JPH0532060A - Optical recording medium - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To provide a closely adhesive optical recording medium which has a reflective layer being high in reflectivity and excellent in corrosion resistance and, since a recording layer is free from deterioration with time, has a favorable eye pattern and is little in jitter. CONSTITUTION:The present optical recording medium is constituted as follows : a recording layer which contains coloring matter and does not contain chlorine is provided on a substrate : a reflective layer which contains Cu and 1 to 5 kinds of metals selected from Ag, Au, Zn, Ni, and Cd is laminated in close adhesion onto the recording layer.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光記録媒体、特にコン
パクトディスク対応のライト・ワンス型の光記録ディス
クに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium, and more particularly to a write-once type optical recording disc for a compact disc.

【０００２】[0002]

【従来の技術】基板上に反射層を有する光記録媒体とし
て、例えば、コンパクトディスク（以下、ＣＤと略称す
る）規格に対応して追記ないし記録を行なうことのでき
る光記録ディスクが提案されている（日経エレクトロニ
クス１９８９年１月２３日号，Ｎｏ．４６５，Ｐ１０
７、社団法人近畿化学協会機能性色素部会，１９８９年
３月３日，大阪科学技術センター、SPIE vol 1078 Optic
al Data Storage TopicalMeeting,80 1989等）。2. Description of the Related Art As an optical recording medium having a reflective layer on a substrate, for example, an optical recording disc capable of additional recording or recording in accordance with the compact disc (hereinafter abbreviated as CD) standard has been proposed. (Nikkei Electronics, January 23, 1989, No. 465, P10
7. Kinki Chemical Society Functional Dye Subcommittee, March 3, 1989, Osaka Science and Technology Center, SPIE vol 1078 Optic
al Data Storage Topical Meeting, 80 1989).

【０００３】このものは、透明樹脂基板上に、色素層、
Ａｕ反射層および保護膜をこの順に設層して形成され
る。すなわち、反射層を色素層に密着して設けるもので
ある。This is a transparent resin substrate, a dye layer,
The Au reflective layer and the protective film are formed in this order. That is, the reflective layer is provided in close contact with the dye layer.

【０００４】従来は、色素層にピットを形成するために
色素層上に空気層を設けていたが、この提案では、反射
層を色素層に密着して設ける密着型であるので、ＣＤ規
格のディスク全厚１．２mmの構成が可能となっている。Conventionally, an air layer is provided on the dye layer in order to form pits in the dye layer. In this proposal, however, since the reflection layer is provided in close contact with the dye layer, it is of the CD standard. The total disk thickness of 1.2 mm is possible.

【０００５】このような反射層と色素を含有する記録層
とを密着して設ける密着型の媒体の場合には、特に、記
録層の記録光および再生光に対し、６０％以上、特にＣ
Ｄ規格では７０％以上の反射率をもつ必要がある。この
ため、特開平２−７９２３５号公報等に開示されている
とおり、反射層には、反射率が高く、しかも耐食性が良
いＡｕ薄膜が使用されている。In the case of a contact type medium in which such a reflective layer and a recording layer containing a dye are provided in close contact with each other, particularly 60% or more, particularly C of the recording light and the reproducing light of the recording layer.
The D standard requires a reflectance of 70% or more. Therefore, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2-79235, an Au thin film having a high reflectance and a high corrosion resistance is used for the reflective layer.

【０００６】しかし、Ａｕは、やわらかいため、記録光
を記録層に照射してピット部を形成すると、記録層の熱
膨張によってピット部上のＡｕ薄膜が変形することがあ
る。このため、再生出力波形であるアイパターンが乱れ
たり、ジッターの増加を招いてしまう。However, since Au is soft, when the recording layer is irradiated with recording light to form a pit portion, the Au thin film on the pit portion may be deformed due to thermal expansion of the recording layer. Therefore, the eye pattern, which is the reproduced output waveform, is disturbed and jitter is increased.

【０００７】また、Ａｕは高価であるため、反射層とし
て、Ａｇ、Ｃｕ等の比較的安価な金属薄膜を使用する提
案がされている。例えば、特開平２−７９２３５号、同
２−８７３４１号公報等には、反射層としてＡｇ薄膜や
Ｃｕ薄膜等を使用する具体例が記載されている。Since Au is expensive, it has been proposed to use a relatively inexpensive metal thin film such as Ag or Cu as the reflective layer. For example, Japanese Patent Laid-Open Nos. 2-79235 and 2-87341 disclose specific examples of using a Ag thin film, a Cu thin film, or the like as a reflective layer.

【０００８】しかし、Ｃｕ薄膜やＡｇ薄膜の場合、成膜
当初は７０％程度の反射率が得られるが、耐食性が不十
分である。However, in the case of a Cu thin film or an Ag thin film, a reflectance of about 70% is obtained at the beginning of film formation, but its corrosion resistance is insufficient.

【０００９】また、Ａｕ、ＡｇおよびＣｕ以外の金属薄
膜、例えばＡl 薄膜では、十分な反射率が得られない。
このように、Ａｕ以外の金属薄膜を反射層に適用した光
記録ディスクは、耐食性と反射率とが両立せず、実用が
困難である。Further, a metal thin film other than Au, Ag and Cu, for example, an Al thin film, cannot provide sufficient reflectance.
As described above, the optical recording disk in which the metal thin film other than Au is applied to the reflective layer is difficult to put into practical use because the corrosion resistance and the reflectance are not compatible with each other.

【００１０】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、前記の
問題を解決するため、特願平２−２８４０８５号により
反射層をＣｕ−Ａｕ合金薄膜、同２−２８４０８６号に
より反射層をＣｕ−Ａｇ合金薄膜で構成する旨の提案を
行なっている。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have proposed a Japanese Patent Application No. 2-284085 to form a reflective layer of Cu-Au alloy thin film, and a Japanese Patent Application No. 2-284086 to form a reflective layer of Cu. -Proposed to be composed of Ag alloy thin film.

【００１１】しかし、色素を記録層として使用し、この
記録層に、パークロレートイオンやクロルイオン等を対
イオンとするシアニン色素等のカチオン色素が含まれて
いる場合、塩素を置換基として有する色素や、クエンチ
ャー、さらには色素カチオンとクエンチャーアニオンと
のイオン結合体等が含まれている場合、記録層上に、密
着してＣｕを含有する反射層を積層すると、Ｃｕが記録
層内の塩素と反応し、色素が経時劣化することが判明し
た。However, when a dye is used as a recording layer and the recording layer contains a cationic dye such as a cyanine dye having a counter ion such as perchlorate ion or chlorine ion, a dye having chlorine as a substituent. If a quencher, or an ionic bond of a dye cation and a quencher anion, etc., is contained, when a reflective layer containing Cu is adhered and laminated on the recording layer, Cu is contained in the recording layer. It was found that the dye reacts with chlorine and deteriorates over time.

【００１２】このため、ディスクを長期間保存したり、
高温・高湿下で使用したりすると、反射層自体にはほと
んど影響はないが、記録層が劣化し、この結果アイパタ
ーンが乱れ、ジッターが増加し、エラーレートが増大し
てしまう。Therefore, the disk can be stored for a long time,
When it is used under high temperature and high humidity, the reflective layer itself is hardly affected, but the recording layer is deteriorated, and as a result, the eye pattern is disturbed, the jitter is increased, and the error rate is increased.

【００１３】本発明の目的は、反射率が高く、しかも耐
食性が良い反射層を有し、記録層が経時劣化せず、アイ
パターンの乱れやジッターの増加がなく、しかもエラー
レートが小さく、良好な記録や再生を行なうことができ
る光記録媒体を提供することにある。An object of the present invention is to have a reflective layer having a high reflectance and a good corrosion resistance so that the recording layer does not deteriorate with time, the eye pattern is not disturbed and the jitter is not increased, and the error rate is small. An object of the present invention is to provide an optical recording medium capable of various recording and reproduction.

【００１４】[0014]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（３）の本発明により達成される。The above objects are achieved by the present invention described in (1) to (3) below.

【００１５】（１）基板上に色素を含有する記録層を有
し、この記録層上に密着して反射層を設層した光記録媒
体であって、前記記録層には実質的に塩素元素が含有さ
れておらず、前記反射層は、Ｃｕと、Ａｇ、Ａｕ、Ｚ
ｎ、ＮｉおよびＣｄからなる群より選ばれる１〜５種の
金属とを含有する合金薄膜であることを特徴とする光記
録媒体。(1) An optical recording medium having a recording layer containing a dye on a substrate, and a reflective layer provided in close contact with the recording layer, wherein the recording layer contains substantially chlorine element. Is not contained, and the reflective layer contains Cu, Ag, Au, and Z.
An optical recording medium, which is an alloy thin film containing 1 to 5 kinds of metals selected from the group consisting of n, Ni and Cd.

【００１６】（２）基板側から再生光を照射したとき、
未記録部分の反射率が６０％以上であり、記録部分の反
射率が未記録部分の反射率の６０％以下であり、記録光
および再生光の波長における前記記録層の消衰係数ｋが
０．０３〜０．２５であり、記録光および再生光の波長
における前記記録層の屈折率ｎが１．８〜４．０であ
り、記録光および再生光の波長が６００〜９００nmであ
る上記（１）に記載の光記録媒体。(2) When reproducing light is irradiated from the substrate side,
The reflectance of the unrecorded portion is 60% or more, the reflectance of the recorded portion is 60% or less of the reflectance of the unrecorded portion, and the extinction coefficient k of the recording layer at the wavelengths of the recording light and the reproducing light is 0. (0.03 to 0.25), the refractive index n of the recording layer at the wavelengths of the recording light and the reproducing light is 1.8 to 4.0, and the wavelength of the recording light and the reproducing light is 600 to 900 nm. The optical recording medium according to 1).

【００１７】（３）前記反射層上に保護膜を有し、この
保護膜の２５℃における鉛筆硬度がＨ〜８Ｈである上記
（１）または（２）に記載の光記録媒体。(3) The optical recording medium as described in (1) or (2) above, which has a protective film on the reflective layer, and has a pencil hardness of H to 8H at 25 ° C.

【００１８】[0018]

【作用】本発明では反射層としてＣｕと所定の金属とを
含有するＣｕ合金薄膜を用いる。このため、反射率が高
く、耐食性が良く、しかもＡｕ薄膜に比べて硬い反射層
を形成できる。In the present invention, a Cu alloy thin film containing Cu and a predetermined metal is used as the reflective layer. Therefore, it is possible to form a reflective layer having high reflectance, good corrosion resistance, and harder than the Au thin film.

【００１９】また、色素を含有し、塩素を実質的に含ま
ない記録層を基板上に形成し、この記録層上に、密着し
て前記Ｃｕ合金薄膜の反射層を積層する。このため塩素
との反応による記録層中へのＣｕの拡散が防止され、記
録層の経時劣化を防止できる。A recording layer containing a dye and containing substantially no chlorine is formed on a substrate, and the reflective layer of the Cu alloy thin film is laminated on the recording layer in close contact with the recording layer. Therefore, Cu is prevented from diffusing into the recording layer due to reaction with chlorine, and deterioration of the recording layer with time can be prevented.

【００２０】この結果、良好なアイパターンを有し、ジ
ッターが少なく、しかもエラーレートが小さく、良好な
記録や再生を行なうことができる光記録媒体が実現す
る。As a result, it is possible to realize an optical recording medium having a good eye pattern, a small jitter, a small error rate, and good recording and reproducing.

【００２１】[0021]

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。Specific Structure The specific structure of the present invention will be described in detail below.

【００２２】図１には本発明の光記録媒体の好適例が示
される。FIG. 1 shows a preferred example of the optical recording medium of the present invention.

【００２３】本発明の光記録媒体１は、基板２上に、記
録層３を有し、記録層３に密着して、反射層４、保護膜
５を順次積層した密着型のものである。The optical recording medium 1 of the present invention is a contact type in which a recording layer 3 is provided on a substrate 2, and a reflective layer 4 and a protective film 5 are sequentially laminated in close contact with the recording layer 3.

【００２４】基板２は、記録光および再生光（６００〜
９００nm程度、特に７００〜８００nm程度の半導体レー
ザー光、特に７８０nm）に対し、実質的に透明（好まし
くは透過率８０％以上）な樹脂あるいはガラスから形成
される。これにより、基板裏面側からの記録および再生
が可能となる。The substrate 2 includes recording light and reproducing light (600 to 600).
It is formed of a resin or glass that is substantially transparent (preferably a transmittance of 80% or more) to a semiconductor laser beam of about 900 nm, particularly 700 to 800 nm, especially 780 nm. This enables recording and reproduction from the back side of the substrate.

【００２５】基板２は、通常のサイズのディスク状であ
って、ＣＤとして用いる場合、厚さは１．２mm程度、直
径は８０ないし１２０mm程度とする。The substrate 2 is in the form of a disk of a normal size, and when used as a CD, the thickness is about 1.2 mm and the diameter is about 80 to 120 mm.

【００２６】この場合、基板材質としては、樹脂を用い
ることが好ましく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹
脂、アモルファスポリオレフィン、ＴＰＸ等の各種熱可
塑性樹脂が好適である。In this case, a resin is preferably used as the substrate material, and various thermoplastic resins such as polycarbonate resin, acrylic resin, amorphous polyolefin and TPX are suitable.

【００２７】なお、必要に応じ、基板２の外表面、内表
面の少なくとも一方と、さらに必要に応じ、内・外周面
に酸素遮断性の被膜を形成してもよい。If necessary, an oxygen barrier coating may be formed on at least one of the outer surface and the inner surface of the substrate 2 and, if necessary, on the inner and outer peripheral surfaces.

【００２８】基板２の記録層３形成面には、トラッキン
グ用のグルーブが形成されることが好ましい。グルーブ
は、スパイラル状の連続型グルーブであることが好まし
く、深さは２５０〜１８００A 、幅は０．２〜１．１μ
m 、特に０．３〜０．６μm、ランド（隣り合うグルー
ブ同士の間の部分）幅は０．５〜１．４μm 、特に１．
０〜１．３μm であることが好ましい。グルーブをこの
ような構成とすることにより、グルーブ部の反射レベル
を下げることなく良好なトラッキング信号を得ることが
できる。なお、グルーブには、アドレス信号用の凹凸を
設けることもできる。A groove for tracking is preferably formed on the surface of the substrate 2 on which the recording layer 3 is formed. The groove is preferably a spiral continuous groove having a depth of 250 to 1800 A and a width of 0.2 to 1.1 μm.
m, especially 0.3 to 0.6 μm, and the land (the portion between adjacent grooves) width is 0.5 to 1.4 μm, especially 1.
It is preferably 0 to 1.3 μm. With such a configuration of the groove, a good tracking signal can be obtained without lowering the reflection level of the groove portion. It should be noted that the groove may be provided with unevenness for address signals.

【００２９】本発明では、基板がグルーブを有する場
合、記録光はグルーブ内の記録層に照射されるよう構成
されることが好ましい。すなわち、本発明の光記録媒体
は、グルーブ記録の光記録媒体として用いられることが
好ましい。グルーブ記録とすることにより、記録層の有
効厚さを大きくすることができる。In the present invention, when the substrate has a groove, it is preferable that the recording light is applied to the recording layer in the groove. That is, the optical recording medium of the present invention is preferably used as an optical recording medium for groove recording. By using groove recording, the effective thickness of the recording layer can be increased.

【００３０】また、基板２上に図示しない樹脂層を例え
ば２Ｐ法により設層して、樹脂層にトラッキング用の溝
やアドレス信号用の凹凸を設けてもよい。Further, a resin layer (not shown) may be formed on the substrate 2 by, for example, the 2P method, and a groove for tracking or an unevenness for address signal may be provided in the resin layer.

【００３１】樹脂層を構成する樹脂材質に特に制限はな
く、いわゆる２Ｐ法に用いられる公知の樹脂から適宜に
選択すればよいが、通常、放射線硬化型化合物が用いら
れる。The resin material constituting the resin layer is not particularly limited and may be appropriately selected from known resins used in the so-called 2P method, but a radiation-curable compound is usually used.

【００３２】記録層３は、１種あるいは２種以上の色素
を相溶して形成される。この場合、光吸収色素にクエン
チャーを混合してもよく、さらに、色素カチオンとクエ
ンチャーアニオンとのイオン結合体を光吸収色素として
用いてもよい。The recording layer 3 is formed by compatibilizing one or more dyes. In this case, a quencher may be mixed with the light absorbing dye, and further, an ionic combination of a dye cation and a quencher anion may be used as the light absorbing dye.

【００３３】また、記録層３には、実質的にパークロレ
ートイオン等の塩素を含有させない。記録層３中に塩素
元素が、塩素イオン、塩素を含む原子団ないしそのイオ
ン、あるいは置換基として含まれていると、反射層４の
Ｃｕが塩素と反応し、記録層ないし色素が経時劣化して
しまう。ここに、実質的に塩素元素を含まないとは、塩
素が不可避的不純物として含まれる場合まで排除するも
のではない。The recording layer 3 does not substantially contain chlorine such as perchlorate ion. When chlorine element is contained in the recording layer 3 as a chlorine ion, an atomic group containing chlorine or its ion, or as a substituent, Cu of the reflective layer 4 reacts with chlorine, and the recording layer or dye is deteriorated with time. Will end up. Here, the term "substantially free of chlorine element" does not exclude the case where chlorine is included as an unavoidable impurity.

【００３４】記録層３の記録光および再生光波長におけ
る消衰係数（複素屈折率の虚部）ｋは、０．０３〜０．
２５であることが好ましい。ｋが０．０３未満となると
記録層の吸収率が低下し、通常の記録パワーで記録を行
うことが困難である。また、ｋが０．２５をこえると、
反射率が６０％を下回ってしまい、ＣＤ規格による再生
を行うことが困難である。この場合、ｋが０．０４〜
０．２０、特に０．０５〜０．１５であると、きわめて
好ましい結果をうる。The extinction coefficient (imaginary part of complex refractive index) k of the recording layer 3 at the wavelengths of recording light and reproducing light is 0.03 to 0.
It is preferably 25. When k is less than 0.03, the absorptivity of the recording layer is lowered, and it is difficult to perform recording with normal recording power. When k exceeds 0.25,
The reflectance is less than 60%, which makes it difficult to perform reproduction according to the CD standard. In this case, k is 0.04 to
A very preferable result is obtained when it is 0.20, particularly 0.05 to 0.15.

【００３５】また、屈折率（複素屈折率の実部）ｎは、
１．８〜４．０、より好ましくは、２．２〜３．３であ
ることが好ましい。ｎ＜１．８では反射率が低下し、Ｃ
Ｄ規格による再生が困難となる傾向にある。また、ｎ＞
４．０とするためには、原料色素の入手が難しい。The refractive index (real part of complex refractive index) n is
It is preferably 1.8 to 4.0, more preferably 2.2 to 3.3. When n <1.8, the reflectance decreases and C
Reproduction according to the D standard tends to be difficult. Also, n>
To obtain 4.0, it is difficult to obtain the raw material dye.

【００３６】ｎおよびｋの測定に際しては、所定の透明
基板上に記録層を例えば４００〜１０００A 程度の厚さ
に実際の条件にて設層して、測定サンプルを作製する。
次いで、基板を通しての、あるいは記録層側からの反射
率を測定する。反射率は記録再生光波長を用いて鏡面反
射（５°程度）にて測定する。また、サンプルの透過率
を測定する。これらの測定値から、例えば、共立全書
「光学」石黒浩三Ｐ１６８〜１７８に準じ、ｎ、ｋを算
出すればよい。In measuring n and k, a recording layer is formed on a predetermined transparent substrate to a thickness of, for example, about 400 to 1000 A under actual conditions to prepare a measurement sample.
Then, the reflectance through the substrate or from the recording layer side is measured. The reflectance is measured by specular reflection (about 5 °) using the recording / reproducing light wavelength. In addition, the transmittance of the sample is measured. From these measured values, for example, n and k may be calculated according to Kyoritsu Zensho "Optical" Kozo Ishiguro P168-178.

【００３７】用いる光吸収性の色素としては、塩素元素
を実質的に含有せず、吸収極大が６００〜９００nm、好
ましくは６００〜８００nm、より好ましくは６５０〜７
５０nmであれば、他に特に制限はないが、シアニン系、
フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、アントラキノ
ン系、アゾ系、トリフェニルメタン系、ピリリウムない
しチアピリリウム塩系、スクワリリウム系、クロコニウ
ム系、金属錯体色素系等の１種ないし２種以上が好まし
い。The light absorbing dye to be used does not substantially contain chlorine element and has an absorption maximum of 600 to 900 nm, preferably 600 to 800 nm, more preferably 650 to 7 nm.
If it is 50 nm, there is no particular limitation, but cyanine-based,
One or more of phthalocyanine type, naphthalocyanine type, anthraquinone type, azo type, triphenylmethane type, pyrylium or thiapyrylium salt type, squarylium type, croconium type, metal complex dye type and the like are preferable.

【００３８】シアニン色素としては、縮合環を有してい
てもよいインドレニン環、特にベンゾインドレニン環を
有するシアニン色素であることが好ましい。The cyanine dye is preferably a cyanine dye having an indolenine ring which may have a condensed ring, particularly a benzoindolenine ring.

【００３９】クエンチャーとしては、実質的に塩素を含
まないものを用いる。例えばビスフェニレンジチオー
ル、ジチオジケトン系、ニトロソジフェニルアミン系等
の遷移金属錯体が好ましい。As the quencher, one containing substantially no chlorine is used. For example, transition metal complexes such as bisphenylenedithiol, dithiodiketone-based and nitrosodiphenylamine-based transition metals are preferable.

【００４０】結合体としては、実質的に塩素元素を含ま
ないものを用いる。この場合、結合体を構成する色素カ
チオンとしては、縮合環を有していてもよいインドレニ
ン環を有するシアニン色素カチオン、また、クエンチャ
ーとしては上記の遷移金属錯体が好ましい。例えば、具
体的好適例としては、下記化１で表わされる光安定化シ
アニン色素、すなわちシアニン色素カチオンとクエンチ
ャーアニオンとのイオン結合体が挙げられる。As the binder, one that does not substantially contain chlorine element is used. In this case, the dye cation constituting the conjugate is preferably a cyanine dye cation having an indolenine ring which may have a condensed ring, and the quencher is preferably the above transition metal complex. For example, a specific suitable example is a light-stabilized cyanine dye represented by the following chemical formula 1, that is, an ionic bond of a cyanine dye cation and a quencher anion.

【００４１】[0041]

【化１】 [Chemical 1]

【００４２】前記化１において、シアニン色素カチオン
は、ペンタメチン鎖を有するインドレニン系のものであ
るが、一方の核は４，５−ベンゾインドレニン環であ
り、他方の核はインドレニン環であり、左右非対称の異
核構造をもつ。そして、４，５−ベンゾインドレニン環
の窒素原子に結合するアルキル基Ｃ_nＨ_2n+1と、インド
レニン環の窒素原子に結合するアルキル基Ｃ_m Ｈ_2m+1と
は、ともに直鎖のものであることが好ましいが、両者は
互いに異なるものであり、ｍ＞ｎとする。この場合、ｍ
は２以上であり、好ましくは２〜１０、特に２〜５の整
数である。また、ｎは、ｍより小さければよいが、特に
１〜３であることが好ましい。In the above chemical formula 1, the cyanine dye cation is an indolenine type having a pentamethine chain, but one nucleus is a 4,5-benzoindolenin ring and the other nucleus is an indolenine ring. , With asymmetrical heteronuclear structure. The alkyl group C _n H _{2n + 1} bonded to the nitrogen atom of the 4,5-benzoindolenin ring and the alkyl group C _m H _{2m + 1} bonded to the nitrogen atom of the indolenine ring are both linear. However, they are different from each other, and m> n. In this case, m
Is 2 or more, preferably an integer of 2 to 10, particularly 2 to 5. Further, n may be smaller than m, but is particularly preferably 1 to 3.

【００４３】さらに、インドレニン環のベンゼン環に
は、アルキル基Ｃ_lＨ_2l+1が結合してもよい。Ｃ_l Ｈ
_2l+1は好ましくは、インドレニン環の５位に結合する
が、ｌは０（すなわちＨ）、あるいは１〜１０、好まし
くは１〜３の整数である。Further, an alkyl group C ₁ H _{2l + 1} may be bonded to the benzene ring of the indolenine ring. C _l H
_{2l + 1} is preferably attached to the 5-position of the indolenine ring, where l is 0 (ie H) or an integer of 1-10, preferably 1-3.

【００４４】これに対し、クエンチャーアニオンは、ビ
ス−１，２−フェニレンジチオールの銅錯体である。そ
して、フェニレンジチオールの好ましくは４位には、ア
ルキル基Ｃ_p Ｈ_2p+1が結合する。ｐは、１〜１０の整
数、特にｔ−ブチル基（ｔＢｕ）であることが好まし
い。On the other hand, the quencher anion is a copper complex of bis-1,2-phenylenedithiol. Then, preferably the 4-position of the phenylene thiol, alkyl group C _p H _{2p + 1} is bound. p is preferably an integer of 1 to 10, particularly preferably t-butyl group (tBu).

【００４５】以下に、前記光安定化シアニン色素の好ま
しい具体例を挙げる。Preferred specific examples of the light-stabilized cyanine dye will be given below.

【００４６】[0046]

【化２】 [Chemical 2]

【００４７】[0047]

【化３】 [Chemical 3]

【００４８】このような光安定化色素は、ｎおよびｋの
波長依存性が少なく、７７０〜８１０nmにてｎおよびｋ
の変化がきわめて少ない。そして、きわめて高い耐光性
を示す。Such a light-stabilizing dye has a small wavelength dependency of n and k, and has a wavelength dependence of n and k of 770 to 810 nm.
Is extremely small. And it shows extremely high light resistance.

【００４９】記録層３の設層方法には特に制限がなく、
例えば、各種溶媒等を用いて塗布によって設層したり、
蒸着等公知の方法を用いればよい。The method for forming the recording layer 3 is not particularly limited,
For example, layering by coating using various solvents,
A known method such as vapor deposition may be used.

【００５０】記録層３の厚さは、５００〜２０００A と
することが好ましい。この範囲外では反射率が低下し
て、ＣＤ規格の再生を行うことが難しくなる。The thickness of the recording layer 3 is preferably 500 to 2000A. Outside this range, the reflectance decreases and it becomes difficult to reproduce the CD standard.

【００５１】記録層３上には直接反射４が設層される。A direct reflection 4 is provided on the recording layer 3.

【００５２】記録層３と反射層間に、樹脂や薄膜の特に
厚い中間層を形成すると、記録層３との光学的バランス
が悪くなり、感度、モジューレーション等記録後の特性
が悪化する。If a particularly thick intermediate layer of resin or thin film is formed between the recording layer 3 and the reflective layer, the optical balance with the recording layer 3 is deteriorated, and the characteristics such as sensitivity and modulation after recording are deteriorated.

【００５３】反射層４は、Ｃｕと、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、
ＮｉおよびＣｄからなる群より選ばれる１〜５種の金属
とを含有する合金薄膜で構成される。The reflection layer 4 is made of Cu, Ag, Au, Zn,
It is composed of an alloy thin film containing 1 to 5 kinds of metals selected from the group consisting of Ni and Cd.

【００５４】このような薄膜を用いることにより、Ｃｕ
薄膜、Ａｇ薄膜、Ａｌ薄膜等に比べ、膜の耐食性が格段
と向上し、Ａｕ薄膜に比べ、膜の硬度が格段と増加す
る。By using such a thin film, Cu
The corrosion resistance of the film is remarkably improved as compared with the thin film, Ag thin film, Al thin film and the like, and the hardness of the film is remarkably increased as compared with the Au thin film.

【００５５】この場合、Ｃｕへの添加量と反射率低下の
関係等の理由から、反射層４は、Ｃｕと、Ａｇ、Ａｕお
よびＣｄからなる群より選ばれる１〜３種の金属とを含
有する合金薄膜で構成されることが好ましい。そして、
とくにＣｕに添加した場合の耐食性向上効果の程度等の
理由から反射層４は、Ｃｕと、Ａｇおよび／またはＡｕ
とを含有する合金薄膜で構成されることが好ましい。In this case, the reflective layer 4 contains Cu and 1 to 3 metals selected from the group consisting of Ag, Au and Cd for reasons such as the relationship between the amount added to Cu and the decrease in reflectance. It is preferable to be composed of an alloy thin film. And
In particular, the reflective layer 4 contains Cu, Ag and / or Au for reasons such as the degree of corrosion resistance improving effect when added to Cu.
It is preferably composed of an alloy thin film containing and.

【００５６】反射層４中の各金属元素の好適含有量は元
素により異なるため、以下場合分けする。Since the preferable content of each metal element in the reflective layer 4 differs depending on the element, it will be divided into the following cases.

【００５７】Ｚｎ、Ｎｉおよび／またはＣｄの反射層４
中の含有量は、合計で４０at% 以下が好ましい。Reflective layer 4 of Zn, Ni and / or Cd
The total content is preferably 40 at% or less.

【００５８】含有量が４０at% を超えると反射率が不十
分となる。If the content exceeds 40 at%, the reflectance becomes insufficient.

【００５９】ただし、含有量があまり少ないと耐食性が
不十分となるため、５〜３０at% 、さらに好ましくは８
〜２５at% 、特に好ましくは１０〜２０at% が好まし
い。However, if the content is too small, the corrosion resistance becomes insufficient, so that it is 5 to 30 at%, more preferably 8 at%.
.About.25 at%, particularly preferably 10 to 20 at%.

【００６０】また、Ａｇおよび／またはＡｕの反射層４
中の含有量は、合計で５〜９９at%が好ましい。The reflective layer 4 made of Ag and / or Au
The total content is preferably 5 to 99 at%.

【００６１】前記範囲をこえると、膜の硬さが不十分で
あるため、記録光を記録層３に照射してピット部６を形
成する際、記録層３の熱膨張により、ピット部６上の反
射層４が変形してしまう。このため、アイパターンが乱
れたり、ジッターが増加する。前記範囲未満では、耐食
性が不十分である。例えば、高温・高湿下で長期間保存
あるいは使用すると、膜の反射率が低下し、エラーが増
加する。If the thickness exceeds the above range, the hardness of the film is insufficient. Therefore, when the recording layer 3 is irradiated with recording light to form the pit portion 6, the thermal expansion of the recording layer 3 causes the pit portion 6 to be overlyed. The reflective layer 4 is deformed. Therefore, the eye pattern is disturbed and the jitter is increased. If it is less than the above range, the corrosion resistance is insufficient. For example, when it is stored or used for a long period of time under high temperature and high humidity, the reflectance of the film decreases and the error increases.

【００６２】前記の理由から、反射層４中のＡｇおよび
Ａｕの含有量の上限は、より好ましくは９０at% 、さら
に好ましくは８０at% 、特に好ましくは７０at% であ
り、特に反射層４中のＡｕの含有量の上限は６０at% 、
Ａｇの含有量は４０at% 未満、特に３５at% が好まし
い。また、下限は、より好ましくは６at% 、さらに好ま
しくは８at% 、特に好ましくは１０at% が好ましい。For the above reasons, the upper limits of the Ag and Au contents in the reflective layer 4 are more preferably 90 at%, even more preferably 80 at%, particularly preferably 70 at%, and the Au in the reflective layer 4 is particularly preferable. The upper limit of the content of 60at%,
The content of Ag is preferably less than 40 at%, particularly preferably 35 at%. The lower limit is more preferably 6 at%, further preferably 8 at%, particularly preferably 10 at%.

【００６３】反射層４を形成するには、スパッタリン
グ、蒸着等の各種気相成膜法を用いればよい。To form the reflective layer 4, various vapor phase film forming methods such as sputtering and vapor deposition may be used.

【００６４】反射層４の厚さは５００A 以上であること
が好ましい。また、厚さの上限に特に制限はないが、コ
スト、生産作業時間等を考慮すると、１２００A 程度以
下であることが好ましい。The thickness of the reflective layer 4 is preferably 500 A or more. Although the upper limit of the thickness is not particularly limited, it is preferably about 1200 A or less in consideration of cost, production work time and the like.

【００６５】これにより、反射層４単独での反射率は、
８５％以上、特に９０％以上、媒体の未記録部の基板を
とおしての反射率は、６０％以上、特に７０％以上がえ
られる。Accordingly, the reflectance of the reflective layer 4 alone is
The reflectance of 85% or more, particularly 90% or more, and the reflectance of the unrecorded portion of the medium through the substrate is 60% or more, and particularly 70% or more.

【００６６】反射層４上には、保護膜５が設層される。A protective film 5 is formed on the reflective layer 4.

【００６７】保護膜５は、例えば紫外線硬化樹脂等の各
種樹脂材質から、通常は、０．１〜１００μm 程度の厚
さに設層すればよい。保護膜５は、層状であってもシー
ト状であってもよい。The protective film 5 may be formed of various resin materials such as an ultraviolet curable resin to a thickness of usually about 0.1 to 100 μm. The protective film 5 may be layered or sheet-shaped.

【００６８】保護膜５は、特に放射線硬化型化合物およ
び光重合増感剤を含有する塗膜を放射線硬化したもので
あることが好ましい。そして、保護膜５の硬度が、２５
℃における鉛筆硬度（ＪＩＳ Ｋ−５４００）で、Ｈ〜
８Ｈ、特に２Ｈ〜７Ｈであるように構成されることが好
ましい。The protective film 5 is preferably a radiation-cured coating film containing a radiation-curable compound and a photopolymerization sensitizer. The hardness of the protective film 5 is 25
The pencil hardness (JIS K-5400) at C is from H to
It is preferably configured to be 8H, especially 2H to 7H.

【００６９】このように構成することにより、アイパタ
ーンがより一層良好になり、ジッターが格段と減少す
る。また、高温・高湿あるいは温湿度変化条件下の保存
においても、保護膜と反射層との剥離が生じない。より
具体的には、保護膜の硬度がＨより軟らかいとアイパタ
ーンが乱れ、ジッターが増大し、８Ｈより硬くなると塗
膜がもろくなり膜形成能が低下する他、反射層との接着
力が低下する。With this structure, the eye pattern is further improved and the jitter is remarkably reduced. Further, the protective film and the reflective layer do not peel off even when stored under conditions of high temperature and high humidity or changes in temperature and humidity. More specifically, if the hardness of the protective film is softer than H, the eye pattern will be disturbed and jitter will increase, and if it is harder than 8H, the coating film will become brittle and the film forming ability will decrease, and also the adhesive force with the reflective layer will decrease. To do.

【００７０】このような保護膜形成に用いる放射線硬化
型化合物には、オリゴエステルアクリレートが含まれる
ことが好ましい。The radiation-curable compound used for forming such a protective film preferably contains an oligoester acrylate.

【００７１】オリゴエステルアクリレートは、アクリレ
ート基またはメタクリレート基を複数有するオリゴエス
テル化合物である。そして好ましいオリゴステルアクリ
レートとしては、分子量１０００〜１００００、好まし
くは２０００〜７０００であって、重合度２〜１０、好
ましくは、３〜５のものが挙げられる。また、これらの
うちアクリレート基またはメタクリレート基を２〜６
個、好ましくは３〜６個有する多官能オリゴエステルア
クリレートが好ましい。The oligoester acrylate is an oligoester compound having a plurality of acrylate groups or methacrylate groups. The preferred oligosteracrylates include those having a molecular weight of 1,000 to 10,000, preferably 2,000 to 7,000, and a polymerization degree of 2 to 10, preferably 3 to 5. Further, among these, 2 to 6 acrylate groups or methacrylate groups are used.
Polyfunctional oligoester acrylates having one, preferably 3 to 6, are preferred.

【００７２】また、上記の化合物に加えて、あるいはこ
れにかえて熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによ
って得られる放射線硬化型化合物を用いてもよい。In addition to the above compounds, or in place of this, a radiation curable compound obtained by subjecting a thermoplastic resin to radiation-sensitive modification may be used.

【００７３】このような放射線硬化型化合物の保護膜の
膜厚は０．１〜３０μm 、より好ましくは１〜１０μm
が好ましい。The thickness of the protective film of such a radiation-curable compound is 0.1 to 30 μm, more preferably 1 to 10 μm.
Is preferred.

【００７４】この膜厚が０．１μm 未満になると、一様
な膜を形成しにくく、湿度が高い雰囲気中での防湿効果
が十分でなく、記録層の耐久性が下がる。しかも、ジッ
ター防止効果が低下する。また、３０μm をこえると、
樹脂膜の硬化の際に伴う収縮により記録媒体の反りや保
護膜中のクラックが生じやすい。If the film thickness is less than 0.1 μm, it is difficult to form a uniform film, the moisture-proof effect in an atmosphere with high humidity is not sufficient, and the durability of the recording layer is lowered. Moreover, the effect of preventing jitter is reduced. If it exceeds 30 μm,
Due to the shrinkage that accompanies the curing of the resin film, the warp of the recording medium and the cracks in the protective film are likely to occur.

【００７５】このような塗膜は、通常、スピンナーコー
ト、グラビア塗布、スプレーコート、ディッピング等、
種々の公知の方法を組み合わせて設層すればよい。この
時の塗膜の設層条件は、塗膜組成の混合物の粘度、目的
とする塗膜厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。Such a coating film is usually formed by spinner coating, gravure coating, spray coating, dipping, etc.
Layers may be formed by combining various known methods. The layer forming conditions of the coating film at this time may be appropriately determined in consideration of the viscosity of the mixture of the coating film composition, the target coating film thickness, and the like.

【００７６】本発明において塗膜に照射する放射線とし
ては、紫外線、電子線等が挙げられるが、紫外線が好ま
しい。In the present invention, examples of the radiation applied to the coating film include ultraviolet rays and electron beams, and ultraviolet rays are preferable.

【００７７】紫外線を用いる場合には、前述したような
放射線硬化型化合物の中には、通常、光重合増感剤が加
えられる。When ultraviolet rays are used, a photopolymerization sensitizer is usually added to the above radiation-curable compounds.

【００７８】光重合増感剤としては、例えば、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、α−メ
チルベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾイン等のベ
ンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノン、モルホ
リノジメチルメチル−４−メチルチオフェニルケトン、
ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類、ア
セトラキノン、フェナントラキノン等のキノン類、ベン
ジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィ
ド等のスルフィド類等を挙げることができる。Examples of the photopolymerization sensitizer include benzoin compounds such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, α-methylbenzoin, α-chlordeoxybenzoin, benzophenone, acetophenone, morpholinodimethylmethyl-4-methylthiophenyl ketone,
Examples thereof include ketones such as bisdialkylaminobenzophenone, quinones such as acetoraquinone and phenanthraquinone, and sulfides such as benzyl disulfide and tetramethylthiuram monosulfide.

【００７９】そして、このような光重合増感剤と放射線
硬化型化合物を含有する塗膜を紫外線によって硬化させ
るには、公知の種々の方法に従えばよい。たとえば、キ
セノン放電管、水銀放電管などの紫外線電球等を用いれ
ばよい。また、場合によっては電子線を用いることもで
きる。To cure the coating film containing the photopolymerization sensitizer and the radiation-curable compound by ultraviolet rays, various known methods may be used. For example, a UV bulb such as a xenon discharge tube or a mercury discharge tube may be used. An electron beam can also be used depending on the case.

【００８０】このような構成の光記録媒体１に記録ない
し追記を行なうには、例えば７８０nmの記録光を、基板
２をとおしてパルス状に照射する。To perform recording or additional recording on the optical recording medium 1 having such a structure, recording light of 780 nm, for example, is irradiated in a pulse shape through the substrate 2.

【００８１】これにより、記録層３が光を吸収して発熱
し、同時に基板２も加熱される。この結果、基板２と記
録層３との界面近傍において、色素等の記録層材質の融
解や分解が生じ、記録層３と基板２との界面に圧力が加
わり、グルーブの底壁や側壁を変形させることがある。As a result, the recording layer 3 absorbs light and generates heat, and at the same time, the substrate 2 is also heated. As a result, in the vicinity of the interface between the substrate 2 and the recording layer 3, the recording layer material such as a dye is melted or decomposed, pressure is applied to the interface between the recording layer 3 and the substrate 2, and the bottom wall or side wall of the groove is deformed. There is something to do.

【００８２】この場合記録層３の融解物や分解物を含有
する分解物層６１が、通常グルーブ２３の底部および境
界を覆うような形状に残存する。分解物層６１の材質
は、実質的に基板材質を含まない材質であり、記録層材
質の分解物あるいは記録層材質の分解物と、記録層材質
との混合物によって構成される。分解物層６１は、記録
層３の厚さの通常３０〜９０％程度の厚さである。In this case, the decomposed product layer 61 containing the melted product or the decomposed product of the recording layer 3 usually remains in a shape that covers the bottom and the boundary of the groove 23. The material of the decomposed material layer 61 is a material that does not substantially include the substrate material, and is composed of a decomposed material of the recording layer material or a mixture of the decomposed material of the recording layer material and the recording layer material. The decomposed material layer 61 is usually about 30 to 90% of the thickness of the recording layer 3.

【００８３】そして、通常、分解物層６１上には、空隙
６３が形成され、分解物層６１と、空隙６３とがピット
部６に形成される。空隙６３は、記録層３の厚さの通常
１０〜７０％程度の厚さである。Then, usually, a void 63 is formed on the decomposed substance layer 61, and the decomposed substance layer 61 and the void 63 are formed in the pit portion 6. The gap 63 is usually about 10 to 70% of the thickness of the recording layer 3.

【００８４】また、このような記録過程において、基板
２は変形しない場合もあるが、通常、基板２のピット部
６は、加熱時の圧力によって凹状にへこむことになる。
基板２のへこみ量は、ピット部６の寸法が大きい程大き
く、通常０〜３００A 程度の深さである。Further, in such a recording process, the substrate 2 may not be deformed, but normally, the pit portion 6 of the substrate 2 is dented due to the pressure during heating.
The dent amount of the substrate 2 is larger as the size of the pit portion 6 is larger, and is usually about 0 to 300 A in depth.

【００８５】また、空隙６３上には、反射層４に密着し
て微少膜厚にて記録層３ないしその分解物等が残存する
こともある。In addition, the recording layer 3 or a decomposed product of the recording layer 3 or the like may remain on the void 63 in close contact with the reflective layer 4 with a small film thickness.

【００８６】このように、ピット部６の基板２と記録層
３との界面部には、実質的に基板材質を含有しない層が
形成される。Thus, a layer containing substantially no substrate material is formed at the interface between the substrate 2 and the recording layer 3 in the pit portion 6.

【００８７】記録光のパワーは、通常、５〜９mW程度、
基板回転線速度は１．２〜１．４m/s 程度とすればよ
い。The recording light power is usually about 5 to 9 mW,
The substrate rotation linear velocity may be about 1.2 to 1.4 m / s.

【００８８】このようにしてピット部６を形成したの
ち、例えば７８０nmの再生光を、基板２をとおして照射
すると、ピット部６により光の位相差を生じ、反射率が
未記録部分の６０％以下、特に５０％以下、さらには４
０％以下に低下する。一方、未記録部では、６０％以
上、特に７０％以上の高反射率を示しているので、ＣＤ
規格による再生が可能となる。なお、再生光のパワー
は、０．１〜１０mW程度とする。After forming the pit portion 6 in this way, when reproducing light of, for example, 780 nm is radiated through the substrate 2, a phase difference of the light is generated by the pit portion 6 and the reflectance is 60% of that of the unrecorded portion. Below, especially below 50%, and further 4
It falls to 0% or less. On the other hand, in the unrecorded area, a high reflectance of 60% or more, particularly 70% or more is shown.
It becomes possible to reproduce according to the standard. The power of the reproducing light is about 0.1 to 10 mW.

【００８９】[0089]

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を挙げ本発明を
さらに詳細に説明する。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to specific examples of the present invention.

【００９０】実施例１ 連続グルーブを有する１２０mmφ、厚さ１．２mmのポリ
オレフィン基板上に色素を含有し、塩素を含有しない記
録層を設層した。次いで記録層上に、スパッタリングに
よりＣｕ−Ａｇ合金薄膜を１０００A 厚に設層して反射
層とし、さらに、オリゴエステルアクリレートを含有す
る紫外線硬化型樹脂を塗布した後紫外線硬化して５μm
厚の保護膜とし、光記録ディスクサンプルNo. １を得
た。Example 1 A recording layer containing a dye and containing no chlorine was formed on a 120 mmφ, 1.2 mm thick polyolefin substrate having continuous grooves. Then, a Cu-Ag alloy thin film was sputtered on the recording layer to a thickness of 1000 A to form a reflective layer, and a UV curable resin containing oligoester acrylate was applied and then UV cured to 5 μm.
Optical recording disk sample No. 1 was obtained by using it as a thick protective film.

【００９１】サンプルNo. １の記録層は、下記化４に示
される色素Ｄ１を９０wt% 、塩素を含まない一重項酸素
クエンチャーを１０wt% 用いて形成した。The recording layer of Sample No. 1 was formed by using 90% by weight of the dye D1 shown in Chemical Formula 4 below and 10% by weight of a chlorine-free singlet oxygen quencher.

【００９２】[0092]

【化４】 [Chemical 4]

【００９３】記録層の設層は、基板を５００〜３０００
rpm で回転させながらスピンコート塗布により行なっ
た。塗布溶液としては、５．０シクロヘキサノンを用い
た。記録層の厚さはグルーブ部で２９００A 、ランド部
で１９００A であった。また、記録層の屈折率（ｎ）は
２．３、消衰係数（ｋ）は、０．０３であった。The recording layer is formed on the substrate by 500 to 3000.
Spin coating was performed while rotating at rpm. As the coating solution, 5.0 cyclohexanone was used. The thickness of the recording layer was 2900A at the groove portion and 1900A at the land portion. The recording layer had a refractive index (n) of 2.3 and an extinction coefficient (k) of 0.03.

【００９４】ｎおよびｋは、上記色素を含有する溶液を
測定用基板上に乾燥膜厚１０００Aに成膜して被検記録
層とし、この被検記録層のｎおよびｋを測定することに
より求めた。なお、この測定は、「光学」（石黒浩三
著、共立全書）第１６８〜１７８ページの記載に準じて
行なった。また、上記化４に示される色素を含有する記
録層の測定に際しては、溶媒にシクロヘキサノン、測定
用基板にポリオレフィン基板を用いた。The values n and k are obtained by forming a solution containing the above dye on a measurement substrate to form a dry film thickness of 1000 A as a test recording layer, and measuring n and k of the test recording layer. It was In addition, this measurement was performed according to the description of "Optics" (Kozo Ishiguro, Kyoritsu Zensho), pages 168-178. Further, in the measurement of the recording layer containing the dye represented by the above chemical formula 4, cyclohexanone was used as the solvent and a polyolefin substrate was used as the measurement substrate.

【００９５】反射層のＣｕ−Ａｇ合金薄膜の組成は、Ｃ
ｕ₆₅Ａｇ₃₅（at% ）であり、成膜条件は、下記のとおり
であった。The composition of the Cu-Ag alloy thin film of the reflective layer is C
u ₆₅ Ag ₃₅ (at%), and the film forming conditions were as follows.

【００９６】スパッタ圧力：１．０Pa 投入パワー：１１．０W/cm² Sputtering pressure: 1.0 Pa Input power: 11.0 W / cm ²

【００９７】なお、Ｃｕ−Ａｇ合金薄膜の組成は、誘導
結合高周波プラズマ分光分析にて求めた。The composition of the Cu-Ag alloy thin film was determined by inductively coupled high frequency plasma spectroscopy.

【００９８】また、保護膜は、下記の放射線硬化型化合
物および光重合増感剤を含む塗布組成物をスピンナーコ
ートで設層した。As the protective film, a coating composition containing the following radiation-curable compound and photopolymerization sensitizer was applied by spinner coating.

【００９９】（塗布組成物）多官能オリゴエステルアク
リレート［オリゴエステルアクリレート（３官能以上）
３０重量％、トリメチルプロパンアクリレート７０重量
％、商品名アロニックスＭ−８０３０；東亜合成社製］
１００重量部 光重合増感剤（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ907;日本チバ
ガイギー社製）５重量部(Coating composition) Polyfunctional oligoester acrylate [oligoester acrylate (trifunctional or more)
30% by weight, trimethylpropane acrylate 70% by weight, trade name Aronix M-8030; manufactured by Toagosei Co., Ltd.]
100 parts by weight Photopolymerization sensitizer (trade name: IRGACURE907; manufactured by Nippon Ciba Geigy) 5 parts by weight

【０１００】このような塗布組成物を設層後、１２０W/
cmの紫外線を１５sec 照射し架橋硬化させ、硬化膜とし
た。After applying such a coating composition, 120 W /
An ultraviolet ray of cm was irradiated for 15 seconds to crosslink and cure to obtain a cured film.

【０１０１】この膜の鉛筆硬度は２Ｈであった。The pencil hardness of this film was 2H.

【０１０２】また、サンプルNo. １において、記録層中
の色素Ｄ１を下記化５に示される色素Ｄ７に換えたほか
は同様として、比較用サンプルNo.２、サンプルNo. １
において反射層をＣｕ薄膜、Ａｇ薄膜に換えたほかは同
様として、比較用サンプルNo. ３、No. ４を製造した。Further, in Sample No. 1, Comparative Sample No. 2 and Sample No. 1 were used in the same manner except that the dye D1 in the recording layer was changed to the dye D7 shown in the following chemical formula 5.
Comparative samples No. 3 and No. 4 were manufactured in the same manner except that the reflective layer was replaced with Cu thin film and Ag thin film.

【０１０３】得られたサンプルNo. １に対し、波長７８
０nm、７mWのレーザーにてコンパクトディスク信号の記
録を行ない、次いで市販のコンパクトディスクプレーヤ
で再生を行なった。For the obtained sample No. 1, a wavelength of 78
A compact disc signal was recorded with a laser of 0 nm and 7 mW, and then reproduced with a commercially available compact disc player.

【０１０４】この結果、Ｓ／Ｎ比が高く、良好な再生を
行なうことができた。なお、未記録部で７０％以上の反
射率が得られ、記録部の反射率は未記録部の反射率の４
０％以下であった。As a result, the S / N ratio was high, and good reproduction could be performed. A reflectance of 70% or more was obtained in the unrecorded area, and the reflectance of the recorded area was 4 times that of the unrecorded area.
It was 0% or less.

【０１０５】次に、各サンプルに対し、下記の評価を行
なった。Next, the following evaluation was performed on each sample.

【０１０６】１）反射率 サンプルに対し、波長７８０nm、７mWのレーザーにてコ
ンパクトディスク信号の記録を行なった後、市販のコン
パクトディスクプレーヤで再生を行なって記録部のＲto
p レベルを測定した。1) A compact disc signal was recorded on a reflectance sample with a laser having a wavelength of 780 nm and 7 mW, and then reproduced by a commercially available compact disc player to read Rto of the recording portion.
The p level was measured.

【０１０７】次いで、サンプルを温度８０℃、湿度８０
％ＲＨの環境中に２００時間放置した後、同様に記録部
のＲtop レベルを測定した。Then, the sample was placed at a temperature of 80 ° C. and a humidity of 80
After standing in the environment of% RH for 200 hours, the Rtop level of the recording portion was measured in the same manner.

【０１０８】そして、各サンプルの初期の反射率を基準
（１．００）とし、サンプルNo. １〜No. ４それぞれに
ついて規格化された反射率を算出した。Then, using the initial reflectance of each sample as a reference (1.00), the normalized reflectance of each of the samples No. 1 to No. 4 was calculated.

【０１０９】評価基準 ○…規格化した反射率が０．９３超 ×…規格化した反射率が０．９３未満Evaluation criteria ○: standardized reflectance is over 0.93 ×: standardized reflectance is less than 0.93

【０１１０】２）Ｃ１エラー 市販のコンパクトディスクプレーヤで再生を行なって、
初期および２００時間（８０℃、８０％ＲＨ）後のＣ１
エラーを測定した。この場合、Ｃ１エラーのＣＤ規格
は、２２０（カウント／秒）以内である。2) C1 error Playback with a commercially available compact disc player
C1 initially and after 200 hours (80 ° C, 80% RH)
The error was measured. In this case, the C1 error CD standard is within 220 (counts / second).

【０１１１】評価基準 ○…Ｃ１エラー２２０（カウント／秒）以内 ×…Ｃ１エラー２２０（カウント／秒）超Evaluation criteria ○: Within C1 error 220 (count / second) × ... C1 error over 220 (count / sec)

【０１１２】３）ジッター 市販のコンパクトディスクプレーヤで再生を行なって、
２００時間（８０℃、８０％ＲＨ）後のジッターを測定
した。評価装置は、ＭＥＧＵＲＯ社製ＣＤジッターメー
ターＭＪＭ−６３１を使用した。3) Jitter Playback with a commercially available compact disc player,
The jitter after 200 hours (80 ° C., 80% RH) was measured. As the evaluation device, a CD jitter meter MJM-631 manufactured by MEGURO was used.

【０１１３】評価基準 ○…３０ｎｓ未満 ×…３０ｎｓ以上Evaluation criteria ○ ... less than 30 ns × ... 30 ns or more

【０１１４】４）感度 市販のコンパクトディスクプレーヤーで再生し、そのア
イパターンからそれぞれのディスクの最適記録感度（パ
ワー）を算出した。4) Sensitivity Playback was performed on a commercially available compact disc player, and the optimum recording sensitivity (power) of each disc was calculated from the eye pattern.

【０１１５】評価基準 ○…８ｍＷ未満 ×…８ｍＷ以上Evaluation criteria ○ ... less than 8 mW × ... 8 mW or more

【０１１６】なお、サンプルNo. １の２００時間後のア
イパターンのオシロ波形の写真を図２、No. ２の２００
時間後のアイパターンのオシロ波形の写真を図３に示
す。両者のアイパターンを対比するとNo. ２はエラー、
ジッターが極端に劣化しており、本発明の塩素を含まな
い記録層の効果が判る。A photograph of the oscilloscope waveform of the eye pattern of Sample No. 1 after 200 hours is shown in FIG.
A photograph of the oscilloscope waveform of the eye pattern after the elapse of time is shown in FIG. When comparing the eye patterns of both, No. 2 is an error,
The jitter is extremely deteriorated, and the effect of the recording layer containing no chlorine according to the present invention can be seen.

【０１１７】上記１）〜４）の結果は表１に示されると
おりである。The results of 1) to 4) above are as shown in Table 1.

【０１１８】[0118]

【表１】 [Table 1]

【０１１９】表１に示される結果から本発明の効果が明
らかである。From the results shown in Table 1, the effect of the present invention is clear.

【０１２０】なお、各サンプルの保護膜の鉛筆硬度を下
げたところ、アイパターンが少し乱れ、ジッターの増加
がみられた。When the pencil hardness of the protective film of each sample was lowered, the eye pattern was slightly disturbed and the jitter was increased.

【０１２１】また、サンプルNo. １において、記録層中
の色素をＤ２〜Ｄ６に示される色素に換えた各サンプル
や、反射層をＣｕ−Ａｕ、Ｃｕ−Ｚｎ、Ｃｕ−Ｃｄ等の
Ｃｕ合金薄膜に換えた各サンプルを作製し、前記と同様
の評価を行なったところ比較サンプルより良好な結果が
得られた。Further, in the sample No. 1, each sample in which the dye in the recording layer is replaced by the dyes shown in D2 to D6 and the reflective layer is made of Cu alloy thin film such as Cu-Au, Cu-Zn, and Cu-Cd. Each sample was replaced with the above sample, and the same evaluation as above was performed, and better results were obtained than the comparative sample.

【０１２２】[0122]

【発明の効果】本発明の光記録媒体では、反射層の、耐
食性、耐湿性が良いため、高温、高湿下での使用や長期
保存を行なっても高反射率が維持される。In the optical recording medium of the present invention, since the reflective layer has good corrosion resistance and moisture resistance, the high reflectance can be maintained even when it is used under high temperature and high humidity or is stored for a long time.

【０１２３】また記録層に塩素が含まれていないため、
Ｃｕの拡散等による記録層の経時劣化が生じない。Since the recording layer does not contain chlorine,
The deterioration of the recording layer with time due to Cu diffusion or the like does not occur.

【０１２４】このため、アイパターンの乱れがなく、ジ
ッターが少なく、エラーレートが小さく、良好な記録や
再生を行なうことができる光記録媒体が実現する。そし
て、高反射率で、しかもピット部での大きな反射率低下
を示すので、ＣＤ規格による再生を行なうことのできる
良好な光記録が可能となる。Therefore, there is realized an optical recording medium in which the eye pattern is not disturbed, the jitter is small, the error rate is small, and good recording and reproducing can be performed. Further, since the reflectance is high and the reflectance is greatly reduced at the pit portion, good optical recording capable of reproducing according to the CD standard is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本発明の光記録媒体を示す部分断面図である。FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing an optical recording medium of the present invention.

【図２】オシロ波形を示す図面代用写真であって、本発
明の光記録媒体のアイパターンが示される写真である。FIG. 2 is a drawing-substitute photograph showing an oscilloscope waveform, showing an eye pattern of the optical recording medium of the present invention.

【図３】オシロ波形を示す図面代用写真であって、比較
用の光記録媒体のアイパターンが示される写真である。FIG. 3 is a photograph as a substitute for a drawing showing an oscilloscope waveform, showing an eye pattern of a comparative optical recording medium.

【符号の説明】 １…光記録媒体 ２…基板 ２１…ランド部 ２３…グルーブ ３…記録層 ４…反射層 ５…保護膜 ６…ピット部 ６１…分解物層 ６３…空隙[Explanation of symbols] 1 ... Optical recording medium 2 ... Substrate 21 ... Land 23 ... Groove 3 ... Recording layer 4 ... Reflective layer 5 ... Protective film 6 ... Pit part 61 ... Decomposition layer 63 ... void

【化５】 [Chemical 5]

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成３年９月３日[Submission date] September 3, 1991

【手続補正１】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】０１０３[Correction target item name] 0103

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【０１０３】[0103]

【化５】 [Chemical 5]

【手続補正２】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】０１０４[Correction target item name] 0104

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【０１０４】得られたサンプルＮｏ．１に対し、波長７
８０ｎｍ、７ｍＷのレーザーにてコンパクトディスク信
号の記録を行ない、次いで市販のコンパクトディスクプ
レーヤで再生を行なった。この結果、Ｓ／Ｎ比が高く、
良好な再生を行なうことができた。なお、未記録部で７
０％以上の反射率が得られ、記録部の反射率は未記録部
の反射率の４０％以下であった。The obtained sample No. Wavelength 7 for 1
Compact disc signals were recorded with a laser of 80 nm and 7 mW, and then reproduced with a commercially available compact disc player. As a result, the S / N ratio is high,
Good reproduction could be performed. In the unrecorded area, 7
A reflectance of 0% or more was obtained, and the reflectance of the recorded portion was 40% or less of the reflectance of the unrecorded portion.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 基板上に色素を含有する記録層を有し、
この記録層上に密着して反射層を設層した光記録媒体で
あって、 前記記録層には実質的に塩素元素が含有されておらず、
前記反射層は、Ｃｕと、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｎｉおよび
Ｃｄからなる群より選ばれる１〜５種の金属とを含有す
る合金薄膜であることを特徴とする光記録媒体。1. A recording layer containing a dye is provided on a substrate,
An optical recording medium in which a reflective layer is provided in close contact with the recording layer, wherein the recording layer contains substantially no chlorine element,
The optical recording medium, wherein the reflective layer is an alloy thin film containing Cu and 1 to 5 kinds of metals selected from the group consisting of Ag, Au, Zn, Ni and Cd. 【請求項２】 基板側から再生光を照射したとき、未記
録部分の反射率が６０％以上であり、記録部分の反射率
が未記録部分の反射率の６０％以下であり、記録光およ
び再生光の波長における前記記録層の消衰係数ｋが０．
０３〜０．２５であり、記録光および再生光の波長にお
ける前記記録層の屈折率ｎが１．８〜４．０であり、記
録光および再生光の波長が６００〜９００nmである請求
項１に記載の光記録媒体。2. When the reproducing light is irradiated from the substrate side, the reflectance of the unrecorded portion is 60% or more and the reflectance of the recorded portion is 60% or less of the reflectance of the unrecorded portion. The extinction coefficient k of the recording layer at the wavelength of the reproducing light is 0.
3. The refractive index n of the recording layer at the wavelengths of the recording light and the reproducing light is 1.8 to 4.0, and the wavelengths of the recording light and the reproducing light are 600 to 900 nm. The optical recording medium according to 1. 【請求項３】 前記反射層上に保護膜を有し、この保護
膜の２５℃における鉛筆硬度がＨ〜８Ｈである請求項１
または２に記載の光記録媒体。3. A protective film is provided on the reflective layer, and the pencil hardness of the protective film at 25 ° C. is H to 8H.
Or the optical recording medium according to 2.