JPH05339259A - 3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドの製造方法 - Google Patents
3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドの製造方法Info
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- JPH05339259A JPH05339259A JP4151914A JP15191492A JPH05339259A JP H05339259 A JPH05339259 A JP H05339259A JP 4151914 A JP4151914 A JP 4151914A JP 15191492 A JP15191492 A JP 15191492A JP H05339259 A JPH05339259 A JP H05339259A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】反応速度および反応率が高く、工業的規模での
実施に適した3,3,4,4−テトラクロロテトラヒド
ロチオフェン−1,1−ジオキシドの製造方法を提供す
る。 【構成】1. 3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェ
ン−1,1−ジオキシドと塩素とを不活性溶媒中で芳香
族カルボン酸の存在下に光照射しつつ30〜77℃で反
応させることを特徴とする3,3,4,4−テトラクロ
ロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドの製造
方法。 2. 3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン−1,
1−ジオキシドと塩素とを不活性溶媒中で光照射しつつ
30〜77℃で反応させた後、晶析前に芳香族カルボン
酸を添加することを特徴とする3,3,4,4−テトラ
クロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドの
製造方法。
実施に適した3,3,4,4−テトラクロロテトラヒド
ロチオフェン−1,1−ジオキシドの製造方法を提供す
る。 【構成】1. 3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェ
ン−1,1−ジオキシドと塩素とを不活性溶媒中で芳香
族カルボン酸の存在下に光照射しつつ30〜77℃で反
応させることを特徴とする3,3,4,4−テトラクロ
ロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドの製造
方法。 2. 3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン−1,
1−ジオキシドと塩素とを不活性溶媒中で光照射しつつ
30〜77℃で反応させた後、晶析前に芳香族カルボン
酸を添加することを特徴とする3,3,4,4−テトラ
クロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドの
製造方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、3,3,4,4−テト
ラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド
の新規な製造方法に関する。
ラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド
の新規な製造方法に関する。
【0002】本明細書において、“%”とあるのは、
“重量%”を意味するものとする。
“重量%”を意味するものとする。
【0003】
【従来技術とその問題点】3,3,4,4−テトラクロ
ロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドは、次
式で表される化合物である。
ロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドは、次
式で表される化合物である。
【0004】
【化1】
【0005】この化合物は、生物学的な活性を有してお
り、殺菌剤、殺虫剤、除草剤、種子消毒剤、水用殺藻剤
などとして有用である。
り、殺菌剤、殺虫剤、除草剤、種子消毒剤、水用殺藻剤
などとして有用である。
【0006】3,3,4,4−テトラクロロテトラヒド
ロチオフェン−1,1−ジオキシドの製造に際しては、
通常ブタジエンスルホン(一般名スルフォレン)を出発
原料として、不活性溶媒中で塩素付加反応を行なって
3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジ
オキシドを得た後、塩素置換反応により目的化合物を得
ている。この方法において、ブタジエンスルホンの塩素
付加は、極めて容易且つ定量的に反応が進行するので、
特に問題とする点はない。しかしながら、3,4−ジク
ロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドの塩
素置換反応には、反応速度および反応率に関して改良す
べき問題点がある。
ロチオフェン−1,1−ジオキシドの製造に際しては、
通常ブタジエンスルホン(一般名スルフォレン)を出発
原料として、不活性溶媒中で塩素付加反応を行なって
3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジ
オキシドを得た後、塩素置換反応により目的化合物を得
ている。この方法において、ブタジエンスルホンの塩素
付加は、極めて容易且つ定量的に反応が進行するので、
特に問題とする点はない。しかしながら、3,4−ジク
ロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドの塩
素置換反応には、反応速度および反応率に関して改良す
べき問題点がある。
【0007】例えば、特公昭35−3517号公報に記
載の方法では、光照射下での塩素置換反応により目的化
合物を得ているが、この方法は、長期の反応時間を必要
とするのみならず、塩素の反応寄与率が低いので、工業
的な実施に際しては、大規模な塩素回収装置が必要であ
る。
載の方法では、光照射下での塩素置換反応により目的化
合物を得ているが、この方法は、長期の反応時間を必要
とするのみならず、塩素の反応寄与率が低いので、工業
的な実施に際しては、大規模な塩素回収装置が必要であ
る。
【0008】特開昭52−10263号公報は、上記方
法の問題点を解決するために、光照射による塩素化に代
えて、加圧下での有機過酸化物による塩素置換反応を提
案している。この方法によれば、反応速度および反応率
はある程度改善され、目的とする3,3,4,4−テト
ラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド
の収率は幾分向上するが、その程度は満足すべきものと
はいい難い。
法の問題点を解決するために、光照射による塩素化に代
えて、加圧下での有機過酸化物による塩素置換反応を提
案している。この方法によれば、反応速度および反応率
はある程度改善され、目的とする3,3,4,4−テト
ラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド
の収率は幾分向上するが、その程度は満足すべきものと
はいい難い。
【0009】特開昭60−132979号公報は、ラジ
カル開始剤としての有機アゾ系化合物の存在下に3,4
−ジクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシ
ドと塩素とを反応させる方法を開示している。しかしな
がら、この方法は、使用する有機アゾ化合物が高価であ
り、また製品に異臭がつくという問題点もあり、さらに
反応率の改善も十分ではない。
カル開始剤としての有機アゾ系化合物の存在下に3,4
−ジクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシ
ドと塩素とを反応させる方法を開示している。しかしな
がら、この方法は、使用する有機アゾ化合物が高価であ
り、また製品に異臭がつくという問題点もあり、さらに
反応率の改善も十分ではない。
【0010】特開平2−243685号公報は、過酸化
ベンゾイルの様な有機ラジカル開始剤の存在下に3,4
−ジクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシ
ドと塩素とを反応させる方法を開示しているが、工業的
には、未だ満足すべきものとはいい難い。
ベンゾイルの様な有機ラジカル開始剤の存在下に3,4
−ジクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシ
ドと塩素とを反応させる方法を開示しているが、工業的
には、未だ満足すべきものとはいい難い。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、反
応速度および反応率が高く、工業的規模での実施に適し
た3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェ
ン−1,1−ジオキシドの製造方法を提供することを主
な目的とする。
応速度および反応率が高く、工業的規模での実施に適し
た3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェ
ン−1,1−ジオキシドの製造方法を提供することを主
な目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記のよう
な技術の現状に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、光照射下
に行なわれる3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン
−1,1−ジオキシドと塩素との反応に際して芳香族カ
ルボン酸を共存させておく場合には、反応速度および反
応率に影響すること無く、反応終了後に高品質の3,
3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−
1,1−ジオキシドが濾過操作により容易に且つ高収率
で得られることを見出した。
な技術の現状に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、光照射下
に行なわれる3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン
−1,1−ジオキシドと塩素との反応に際して芳香族カ
ルボン酸を共存させておく場合には、反応速度および反
応率に影響すること無く、反応終了後に高品質の3,
3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−
1,1−ジオキシドが濾過操作により容易に且つ高収率
で得られることを見出した。
【0013】また、光照射下に行なわれる3,4−ジク
ロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドと塩
素との反応終了後に芳香族カルボン酸を添加する場合に
も、高品質の3,3,4,4−テトラクロロテトラヒド
ロチオフェン−1,1−ジオキシドが濾過操作により容
易に且つ高収率で分離収得し得ることを見出した。
ロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドと塩
素との反応終了後に芳香族カルボン酸を添加する場合に
も、高品質の3,3,4,4−テトラクロロテトラヒド
ロチオフェン−1,1−ジオキシドが濾過操作により容
易に且つ高収率で分離収得し得ることを見出した。
【0014】即ち、本発明は、下記の3,3,4,4−
テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキ
シドの製造方法を提供するものである; 1. 3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン−1,
1−ジオキシドと塩素とを不活性溶媒中で芳香族カルボ
ン酸の存在下に光照射しつつ30〜77℃で反応させる
ことを特徴とする3,3,4,4−テトラクロロテトラ
ヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドの製造方法。
テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキ
シドの製造方法を提供するものである; 1. 3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン−1,
1−ジオキシドと塩素とを不活性溶媒中で芳香族カルボ
ン酸の存在下に光照射しつつ30〜77℃で反応させる
ことを特徴とする3,3,4,4−テトラクロロテトラ
ヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドの製造方法。
【0015】2. 3,4−ジクロロテトラヒドロチオ
フェン−1,1−ジオキシドと塩素とを不活性溶媒中で
光照射しつつ30〜77℃で反応させた後、晶析前に芳
香族カルボン酸を添加することを特徴とする3,3,
4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1
−ジオキシドの製造方法。
フェン−1,1−ジオキシドと塩素とを不活性溶媒中で
光照射しつつ30〜77℃で反応させた後、晶析前に芳
香族カルボン酸を添加することを特徴とする3,3,
4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1
−ジオキシドの製造方法。
【0016】3. 芳香族カルボン酸が、安息香酸また
はサリチル酸である上記項1または2に記載の方法。
はサリチル酸である上記項1または2に記載の方法。
【0017】4. 芳香族カルボン酸の添加量が、3,
4−ジクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキ
シド重量の0.1〜5%である上記項1〜3のいずれか
に記載の方法。
4−ジクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキ
シド重量の0.1〜5%である上記項1〜3のいずれか
に記載の方法。
【0018】以下においては、請求項1に記載の方法を
本願第1方法とし、請求項2に記載の方法を本願2方法
として、それぞれについて詳細に説明する。
本願第1方法とし、請求項2に記載の方法を本願2方法
として、それぞれについて詳細に説明する。
【0019】(1)本願第1発明 本願第1発明では、3,4−ジクロロテトラヒドロチオ
フェン−1,1−ジオキシドと塩素とを不活性溶媒中で
光照射下且つ芳香族カルボン酸の存在下に反応させるこ
とにより、3,3,4−トリクロロテトラヒドロチオフ
ェン−1,1−ジオキシドを経て3,3,4,4−テト
ラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド
を生成させる。
フェン−1,1−ジオキシドと塩素とを不活性溶媒中で
光照射下且つ芳香族カルボン酸の存在下に反応させるこ
とにより、3,3,4−トリクロロテトラヒドロチオフ
ェン−1,1−ジオキシドを経て3,3,4,4−テト
ラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド
を生成させる。
【0020】3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン
−1,1−ジオキシドは、如何なる方法により得たもの
であっても良い。例えば、ブタジエンスルホンを出発原
料として、常法に従って不活性溶媒中で塩素付加反応を
行なって得た3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン
−1,1−ジオキシドを溶媒から分離すること無く、そ
のまま使用しても良い。この場合には、ブタジエンスル
ホンを溶解する不活性溶媒中に予め芳香族カルボン酸を
加えておいても良い。
−1,1−ジオキシドは、如何なる方法により得たもの
であっても良い。例えば、ブタジエンスルホンを出発原
料として、常法に従って不活性溶媒中で塩素付加反応を
行なって得た3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン
−1,1−ジオキシドを溶媒から分離すること無く、そ
のまま使用しても良い。この場合には、ブタジエンスル
ホンを溶解する不活性溶媒中に予め芳香族カルボン酸を
加えておいても良い。
【0021】光照射は、可視光線、紫外線または近紫外
線のいずれによっても良いが、紫外線または近紫外線に
よるのが好適である。これらの発生源としては、特に制
限はなく、公知の紫外線灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯な
どが使用できる。
線のいずれによっても良いが、紫外線または近紫外線に
よるのが好適である。これらの発生源としては、特に制
限はなく、公知の紫外線灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯な
どが使用できる。
【0022】不活性溶媒としては、反応に影響を及ぼす
ことがなく且つ3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェ
ン−1,1−ジオキシドと塩素とを溶解し得る限り、特
に限定されない。代表的には、四塩化炭素、クロロホル
ム、クロロベンゼン、二硫化炭素などが挙げられ、これ
らの中でも、四塩化炭素がより好ましい。不活性溶媒の
使用量は、特に限定されるものではないが、反応生成さ
れる3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフ
ェン−1,1−ジオキシドを溶解し得る最低限量以上で
あり、より好ましくは、原料である3,4−ジクロロテ
トラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドの6〜10
倍量程度である。
ことがなく且つ3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェ
ン−1,1−ジオキシドと塩素とを溶解し得る限り、特
に限定されない。代表的には、四塩化炭素、クロロホル
ム、クロロベンゼン、二硫化炭素などが挙げられ、これ
らの中でも、四塩化炭素がより好ましい。不活性溶媒の
使用量は、特に限定されるものではないが、反応生成さ
れる3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフ
ェン−1,1−ジオキシドを溶解し得る最低限量以上で
あり、より好ましくは、原料である3,4−ジクロロテ
トラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドの6〜10
倍量程度である。
【0023】3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン
−1,1−ジオキシドと塩素との割合は、反応温度に大
きく影響されるが、通常前者1モルに対し後者3〜13
モル程度である。
−1,1−ジオキシドと塩素との割合は、反応温度に大
きく影響されるが、通常前者1モルに対し後者3〜13
モル程度である。
【0024】反応系に存在させる芳香族カルボン酸とし
ては、反応に影響せず且つ不活性溶媒に溶解し得る限
り、特に限定されず、安息香酸、サリチル酸、フタル
酸、トルイル酸、クロロ安息香酸、テトラクロロフタル
酸などが使用できる。これらの中では、安息香酸および
サリチル酸がより優れた効果を発揮するので、好まし
い。芳香族カルボン酸の添加量は、通常3,4−ジクロ
ロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド重量の
0.1〜5%程度であり、より好ましくは1〜3%程度
である。
ては、反応に影響せず且つ不活性溶媒に溶解し得る限
り、特に限定されず、安息香酸、サリチル酸、フタル
酸、トルイル酸、クロロ安息香酸、テトラクロロフタル
酸などが使用できる。これらの中では、安息香酸および
サリチル酸がより優れた効果を発揮するので、好まし
い。芳香族カルボン酸の添加量は、通常3,4−ジクロ
ロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド重量の
0.1〜5%程度であり、より好ましくは1〜3%程度
である。
【0025】反応時の温度は、通常30〜77℃程度で
あり、より好ましくは50〜65℃程度である。
あり、より好ましくは50〜65℃程度である。
【0026】反応生成物である3,3,4,4−テトラ
クロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドの
分離および精製は、常法により行なうことができる。例
えば、不活性溶媒中で晶析させた後、遠心分離機などの
分離機により容易に精製物として分離することができ
る。
クロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドの
分離および精製は、常法により行なうことができる。例
えば、不活性溶媒中で晶析させた後、遠心分離機などの
分離機により容易に精製物として分離することができ
る。
【0027】(2)本願第2発明 本願第2発明では、3,4−ジクロロテトラヒドロチオ
フェン−1,1−ジオキシドと塩素とを不活性溶媒中で
光照射下に反応させた後、芳香族カルボン酸を添加す
る。
フェン−1,1−ジオキシドと塩素とを不活性溶媒中で
光照射下に反応させた後、芳香族カルボン酸を添加す
る。
【0028】反応に際しての光照射方法、両原料の使用
割合、不活性溶媒の種類および量などは、本願第1発明
の場合と同様である。また、反応終了後に添加する芳香
族カルボン酸の種類も、本願第1発明の場合と同様であ
る。本願第2発明では、反応終了後の生成物に対し、原
料である3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン−
1,1−ジオキシド重量の0.1〜5%程度、より好ま
しくは1〜3%程度に相当する量の芳香族カルボン酸を
添加した後、本願第1発明と同様にして、3,3,4,
4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジ
オキシドの分離を行なう。
割合、不活性溶媒の種類および量などは、本願第1発明
の場合と同様である。また、反応終了後に添加する芳香
族カルボン酸の種類も、本願第1発明の場合と同様であ
る。本願第2発明では、反応終了後の生成物に対し、原
料である3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン−
1,1−ジオキシド重量の0.1〜5%程度、より好ま
しくは1〜3%程度に相当する量の芳香族カルボン酸を
添加した後、本願第1発明と同様にして、3,3,4,
4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジ
オキシドの分離を行なう。
【0029】
【発明の効果】本発明方法によれば、3,4−ジクロロ
テトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドを原料と
して、高収率で高品質の3,3,4,4−テトラクロロ
テトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドが生成さ
れ、容易に分離回収される。
テトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドを原料と
して、高収率で高品質の3,3,4,4−テトラクロロ
テトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドが生成さ
れ、容易に分離回収される。
【0030】
【実施例】以下に実施例および比較例を示し、本発明の
特徴とするところをより一層明確にする。
特徴とするところをより一層明確にする。
【0031】実施例1 攪拌装置付きの1リットルコルベン内を窒素ガスで置換
した後、コルベン内に3,4−ジクロロテトラヒドロチ
オフェン−1,1−ジオキシド120g 、安息香酸1g
および四塩化炭素600ミリリットルを入れ、反応系を
75℃に保持しつつ且つ高圧水銀灯を照射しつつ、9時
間にわたり塩素を10リットル/時間の割合で吹き込ん
だ。
した後、コルベン内に3,4−ジクロロテトラヒドロチ
オフェン−1,1−ジオキシド120g 、安息香酸1g
および四塩化炭素600ミリリットルを入れ、反応系を
75℃に保持しつつ且つ高圧水銀灯を照射しつつ、9時
間にわたり塩素を10リットル/時間の割合で吹き込ん
だ。
【0032】反応生成物をガスクロマトグラフィーに供
したところ、3,4−ジクロロ体は存在せず、3,3,
4−トリクロロ体:3,3,4,4−テトラクロロ体の
割合は、5:95(モル比)であった。
したところ、3,4−ジクロロ体は存在せず、3,3,
4−トリクロロ体:3,3,4,4−テトラクロロ体の
割合は、5:95(モル比)であった。
【0033】なお、反応中に生成する塩酸ガスおよび未
反応の塩素ガスは、窒素ガスをコルベン中に導入するこ
とにより、除去した。
反応の塩素ガスは、窒素ガスをコルベン中に導入するこ
とにより、除去した。
【0034】反応終了後、反応系を20℃に冷却し、析
出物を遠心濾過し、乾燥することにより、3,3,4,
4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジ
オキシド82g を得た。
出物を遠心濾過し、乾燥することにより、3,3,4,
4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジ
オキシド82g を得た。
【0035】また、濾液を濃縮し、放置することによ
り、二次結晶が生成するので、これを遠心濾過により分
離し、四塩化炭素50ミリリットルで洗浄し、乾燥する
ことにより、3,3,4,4−テトラクロロテトラヒド
ロチオフェン−1,1−ジオキシド30g を得た。
り、二次結晶が生成するので、これを遠心濾過により分
離し、四塩化炭素50ミリリットルで洗浄し、乾燥する
ことにより、3,3,4,4−テトラクロロテトラヒド
ロチオフェン−1,1−ジオキシド30g を得た。
【0036】3,3,4,4−テトラクロロテトラヒド
ロチオフェン−1,1−ジオキシド(120g 、純度9
8%)の収率は、3,4−ジクロロテトラヒドロチオフ
ェン−1,1−ジオキシドを基準として、67%であっ
た。
ロチオフェン−1,1−ジオキシド(120g 、純度9
8%)の収率は、3,4−ジクロロテトラヒドロチオフ
ェン−1,1−ジオキシドを基準として、67%であっ
た。
【0037】実施例2 攪拌装置付きの1リットルコルベン内を窒素ガスで置換
した後、コルベン内にブタジエンスルホン80g (純度
95.5%)、安息香酸0.8g および四塩化炭素60
0ミリリットルを入れ、過剰量の塩素ガスを吹き込ん
だ。この際、反応系を冷却して温度30〜40℃に保持
した。
した後、コルベン内にブタジエンスルホン80g (純度
95.5%)、安息香酸0.8g および四塩化炭素60
0ミリリットルを入れ、過剰量の塩素ガスを吹き込ん
だ。この際、反応系を冷却して温度30〜40℃に保持
した。
【0038】ブタジエンスルホンは、完全に反応し、ほ
ぼ定量的に3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン−
1,1−ジオキシドが生成された。
ぼ定量的に3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン−
1,1−ジオキシドが生成された。
【0039】次いで、結晶を分離すること無く、反応液
の温度を60℃に調整して、5時間にわたり塩素を10
リットル/時間の割合で吹き込んだ。反応中に生成する
塩酸ガスおよび未反応の塩素ガスは、窒素ガスをコルベ
ン中に導入することにより、除去した。
の温度を60℃に調整して、5時間にわたり塩素を10
リットル/時間の割合で吹き込んだ。反応中に生成する
塩酸ガスおよび未反応の塩素ガスは、窒素ガスをコルベ
ン中に導入することにより、除去した。
【0040】反応終了後、反応系を20℃に冷却し、析
出物を遠心濾過し、乾燥することにより、3,3,4,
4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジ
オキシド85g を得た。
出物を遠心濾過し、乾燥することにより、3,3,4,
4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジ
オキシド85g を得た。
【0041】また、濾液を濃縮し、放置することによ
り、二次結晶が生成するので、これを遠心濾過により分
離し、四塩化炭素50ミリリットルで洗浄し、乾燥する
ことにより、3,3,4,4−テトラクロロテトラヒド
ロチオフェン−1,1−ジオキシド34g を得た。
り、二次結晶が生成するので、これを遠心濾過により分
離し、四塩化炭素50ミリリットルで洗浄し、乾燥する
ことにより、3,3,4,4−テトラクロロテトラヒド
ロチオフェン−1,1−ジオキシド34g を得た。
【0042】3,3,4,4−テトラクロロテトラヒド
ロチオフェン−1,1−ジオキシド(119g 、純度9
8%)の収率は、ブタジエンスルホンを基準として、7
0%であった。
ロチオフェン−1,1−ジオキシド(119g 、純度9
8%)の収率は、ブタジエンスルホンを基準として、7
0%であった。
【0043】実施例3 攪拌装置付きの3リットルコルベン内を窒素ガスで置換
した後、コルベン内にブタジエンスルホン240g (純
度95.5%)および四塩化炭素1800ミリリットル
を入れ、過剰量の塩素ガスを吹き込んだ。この際、反応
系を冷却して温度30〜40℃に保持した。
した後、コルベン内にブタジエンスルホン240g (純
度95.5%)および四塩化炭素1800ミリリットル
を入れ、過剰量の塩素ガスを吹き込んだ。この際、反応
系を冷却して温度30〜40℃に保持した。
【0044】ブタジエンスルホンは、完全に反応し、ほ
ぼ定量的に3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン−
1,1−ジオキシドが生成された。
ぼ定量的に3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン−
1,1−ジオキシドが生成された。
【0045】次いで、結晶を分離すること無く、反応液
の温度を55℃に調整して、15時間にわたり塩素を1
0リットル/時間の割合で吹き込んだ。反応中に生成す
る塩酸ガスおよび未反応の塩素ガスは、窒素ガスをコル
ベン中に導入することにより、除去した。
の温度を55℃に調整して、15時間にわたり塩素を1
0リットル/時間の割合で吹き込んだ。反応中に生成す
る塩酸ガスおよび未反応の塩素ガスは、窒素ガスをコル
ベン中に導入することにより、除去した。
【0046】反応終了後、反応系にサリチル酸2g を溶
解させた後、20℃に冷却し、析出物を遠心濾過し、乾
燥することにより、3,3,4,4−テトラクロロテト
ラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド255g を得
た。
解させた後、20℃に冷却し、析出物を遠心濾過し、乾
燥することにより、3,3,4,4−テトラクロロテト
ラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド255g を得
た。
【0047】また、濾液を濃縮し、放置することによ
り、二次結晶が生成するので、これを遠心濾過により分
離し、四塩化炭素150ミリリットルで洗浄し、乾燥す
ることにより、3,3,4,4−テトラクロロテトラヒ
ドロチオフェン−1,1−ジオキシド110g を得た。
り、二次結晶が生成するので、これを遠心濾過により分
離し、四塩化炭素150ミリリットルで洗浄し、乾燥す
ることにより、3,3,4,4−テトラクロロテトラヒ
ドロチオフェン−1,1−ジオキシド110g を得た。
【0048】3,3,4,4−テトラクロロテトラヒド
ロチオフェン−1,1−ジオキシド(265g 、純度9
7%)の収率は、ブタジエンスルホンを基準として、7
1%であった。
ロチオフェン−1,1−ジオキシド(265g 、純度9
7%)の収率は、ブタジエンスルホンを基準として、7
1%であった。
【0049】比較例1 攪拌装置付きの1リットルコルベン内を窒素ガスで置換
した後、コルベン内にブタジエンスルホン80g (純度
95.5%)および四塩化炭素600ミリリットルを入
れ、過剰量の塩素ガスを吹き込んだ。この際、反応系を
冷却して温度30〜40℃に保持した。
した後、コルベン内にブタジエンスルホン80g (純度
95.5%)および四塩化炭素600ミリリットルを入
れ、過剰量の塩素ガスを吹き込んだ。この際、反応系を
冷却して温度30〜40℃に保持した。
【0050】ブタジエンスルホンは、完全に反応し、ほ
ぼ定量的に3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン−
1,1−ジオキシドが生成された。
ぼ定量的に3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン−
1,1−ジオキシドが生成された。
【0051】次いで、結晶を分離すること無く、反応液
の温度を60℃に調整して、5時間にわたり塩素を10
リットル/時間の割合で吹き込んだ。反応中に生成する
塩酸ガスおよび未反応の塩素ガスは、窒素ガスをコルベ
ン中に導入することにより、除去した。
の温度を60℃に調整して、5時間にわたり塩素を10
リットル/時間の割合で吹き込んだ。反応中に生成する
塩酸ガスおよび未反応の塩素ガスは、窒素ガスをコルベ
ン中に導入することにより、除去した。
【0052】反応終了後、反応系を20℃に冷却し、析
出物を遠心濾過し、乾燥することにより、3,3,4,
4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジ
オキシド94g を得た。
出物を遠心濾過し、乾燥することにより、3,3,4,
4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジ
オキシド94g を得た。
【0053】また、濾液を濃縮し、放置することによ
り、二次結晶が生成するので、これを遠心濾過により分
離し、四塩化炭素50ミリリットルで洗浄し、乾燥する
ことにより、3,3,4,4−テトラクロロテトラヒド
ロチオフェン−1,1−ジオキシド35g を得た。
り、二次結晶が生成するので、これを遠心濾過により分
離し、四塩化炭素50ミリリットルで洗浄し、乾燥する
ことにより、3,3,4,4−テトラクロロテトラヒド
ロチオフェン−1,1−ジオキシド35g を得た。
【0054】3,3,4,4−テトラクロロテトラヒド
ロチオフェン−1,1−ジオキシド(129g 、純度9
0%)の収率は、ブタジエンスルホンを基準として、7
0%であった。
ロチオフェン−1,1−ジオキシド(129g 、純度9
0%)の収率は、ブタジエンスルホンを基準として、7
0%であった。
【0055】この結果から、芳香族カルボン酸を添加し
ない場合には、生成物の純度が低いことが明らかであ
る。
ない場合には、生成物の純度が低いことが明らかであ
る。
Claims (4)
- 【請求項1】 3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェ
ン−1,1−ジオキシドと塩素とを不活性溶媒中で芳香
族カルボン酸の存在下に光照射しつつ30〜77℃で反
応させることを特徴とする3,3,4,4−テトラクロ
ロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドの製造
方法。 - 【請求項2】 3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェ
ン−1,1−ジオキシドと塩素とを不活性溶媒中で光照
射しつつ30〜77℃で反応させた後、晶析前に芳香族
カルボン酸を添加することを特徴とする3,3,4,4
−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオ
キシドの製造方法。 - 【請求項3】 芳香族カルボン酸が、安息香酸またはサ
リチル酸である請求項1または2に記載の方法。 - 【請求項4】 芳香族カルボン酸の添加量が、3,4−
ジクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド
重量の0.1〜5%である請求項1〜3のいずれかに記
載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4151914A JPH05339259A (ja) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | 3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4151914A JPH05339259A (ja) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | 3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05339259A true JPH05339259A (ja) | 1993-12-21 |
Family
ID=15528961
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4151914A Pending JPH05339259A (ja) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | 3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05339259A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6715528B2 (en) * | 2001-08-01 | 2004-04-06 | Finvetro S.P.A. | Actuation assembly for shutters inside double-glazing units |
-
1992
- 1992-06-11 JP JP4151914A patent/JPH05339259A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6715528B2 (en) * | 2001-08-01 | 2004-04-06 | Finvetro S.P.A. | Actuation assembly for shutters inside double-glazing units |
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