は、実施例５
の図２２の工程に準じて行った。すなわち、図２２
（ａ）工程に準じてフィルタ母材を０．５μｍ厚で成膜
し、露光、現像して先の開口部１１０にフィルタ母材の
パターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して染色を
施し、シアンフィルタ（Ｃｙ）１０７を形成した。これ
によりハレーション防止パターン１１３と同一平面上
に、これらシアンフィルタ（Ｃｙ）１０７が形成され
た。

【０１５７】次に、図２２（ｂ）工程に準じて、光硬化
性組成物１を塗布し、ホットプレートを用いて１８０℃
で１０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測
定で２００ｍＪの露光量で所定のマスクを通して露光
し、メチルエチルケトン／エタノール混合液で３色目の
イエロフィルタ（Ｙｅ）形成領域となる未露光部を溶解
し、開口部１１０を形成した。ただし、この場合には図
２２（ｂ）のように２色目のＧフィルタの一層目となる
シアンフィルタ（Ｃｙ）１０７上の塗膜１０４には開口
部を設けない。次いで、再度この塗膜１０４を１００℃
で５分ベークして、０．５μｍ厚の膜を形成した。これ
により１色目のシアンフィルタ１０７上は混色防止保護
膜１０４で覆い、３色目のイエロフィルタ（Ｙｅ）形成
領域には開口部１１０を形成した。

【０１５８】次いで、図２２（ｃ）工程に準じて、フィ
ルタ母材を０．５μｍ厚で成膜し、露光、現像して、先
の開口部１１０と２色目のＧフィルタの一層目となるシ
アンフィルタ（Ｃｙ）１０７の上部にそれぞれフィルタ
母材のパターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して
染色を施し、イエロフィルタ１０８を形成した。これに
より、３色目のイエロフィルタ１０８と２色目のＧフィ
ルタの二層目となるイエロフィルタ（Ｙｅ）１０８とが
形成された。

【０１５９】次に、図２２（ｄ）工程に準じて、光硬化
性組成物１を塗布し、ホットプレートを用いて１８０℃
で１０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測
定で２００ｍＪの露光量で所定のマスクを通して露光
し、メチルエチルケトン／エタノール混合液で４色目の
マゼンタフィルタ（Ｍｇ）形成領域となる未露光部を溶
解して開口部を形成し、再度この塗膜を１００℃で５分
ベークして、０．８μｍ厚の膜を形成した。これによ
り、イエロフィルタパターン１０８（Ｇフィルタの二層
目のイエロフィルタをも含む）を混色防止保護膜１０４
´で覆った。次いで、フィルタ母材を０．８μｍ厚で成
膜し、露光、現像して、先の開口部にフィルタ母材のパ
ターンを形成し、続いて染色液に浸漬して染色を施し、
マゼンタフィルタ（Ｍｇ）１０６を形成した。

【０１６０】最後に、図２２（ｅ）工程に準じて、光硬
化性組成物１を塗布し、ホットプレートを用いて２００
℃で１０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ
測定で２００ｍＪの露光量で全面露光し、再度１００℃
で５分ベークして、フィルタ層上に０．５μｍ厚の表面
保護膜を形成して、ハレーション防止パターン１１３を
有するカラー固体撮像素子を得た。

【０１６１】〈実施例１８〉実施例６と同様にして、ハ
レーション防止パターン１１３を形成し、このパターン
に対して妨染処理を行なった。次に、実施例１４の図２
５（ｂ）工程と同様にして、光硬化性組成物１を塗布
し、ホットプレートを用いて１８０℃で１０分ベーク
し、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定で２００ｍＪ
の露光量でマスクを通して露光し、メチルエチルケトン
／エタノール混合液で１色目のマゼンタフィルタ（Ｍ
ｇ）形成領域となる未露光部を溶解して開口部１１０を
形成し、下地平坦化層を露出させた。次いで、この膜を
再度１００℃で５分ベークして、０．５μｍ厚の膜とし
た。次に、フィルタ母材を０．５μｍ厚で成膜し、露
光、現像して先の開口部１１０にフィルタ母材のパター
ンを形成し、これを染色液に浸漬して染色を施し、マゼ
ンタフィルタ（Ｍｇ）１０６を形成した。これにより、
マゼンタフィルタ（Ｍｇ）１０６は、ハレーション防止
パターン１１３と同一平面上に形成された。

【０１６２】次に、熱硬化性組成物１を塗布し、ホット
プレートを用いて２００℃で１０分ベークして、マゼン
タフィルタ１０６を覆う混色防止保護膜１０４´を０．
３μｍ厚形成した。次に、フィルタ母材を０．５μｍ厚
で成膜し、露光、現像して、２色目（シアン）と３色目
（Ｇの一層目のシアン）のフィルタ形成領域にそれぞれ
フィルタ母材のパターンを形成した。続いて、染色液に
浸漬して染色を施し、シアンフィルタ１０７を形成し
た。

【０１６３】次に、熱硬化性組成物１を塗布し、ホット
プレートを用いて２００℃で１０分ベークして、シアン
フィルタ１０７の混色防止保護膜１０４´を０．８μｍ
厚形成し、フィルタ母材を０．５μｍ厚で成膜し、露
光、現像して、３色目（イエロ）と４色目（Ｇの二層目
のイエロ）のフィルタ形成領域に、それぞれフィルタ母
材のパターンを形成した。続いて、染色液に浸漬して染
色を施し、イエロフィルタ１０８を形成した。これによ
り、３色目のＧフィルタは、一層目のシアンと二層目の
イエロの２重層で形成された。

【０１６４】最後に、光硬化性組成物１を塗布し、ホッ
トプレートを用いて２００℃で１０分ベークし、Ｄeep
ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定で２００ｍＪの露光量で
全面露光し、再度１００℃で５分ベークして、フィルタ
層上に０．８μｍ厚の表面保護膜１０５を形成して、ハ
レーション防止パターン１１３を有するカラー固体撮像
素子を得た。

【０１６５】〈実施例１９〉実施例１８と同様にして、
１色目のマゼンタフィルタ１０６までを形成した。以後
の、フィルタ形成工程は、実施例３の図２０の工程に準
じて行った。すなわち、図２０（ａ）に準じ、光硬化性
組成物１を塗布し、ホットプレートを用いて１８０℃で
１０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定
で２００ｍＪの露光量でマスクを通して露光し、メチル
エチルケトン／エタノール混合液で２色目（シアン）、
３色目（Ｇの一層目のシアン）のフィルタ形成領域とな
る未露光部を溶解して開口部を形成した。次いで、この
膜を再度１００℃で５分ベークして、０．５μｍ厚の膜
１０４を形成し、このようにしてマゼンタフィルタ１０
６を覆う混色防止保護膜を形成すると共に、マゼンタフ
ィルタ１０６とは異なる上記２色目、３色目のフィルタ
形成領域の位置に開口部を形成した。次いで、フィルタ
母材を０．５μｍ厚で成膜し、露光、現像して、先の開
口部にフィルタ母材のパターンを形成した。続いて、染
色液に浸漬して染色を施し、シアンフィルタ１０７を形
成した。このシアンフィルタ１０７の一方は、２色目の
フィルタとなり、他方はＧの一層目のフィルタとなる。
そして、これらシアンフィルタ１０７は、マゼンタフィ
ルタ１０６およびハレーションパターン１１３と共に同
一平面上に形成されている。

【０１６６】次に、図２０（ｂ）に準じ、光硬化性組成
物１を塗布し、ホットプレートを用いて１８０℃で１０
分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定で２
００ｍＪの露光量でマスクを通して露光し、メチルエチ
ルケトン／エタノール混合液で４色目のイエロフィルタ
形成領域となる未露光部を溶解して開口部１００を形成
した。次いで、再度この膜を１００℃で５分ベークし
て、０．５μｍ厚の膜を形成した。これによりシアンフ
ィルタを覆う混色防止保護膜１０４´を形成すると共
に、マゼンタ、シアンフィルタとは異なる上記４色目の
イエロフィルタ形成領域となる位置に開口部１１０を形
成した。

【０１６７】次に、図２０（ｃ）に準じ、フィルタ母材
を０．５μｍ厚で成膜し、露光、現像して、先の開口部
１１０およびＧの一層目のシアンフィルタ１０７上の位
置にそれぞれフィルタ母材のパターンを形成した。続い
て、染色液に浸漬して染色を施し、イエロフィルタ１０
８を形成した。これにより、３色目のＧフィルタは、一
層目のシアンと二層目のイエロの２重層で形成された。

【０１６８】最後に、図２０（ｄ）に準じ、光硬化性組
成物１を塗布し、ホットプレートを用いて２００℃で１
０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定
で２００ｍＪの露光量で全面露光し、再度１００℃で５
分ベークして、フィルタ層上に０．８μｍ厚の表面保護
膜１０５を形成して、ハレーション防止パターン１１３
を有するカラー固体撮像素子を得た。

【０１６９】〈実施例２０〉実施例１９と同様にして、
シアンフィルタ１０７までを形成した。この後のフィル
タの形成は、先の実施例４の図２１（ａ）〜（ｄ）工程
に準じて形成した。すなわち、図２１（ａ）に準じて光
硬化性組成物１を塗布し、塗膜１０４´を形成した。次
いで、図２１（ｂ）に準じてホットプレートを用いて１
８０℃で１０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４
ｎｍ測定で２００ｍＪの露光量でマスクを通して露光
し、メチルエチルケトン／エタノール混合液で未露光部
を溶解して開口部１１０を形成した。次いで、この膜を
再度１００℃で５分ベークして、０．５μｍ厚の膜を形
成した。これにより、２色目のシアンフィルタ１０７を
覆う混色防止保護膜１０４´を形成すると共に、マゼン
タ、シアンフィルタとは異なる４色目のイエロフィルタ
形成領域の位置と３色目のＧの一層目となるシアンフィ
ルタの位置とにそれぞれに開口部１１０を形成した。次
いで表面が露出したシアンフィルタ１０７（Ｇの一層
目）に対して、妨染処理を行なった。

【０１７０】次に、図２１（ｃ）に準じて、フィルタ母
材を０．５μｍ厚で成膜し、露光、現像して、先の開口
部１１０にそれぞれフィルタ母材のパターンを形成し
た。続いて、染色液に浸漬して染色を施し、イエロフィ
ルタ１０８を形成した。これらイエロフィルタ１０８の
一方は下地のシアンフィルタ１０７と積層してＧフィル
タを形成する。

【０１７１】最後に、図２１（ｄ）に準じて、光硬化性
組成物１を塗布し、ホットプレートを用いて２００℃で
１０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測
定で２００ｍＪの露光量で全面露光し、再度１００℃で
５分ベークして、フィルタ層上に０．８μｍ厚の表面保
護膜１０５を形成して、ハレーション防止パターン１１
３を有するカラー固体撮像素子を得た。

【０１７２】〈実施例２１〉実施例６と同様にして、ハ
レーション防止パターン１１３を形成した。次いで、こ
のパターンに対して妨染処理を行なった。次に、光硬化
性組成物１を塗布し、ホットプレートを用いて１８０℃
で１０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測
定で２００ｍＪの露光量でマスクを通して露光し、メチ
ルエチルケトン／エタノール混合液で１色目（シアン）
と２色目（Ｇの一層目のシアン）のフィルタ形成領域と
なる未露光部をそれぞれ溶解して開口部１１０を形成し
た。次いで、この膜を再度１００℃で５分ベークして、
０．５μｍ厚とした。これにより、ハレーション防止パ
ターン１１３を覆う混色防止保護膜１０４とすると共
に、ハレーション防止パターン内の上記フィルタ形成領
域に開口部１１０を形成し、下地平坦化層１０３を露出
させた。

【０１７３】この後のフィルタ形成は、実施例５の図２
２の工程図に準じて行い、図７の構造のフィルタを形成
した。すなわち、図２２（ａ）に準じてフィルタ母材を
０．５μｍ厚で成膜し、露光、現像して先の開口部１１
０にフィルタ母材のパターンを形成した。続いて、染色
液に浸漬して染色を施し、シアンフィルタ１０７を形成
した。

【０１７４】次に、図２２（ｂ）に準じて光硬化性組成
物１を塗布し、ホットプレートを用いて１８０℃で１０
分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定で２
００ｍＪの露光量で所定のマスクを通して露光し、メチ
ルエチルケトン／エタノール混合液で、３色目のイエロ
フィルタ形成領域と、２色目Ｇの二層目のイエロフィル
タ形成領域とに位置する未露光部をそれぞれ溶解して開
口部１１０を形成した。次いで、この膜を再度１００℃
で５分ベークして、０．５μｍ厚の膜とした。これによ
り、１色目のシアンフィルタ１０７は混色防止保護膜１
０４で覆われ、２色目のＧの一層目となるシアンフィル
タ１０７上および３色目のイエロフィルタ形成領域上に
はそれぞれ開口部１１０が形成された。次いで、表面が
露出したＧの一層目となるシアンフィルタ１０７に対し
て、妨染処理を行なった。

【０１７５】次に、図２２（ｃ）に準じてフィルタ母材
を０．５μｍ厚で成膜し、露光、現像して先の開口部に
フィルタ母材のパターンを形成した。続いて、染色液に
浸漬して染色を施し、イエロフィルタ１０８を形成し
た。これにより、２色目のＧフィルタと３色目のイエロ
フィルタ１０８が形成された。

【０１７６】次に、図２２（ｄ）に準じて光硬化性組成
物１を塗布し、ホットプレートを用いて１８０℃で１０
分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定で２
００ｍＪの露光量で所定のマスクを通して露光し、メチ
ルエチルケトン／エタノール混合液で、４色目のマゼン
タ（Ｍｇ）フィルタ形成領域となる未露光部を溶解して
開口部を形成した。次いで、この塗膜を再度１００℃で
５分ベークして、０．５μｍ厚の膜とした。これによ
り、イエロフィルタ１０８を覆う混色防止保護膜１０４
´を形成すると共に、シアン、イエロフィルタとは異な
る４色目のマゼンタ（Ｍｇ）フィルタ形成領域に開口部
を形成した。次いで、フィルタ母材を０．５μｍ厚で成
膜し、露光、現像して先の開口部にフィルタ母材のパタ
ーンを形成した。次いでこれを染色液に浸漬して染色を
施し、マゼンタフィルタ１０６を形成した。

【０１７７】最後に、図２２（ｅ）に準じて光硬化性組
成物１を塗布し、ホットプレートを用いて２００℃で１
０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定で
２００ｍＪの露光量で全面露光し、再度１００℃で５分
ベークして、フィルタ層上に０．５μｍ厚の表面保護膜
１０５を形成して、ハレーション防止パターン１１３を
有するカラー固体撮像素子を得た。

【０１７８】〈実施例２２〜４１〉上記実施例１、３〜
２１で詳述した工程で、熱硬化性組成物１の代わりに、
光硬化性組成物１を塗布し、ホットプレートを用いて２
００℃で１０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４
ｎｍ測定で５００ｍＪの露光量で全面露光し、再度１０
０℃で５分ベークして、素子平坦化層１０３を形成し、
その他は実施例１、３〜２１と同様にして、カラー固体
撮像素子を得た。なお、実施例２２〜４１の対応につい
て述べると、実施例２２は実施例１に、実施例２３は実
施例３に対応し、以下、順次それぞれ元の実施例番号に
対応させている。以後の実施例においてもこれと同様の
番号表示とする。

【０１７９】〈実施例４２〜４５〉上記実施例１、１
０、１４、１８で詳述した工程で、熱硬化性組成物１の
代わりに、光硬化性組成物１を塗布し、ホットプレート
を用いて２００℃で１０分ベークし、Ｄeep ＵＶ光を用
いて２５４ｎｍ測定で２００ｍＪの露光量で全面露光
し、再度１００℃で５分ベークして、混色防止保護膜１
０４´を形成し、その他は実施例１、１０、１４、１８
と同様にして、カラー固体撮像素子を得た。

【０１８０】〈実施例４６〜８８〉上記実施例３〜４５
で得られたカラー固体撮像素子のフィルタ層表面保護膜
１０５上に、実施例２と同様にして集光用のマイクロレ
ンズ１０９を形成し、マイクロレンズ付きカラー固体撮
像素子を得た。

【０１８１】ここに幾つかの代表的なマイクロレンズ付
きカラー固体撮像素子の断面図を示すと以下の通りであ
る。図示しないその他の実施例についても同様のマイク
ロレンズを形成しており、これらについては記載を省略
した。すなわち、図４は、実施例３により得られた図３
のカラー固体撮像素子上にマイクロレンズ１０９を形成
した実施例４６に該当するものである。図６は、実施例
４により得られた図５のカラー固体撮像素子上にマイク
ロレンズ１０９を形成した実施例４７に該当するもので
ある。図８は、実施例５により得られた図７のカラー固
体撮像素子上にマイクロレンズ１０９を形成した実施例
４８に該当するものである。図１０は、実施例６により
得られた図９のカラー固体撮像素子上にマイクロレンズ
１０９を形成した実施例４９に該当するものである。図
１２は、実施例７により得られた図１１のカラー固体撮
像素子上にマイクロレンズ１０９を形成した実施例５０
に該当するものである。図１４は、実施例１０により得
られた図１３のカラー固体撮像素子上にマイクロレンズ
１０９を形成した実施例５３に該当するものである。図
１６は、実施例１１により得られた図１５のカラー固体
撮像素子上にマイクロレンズ１０９を形成した実施例５
４に該当するものである。図１８は、実施例１４により
得られた図１７のカラー固体撮像素子上にマイクロレン
ズ１０９を形成した実施例５７に該当するものである。

【０１８２】〈実施例８９〜１３２〉上記実施例１、３
〜４５で得られたカラー固体撮像素子のフィルタ層表面
保護膜１０５上に、図２６の工程（ａ）〜（ｃ）にした
がい、光硬化性組成物１を塗布して膜１１１を形成し、
これをホットプレートを用いて９０℃で１０分ベーク
し、Ｄeep ＵＶ光を用いて２５４ｎｍ測定で２００ｍＪ
の露光量でマスクを通して露光し、メチルエチルケトン
／エタノール混合液で、各フィルタ上部に対応する未露
光部を溶解してレンズパターン１１２を形成した。次い
で、２００℃で１０分ベークして、凸状の集光用マイク
ロレンズ１０９を形成し、マイクロレンズ付きカラー固
体撮像素子を得た。

【０１８３】〈実施例１３３〜３１４〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、下記の表２６〜表３０に示す光硬化性組成物２〜９
２（何れの組成物においても酸発生剤量は、樹脂固形分
量に対して３．０ｗｔ％加えた）を用いて、実施例１、
２と同様にしてカラー固体撮像素子を得た。

【０１８４】

【表２６】

【０１８５】

【表２７】

【０１８６】

【表２８】

【０１８７】

【表２９】

【０１８８】

【表３０】

【０１８９】〈実施例３１５、３１６〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１７］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．３４］を３．０ｗｔ％、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミドを１５．０ｗｔ％加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例１、２と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。

【０１９０】〈実施例３１７、３１８〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１８］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．３４］を３．０ｗｔ％、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミドを１５．０ｗｔ％加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例１、２と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。

【０１９１】〈実施例３１９、３２０〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１９］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．３４］を３．０ｗｔ％、アミド誘導体
であるＮ−メチロールアクリルアミドを１５．０ｗｔ％
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例１、２と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。

【０１９２】〈実施例３２１、３２２〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１９］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．３４］を３．０ｗｔ％、シラノール化
合物であるジフェニルシランジオールを１５．０ｗｔ％
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例１、２と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。

【０１９３】〈実施例３２３、３２４〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１７］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．４９］を３．０ｗｔ％、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミドを１５．０ｗｔ％加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例１、２と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。

【０１９４】〈実施例３２５、３２６〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１８］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．４９］を３．０ｗｔ％、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミドを１５．０ｗｔ％加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例１、２と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。

【０１９５】〈実施例３２７、３２８〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１９］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．４９］を３．０ｗｔ％、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミドを１５．０ｗｔ％加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例１、２と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。

【０１９６】〈実施例３２９、３３０〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１９］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．４９］を３．０ｗｔ％、シラノール化
合物であるジフェニルシランジオールを１５．０ｗｔ％
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例１、２と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。

【０１９７】〈実施例３３１、３３２〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１７］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．５４］を３．０ｗｔ％、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミドを１５．０ｗｔ％加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例１、２と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。

【０１９８】〈実施例３３３、３３４〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１８］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．５４］を３．０ｗｔ％、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミドを１５．０ｗｔ％加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例１、２と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。

【０１９９】〈実施例３３５、３３６〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１９］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．５４］を３．０ｗｔ％、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミドを１５．０ｗｔ％加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例１、２と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。

【０２００】〈実施例３３７、３３８〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１９］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．５４］を３．０ｗｔ％、シラノール化
合物であるジフェニルシランジオールを１５．０ｗｔ％
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例１、２と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。

【０２０１】〈実施例３３９、３４０〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１７］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．６９］を３．０ｗｔ％、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミドを１５．０ｗｔ％加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例１、２と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。

【０２０２】〈実施例３４１、３４２〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１８］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．６９］を３．０ｗｔ％、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミドを１５．０ｗｔ％加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例１、２と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。

【０２０３】〈実施例３４３、３４４〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１９］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．６９］を３．０ｗｔ％、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミドを１５．０ｗｔ％加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例１、２と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。

【０２０４】〈実施例３４５、３４６〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１９］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．６９］を３．０ｗｔ％、シラノール化
合物であるジフェニルシランジオールを１５．０ｗｔ％
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例１、２と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。

【０２０５】〈実施例３４７、３４８〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１７］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．８４］を３．０ｗｔ％、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミドを１５．０ｗｔ％加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例１、２と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。

【０２０６】〈実施例３４９、３５０〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１８］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．８４］を３．０ｗｔ％、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミドを１５．０ｗｔ％加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例１、２と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。

【０２０７】〈実施例３５１、３５２〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１９］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．８４］を３．０ｗｔ％、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミドを１５．０ｗｔ％加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例１、２と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。

【０２０８】〈実施例３５３、３５４〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１９］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．８４］を３．０ｗｔ％、シラノール化
合物であるジフェニルシランジオールを１５．０ｗｔ％
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例１、２と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。

【０２０９】〈実施例３５５、３５６〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１７］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．８９］を３．０ｗｔ％、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミドを１５．０ｗｔ％加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例１、２と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。

【０２１０】〈実施例３５７、３５８〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１８］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．８９］を３．０ｗｔ％、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミドを１５．０ｗｔ％加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例１、２と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。

【０２１１】〈実施例３５９、３６０〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１９］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．８９］を３．０ｗｔ％、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミドを１５．０ｗｔ％加えた光硬化性組成
物を用いて、実施例１、２と同様にしてカラー固体撮像
素子を得た。

【０２１２】〈実施例３６１、３６２〉上記実施例１、
２で詳述した工程において、光硬化性組成物１の代わり
に、［ポリマＮｏ．１９］の樹脂１００重量部に対して
［酸発生剤Ｎｏ．８９］を３．０ｗｔ％、シラノール化
合物であるジフェニルシランジオールを１５．０ｗｔ％
加えた光硬化性組成物を用いて、実施例１、２と同様に
してカラー固体撮像素子を得た。

【０２１３】〈実施例３６３〜３７０〉上記実施例１、
３〜５で詳述した工程で、熱硬化性組成物１の代わり
に、下記式（６）で表される分子末端がエンドキャップ
されたポリイミド前駆体を塗布し、ホットプレートを用
いて２００℃で１０分、続いて３００℃で１０分ベーク
して、素子平坦化層１０３を形成し、その他は実施例
１、３〜５と同様にして、カラー固体撮像素子を得た。
また、得られたカラー固体撮像素子について、実施例２
と同様にして、マイクロレンズ１０９を形成したカラー
固体撮像素子を得た。

【０２１４】

【化１４】

【０２１５】〈実施例３７１〜３７８〉上記実施例１、
３〜５で詳述した工程で、熱硬化性組成物１の代わり
に、下記式（７）で表される分子末端がエンドキャップ
されたポリイミド前駆体を塗布し、ホットプレートを用
いて２００℃で１０分、続いて３００℃で１０分ベーク
して、素子平坦化層１０３を形成し、その他は実施例
１、３〜５と同様にして、カラー固体撮像素子を得た。
また、得られたカラー固体撮像素子について、実施例２
と同様にして、マイクロレンズ１０９を形成したカラー
固体撮像素子を得た。

【０２１６】

【化１５】

【０２１７】〈実施例３７９〜３８６〉上記実施例１、
３〜５で詳述した工程で、熱硬化性組成物１の代わり
に、下記式（８）で表される分子末端がエンドキャップ
されたポリイミド前駆体を塗布し、ホットプレートを用
いて２００℃で１０分、続いて３００℃で１０分ベーク
して、素子平坦化層１０３を形成し、その他は実施例
１、３〜５と同様にして、カラー固体撮像素子を得た。
また、得られたカラー固体撮像素子について、実施例２
と同様にして、マイクロレンズ１０９を形成したカラー
固体撮像素子を得た。

【０２１８】

【化１６】

【０２１９】〈実施例３８７〜３９４〉上記実施例１、
３〜５で詳述した工程で、熱硬化性組成物１の代わり
に、下記式（９）で表される分子末端がエンドキャップ
されたポリイミド前駆体を塗布し、ホットプレートを用
いて２００℃で１０分、続いて３００℃で１０分ベーク
して、素子平坦化層１０３を形成し、その他は実施例
１、３〜５と同様にして、カラー固体撮像素子を得た。
また、得られたカラー固体撮像素子について、実施例２
と同様にして、マイクロレンズ１０９を形成したカラー
固体撮像素子を得た。

【０２２０】

【化１７】

【０２２１】

【発明の効果】光硬化性保護膜を用いることにより、平
坦性の高い素子平坦化膜、平坦性の高いフィルタ層間の
混色防止保護膜、及び平坦性の高いフィルタ層の表面保
護膜を形成してカラーフィルタ層全体を平坦化し、かつ
同一平面上に異なるカラーフィルタパターン、あるいは
ハレーション防止パターンとカラーフィルタパターンと
を形成してカラーフィルタ層全体の膜厚を低減すること
で、カラーフィルタパターンの膜厚バラツキ、フィルタ
層上に形成されるマイクロレンズの厚さバラツキや素子
受光部からの高さバラツキを低減することで、分光特性
に優れたカラー固体撮像素子が、またマイクロレンズを
素子受光部に近付けることで素子感度に優れたカラー固
体撮像素子が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】カラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断面
図。

【図２】マイクロレンズ付きカラー固体撮像素子の一実
施例を示す要部断面図。

【図３】カラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断面
図。

【図４】マイクロレンズ付きカラー固体撮像素子の一実
施例を示す要部断面図。

【図５】カラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断面
図。

【図６】マイクロレンズ付きカラー固体撮像素子の一実
施例を示す要部断面図。

【図７】カラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断面
図。

【図８】マイクロレンズ付きカラー固体撮像素子の一実
施例を示す要部断面図。

【図９】ハレーション防止パターンを設けたカラー固体
撮像素子の一実施例を示す要部断面図。

【図１０】ハレーション防止パターンを設けたマイクロ
レンズ付きカラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断
面図。

【図１１】ハレーション防止パターンを設けたカラー固
体撮像素子の一実施例を示す要部断面図。

【図１２】ハレーション防止パターンを設けたマイクロ
レンズ付きカラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断
面図。

【図１３】ハレーション防止パターンを設けたカラー固
体撮像素子の一実施例を示す要部断面図。

【図１４】ハレーション防止パターンを設けたマイクロ
レンズ付きカラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断
面図。

【図１５】ハレーション防止パターンを設けたカラー固
体撮像素子の一実施例を示す要部断面図。

【図１６】ハレーション防止パターンを設けたマイクロ
レンズ付きカラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断
面図。

【図１７】ハレーション防止パターンを設けたカラー固
体撮像素子の一実施例を示す要部断面図。

【図１８】ハレーション防止パターンを設けたマイクロ
レンズ付きカラー固体撮像素子の一実施例を示す要部断
面図。

【図１９】カラー固体撮像素子の一製造方法の実施例を
示す製造工程図。

【図２０】カラー固体撮像素子の一製造方法の実施例を
示す製造工程図。

【図２１】カラー固体撮像素子の一製造方法の実施例を
示す製造工程図。

【図２２】カラー固体撮像素子の一製造方法の実施例を
示す製造工程図。

【図２３】ハレーション防止パターンの形成工程を有す
る一製造方法の実施例を示す製造工程図。

【図２４】ハレーション防止パターンの形成工程を有す
る一製造方法の実施例を示す製造工程図。

【図２５】ハレーション防止パターンの形成工程を有す
る一製造方法の実施例を示す製造工程図。

【図２６】マイクロレンズの製造工程図。

【符号の説明】

１００…固体撮像素子基板、１０１…受光部、
１０２…走査部、１０３…素子平坦化層、１０
４、１０４’、１０４”…混色防止保護層、１０５…表
面保護層、１０６、１０７、１０８…カラーフィルタ、
１０９…マイクロレンズ、１１０…開口部、
１１１…マイクロレンズレジスト膜、１１２…マイクロ
レンズレジストパターン、１１３…ハレーション防止
膜。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ０３Ｆ 7/038 7124−2Ｈ // Ｇ０３Ｆ 7/075 ５１１ 7124−2ＨＨ０４Ｎ 9/07 Ｄ 8943−5Ｃ (72)発明者泉章也千葉県茂原市早野3300番地株式会社日立製作所茂原工場内 (72)発明者濱本辰雄千葉県茂原市早野3300番地株式会社日立製作所茂原工場内 (72)発明者久慈卓見千葉県茂原市早野3300番地株式会社日立製作所茂原工場内 (72)発明者中野寿夫千葉県茂原市早野3681番地日立デバイスエンジニアリング株式会社内 (72)発明者磯田高志千葉県茂原市早野3681番地日立デバイスエンジニアリング株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光電変換を行なう受光部と、前記受光部で
発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及び
走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された半
導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料から
なる平坦化層を設け、前記平坦化層上の前記素子受光部
に対応した位置に、透明材料からなる有機膜で保護され
たカラーフィルタパターンを配してなるカラー固体撮像
素子において、少なくとも２色のカラーフィルタパター
ンが同一平面上に存在し、かつ前記透明材料から成る有
機膜が高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤
とを含む光硬化性組成物から形成されて有機保護膜を構
成して成るカラー固体撮像素子。
【請求項２】光電変換を行なう受光部と、前記受光部で
発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及び
走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された半
導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料から
なる平坦化層を設け、前記平坦化層上の走査部に対応し
た位置にはハレーション防止パターンを配し、前記平坦
化層上の受光部に対応した位置には透明材料からなる有
機膜で保護されたカラーフィルタパターンを配してなる
カラー固体撮像素子において、少なくとも２色のカラー
フィルタパターン同志、もしくはハレーション防止パタ
ーンと少なくとも１色のカラーフィルタパターンとが同
一平面上に存在し、かつ前記透明材料から成る有機膜が
高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含
む光硬化性組成物から形成されて有機保護膜を構成して
成るカラー固体撮像素子。
【請求項３】上記カラーフィルタの一つを、同一受光部
上に積層した２色のカラーフィルタパターンで構成して
成る請求項１もしくは２記載のカラー固体撮像素子。
【請求項４】上記各受光部に対応した位置のカラーフィ
ルタ層上に、一体的に集光用マイクロレンズが形成され
て成る請求項１乃至３何れか記載のカラー固体撮像素
子。
【請求項５】上記透明材料からなる平坦化層が、高分子
材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬
化性組成物から形成されて成る請求項１もしくは２記載
のカラー固体撮像素子。
【請求項６】上記マイクロレンズが、高分子材料もしく
は有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物
から形成されて成る請求項４記載のカラー固体撮像素
子。
【請求項７】上記酸発生剤が下記の式（１）、（２）、
（３）もしくは（４）で表わされるオニウム塩、もしく
はトリ（メタンスルホニル−オキシ）ベンゼンから成る
請求項１、２、５もしくは６記載のカラー固体撮像素
子。【化１】【化２】【化３】【化４】ただし、上記一般式において、Ｘ~はＢｒ~、ＢＦ₄~、Ｓ
ｂＦ₆~、ＡｓＦ₆~、ＰＦ₆~、もしくはＣＦ₃ＳＯ₃~の陰
イオンを表わし、Ａｒ¹〜Ａｒ⁶、Ｒ、Ｒ´は有機基を表
し、ｎ整数を表す。
【請求項８】上記光硬化性組成物の高分子材料を、フェ
ノール樹脂、ノボラック樹脂、クレゾール樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリアルコール樹脂、もしくはオレフィン系、
ラクトン系、ラクタム系構造を有する樹脂で構成して成
る請求項１、２、５もしくは６記載のカラー固体撮像素
子。
【請求項９】上記透明材料からなる平坦化層を、分子末
端がエンドキャプされたポリイミド前駆体を硬化して形
成された透明ポリイミドで構成して成る請求項１もしく
は２記載のカラー固体撮像素子。
【請求項１０】上記高分子材料もしくは有機ケイ素系材
料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を、高分子材料も
しくは有機ケイ素系材料の固形分１００重量部に対し
て、酸発生剤を０．０１〜３０重量部含む組成物で構成
して成る請求項１、２、５もしくは６記載のカラー固体
撮像素子。
【請求項１１】上記光硬化性組成物に、アミド誘導体、
もしくはシラノール化合物を、上記高分子材料もしくは
有機ケイ素系材料の固形分１００重量部に対して０．１
〜５０重量部含有せしめて成る請求項１０記載のカラー
固体撮像素子。
【請求項１２】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の受
光部に対応する位置にカラーフィルタの染色母材からな
るパターンを形成する工程と、前記染色母材パターンを
染色して１色目のカラーフィルタパターンを形成する工
程と、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤
とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、
現像して、１色目のカラーフィルタパターンの混色防止
保護膜を形成し、かつ前記１色目のカラーフィルタパタ
ーンとは異なる所望の受光部に対応した位置に開口部を
形成し、前記平坦化層を露出させる工程と、前記開口部
にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して
２色目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、前
記２色目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜を
形成する工程と、前記２色目のカラーフィルタパターン
の混色防止保護膜上に３色目のカラーフィルタパターン
を形成する工程と、少なくとも前記３色目のカラーフィ
ルタ層上に有機保護膜を形成する工程とを有して成るカ
ラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項１３】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の受
光部に対応する位置にカラーフィルタの染色母材からな
るパターンを形成する工程と、前記染色母材パターンを
染色して１色目のカラーフィルタパターンを形成する工
程と、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤
とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、
現像して、１色目のカラーフィルタパターンの混色防止
保護膜を形成し、かつ前記１色目のカラーフィルタパタ
ーンとは異なる所望の受光部に対応した位置に開口部を
形成し、前記平坦化層を露出させる工程と、前記開口部
にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して
２色目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、高
分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む
光硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像し
て、２色目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜
を形成し、かつ前記１、２色目のカラーフィルタパター
ンとは異なる所望の受光部に対応した位置に開口部を形
成し、前記１色目のカラーフィルタパターンの混色防止
保護膜を露出させる工程と、前記開口部にカラーフィル
タの染色母材パターンを形成、染色して３色目のカラー
フィルタパターンを形成する工程と、少なくとも前記３
色目のカラーフィルタ層上に有機保護膜を形成する工程
とからなることを特徴とするカラー固体撮像素子の製造
方法。
【請求項１４】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の受
光部に対応する位置にカラーフィルタの染色母材からな
るパターンを形成する工程と、前記染色母材パターンを
染色して１色目のカラーフィルタパターンを形成する工
程と、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤
とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、
現像して、１色目のカラーフィルタパターンの混色防止
保護膜を形成し、かつ前記１色目のカラーフィルタパタ
ーンとは異なる所望の２種の受光部に対応した位置にそ
れぞれ開口部を形成し、前記平坦化層を露出させる工程
と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材パターンを
形成、染色して２色目のカラーフィルタパターンをそれ
ぞれ形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケイ素系
材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱
し、次いで露光、現像して、２色目の一方のカラーフィ
ルタパターンに混色防止保護膜を形成し、かつ前記１色
目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受光部に
対応した位置と２色目の他方のカラーフィルタパターン
に対応した位置にそれぞれ開口部を形成する工程と、前
記工程により露出した２色目の他方のカラーフィルタ表
面を妨染処理する工程と、前記それぞれの開口部にカラ
ーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して３色目
のカラーフィルタパターンを形成する工程と、少なくと
も前記３色目のカラーフィルタ層上に有機保護膜を形成
する工程とを有して成るカラー固体撮像素子の製造方
法。
【請求項１５】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の２
種の受光部に対応する位置にそれぞれカラーフィルタの
染色母材からなるパターンを形成する工程と、前記染色
母材パターンを染色して１色目のカラーフィルタパター
ンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケイ素系
材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱
し、次いで露光、現像して、１色目の一方のカラーフィ
ルタパターンに混色防止保護膜を形成し、１色目の他の
カラーフィルタパターンに対応した位置に開口部を形成
する工程と、前記工程により露出した１色目の他のカラ
ーフィルタ表面を妨染処理する工程と、前記開口部にカ
ラーフィルタの染色母材パターンを形成、染色して２色
目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、高分子
材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬
化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、２
色目のカラーフィルタパターンに混色防止保護膜を形成
し、かつ前記１、２色目のカラーフィルタパターンとは
異なる所望の受光部に対応した位置に開口部を形成する
工程と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材パター
ンを形成、染色して３色目のカラーフィルタパターンを
形成する工程と、少なくとも前記３色目のカラーフィル
タ層上に有機保護膜を形成する工程とを有して成るカラ
ー固体撮像素子の製造方法。
【請求項１６】上記透明材料からなる平坦化層を形成す
る工程の後に、前記平坦化層上の固体撮像素子の走査部
に対応した位置に、カラーフィルタの染色母材パターン
を形成、染色してハレーション防止パターンを形成し、
前記ハレーション防止パターン上に混色防止保護膜を形
成する工程を付加して成る請求項１２乃至１５何れか記
載のカラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項１７】上記透明材料からなる平坦化層を形成す
る工程の後に、前記平坦化層上の固体撮像素子の走査部
に対応した位置に、カラーフィルタの染色母材パターン
を形成、染色してハレーション防止パターンを形成する
工程と、前記ハレーション防止パターン表面を妨染処理
する工程とを付加して成る請求項１２乃至１５何れか記
載のカラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項１８】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の固
体撮像素子の走査部に対応した位置に、カラーフィルタ
の染色母材パターンを形成、染色してハレーション防止
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、前記ハレーション防止
パターン内の前記固体撮像素子の受光部に対応した位置
に開口部を形成し、前記平坦化層を露出する工程と、前
記開口部にカラーフィルタの染色母材からなるパターン
を形成し、染色母材パターンを染色して１色目のカラー
フィルタパターンを形成する工程と、高分子材料もしく
は有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物
を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、１色目のカラ
ーフィルタパターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前
記１色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受
光部に対応した位置に開口部を形成し、前記平坦化層を
露出させる工程と、前記開口部にカラーフィルタの染色
母材パターンを形成、染色して２色目のカラーフィルタ
パターンを形成する工程と、前記２色目のカラーフィル
タパターンの混色防止保護膜を形成する工程と、前記２
色目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜上に３
色目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、少な
くとも前記３色目のカラーフィルタ層上に有機保護膜を
形成する工程とを有して成るカラー固体撮像素子の製造
方法。
【請求項１９】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の固
体撮像素子の走査部に対応した位置に、カラーフィルタ
の染色母材パターンを形成、染色してハレーション防止
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、前記ハレーション防止
パターン内の前記固体撮像素子の受光部に対応した位置
に開口部を形成し、前記平坦化層を露出する工程と、前
記開口部にカラーフィルタの染色母材からなるパターン
を形成し、染色母材パターンを染色して１色目のカラー
フィルタパターンを形成する工程と、高分子材料もしく
は有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物
を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、１色目のカラ
ーフィルタパターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前
記１色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受
光部に対応した位置に開口部を形成し、前記平坦化層を
露出させる工程と、前記開口部にカラーフィルタの染色
母材パターンを形成、染色して２色目のカラーフィルタ
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、２色目のカラーフィル
タパターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前記１、２
色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の受光部
に対応した位置に開口部を形成し、前記１色目のカラー
フィルタパターンの混色防止保護膜を露出させる工程
と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材パターンを
形成、染色して３色目のカラーフィルタパターンを形成
する工程と、少なくとも前記３色目のカラーフィルタ層
上に有機保護膜を形成する工程とからなることを特徴と
するカラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項２０】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の固
体撮像素子の走査部に対応した位置に、カラーフィルタ
の染色母材パターンを形成、染色してハレーション防止
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、前記ハレーション防止
パターン内の前記固体撮像素子の受光部に対応した位置
に開口部を形成し、前記平坦化層を露出する工程と、前
記開口部にカラーフィルタの染色母材からなるパターン
を形成し、染色母材パターンを染色して１色目のカラー
フィルタパターンを形成する工程と、高分子材料もしく
は有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物
を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、１色目のカラ
ーフィルタパターンの混色防止保護膜を形成し、かつ前
記１色目のカラーフィルタパターンとは異なる所望の２
種の受光部に対応した位置にそれぞれ開口部を形成し、
前記平坦化層を露出させる工程と、前記開口部にカラー
フィルタの染色母材パターンを形成、染色して２色目の
カラーフィルタパターンをそれぞれ形成する工程と、高
分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む
光硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像し
て、２色目の一方のカラーフィルタパターンに混色防止
保護膜を形成し、かつ前記１色目のカラーフィルタパタ
ーンとは異なる所望の受光部に対応した位置と２色目の
他方のカラーフィルタパターンに対応した位置にそれぞ
れ開口部を形成する工程と、前記工程により露出した２
色目の他方のカラーフィルタ表面を妨染処理する工程
と、前記それぞれの開口部にカラーフィルタの染色母材
パターンを形成、染色して３色目のカラーフィルタパタ
ーンを形成する工程と、少なくとも前記３色目のカラー
フィルタ層上に有機保護膜を形成する工程とを有して成
るカラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項２１】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の固
体撮像素子の走査部に対応した位置に、カラーフィルタ
の染色母材パターンを形成、染色してハレーション防止
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、前記ハレーション防止
パターン内の前記固体撮像素子の受光部に対応した位置
に開口部を形成し、前記平坦化層を露出する工程と、前
記開口部にカラーフィルタの染色母材からなるパターン
を形成し、染色母材パターンを染色して１色目のカラー
フィルタパターンを形成する工程と、高分子材料もしく
は有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物
を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、１色目の一方
のカラーフィルタパターンに混色防止保護膜を形成し、
１色目の他のカラーフィルタパターンに対応した位置に
開口部を形成する工程と、前記工程により露出した１色
目の他のカラーフィルタ表面を妨染処理する工程と、前
記開口部にカラーフィルタの染色母材パターンを形成、
染色して２色目のカラーフィルタパターンを形成する工
程と、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤
とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露光、
現像して、２色目のカラーフィルタパターンに混色防止
保護膜を形成し、かつ前記１、２色目のカラーフィルタ
パターンとは異なる所望の受光部に対応した位置に開口
部を形成する工程と、前記開口部にカラーフィルタの染
色母材パターンを形成、染色して３色目のカラーフィル
タパターンを形成する工程と、少なくとも前記３色目の
カラーフィルタ層上に有機保護膜を形成する工程とを有
して成るカラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項２２】上記カラー固体撮像素子の製造方法にお
いて、ハレーション防止パターンを形成後にハレーショ
ン防止パターン表面を妨染処理する工程を付加して成る
請求項１８乃至２１何れか記載のカラー固体撮像素子の
製造方法。
【請求項２３】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の固
体撮像素子の走査部に対応した位置に、カラーフィルタ
の染色母材パターンを形成、染色してハレーション防止
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、前記ハレーション防止
パターン内の前記固体撮像素子の所定の受光部に対応し
た位置に開口部を形成し、前記平坦化層を露出する工程
と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材からなるパ
ターンを形成し、染色母材パターンを染色して１色目の
カラーフィルタパターンを形成する工程と、前記１色目
のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜を形成する
工程と、前記混色防止保護膜上にカラーフィルタの染色
母材パターンを形成、染色して２色目のカラーフィルタ
パターンを形成する工程と、前記２色目のカラーフィル
タパターンの混色防止保護膜を形成する工程と、前記２
色目のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜上に３
色目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、少な
くとも前記３色目のカラーフィルタ層上に有機保護膜を
形成する工程とを有して成るカラー固体撮像素子の製造
方法。
【請求項２４】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の固
体撮像素子の走査部に対応した位置に、カラーフィルタ
の染色母材パターンを形成、染色してハレーション防止
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、前記ハレーション防止
パターン内の前記固体撮像素子の所定の受光部に対応し
た位置に開口部を形成し、前記平坦化層を露出する工程
と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材からなるパ
ターンを形成し、染色母材パターンを染色して１色目の
カラーフィルタパターンを形成する工程と、高分子材料
もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性
組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、１色目
のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜を形成し、
かつ前記１色目のカラーフィルタパターンとは異なる所
望の受光部に対応した位置に開口部を形成する工程と、
前記開口部にカラーフィルタの染色母材パターンを形
成、染色して２色目のカラーフィルタパターンを形成す
る工程と、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発
生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露
光、現像して、２色目のカラーフィルタパターンの混色
防止保護膜を形成し、かつ前記１、２色目のカラーフィ
ルタパターンとは異なる所望の受光部に対応した位置に
開口部を形成する工程と、前記開口部にカラーフィルタ
の染色母材パターンを形成、染色して３色目のカラーフ
ィルタパターンを形成する工程と、少なくとも前記３色
目のカラーフィルタ層上に有機保護膜を形成する工程と
を有して成るカラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項２５】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の固
体撮像素子の走査部に対応した位置に、カラーフィルタ
の染色母材パターンを形成、染色してハレーション防止
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、前記ハレーション防止
パターン内の前記固体撮像素子の所定の受光部に対応し
た位置に開口部を形成し、前記平坦化層を露出する工程
と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材からなるパ
ターンを形成し、染色母材パターンを染色して１色目の
カラーフィルタパターンを形成する工程と、高分子材料
もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性
組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、１色目
のカラーフィルタパターンの混色防止保護膜を形成し、
かつ前記１色目のカラーフィルタパターンとは異なる所
望の受光部に対応した位置に開口部を形成する工程と、
前記開口部にカラーフィルタの染色母材パターンを形
成、染色して２色目のカラーフィルタパターンを形成す
る工程と、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸発
生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、次いで露
光、現像して、２色目のカラーフィルタパターンの一部
分に混色防止保護膜を形成し、かつ前記１色目のカラー
フィルタパターンとは異なる所望の受光部に対応した位
置と２色目のカラーフィルタパターンの一部分に対応し
た位置に開口部を形成する工程と、前記工程により露出
した２色目のカラーフィルタ表面を妨染処理する工程
と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材パターンを
形成、染色して３色目のカラーフィルタパターンを形成
する工程と、少なくとも膳３色目のカラーフィルタ層上
に有機保護膜を形成する工程とを有して成るカラー固体
撮像素子の製造方法。
【請求項２６】光電変換を行なう受光部と、前記受光部
で発生した電気信号を取り出す走査部と、前記受光部及
び走査部を保護するパッシベーション膜とが形成された
半導体基板からなる固体撮像素子基板上に、透明材料か
らなる平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上の固
体撮像素子の走査部に対応した位置に、カラーフィルタ
の染色母材パターンを形成、染色してハレーション防止
パターンを形成する工程と、高分子材料もしくは有機ケ
イ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、
加熱し、次いで露光、現像して、前記ハレーション防止
パターン内の前記固体撮像素子の所定の受光部に対応し
た位置に開口部を形成し、前記平坦化層を露出する工程
と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材からなるパ
ターンを形成し、染色母材パターンを染色して１色目の
カラーフィルタパターンを形成する工程と、高分子材料
もしくは有機ケイ素系材料と酸発生剤とを含む光硬化性
組成物を塗布、加熱し、次いで露光、現像して、１色目
のカラーフィルタパターンの一部分に混色防止保護膜を
形成し、１色目のカラーフィルタパターンの一部分に対
応した位置に開口部を形成する工程と、前記工程により
露出した１色目のカラーフィルタ表面を妨染処理する工
程と、前記開口部にカラーフィルタの染色母材パターン
を形成、染色して２色目のカラーフィルタパターンを形
成する工程と、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と
酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、次い
で露光、現像して、２色目のカラーフィルタパターンに
混色防止保護膜を形成し、かつ前記１、２色目のカラー
フィルタパターンとは異なる所望の受光部に対応した位
置に開口部を形成する工程と、前記開口部にカラーフィ
ルタの染色母材パターンを形成、染色して３色目のカラ
ーフィルタパターンを形成する工程と、少なくとも前記
３色目のカラーフィルタ層上に有機保護膜を形成する工
程とを有して成るカラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項２７】上記請求項１２乃至１５、１７乃至２
１、２３乃至２６何れか記載のカラー固体撮像素子の製
造方法において、最終工程の少なくとも３色目のカラー
フィルタ層上に有機保護膜を形成する工程に引き続き、
この有機保護膜上に前記固体撮像素子の受光部に対応し
た位置にマイクロレンズを形成する工程を付加して成る
カラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項２８】上記請求項１２乃至１５、１７乃至２
１、２３乃至２６何れか記載のカラー固体撮像素子の製
造方法において、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料
と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱し、次
いで露光、現像した後に、この膜を再度加熱する工程を
付加して成るカラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項２９】上記請求項１２乃至１５、１７乃至２
１、２３乃至２６何れか記載のカラー固体撮像素子の製
造方法において、ハレーション防止パターン形成後に、
前記ハレーション防止パターンを妨染処理する工程を付
加して成るカラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項３０】上記請求項１２乃至１５、１７乃至２
１、２３乃至２６何れか記載のカラー固体撮像素子の製
造方法において、上記透明材料からなる平坦化層を形成
する工程を、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料と酸
発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱、露光する
工程とするか、更には露光後にこの膜を再度加熱す工程
として成るカラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項３１】上記請求項２７記載のマイクロレンズを
形成する工程を、高分子材料もしくは有機ケイ素系材料
と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を塗布、加熱、露
光、現像・パターン化、加熱して形成する工程として成
るカラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項３２】上記請求項１２乃至１５、１７乃至２
１、２３乃至２６何れか記載のカラー固体撮像素子の製
造方法において、上記透明材料からなる平坦化層を形成
する工程を、分子末端がエンドキャップされたポリイミ
ド前駆体を加熱硬化してなる透明ポリイミドから形成す
る工程として成るカラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項３３】上記高分子材料もしくは有機ケイ素系材
料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を用いる工程にお
いて、前記酸発生剤を下記の式（１）、（２）、（３）
もしくは（４）で表わされるオニウム塩、もしくはトリ
（メタンスルホニル−オキシ）ベンゼンで構成して成る
請求項１２乃至１５、１７乃至２１、２３乃至２６、３
０乃至３１何れか記載のカラー固体撮像素子の製造方
法。【化５】【化６】【化７】【化８】ただし、上記一般式において、Ｘ~はＢｒ~、ＢＦ₄~、Ｓ
ｂＦ₆~、ＡｓＦ₆~、ＰＦ₆~、もしくはＣＦ₃ＳＯ₃~の陰
イオンを表わし、Ａｒ¹〜Ａｒ⁶、Ｒ、Ｒ´は有機基を表
し、ｎ整数を表す。
【請求項３４】上記高分子材料もしくは有機ケイ素系材
料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を用いる工程にお
いて、前記高分子材料をフェノール樹脂、ノボラック樹
脂、クレゾール樹脂、エポキシ樹脂、ポリアルコール樹
脂、もしくはオレフィン系、ラクトン系、ラクタム系構
造を有する樹脂で構成して成る請求項１２乃至１５、１
７乃至２１、２３乃至２６、３０乃至３１何れか記載の
カラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項３５】上記高分子材料もしくは有機ケイ素系材
料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を用いる工程にお
いて、前記高分子材料もしくは有機ケイ素系材料の固形
分１００重量部に対して、酸発生剤を０．０１〜３０重
量部として成る請求項１２乃至１５、１７乃至２１、２
３乃至２６、３０乃至３１何れか記載のカラー固体撮像
素子の製造方法。
【請求項３６】上記高分子材料もしくは有機ケイ素系材
料と酸発生剤とを含む光硬化性組成物を用いる工程にお
いて、前記高分子材料もしくは有機ケイ素系材料の固形
分１００重量部に対して、アミド誘導体、もしくはシラ
ノール系化合物を０．０１〜５０重量部含有せしめて成
る請求項１２乃至１５、１７乃至２１、２３乃至２６、
３０乃至３１何れか記載のカラー固体撮像素子の製造方
法。