JPH0536027A - 薄膜ヘツド - Google Patents

薄膜ヘツド

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JPH0536027A
JPH0536027A JP19184091A JP19184091A JPH0536027A JP H0536027 A JPH0536027 A JP H0536027A JP 19184091 A JP19184091 A JP 19184091A JP 19184091 A JP19184091 A JP 19184091A JP H0536027 A JPH0536027 A JP H0536027A
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JP
Japan
Prior art keywords
core
layer
thin film
magnetic
film head
Prior art date
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Pending
Application number
JP19184091A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Watanabe
隆 渡辺
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Publication of JPH0536027A publication Critical patent/JPH0536027A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 薄膜コアの形状効果により発生するアンダー
シュートの信号再生出力への影響を低減化し、高線記録
密度の磁気記録媒体に用いて好適な薄膜ヘッドを得る。 【構成】 磁気記録媒体との対接ないしは対向する面3
0Sに臨む薄膜コア20に、磁気ギャップgのトラック
幅方向の両側端を肉薄とする段部21を形成して構成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【産業上の利用分野】本発明は例えばハードディスクド
ライブ装置のスライダー等に搭載して記録再生を行う薄
膜ヘッドに係わる。
【0001】
【従来の技術】従来の薄膜ヘッドの一例の磁気ギャップ
側からみた略線的拡大正面図を図5に示す。図5におい
て1は非磁性材料より成る基体で、これの上に磁性層よ
り成る下層コア12、前方において磁気ギャップgを構
成する非磁性層4、更に磁性層より成る上層コア13が
所要のパターンに被着されて成り、これらを覆って全面
的に非磁性層より成る保護層10が被着されて構成され
る。この場合各薄膜コア12及び13のトラック幅方向
の幅はほぼ等しく形成される。
【0002】このような薄膜コアの一例の製造方法を図
6A〜Dの製造工程図を参照して説明する。この場合、
先ず図6Aに示すように、非磁性材料より成る基体1上
に磁性層より成る第1の下層コア2が被着形成され、こ
れの上の、後述する磁気ギャップgから離間した部分に
磁性層より成る第2の下層コア3が被着形成される。
【0003】次に図6Bに示すように、第2の下層コア
3上を覆って磁気ギャップgを構成する非磁性層4を被
着して、更に非磁性層より成る絶縁層5を全面的に被着
して平坦化し、この上に導電層を被着した後パターニン
グを行って巻線コイル6を形成する。
【0004】そして図6Cに示すように、更に絶縁層7
がコイル6間を埋込むように被着された後、これら絶縁
層7及び5に対してテーパ状のエッチングを行って、磁
気ギャップg構成部の非磁性層4を露出させ、一方下層
コア3の後述する上層コアとの連結部となる後方部を露
出させる。
【0005】次に図6Dに示すように、上述の露出部を
埋込むように磁性層より成る第1の上層コア8を被着し
て、その先端部において、第1の上層コア8と第1の下
層コア2とに非磁性層4が挟まれて磁気ギャップgが構
成される。そして、更にこの上に磁気ギャップgを構成
する部分を除いて第2の上層コア9を被着形成し、これ
らを覆うように非磁性の保護層10を被着した後、その
前方を研磨して磁気ギャップgを臨ましめる記録媒体と
の対向面30Sを形成し、薄膜ヘッドを得る。
【0006】このように、従来の薄膜ヘッドでは磁気ギ
ャップgを構成する部分の各コア2及び8の膜厚を、後
方部に比して小としてその磁束密度を大とし、後方部に
おいてはその膜厚を大として磁気抵抗を低減化する構造
が採られており、各上層コア及び下層コアはそれぞれ2
層構造として形成されている。
【0007】このような薄膜ヘッドによる再生出力の孤
立波形を図7に示す。図7においてmは信号出力を示す
メインピークで、この両側に、メインピークmに比して
そのピーク値の小さいアンダーシュート部u1 及びu2
が発生する。このようなアンダーシュート部は、薄膜ヘ
ッドの形状により発生するいわゆる形状効果によるもの
で、各薄膜コアの幅いわゆるポール長が有限であること
によって生じるものである。
【0008】一方、近年磁気記録媒体の高記録密度化を
はかるために、記録トラックの線密度の向上がはかられ
ている。このため、例えば隣接するトラックにそれぞれ
正負の信号が近接して記録されている場合、アンダーシ
ュート部が隣接する他部のメインピークに対して干渉を
引き起こし、信号出力のピークシフトが生じるという問
題があった。このようなピークシフトを回避するために
は、メインピークの再生出力値とアンダーシュート部の
再生出力値との差を大とする必要がある。
【0009】このため上述した形状効果を抑制する方法
として、薄膜コアのギャップ長方向の厚さを記録波長に
比して小とすることが考えられるが、現状ではこのよう
に厚さを小としつつ充分な磁束量を得る磁性材料が得ら
れていない。また、磁気ギャップgから磁気コア端部ま
での距離の分布を一定とせず、ばらつきを大としてこの
厚さがトラック幅方向の端部から中心部に向かって徐々
に肉薄となる構成を採る場合、例えば図示しないが理想
的には上下の薄膜コアの断面形状をそれぞれ向かい合う
半円形状とし、各弦部を突き合わせて磁気ギャップgを
構成する構造を採る場合は、上述したような形状効果を
抑制することができるが、このような構造を得るために
は技術的及び経済的困難を伴う。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述したよ
うな薄膜コアの形状効果により発生するアンダーシュー
トの信号再生出力への影響を低減化し、高線密度の磁気
記録媒体に用いて好適な薄膜ヘッドを得ることを目的と
する。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明による薄膜ヘッド
の一例の磁気ギャップg側からみた略線的拡大正面図を
図1に示す。本発明は図1に示すように、磁気記録媒体
との対接ないしは対向する面30Sに臨む薄膜コア20
に、磁気ギャップgのトラック幅方向の両側端を肉薄と
する段部21を形成して構成する。
【0012】
【作用】上述したように本発明薄膜ヘッドにおいては、
その薄膜コア20に、トラック幅方向の両側端を肉薄と
する段部21を形成するものであるが、このような構成
による場合、その再生出力波形のアンダーシュート部の
信号再生出力への影響を低減化することができた。
【0013】一例として図1に示すように、薄膜コア2
0の下層コアと上層コアがそれぞれ2層構造として形成
され、それぞれ上下の第1及び第2の上層コア及び下層
コア2及び3、8及び9間に段部21が形成される場合
について説明する。このとき再生出力の孤立波形は、図
2に示すように、基体1と第1の下層コア2との界面に
よるアンダーシュート部ua1、絶縁層11と第2の下層
コア3との界面によるアンダーシュート部ua2、第1の
上層コア8と保護層10との界面によるアンダーシュー
ト部ub1、第2の上層コア9と保護層10との界面によ
るアンダーシュート部ub2とが発生する。このアンダー
シュート部ua1、ua2、ub1、ub2は、例えば図5にお
いて説明したように段部が設けられない従来構造のヘッ
ドにおける再生波形のアンダーシュート部に比して、そ
れぞれピーク値が小となっており、メインピークmのピ
ーク値Em に対する各アンダーシュート部ua1、ua2
b1、ub2のピーク値Ea1、Ea2、Eb1、Eb2の比をそ
れぞれ小とすることができた。
【0014】このように薄膜コアのギャップ長方向の厚
さを分散させることによって、アンダーシュート部を分
散させ、結果的に各アンダーシュート部のピーク値を低
減化することができるものである。
【0015】このため、高線記録密度化がなされた磁気
記録媒体においても、隣接する他のトラックの再生出力
波形のメインピークに対して、このアンダーシュート部
が干渉することによる信号出力への影響を低減化するこ
とができる。
【0016】
【実施例】以下図1、図2及び図3A〜Dの製造工程
図、更にその一製造工程の要部の略線的拡大正面図を示
す図4を参照して本発明薄膜ヘッドの一例を詳細に説明
する。
【0017】この場合、薄膜コア20の上下に段部21
をそれぞれ両側に1段ずつ形成し、上下各コアをそれぞ
れ2層構造とする例で、基体1上に磁性層より成る第1
の下層コア2及び第2の下層コア3が被着形成され、こ
の上に非磁性層4を介して第1の上層コア8及び第2の
上層コア9が被着形成されて成り、これらを覆って全面
的に保護層10が被着されて本発明薄膜ヘッド30が構
成される。30Sは磁気記録媒体との対接ないしは対向
面である。
【0018】そして特に本発明においては、少なくとも
この対向面30Sにおいて第1の下層コア2及び第2の
上層コア9のトラック幅方向の幅をL1 とし、これら各
コア2及び9のトラック幅方向に関してその両側に、幅
2 及びL3 をもって、第2の下層コア3と第1の上層
コア8とが突出する構成として被着形成する。即ち各層
のトラック幅方向の幅を、外側の第1の下層コア2と第
2の上層コア9においては比較的幅狭のL1 とし、内側
の第2の下層コア3と第1の上層コア8においては比較
的幅広の(L1 +L2 +L3 )として構成する。
【0019】このような薄膜ヘッドの製造方法の一例を
図3A〜Dを参照して説明する。先ず図3Aに示すよう
に、非磁性材料より成る基体1上に磁性層より成る第1
の下層コア2がフレームメッキ等により被着形成され、
この第1の下層コア2の周囲を取り囲むように非磁性層
より成る平坦化膜11を例えば全面的に被着した後所要
部分をエッチング除去して被着形成してこの下層コア2
の上面を平坦化する。そしてこの平坦面上に磁性層より
成る第2の下層コア3を被着形成する。
【0020】この工程における、A−A線上の略線的拡
大断面図を図4に示す。この場合、図4に示すように、
第1の下層コア2のトラック幅方向の幅L1に比して、
第2の下層コア3の幅を大とし、その両端が、第1の下
層コア2の両端部からそれぞれ幅L2,3 をもって突出
する構造とする。
【0021】次に図3Bに示すように、第2の下層コア
3上を覆って磁気ギャップgを構成する非磁性層4を被
着し、更に非磁性層より成る絶縁層5を全面的に被着し
て平坦化し、この上に導電層を被着した後パターニング
を行って巻線コイル6を形成する。
【0022】そして図3Cに示すように、更に絶縁層7
をコイル6間を埋込むように被着した後、これら絶縁層
7及び5に対してテーパ状のエッチングを行って、磁気
ギャップg構成部の非磁性層4を露出させ、一方下層コ
ア3の後述する上層コアとの連結部となる後方部を露出
させる。
【0023】次に図3Dに示すように、上述の露出部を
埋込むように磁性層より成る第1の上層コア8を被着し
て、その先端部において、第1の上層コア8と第1の下
層コア2とに非磁性層4を挟んで磁気ギャップgを構成
する。そして、更にこの上に第2の上層コア9を被着形
成し、これらを覆うように非磁性の保護層10を被着し
て、更に磁気ギャップgの前方を研磨して磁気記録媒体
との対接ないしは対向面30Sを構成し、薄膜ヘッドを
得る。
【0024】このときのB−B線上の断面図は、図1の
正面図と同様に、第1の上層コア8に比して、第2の上
層コア9がそのトラック幅方向の幅を小として形成され
る構成を採る。このようにして、第1及び第2の下層コ
ア2及び3のトラック幅方向の両側において段部21を
形成し、同様に第1及び第2の上層コア8及び9のトラ
ック幅方向の両側において段部21を形成する。即ちこ
の場合、薄膜コア20は、そのトラック幅方向に関して
両側に肉薄となるように構成される。
【0025】上述したように各上層コア及び下層コアを
2段構成として段部21を設ける場合の再生出力の孤立
波形を図2に示す。この場合、メインピークmを挟んで
その両側にそれぞれ2つずつのアンダーシュート部
a1,ua2及びub1,ub2が表われる。即ち、段部21
を設けることによって、アンダーシュート部を分散させ
ている。
【0026】アンダーシュート部のピーク値を低減化さ
せるためには、これらを均等に分散させることが望まし
い。本実施例においては、上述の各コアの幅を下記数1
に示すように選定して構成した。
【0027】
【数1】0.7<(L2 +L3 )/L1 <1.3
【0028】このような構成とすることによって、各ア
ンダーシュート部ua1、ua2、ub1、ub2のピーク値E
a1、Ea2、Eb1、Eb2をそれぞれ低減化することができ
た。即ち、本実施例においては全アンダーシュート部に
関して、そのアンダーシュート部のピーク値に対する信
号出力のピーク値の比が、従来の薄膜ヘッドの場合に比
して大となった。前述の従来例及び上述の実施例におい
ては磁気ギャップgを挟んで対称の構成として、各コア
2及び3、8及び9の厚さを等しくし、かつ各層のギャ
ップ構成部におけるトラック幅方向の幅いわゆるポール
長を等しく設けた場合で、このとき各対称位置のアンダ
ーシュート部のピーク値がほぼ等しくなる。図7におい
て説明した従来の薄膜ヘッドによるアンダーシュート部
a 、u b のピーク値をEa 、Eb とすると、Ea =E
b とすることができ、また本実施例のアンダーシュート
部のピーク値はそれぞれEa1=Eb2,Ea2=Eb1とな
る。ここで従来例のメインピークのピーク値をEm1、本
実施例におけるメインピークのピーク値をEm2とする
と、この場合、下記数2及び数3が成立した。
【0029】
【数2】Em1/Ea <Em2/Ea1
【0030】
【数3】Em1/Ea <Em2/Ea2
【0031】そして上述の例においては、その信号出力
のピーク値と、アンダーシュート部のピーク値との出力
差を24dB〜26dB程度とすることができた。この
程度の出力差を得ることによって、再生出力波形の干渉
にもとづくピークシフトを実質的に問題とならない程度
に低減できた。またこの場合、各アンダーシュート部の
半値幅が大となって、他のメインピークに対する影響を
より小とすることができた。
【0032】従って、本発明薄膜ヘッドを用いて高線密
度の記録媒体を再生する場合、そのアンダーシュート部
による信号出力の干渉を抑制して、再生波形のピークシ
フトを低減化でき、安定して再生を行うことができる。
【0033】尚、上述の例においては各コアの幅を上述
の数1に示す範囲に選定したが、この数1で示す範囲を
各コアの幅を越えて構成する場合は、上述したような2
4dB〜26dB程度の再生出力の出力差を得ることが
難しい。従って、本発明においては上述の数1で示す範
囲をもって各コアの幅を選定することが望ましい。
【0034】また、上述の本実施例においては、従来の
磁気ギャップgを構成する部分の各コア2及び8の膜厚
を、後方部に比して小としてその磁束密度を大とし、後
方部においてはその膜厚を大として磁気抵抗を低減化す
る2層構造を採る薄膜ヘッドに対して、その工程数を殆
ど増加することなく作製することができた。
【0035】また、上述の実施例においては、上下層の
薄膜コアをそれぞれ2層構造とした場合であるが、その
他例えば3層構造として、段部をそのトラック幅方向に
関して両側に2段ずつ設ける場合等、種々の構成を採る
ことができる。
【0036】しかしながら、上述の3層構造の薄膜コア
を作製する場合はその製造工程が煩雑となる恐れがある
が、これに対し上述した各上下層コアをそれぞれ2層構
造として形成する場合は、前述したように従来の薄膜ヘ
ッドに比して殆ど工程数を増加することなく、容易に作
製することができるという利点を有する。
【0037】また上述の実施例においては、各薄膜コア
の厚さ及びポール長を等しく設定して、磁気ギャップg
を挟んで対称な構成としたが、これら膜厚及びポール長
を変えて非対称構成としてもよい。
【0038】
【発明の効果】上述したように、本発明薄膜ヘッドによ
れば、磁気記録媒体との対接ないしは対向する面30S
に臨む薄膜コア20の厚さが、磁気ギャップgのトラッ
ク幅方向に関しての両側において肉薄となるように段部
21を形成して構成したことにより、この薄膜コア20
の非磁性層との界面と磁気ギャップgとの距離にばらつ
きをもたせることができて、アンダーシュート部のピー
ク値を低減化し、更に半値幅を大として、メインピーク
へのアンダーシュート部への影響を抑制することができ
る。
【0039】従って、高線記録密度の記録媒体に対して
再生を行っても、隣接するトラック間の信号再生出力の
アンダーシュート部による干渉を抑制して再生波形のピ
ークシフトを低減化し、再生出力特性の向上をはかるこ
とができる。
【0040】更に、この薄膜コア20の上下層コアをそ
れぞれ2層構造として段部21を構成する場合には、従
来の薄膜ヘッドに比してその製造工程数を殆ど増加させ
ることなく形成することができ、容易に作製することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明薄膜ヘッドの一例の要部の略線的拡大正
面図である。
【図2】本発明薄膜ヘッドの一例の再生出力特性を示す
図である。
【図3】本発明薄膜ヘッドの一例の製造工程図である。
【図4】本発明薄膜ヘッドの一例の一製造工程の略線的
拡大断面図である。
【図5】従来の薄膜ヘッドの一例の要部の略線的拡大正
面図である。
【図6】従来の薄膜ヘッドの一例の製造工程図である。
【図7】従来の薄膜ヘッドの一例の再生出力特性を示す
図である。
【符号の説明】
1 基体 2 第1の下層コア 3 第2の下層コア 4 非磁性層 5 絶縁層 6 コイル 7 絶縁層 8 第1の上層コア 9 第2の上層コア 10 保護層 11 平坦化膜 12 下層コア 13 上層コア 20 薄膜コア 21 段部 30 薄膜ヘッド 30S 対向面

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 磁気記録媒体との対接ないしは対向する
    面に臨む薄膜コアに、磁気ギャップのトラック幅方向の
    両側端を肉薄とする段部が形成されて成ることを特徴と
    する薄膜ヘッド。
JP19184091A 1991-07-31 1991-07-31 薄膜ヘツド Pending JPH0536027A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19184091A JPH0536027A (ja) 1991-07-31 1991-07-31 薄膜ヘツド

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JP19184091A JPH0536027A (ja) 1991-07-31 1991-07-31 薄膜ヘツド

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JP19184091A Pending JPH0536027A (ja) 1991-07-31 1991-07-31 薄膜ヘツド

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07240008A (ja) * 1994-02-28 1995-09-12 Nec Ibaraki Ltd 薄膜磁気ヘッド

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07240008A (ja) * 1994-02-28 1995-09-12 Nec Ibaraki Ltd 薄膜磁気ヘッド

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