JPH05309474A - Device for applying flux - Google Patents
Device for applying fluxInfo
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- JPH05309474A JPH05309474A JP10890392A JP10890392A JPH05309474A JP H05309474 A JPH05309474 A JP H05309474A JP 10890392 A JP10890392 A JP 10890392A JP 10890392 A JP10890392 A JP 10890392A JP H05309474 A JPH05309474 A JP H05309474A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、自動半田付け装置にお
いて用いられるフラックス塗布装置に係り、特にフラッ
クス槽の容積に対してフラックスノズルの外側に形成さ
れるフラックスプールの容積を著しく小さく設定するこ
とにより、供給されるフラックスが繰り返し使用される
ことなく、次々と新しい状態のままのフラックス（本願
明細書ではこの状態のフラックスを「バージンフラック
ス」という。）で消費されるようにして、常にバージン
フラックスに近い状態のフラックスが基板に塗布される
ようにし、超低残渣フラックスの塗布も可能で、半田付
け品質も良好となり火災のおそれも非常に小さい画期的
なフラックス塗布装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flux applying apparatus used in an automatic soldering apparatus, and more particularly, to setting a volume of a flux pool formed outside a flux nozzle to be significantly smaller than a volume of a flux tank. In this way, the supplied flux is not repeatedly used, but is continuously consumed by the flux in a new state (the flux in this state is referred to as "virgin flux" in this specification), so that the virgin flux is always consumed. The present invention relates to an epoch-making flux applying apparatus which allows a flux in a state close to that of the above to be applied to a substrate and also enables application of an ultra-low residue flux, has good soldering quality, and has a very low risk of fire.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、自動半田付け装置に用いられるフ
ラックス塗布装置としては種々のものが実用に供されて
いるが、大別してフラックス発泡管に空気を吹き込んで
フラックス槽内のフラックスを発泡させてフラックスノ
ズルから噴射する発泡方式のものと、特に基板に対して
フラックスを薄く塗布するために用いられているスプレ
ー方式のものとがある。2. Description of the Related Art Conventionally, various types of flux applying apparatuses used in automatic soldering apparatuses have been put into practical use, but they are roughly classified into those in which air is blown into a flux foam tube to foam the flux in a flux tank. There are a foaming method that sprays from a flux nozzle and a spray method that is used to apply a thin flux to a substrate.
【０００３】しかしスプレー方式のものにあっては、フ
ラックスを発泡させることなく、液状のまま、塗装等で
用いられるノズルから噴射して基板にフラックスを塗布
するようになっているので、フラックスを薄く基板に塗
布できる点で有利ではあるが、フラックスが基板の周囲
や自動半田付け装置の各部に飛散して該各部を汚染し、
自動半田付け装置のメンテナンスが非常に大変であり、
また気化した希釈剤のイソプロピルアルコール等が空気
中を浮遊することになるため、火災を引き起こすおそれ
も大きいという欠点があった。However, in the case of the spray method, since the flux is applied in a liquid state by spraying from a nozzle used for coating or the like without foaming the flux, the flux is thinly applied. Although it is advantageous in that it can be applied to the board, the flux is scattered around the board and each part of the automatic soldering device to contaminate each part,
Maintenance of automatic soldering equipment is very difficult,
In addition, the vaporized diluent isopropyl alcohol or the like floats in the air, which may cause a fire.
【０００４】またこの方式のフラックス塗布装置では、
基板への残留フラックスの量が小さく設計された低残渣
フラックスまでは塗布が可能であるが、残留フラックス
が３％以下の超低残渣フラックスになると、塗布できな
いという欠点があった。Further, in this type of flux applying apparatus,
It is possible to apply even a low residue flux designed to have a small amount of residual flux on the substrate, but when the residual flux becomes an ultra-low residue flux of 3% or less, there is a drawback that it cannot be applied.
【０００５】また従来の発泡方式のフラックス塗布装置
においては、大きなフラックス槽（通常容積１０リット
ル）にフラックスノズルを配設して、該フラックスノズ
ルの外側に形成されるフラックスプールの容積をフラッ
クス槽の容積のほとんどを占める大きさに設定して、一
旦フラックスをこのフラックスプールに溜めておいて、
フラックスノズルから発泡状態で噴射されながら基板に
塗布されずにもどされるフラックスをバージンフラック
スと混合して繰り返し使用し、次第に希釈剤が蒸発して
フラックスの密度が変化するのをチェックしながら適宜
消費された分のフラックスと希釈剤とを補給してフラッ
クス槽内のフラックスの密度と量を適正値に維持するよ
うになっていた。Further, in the conventional foaming type flux applicator, a flux nozzle is arranged in a large flux tank (usually having a volume of 10 liters), and the volume of the flux pool formed outside the flux nozzle is set to the value of the flux tank. Set it to a size that occupies most of the volume, temporarily store the flux in this flux pool,
Flux that is ejected in a foaming state from the flux nozzle and returned without being applied to the substrate is mixed with virgin flux and repeatedly used, and it is consumed as appropriate while checking that the diluent evaporates gradually and the flux density changes. The flux density and the amount of the flux in the flux tank were maintained at appropriate values by supplementing the flux and the diluent.
【０００６】このため、フラックスはフラックス槽内に
長い時間溜めておかれるので次第にその性質が変化した
り塵埃、水等により汚染されて基板に塗布されることと
なり、その結果半田付け性能が経時的に劣って来るとい
う欠点があった。また従来のこの方式のフラックス塗布
装置では、フラックスを基板に薄く塗布することができ
なかったり、また一般に低残渣フラックスは固形分含率
が少ないため発泡性が悪いので発泡塗布が不可能である
から、ましてや超低残渣フラックスの塗布は到底不可能
であった。このように低残渣及び超低残渣フラックスを
薄く塗布でき、しかも火災の危険の少ないフラックス塗
布装置は従来技術では提供できなかったものである。For this reason, since the flux is stored in the flux tank for a long time, its properties gradually change and it is contaminated with dust, water, etc., and applied to the substrate. As a result, the soldering performance is changed with time. It had the disadvantage of coming inferior to. Further, in the conventional flux coating apparatus of this system, the flux cannot be thinly coated on the substrate, and in general, the low residue flux has a low solid content, so that the foaming property is poor, so that the foaming coating is impossible. Even less, it was impossible to apply ultra-low residue flux. As described above, the flux coating device capable of thinly coating the low-residue and ultra-low-residue fluxes and reducing the risk of fire could not be provided by the prior art.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記した従
来技術の欠点を除くためになされたものであって、その
目的とするところは、自動半田付け装置用のフラックス
塗布装置において、フラックスノズルの外側に形成され
るフラックスプールの容積をフラックス槽の容積に比べ
て著しく小さく設定することによって、フラックスノズ
ルからオーバフロして基板に接触しながら塗布されずに
もどされるフラックスを溜めて置く量を極端に少なく
し、またフラックスノズルを含むフラックス槽全体の容
積を非常に小さくすることにより、発泡してオーバフロ
ーしたフラックスのほとんど全量が基板に塗布されるよ
うにすることであり、またこれによって常にバージンフ
ラックスに近い状態の新しいフラックスのみが基板に塗
布されるようにして基板の半田付け性能を向上させるこ
とである。また他の目的は、発泡方式でありながらフラ
ックスを基板に薄く塗布でき、しかも超低残渣のフラッ
クスでも十分に塗布でき、また火災の危険の非常に少な
いフラックス塗布装置を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to eliminate the above-mentioned drawbacks of the prior art. The object of the present invention is to provide a flux nozzle for a flux applicator for an automatic soldering device. The volume of the flux pool formed on the outside of the flux tank is set to be significantly smaller than the volume of the flux tank, so that the amount of flux that will be returned without being applied while contacting the substrate by overflowing from the flux nozzle is set aside. And the volume of the entire flux tank, including the flux nozzle, is made very small so that almost all of the flux that has foamed and overflowed is applied to the substrate, and this ensures that the virgin flux is always present. So that only new flux close to It is to improve the soldering properties of the plate. Another object of the present invention is to provide a flux applying apparatus which can apply a thin flux to a substrate even though it is a foaming method, can sufficiently apply an ultra-low residue flux, and has a very low risk of fire.
【０００８】また他の目的は、フラックスノズルの外側
とフラックス槽の内壁との間の距離の合計を、フラック
スノズルの底部における基板の搬送方向長さの合計と同
等以下に設定することによって、フラックスノズルの容
積に比べてフラックスプールの容積を相対的に小さく設
定し、フラックス槽全体の容積を減少させてフラックス
塗布装置のコンパクト化を図ると共に、基板に塗布され
ずにもどされたフラックスの貯溜量を減少させ、常にバ
ージンフラックスに近い状態のフラックスが基板に塗布
されるようにすることである。Still another object is to set the total distance between the outside of the flux nozzle and the inner wall of the flux tank to be equal to or less than the total length of the substrate in the carrying direction at the bottom of the flux nozzle. The flux pool volume is set to be relatively small compared to the nozzle volume to reduce the overall volume of the flux tank to make the flux coating device compact, and the amount of stored flux that has not been coated on the substrate and has been returned. Is to be applied to the substrate such that the flux is always close to the virgin flux.
【０００９】更に他の目的は、フラックス発泡管をフラ
ックスノズルの底部に配設することによって、フラック
スの液面レベルを増大させることであり、またこれによ
って少ないエア流量でフラックスを十分に発泡させるこ
とができるようにすると共に、非常に発泡しにくい超低
残渣のフラックスでも完全に発泡させることができるよ
うにすることである。Still another object is to increase the liquid level of the flux by arranging the flux foam tube at the bottom of the flux nozzle, and thereby to sufficiently foam the flux with a small air flow rate. In addition, it is possible to completely foam even the flux of an ultra-low residue that is extremely difficult to foam.
【００１０】また他の目的は、フラックス発泡管の外周
とフラックスノズルの内壁との間の隙間を、フラックス
の泡の直径よりも大きくフラックス発泡管の直径の１／
２以下に設定することにより、フラックス発泡管からの
フラックスの発泡を十分に安定させながら、しかもフラ
ックスノズルの基板の搬送方向長さを小さくしてフラッ
クスノズルの容積を小さくし、結果としてフラックス槽
のコンパクト化を達成することである。Still another object is to make the gap between the outer circumference of the flux foam tube and the inner wall of the flux nozzle larger than the diameter of the flux foam by 1/1 of the diameter of the flux foam tube.
By setting it to 2 or less, while sufficiently stabilizing the foaming of the flux from the flux foaming tube, the length of the flux nozzle in the substrate transport direction is reduced to reduce the volume of the flux nozzle, and as a result, the flux tank Achieving compactness.
【００１１】また他の目的は、フラックスノズルの底部
の基板搬送方向長さをフラックス発泡管の直径の２倍に
設定した場合、該フラックスノズルの上部開口部の同方
向長さをフラックス発泡管の直径の０．８倍乃至１．２
倍の範囲に設定することにより、フラックスノズル開口
部からのフラックスの発泡を最良の状態に安定させると
共に、発泡するフラックスの泡の直径を適度の大きさと
し、またフラックスノズル開口部からの盛り上がりを増
大させて基板に対する塗布性能を向上させることであ
る。Another object is to set the length of the bottom of the flux nozzle in the substrate conveying direction to twice the diameter of the flux foam tube, and to set the length of the upper opening of the flux nozzle in the same direction to the flux foam tube. 0.8 times the diameter to 1.2
By setting the double range, the foaming of the flux from the flux nozzle opening is stabilized in the best condition, the diameter of the foaming foam foam is moderate, and the rise from the flux nozzle opening is increased. To improve the coating performance on the substrate.
【００１２】更に他の目的は、フラックスノズルの上部
開口部に装着される補助フィンの形状を、該開口部から
一段低い位置に配置された水平部と該水平部から連続し
て立ち上がった垂直部からなるＬ字形に形成し、該補助
フィンをフラックスノズルの開口部の両側に固着するこ
とにより、フラックスノズルからオーバフローする発泡
状態のフラックスの盛り上がりを最大にすると共に、ま
た該オーバフローの状態をフラット状態として基板に対
して面接触するようにしてフラックスの塗布性能を向上
させることである。Still another object is to shape the shape of the auxiliary fin attached to the upper opening of the flux nozzle so that the horizontal portion is located at a position one step lower than the opening and the vertical portion continuously rising from the horizontal portion. Is formed into an L-shape, and the auxiliary fins are fixed to both sides of the opening of the flux nozzle to maximize the rise of the foamed flux overflowing from the flux nozzle, and to make the overflow state flat. The purpose is to improve the flux coating performance by making surface contact with the substrate.
【００１３】また他の目的は、フラックスプール内にフ
ラックスの濾過作用を有するスペーサ兼用フィルタを充
填することにより、基板に接触しながら塗布されずにも
どされるフラックスに混入した塵埃等の異物を濾過して
再びバージンフラックスと共に発泡させてオーバフロー
させることにより、基板に塗布されるフラックスを常に
清浄に保つことができるようにすることである。Still another object is to fill the flux pool with a filter that also serves as a spacer having a filtering function of the flux so as to filter foreign matters such as dust mixed in the flux which is returned while not being applied while being in contact with the substrate. That is, the flux applied to the substrate can be always kept clean by foaming again with the virgin flux and causing it to overflow.
【００１４】更に他の目的は、フラックスプール内にフ
ラックスの液面を検出するためのフォトセンサを配設す
ることにより、フラックス槽内のフラックスの残量を非
常に正確に検出できるようにすることであり、またこれ
によってフラックスの補充が最も的確に行われるように
することである。また他の目的は、フラックスノズルの
外側に形成されるフラックスプールの容積をフラックス
槽の容積に比べて著しく小さく設定し、かつ単一のフラ
ックス槽内に複数のフラックスノズルを配設することに
より、フラックスノズルからオーバフローするフラック
スの盛り上がり高さを最大とし、基板に対する塗布性能
を向上させることである。Still another object is to provide a photosensor for detecting the liquid level of the flux in the flux pool so that the remaining amount of the flux in the flux tank can be detected very accurately. And to ensure that the flux is replenished most accurately. Another object is to set the volume of the flux pool formed outside the flux nozzle to be significantly smaller than the volume of the flux tank, and by disposing a plurality of flux nozzles in a single flux tank, The purpose is to improve the coating performance on the substrate by maximizing the rising height of the flux that overflows from the flux nozzle.
【００１５】また他の目的は、フラックスノズルの外側
に形成されるフラックスプールの容積をフラックス槽の
容積に比べて著しく小さく設定し、かつフラックス槽内
に２つのフラックスノズルを密着して配設することによ
り、フラックスノズルからオーバフローするフラックス
の盛り上がり高さを最大にしながら、しかもフラックス
ノズルの容積は最小にしてバージンフラックスの塗布が
可能でコンパクトなフラックスの塗布装置を提供するこ
とである。Still another object is to set the volume of the flux pool formed outside the flux nozzle to be significantly smaller than the volume of the flux tank, and to arrange two flux nozzles in close contact with each other in the flux tank. Thus, it is possible to provide a compact flux coating apparatus capable of coating virgin flux while maximizing the rising height of the flux overflowing from the flux nozzle and minimizing the volume of the flux nozzle.
【００１６】[0016]
【課題を解決するための手段】要するに本発明（請求項
１）は、自動半田付け装置用のフラックス塗布装置にお
いて、フラックスノズルの外側に形成されるフラックス
プールの容積をフラックス槽の容積に比べて著しく小さ
く設定してなることを特徴とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION In summary, the present invention (Claim 1) is such that, in a flux applying apparatus for an automatic soldering apparatus, the volume of a flux pool formed outside a flux nozzle is compared with the volume of a flux tank. It is characterized by being set to be extremely small.
【００１７】また本発明（請求項２）は、フラックスノ
ズルの外側とフラックス槽の内壁との間の距離の合計
を、フラックスノズルの底部における基板の搬送方向長
さの合計と同等以下に設定し、前記フラックス槽の容積
に比べて前記フラックスノズルの外側に形成されるフラ
ックスプールの容積を著しく小さく設定してなることを
特徴とするものである。According to the present invention (claim 2), the total distance between the outside of the flux nozzle and the inner wall of the flux tank is set equal to or less than the total length of the bottom of the flux nozzle in the carrying direction of the substrate. The volume of the flux pool formed outside the flux nozzle is set to be significantly smaller than the volume of the flux tank.
【００１８】また本発明（請求項３）は、自動半田付け
装置用のフラックス塗布装置において、フラックスノズ
ルの外側に形成されるフラックスプールの容積をフラッ
クス槽の容積に比べて著しく小さく設定し、かつフラッ
クス発泡管を前記フラックスノズルの底部に配設したこ
とを特徴とするものである。Further, according to the present invention (claim 3), in the flux applying apparatus for the automatic soldering apparatus, the volume of the flux pool formed outside the flux nozzle is set to be significantly smaller than the volume of the flux tank, and A flux foam tube is arranged at the bottom of the flux nozzle.
【００１９】また本発明（請求項４）は、自動半田付け
装置用のフラックス塗布装置において、フラックスノズ
ルの外側に形成されるフラックスプールの容積をフラッ
クス槽の容積に比べて著しく小さく設定し、かつフラッ
クス発泡管の外周と前記フラックスノズルの内壁との間
の隙間を、フラックスの泡の直径よりも大きく前記フラ
ックス発泡管の直径の１／２以下に設定してなることを
特徴とするものである。According to the present invention (claim 4), in the flux applying apparatus for an automatic soldering apparatus, the volume of the flux pool formed outside the flux nozzle is set to be significantly smaller than the volume of the flux tank, and It is characterized in that the gap between the outer circumference of the flux foam tube and the inner wall of the flux nozzle is set to be larger than the diameter of the bubbles of flux and 1/2 or less of the diameter of the flux foam tube. ..
【００２０】また本発明（請求項５）は、自動半田付け
装置用のフラックス塗布装置において、フラックスノズ
ルの外側に形成されるフラックスプールの容積をフラッ
クス槽の容積に比べて著しく小さく設定し、かつ前記フ
ラックスノズルの底部の基板搬送方向長さを前記フラッ
クス発泡管の直径の２倍に設定した場合、該フラックス
ノズルの上部開口部の同方向長さを前記フラックス発泡
管の直径の０．８倍乃至１．２倍の範囲に設定したこと
を特徴とするものである。According to the present invention (claim 5), in the flux applying apparatus for an automatic soldering apparatus, the volume of the flux pool formed outside the flux nozzle is set to be significantly smaller than the volume of the flux tank, and When the length of the bottom of the flux nozzle in the substrate transport direction is set to twice the diameter of the flux foam tube, the same length of the upper opening of the flux nozzle is 0.8 times the diameter of the flux foam tube. It is characterized in that the range is set to 1.2 times.
【００２１】また本発明（請求項６）は、自動半田付け
装置用のフラックス塗布装置において、フラックスノズ
ルの外側に形成されるフラックスプールの容積をフラッ
クス槽の容積に比べて著しく小さく設定し、かつ前記フ
ラックスノズルの上部開口部に装着される補助フィンの
形状を、該開口部から一段低い位置に配置された水平部
と該水平部から連続して立ち上がった垂直部からなるＬ
字形に形成し、該補助フィンを前記開口部の両側に固着
してなることを特徴とするものである。According to the present invention (claim 6), in the flux applying apparatus for an automatic soldering apparatus, the volume of the flux pool formed outside the flux nozzle is set to be significantly smaller than the volume of the flux tank, and The shape of the auxiliary fin attached to the upper opening of the flux nozzle has a shape of a horizontal portion arranged at a position lower than the opening and a vertical portion continuously rising from the horizontal portion.
The auxiliary fins are formed in a V shape and are fixed to both sides of the opening.
【００２２】また本発明（請求項７）は、自動半田付け
装置用のフラックス塗布装置において、フラックスノズ
ルの外側に形成されるフラックスプールの容積をフラッ
クス槽の容積に比べて著しく小さく設定し、かつ前記フ
ラックスプール内にフラックスの濾過作用を有するスペ
ーサ兼用フィルタを充填してなることを特徴とするもの
である。According to the present invention (claim 7), in the flux applying apparatus for an automatic soldering apparatus, the volume of the flux pool formed outside the flux nozzle is set to be significantly smaller than the volume of the flux tank, and It is characterized in that the flux pool is filled with a filter that also serves as a spacer having a flux filtering action.
【００２３】また本発明（請求項８）は、自動半田付け
装置用のフラックス塗布装置において、フラックスノズ
ルの外側に形成されるフラックスプールの容積をフラッ
クス槽の容積に比べて著しく小さく設定し、かつ前記フ
ラックスプール内にフラックスの液面を検出するための
フォトセンサを配設してなることを特徴とするものであ
る。According to the present invention (claim 8), in the flux applying apparatus for an automatic soldering apparatus, the volume of the flux pool formed outside the flux nozzle is set to be significantly smaller than the volume of the flux tank, and It is characterized in that a photo sensor for detecting the liquid surface of the flux is arranged in the flux pool.
【００２４】また本発明（請求項９）は、自動半田付け
装置用のフラックス塗布装置において、フラックスノズ
ルの外側に形成されるフラックスプールの容積をフラッ
クス槽の容積に比べて著しく小さく設定し、かつ単一の
前記フラックス槽内に複数の前記フラックスノズルを配
設してなることを特徴とするものである。According to the present invention (claim 9), in the flux applying apparatus for the automatic soldering apparatus, the volume of the flux pool formed outside the flux nozzle is set to be significantly smaller than the volume of the flux tank, and It is characterized in that a plurality of the flux nozzles are arranged in a single flux tank.
【００２５】また本発明（請求項１０）は、自動半田付
け装置用のフラックス塗布装置において、フラックスノ
ズルの外側に形成されるフラックスプールの容積をフラ
ックス槽の容積に比べて著しく小さく設定し、かつ前記
フラックス槽内に２つの前記フラックスノズルが密着し
て配設されたことを特徴とするものである。According to the present invention (claim 10), in the flux applying apparatus for the automatic soldering apparatus, the volume of the flux pool formed outside the flux nozzle is set to be significantly smaller than the volume of the flux tank, and The two flux nozzles are arranged in close contact with each other in the flux tank.
【００２６】[0026]
【実施例】まず図１から図４を参照して、本発明の第１
実施例について説明する。本発明に係るフラックス塗布
装置１は、フラックス槽２と、フラックスノズル３と、
フラックス発泡管４と、補助フィン５と、スペーサ兼用
フィルタ６と、フォトセンサ８とを備えており、これら
を主要部として構成されている。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First of all, referring to FIGS.
Examples will be described. A flux coating apparatus 1 according to the present invention includes a flux tank 2, a flux nozzle 3,
The flux foam tube 4, the auxiliary fins 5, the spacer / filter 6 and the photo sensor 8 are provided, and these components are the main components.
【００２７】図４に示すように、フラックスノズル３
は、フラックス槽２から簡単に取り外せるように別部品
として構成されており、該フラックス槽２は、その本体
は外壁板２ａにより上方に開口した断面コの字形の長方
形状の容器として構成され、上部には基板（図示せず）
等から滴下するフラックスを受けてフラックス槽２内に
もどすためのフラックス受け板９が基板の搬送方向前後
側に互いに反対方向に傾斜して取り付けられている。As shown in FIG. 4, the flux nozzle 3
Is configured as a separate component so that it can be easily removed from the flux tank 2, and the main body of the flux tank 2 is configured as a rectangular container having a U-shaped cross section opened upward by an outer wall plate 2a. On the substrate (not shown)
Flux receiving plates 9 for receiving the flux dropped from the above and returning it to the inside of the flux tank 2 are attached to the front and rear sides of the substrate in the conveying direction while being inclined in opposite directions.
【００２８】そして両端は側壁板２ｂ，２ｃにより囲わ
れており、該側壁板２ｃの外側には、外壁板２ａが延設
されて箱形部２ｄが形成され、該箱形部２ｄの上面２ｅ
の端部には大きい溝２ｆ，２ｇと小さい溝２ｈと穴２ｉ
が形成され、下部にはドレン１０が連通接続されてい
る。Both ends are surrounded by side wall plates 2b and 2c. Outside the side wall plate 2c, an outer wall plate 2a is extended to form a box-shaped portion 2d, and an upper surface 2e of the box-shaped portion 2d.
At the end of the large groove 2f, 2g and small groove 2h and hole 2i
Is formed, and the drain 10 is communicatively connected to the lower portion.
【００２９】フラックスノズル３は、図示の第１実施例
では、２つのフラックスノズル３が密着して配設されて
おり、底部３ａの基板の搬送方向長さＢは、上部開口部
３ｂの同方向長さｂよりも広く形成され、また底部２ａ
にフラックス発泡管４がフラックスノズル３の基板の幅
方向の全長にわたって固定されている。In the illustrated first embodiment, two flux nozzles 3 are arranged in close contact with each other, and the length B of the bottom portion 3a in the substrate carrying direction is the same as that of the upper opening 3b. Wider than the length b, and the bottom 2a
Further, the flux foam tube 4 is fixed over the entire length of the flux nozzle 3 in the width direction of the substrate.
【００３０】またフラックスノズル３には、その両端に
夫々側壁板３ｋ，３リットルが固着されており、側壁板
３リットルには、補給されたバージンフラックスをフラ
ックス槽２内に流入させるための複数のフラックス補給
穴３ｊがあけられている。そしてフラックス槽２全体の
容積は、従来例（約１０リットル）に比べて著しく小さ
く、わずか１リットル程度とされ、従来例の約１／１０
の容積となっている。Side wall plates 3k and 3 liters are fixed to both ends of the flux nozzle 3, and a plurality of side wall plates 3k for allowing the supplied virgin flux to flow into the flux tank 2 are provided. The flux supply hole 3j is opened. The total volume of the flux tank 2 is significantly smaller than that of the conventional example (about 10 liters), and is about 1 liter.
It has a volume of.
【００３１】またフラックスノズル３の底部３ａの基板
の搬送方向長さＢは、フラックスノズル３の内壁３ｃと
の間の隙間Ｃ，Ｃとフラックス発泡管４の外径Ｄの和で
あり、隙間Ｃは、フラックス２２の泡１２の直径ｄより
も大きく、フラックス発泡管４の外径Ｄの１／２以下の
寸法に設定されている。従って、フラックスノズル３の
長さＢは、隙間Ｃを最大の１／２Ｄにとった場合には２
Ｄなる。The length B of the bottom portion 3a of the flux nozzle 3 in the carrying direction of the substrate is the sum of the gaps C and C between the inner wall 3c of the flux nozzle 3 and the outer diameter D of the flux foam tube 4, and the gap C. Is larger than the diameter d of the bubble 12 of the flux 22 and is set to a dimension of 1/2 or less of the outer diameter D of the flux foam tube 4. Therefore, the length B of the flux nozzle 3 is 2 when the gap C is set to the maximum 1 / 2D.
It becomes D.
【００３２】このように長さＢを２Ｄとした場合のフラ
ックスノズル３の上部開口部３ｂの基板の搬送方向長さ
ｂの最適値は、０．８Ｄ乃至１．２Ｄの範囲、即ちフラ
ックスノズル３の底部３ａの長さＢとの関係では、０．
４Ｂ乃至０．６Ｂの範囲である。Thus, when the length B is 2D, the optimum value of the length b of the upper opening 3b of the flux nozzle 3 in the substrate transport direction is in the range of 0.8D to 1.2D, that is, the flux nozzle 3 In relation to the length B of the bottom portion 3a of 0.
It is in the range of 4B to 0.6B.
【００３３】フラックス発泡管４は、一例として外径１
０ｍｍφ、内径６ｍｍφ、長さ２２０ｍｍ、粒子の大き
さ１０μｍ（規格Ｈ−９）のポリエチレンフラックス発
泡管を使用しているが、これは焼結金属製のフラックス
発泡管でもよい。The flux foam tube 4 has an outer diameter of 1 as an example.
A polyethylene flux foam tube having a diameter of 0 mmφ, an inner diameter of 6 mmφ, a length of 220 mm, and a particle size of 10 μm (standard H-9) is used, but a flux foam tube made of a sintered metal may be used.
【００３４】補助フィン５の形状は、フラックスノズル
３の開口部３ｂから一段低い位置に配置された水平部５
ａと該水平部から連続して立ち上がった垂直部５ｂから
なるＬ字形に形成されており、該補助フィンは開口部３
ｂの両側に固着されている。また水平部５ａの長さｗ
は、開口部３ｂの長さｂよりも若干小さい程度に設定さ
れている。また水平部５ａには基板に塗布されなかった
フラックス２２をフラックスプール１８にもどすための
複数の穴５ｃがあけられている。The shape of the auxiliary fin 5 is such that the horizontal portion 5 is located one step lower than the opening 3b of the flux nozzle 3.
The auxiliary fin is formed in an L-shape, which is composed of a and a vertical portion 5b continuously rising from the horizontal portion.
It is fixed on both sides of b. Also, the length w of the horizontal portion 5a
Is set to be slightly smaller than the length b of the opening 3b. Further, the horizontal portion 5a is provided with a plurality of holes 5c for returning the flux 22 not applied to the substrate to the flux pool 18.
【００３５】フラックスノズル３の一端には、ブロック
部３ｄが形成されており、該ブロック部にはフォトセン
サ８が取り付けられるための穴３ｉ、フラックス発泡管
４に連通接続されたエアパイプ１３，１４が連通接続さ
れるためのねじ穴３ｆ，３ｇ及びフラックス２２の補給
管１５が連通接続されるための穴３ｈが夫々形成され、
フォトセンサ８は穴３ｉに蝶ねじ１６により固定され、
エアパイプ１３はねじ穴３ｆに、エアパイプ１４はねじ
穴３ｇに、またフラックス補給管１５は穴３ｈに夫々連
通接続されている。A block portion 3d is formed at one end of the flux nozzle 3, and a hole 3i for attaching the photosensor 8 and air pipes 13 and 14 connected to the flux foam tube 4 are formed in the block portion 3d. Screw holes 3f and 3g for communication connection and holes 3h for communication connection of the supply pipe 15 of the flux 22 are formed,
The photo sensor 8 is fixed to the hole 3i by the thumbscrew 16,
The air pipe 13 is connected to the screw hole 3f, the air pipe 14 is connected to the screw hole 3g, and the flux supply pipe 15 is connected to the hole 3h.
【００３６】そしてフラックスノズル３がフラックス槽
２に組み付けられたときには、フォトセンサ８がフラッ
クス槽２の箱状部２ｄの穴２ｉに、エアパイプ１３が溝
２ｆに、エアパイプ１４が溝２ｇに、フラックス補給管
１５が溝２ｈに夫々係合するようになっている。When the flux nozzle 3 is assembled in the flux tank 2, the photosensor 8 is in the hole 2i of the box-shaped portion 2d of the flux tank 2, the air pipe 13 is in the groove 2f, the air pipe 14 is in the groove 2g, and the flux is replenished. The tubes 15 are adapted to engage with the grooves 2h, respectively.
【００３７】またフラックスノズル３とフラックス槽２
の組付け状態においては、フラックスノズル３の外側に
形成されるフラックスプール１８にスペーサ兼用フィル
タ６が充填されている。Further, the flux nozzle 3 and the flux tank 2
In the assembled state, the flux pool 18 formed outside the flux nozzle 3 is filled with the spacer / filter 6.
【００３８】またフラックスノズル３の外側とフラック
ス槽２の内壁との間の距離Ｓの合計Ｓ＋Ｓは、フラック
スノズル３の底部３ａにおける基板の搬送方向長さＢの
合計Ｂ＋Ｂと同等以下に設定され、フラックス槽２の容
積に比べてフラックスノズル３の外側に形成されるフラ
ックスプール１８の容積を著しく小さく設定してある。
換言すれば、フラックスプール１８の長さＳの合計Ｓ＋
Ｓは、フラックス槽２の基板の搬送方向長さＬ＝Ｓ＋Ｓ
＋Ｂ＋Ｂよりも著しく小さく設定されている。The sum S + S of the distances S between the outside of the flux nozzle 3 and the inner wall of the flux tank 2 is set to be equal to or less than the sum B + B of the length B of the substrate 3 in the carrying direction at the bottom 3a of the flux nozzle 3, The volume of the flux pool 18 formed outside the flux nozzle 3 is set to be significantly smaller than the volume of the flux tank 2.
In other words, the sum S + of the lengths S of the flux pool 18
S is the length of the flux tank 2 in the substrate transport direction L = S + S
It is set to be significantly smaller than + B + B.
【００３９】また一例として、フラックス２２の液面レ
ベルＨは、５０ｍｍ程度に設定され、フラックスノズル
３の高さＨｉは１００ｍｍ程度に設定されている。次
に、図５に示す本発明の第２実施例について説明する
と、この実施例は、フラックス２の中に単一のフラック
スノズル３を配設してなることと、フラックス槽２の下
部を細く形成してある点が第１実施例と異なるのみで、
他はすべて第１実施例と同一であるので、同一部分には
図面に同一の符号を付して説明を省略する。As an example, the liquid level H of the flux 22 is set to about 50 mm, and the height Hi of the flux nozzle 3 is set to about 100 mm. Next, a second embodiment of the present invention shown in FIG. 5 will be described. In this embodiment, a single flux nozzle 3 is arranged in the flux 2, and the lower part of the flux tank 2 is thinned. It is different from the first embodiment in that it is formed,
Since all other points are the same as those in the first embodiment, the same parts are designated by the same reference numerals in the drawings and their description is omitted.
【００４０】次に、図６から図８を参照して、フラック
スノズル３内におけるフラックス発泡管４を配置すべき
位置が該フラックスノズル３の底部３ａであり、フラッ
クス発泡管４の外径が１０ｍｍφであることが最良であ
るとした根拠について説明する。Next, referring to FIGS. 6 to 8, the position where the flux foam tube 4 is to be arranged in the flux nozzle 3 is the bottom portion 3a of the flux nozzle 3, and the outer diameter of the flux foam tube 4 is 10 mmφ. The reason why it is the best is explained.
【００４１】図６に示すようなフラックスノズル３、即
ち底部３ａの基板の搬送方向長さＢが６０ｍｍ、高さＨ
ｉが１００ｍｍ、上部開口部３ｂの長さｂが２０ｍｍ、
フラックスノズル３の基板の幅方向長さＬ1 が２６０ｍ
ｍのフラックスノズル３を製作した。The length B of the flux nozzle 3 as shown in FIG. 6, that is, the bottom 3a of the substrate in the carrying direction is 60 mm and the height H is H.
i is 100 mm, the length b of the upper opening 3b is 20 mm,
The widthwise length L 1 of the substrate of the flux nozzle 3 is 260 m.
m flux nozzle 3 was manufactured.
【００４２】フラックス発泡管４は、外径／内径が夫々
１０ｍｍφ／６ｍｍφ、２０ｍｍφ／１０ｍｍφ、３０
ｍｍφ／１８ｍｍφ、長さは２２０ｍｍ、規格はＨ−
９、ポリエチレン製発泡管で口径が平均して約１０μｍ
の３種類の外径／内径のみが異なるものを使用した。The outer diameter / inner diameter of the flux foam tube 4 is 10 mmφ / 6 mmφ, 20 mmφ / 10 mmφ, 30 respectively.
mmφ / 18mmφ, length 220mm, standard is H-
9. Polyethylene foam tube with an average diameter of about 10 μm
The three types having different outer diameters / inner diameters were used.
【００４３】そしてフラックス２２の温度を２０℃に保
ち、発泡用のエアの圧力を２ｋｇｆ／ｃｍ2 として、フ
ラックスノズル３の開口部３ｂからオーバフローが開始
される際のエアの流量をフラックス２２の液面レベルＨ
と、フラックス発泡管４の上面４ａからフラックス２２
の液面２２ａまでの距離、即ちヘッドｈを種々変化させ
て測定した。またその際のフラックス２２の泡１２の直
径ｄとその安定さ及び発泡レベルの安定さを比較検討し
た。Then, the temperature of the flux 22 is kept at 20 ° C., the pressure of the foaming air is set to 2 kgf / cm 2 , and the flow rate of the air when the overflow starts from the opening 3b of the flux nozzle 3 is the liquid of the flux 22. Surface level H
And the flux 22 from the upper surface 4a of the flux foam tube 4
To the liquid surface 22a, that is, the head h was variously changed and measured. Further, the diameter d of the foam 12 of the flux 22 and its stability and foaming level stability at that time were compared and examined.
【００４４】その結果、まず図７に示すように、液面レ
ベルＨを２０ｍｍから９０ｍｍまで変化させた際にフラ
ックス２２の発泡が開始される際のエアの流量は、上記
３種類のフラックス発泡管４ではほとんど差がなく、ま
た液面レベルＨが大きい程少ないエア流量で発泡が開始
されることが判明した。As a result, first, as shown in FIG. 7, when the liquid level H is changed from 20 mm to 90 mm, the flow rate of air when the foaming of the flux 22 is started is the same as that of the above three types of flux foaming tubes. It was found that in No. 4, there is almost no difference, and the larger the liquid level H is, the smaller the air flow rate is to start the foaming.
【００４５】また発泡したフラックス２２の泡１２の直
径ｄ及びその安定さを目視で観察したところ、図７の細
い実線よりも左上の範囲（液面レベルＨが５０ｍｍ以
上、エア流量４リットル／ｍｉｎ以下の範囲）におい
て、泡１２の直径ｄが小さく、しかも安定していること
が確認された。また逆に液面レベルＨが小さくなる程発
泡が開始される際のエアの流量は増大し、かつ泡１２の
直径が大きく不安定になることがわかった。Further, when the diameter d of the foam 12 of the foamed flux 22 and its stability are visually observed, the upper left range (the liquid level H is 50 mm or more, the air flow rate is 4 liters / min) of the thin solid line in FIG. In the following range), it was confirmed that the diameter d of the bubble 12 was small and was stable. On the contrary, it was found that the smaller the liquid surface level H, the larger the flow rate of air at the start of foaming, and the larger the diameter of the foam 12, which became unstable.
【００４６】これにより、フラックス２２の液面レベル
Ｈは大きい程よいこと（５０ｍｍ以上がよいこと）、換
言すればフラックス発泡管４はフラックスノズル３の最
も深いところ、即ち底部３ａに配置することが最良であ
り、液面レベルＨを大きくするためにもフラックス発泡
管４の外径Ｄは３種類のうちで最も小さい１０ｍｍφの
ものが最良であることになるのである。Accordingly, the larger the liquid level H of the flux 22 is, the better (50 mm or more is better). In other words, the flux foam tube 4 is best placed at the deepest portion of the flux nozzle 3, that is, the bottom portion 3a. Therefore, in order to increase the liquid level H, the outer diameter D of the flux foam tube 4 is 10 mmφ, which is the smallest of the three types, which is the best.
【００４７】次に、図８に示すように、フラックス発泡
管４の上面４ａからフラックス２２の液面２２ａまでの
距離、即ちヘッドｈを種々変化させて発泡が開始される
際のエアの流量及びその際の発泡レベルの安定さを比較
検討した結果、３種類のフラックス発泡管４で若干の差
があること、即ち同じエアの流量（例えば４リットル／
ｍｉｎ）であれば、外径の大きい順に小さなヘッドｈで
発泡レベルが安定することがわかった。そして図８の細
い実線よりも下の範囲（エア流量４リットル／ｍｉｎ以
下の範囲）において発泡レベルが安定することが確認さ
れた。Next, as shown in FIG. 8, the distance from the upper surface 4a of the flux foaming tube 4 to the liquid surface 22a of the flux 22, that is, the flow rate of air when foaming is started by variously changing the head h and As a result of a comparative examination of the stability of the foaming level at that time, there is a slight difference between the three types of flux foaming tubes 4, that is, the same air flow rate (for example, 4 liters /
min), it was found that the foaming level was stable with the head h having a smaller outer diameter. It was confirmed that the foaming level was stable in the range below the thin solid line in FIG. 8 (range where the air flow rate was 4 liters / min or less).
【００４８】しかしこのヘッドｈは、ｈ＝Ｈ−Ｄの関係
にあるから、フラックスの液面レベルＨが同一であれ
ば、フラックス発泡管４の外径Ｄが大きくなる程小さく
なるので、実際には図８に示す３本のプロット線はもっ
と実質的に接近することとなり、フラックス発泡管４の
外径Ｄによる発泡レベルの安定さにはほとんど差がな
い。However, since the head h has a relationship of h = H-D, if the liquid level H of the flux is the same, the larger the outer diameter D of the flux foam tube 4 becomes, the smaller it becomes. The three plotted lines shown in FIG. 8 are substantially closer to each other, and there is almost no difference in the stability of the foaming level depending on the outer diameter D of the flux foaming tube 4.
【００４９】以上の結果、フラックスノズル３のコンパ
クト化を図るためにも必然的にフラックス発泡管４の外
径は最小の１０ｍｍφのものを使用することがやはり最
良であり、またその位置はフラックスノズル３の底部３
ａが最良であるということになるのである。As a result of the above, in order to make the flux nozzle 3 compact, it is inevitably best to use the flux foam tube 4 having the minimum outer diameter of 10 mmφ, and its position is the flux nozzle. Bottom 3 of 3
That is, a is the best.
【００５０】次に、図９及び図１０を参照して、フラッ
クスノズル３の底部３ａにおいて、フラックス発泡管４
の外周とフラックスノズル３の内壁との間の隙間Ｃが、
フラックス２２の泡１２の直径ｄより大きく、フラック
ス発泡管４の外径Ｄの１／２以下であることが必要であ
る根拠について説明する。Next, referring to FIGS. 9 and 10, in the bottom portion 3a of the flux nozzle 3, the flux foam tube 4 is formed.
The gap C between the outer periphery of the and the inner wall of the flux nozzle 3 is
The reason why it is necessary to be larger than the diameter d of the bubbles 12 of the flux 22 and not more than 1/2 of the outer diameter D of the flux foam tube 4 will be described.
【００５１】まずフラックス槽２内におけるフラックス
２２の発泡の仕方について、図１０により説明すると、
フラックス発泡管４の周囲に十分に隙間が存在する場合
には、フラックス発泡管４の外径Ｄやフラックス２２の
液面レベルＨには影響されず、ほぼ同様の発泡をし、図
１０に示すように、フラックス発泡管４の周囲から発泡
したフラックス２２の泡１２は一旦フラックス発泡管４
の上面４ａ付近に集合してから真っ直ぐに上昇して液面
２２ａで泡として盛り上がることがわかっている。First, a method of foaming the flux 22 in the flux tank 2 will be described with reference to FIG.
When there is a sufficient gap around the flux foam tube 4, the outer diameter D of the flux foam tube 4 and the liquid level H of the flux 22 are not affected, and substantially the same foam is generated, as shown in FIG. As described above, the bubbles 12 of the flux 22 foamed around the flux foam tube 4 are temporarily
It is known that after gathering in the vicinity of the upper surface 4a, it rises straight and rises as bubbles on the liquid surface 22a.
【００５２】図９（Ａ）においては、隙間Ｃが０であ
り、この場合にはフラックス２２の発泡はフラックス発
泡管４の上半分のみにより行われることになり、フラッ
クスノズル３の内壁付近で発泡した泡１２は十分な隙間
がないため、２つの泡１２が１つの泡１２に合一してし
まい、その直径ｄが通常の泡１２の約２倍となり、大小
の泡１２が混じり合った不均一の直径の泡１２となって
発泡してしまうことがわかった。In FIG. 9 (A), the clearance C is 0, and in this case, the foaming of the flux 22 is performed only by the upper half of the flux foaming tube 4, and foaming near the inner wall of the flux nozzle 3. Since the bubbles 12 formed do not have a sufficient gap, the two bubbles 12 coalesce into one bubble 12, and the diameter d thereof is about twice as large as that of the normal bubble 12, and the large and small bubbles 12 are mixed together. It was found that the bubbles 12 having a uniform diameter were formed.
【００５３】この点、図９（Ｂ）では、隙間Ｃを十分に
とっているので、このような泡１２の合一は起こらず、
極めて順調に発泡が行われる。そしてこの泡１２の合一
が起こらない最小の隙間Ｃの値は、発泡した泡１２の直
径ｄと同一、即ちＣ＝ｄとすればよいことになる。In this respect, in FIG. 9 (B), since the gap C is sufficiently filled, such coalescence of the bubbles 12 does not occur,
Foaming is carried out very smoothly. The minimum value of the clearance C at which coalescence of the bubbles 12 does not occur is the same as the diameter d of the foamed bubbles 12, that is, C = d.
【００５４】しかしこの隙間Ｃの値をあまり大きくする
ことは、フラックスノズル３の底部３ａの長さＢを必要
以上に大きくし、フラックスノズル３のコンパクト化を
図ることができないので、隙間Ｃの最大値はフラックス
発泡管４の外径Ｄの１／２程度とすべきである。However, if the value of the clearance C is made too large, the length B of the bottom portion 3a of the flux nozzle 3 is unnecessarily increased and the flux nozzle 3 cannot be made compact. The value should be about 1/2 of the outer diameter D of the flux foam tube 4.
【００５５】以上の結果、隙間Ｃはフラックス２２の泡
１２の直径ｄよりも大きく、フラックス発泡管４の外径
Ｄの１／２以下に設定することが最良であるということ
になるのである。ちなみに泡１２の直径は約１ｍｍφで
あるので、フラックス発泡管４の外径Ｄが１０ｍｍφで
ある場合には、１ｍｍ＜Ｃ≦５ｍｍ とすることが最良
である。As a result, the clearance C is larger than the diameter d of the bubble 12 of the flux 22, and it is best to set it to 1/2 or less of the outer diameter D of the flux foam tube 4. By the way, since the diameter of the bubble 12 is about 1 mmφ, it is best to set 1 mm <C ≦ 5 mm when the outer diameter D of the flux foam tube 4 is 10 mmφ.
【００５６】またこの結果、フラックスノズル３の底部
３ａの長さＢは、２ｄ＋Ｄ＜Ｂ≦２Ｄの範囲にあること
が最良であり、即ち上記寸法例では、１２ｍｍ＜Ｂ≦２
０ｍｍが最良である。As a result, the length B of the bottom portion 3a of the flux nozzle 3 is best in the range of 2d + D <B ≦ 2D, that is, 12 mm <B ≦ 2 in the above dimension example.
0 mm is the best.
【００５７】次に、図１１によりフラックスノズル３の
底部３ａの基板の搬送方向長さＢと、上部開口部３ｂの
長さｂとの関係が、長さＢ＝２Ｄとした場合、０．８Ｄ
≦ｂ≦１．２Ｄ、換言すれば０．４Ｂ≦ｂ≦０．６Ｂで
あることが最良である根拠について説明する。Next, referring to FIG. 11, the relationship between the length B of the bottom 3a of the flux nozzle 3 in the substrate transport direction and the length b of the upper opening 3b is 0.8D when the length B = 2D.
The reason why ≦ b ≦ 1.2D, in other words, 0.4B ≦ b ≦ 0.6B is the best is described.
【００５８】図１１は、エアの圧力を２ｋｇｆ／ｃ
ｍ2 、エアの流量を２リットル／ｍｉｎ、フラックスレ
ベルＨを５０ｍｍ、フラックスノズル３高さＨｉを１０
０ｍｍとして、フラックス発泡管４でフラックス２２を
発泡させた場合、フラックスノズル３の開口部３ｂの長
さｂを種々変化させたときの発泡の状態と、フラックス
ノズル３からのフラックス２２の泡１２のオーバフロー
の状態を示すものである。FIG. 11 shows that the air pressure is 2 kgf / c.
m 2 , air flow rate 2 liter / min, flux level H 50 mm, flux nozzle 3 height Hi 10
When the flux 22 is foamed with the flux foaming tube 4 at 0 mm, the state of foaming when the length b of the opening 3b of the flux nozzle 3 is variously changed and the foam 12 of the flux 22 from the flux nozzle 3 It shows the state of overflow.
【００５９】図１１（Ａ）では、長さｂが長さＢよりも
はるかに大きいので、フラックス２２の泡１２は一定レ
ベル以上に上昇することはなく、また（Ｂ）でも同様に
（Ａ）よりは泡１２が上昇するものの、やはりオーバフ
ローすることはない。また（Ｃ）では長さｂ＝Ｂ＝２Ｄ
としてあり、これによってフラックス２２の泡１２はよ
うやくオーバフローすることになるが、上部開口部３ｂ
からの盛り上がり高さがほとんどなく、実用にならな
い。In FIG. 11 (A), since the length b is much larger than the length B, the bubbles 12 of the flux 22 do not rise above a certain level, and in the case of (B) as well, (A). Although the bubble 12 rises more than that, it never overflows. Further, in (C), the length b = B = 2D
As a result, the bubbles 12 of the flux 22 will finally overflow, but the upper opening 3b
There is almost no swelling height from, and it is not practical.
【００６０】これに対して（Ｄ）では、長さｂを、０．
８Ｄ≦ｂ≦１．２Ｄの範囲内において、ｂ＝Ｄ＝０．５
Ｂに設定した場合を示し、フラックス２２の泡１２の直
径ｄも揃っていて安定しており、しかもフラックスノズ
ル３の上部開口部３ｂからの盛り上がり高さが最も高く
なり、最良の結果を示した。On the other hand, in (D), the length b is 0.
Within the range of 8D ≦ b ≦ 1.2D, b = D = 0.5
In the case of setting to B, the diameters d of the bubbles 12 of the flux 22 are uniform and stable, and the height of the protrusion from the upper opening 3b of the flux nozzle 3 is the highest, and the best result is shown. ..
【００６１】（Ｅ）では、更に長さｂを小さくし、ｂ＜
０．８Ｄとしたものであり、この場合には、泡１２は十
分にオーバフローするものの、観察の結果泡１２の合一
が激しくなるため直径ｄが大きくなり、また不安定とな
ることが判明した。In (E), the length b is further reduced so that b <
In this case, the bubbles 12 overflowed sufficiently, but as a result of observation, it was found that the coalescence of the bubbles 12 became severe and the diameter d became large and became unstable. ..
【００６２】また長さｂが１．２Ｄを超えると、泡１２
の合一が更に激しくなり泡１２の崩壊が始まるので泡１
２の盛り上がり高さが急激に減少してしまうことがわか
った。If the length b exceeds 1.2D, bubbles 12
The coalescence of bubbles becomes more intense and the collapse of bubbles 12 begins, so bubbles 1
It was found that the height of the bulge of 2 decreased sharply.
【００６３】以上の結果、フラックスノズル３の上部開
口部３ｂ長さｂの値は、底部３ａの長さＢが２Ｄである
場合には、フラックス発泡管４の外径Ｄの２０％減から
２０％増の範囲、換言すれば０．４Ｂ乃至０．６Ｂの範
囲に設定することが最良であることが確認されたのであ
る。As a result, the value of the length b of the upper opening 3b of the flux nozzle 3 is reduced from 20% of the outer diameter D of the flux foam tube 4 to 20 when the length B of the bottom 3a is 2D. It was confirmed that it is best to set the range of% increase, in other words, the range of 0.4B to 0.6B.
【００６４】次に、図１２を参照して、補助フィン５
を、フラックスノズル３の開口部３ｂから一段低い位置
に配置された水平部５ａと該水平部から連続して立ち上
がった垂直部５ｂからなるＬ字形に形成し、該補助フィ
ンを開口部３４ｂの両側に固着することの根拠について
説明する。Next, referring to FIG. 12, the auxiliary fin 5
Is formed into an L-shape having a horizontal portion 5a arranged at a position one step lower than the opening 3b of the flux nozzle 3 and a vertical portion 5b continuously rising from the horizontal portion, and the auxiliary fins are provided on both sides of the opening 34b. Explain the grounds for sticking to.
【００６５】図１２（Ａ）は、本発明の実施例であり、
この場合には発泡した泡１２の盛り上がり高さＦは最大
で８乃至１０ｍｍとなり、他のものより１乃至２ｍｍ高
くなる。これに対して（Ｂ）では補助フィン５Ｂの形状
を、下に凸に湾曲した椀状にしており、この場合には泡
１２の盛り上がり高さＦは、（Ａ）の場合よりも低くな
り、また（Ｃ）では補助フィン５Ｃの形状を、単に所定
角度傾斜した平板状にしており、この場合も泡１２の盛
り上がり高さＦは（Ａ）の場合よりも低くなってしまう
ことが判明した。なお、補助フィン５の長さＷは、フラ
ックスノズル３の開口部３ｂの長さｂの３倍程度が適当
である。FIG. 12A shows an embodiment of the present invention,
In this case, the rising height F of the foam 12 is up to 8 to 10 mm, which is 1 to 2 mm higher than the others. On the other hand, in (B), the shape of the auxiliary fin 5B is in the shape of a bowl that is convexly curved downward, and in this case, the rising height F of the bubble 12 is lower than that in (A), Further, in (C), the shape of the auxiliary fin 5C is simply a flat plate inclined by a predetermined angle, and in this case as well, it was found that the rising height F of the bubble 12 is lower than that in (A). The length W of the auxiliary fin 5 is preferably about 3 times the length b of the opening 3b of the flux nozzle 3.
【００６６】以上の結果から、補助フィン５の形状は、
図１２（Ａ）に示す形状のものが最良であるということ
がわかった。From the above results, the shape of the auxiliary fin 5 is
It was found that the shape shown in FIG. 12 (A) was the best.
【００６７】次に、図１３によりフラックスノズル３を
複数本、特に２本密着させて用いることの根拠について
説明する。図１３（Ａ）では、フラックスノズル３は２
本密着して用いられており、この場合には図１２（Ａ）
の単一のフラックスノズル３の場合よりも泡の盛り上が
り高さＦが１乃至２ｍｍ高くなって、１０乃至１１ｍｍ
となる。Next, the grounds for using a plurality of flux nozzles 3, particularly two flux nozzles, in close contact with each other will be described with reference to FIG. In FIG. 13 (A), the number of flux nozzles 3 is 2.
It is used in close contact with the main body. In this case, FIG. 12 (A)
The rise height F of the bubble is 1 to 2 mm higher than that of the single flux nozzle 3 of 10 to 11 mm.
Becomes
【００６８】これに対して、図１３（Ｂ）でフラックス
ノズル３を３本密着して用いたところ、これ以上の盛り
上がり増大効果はなく、２本使用の場合と同じく盛り上
がり高さＦは１０乃至１１ｍｍであった。On the other hand, when three flux nozzles 3 are used in close contact with each other in FIG. 13 (B), there is no further effect of increasing the swelling, and the swelling height F is 10 to 10 as in the case of using two. It was 11 mm.
【００６９】このことからフラックスノズル３を複数本
使用することは、泡１２の盛り上がり高さをより高くす
る上で効果があり、特に２本の密着使用の場合が最も効
率的であることが判明したのである。なお、補助フィン
５の長さＷは、フラックスノズル３の本数が多くなる程
長くなることは当然である。From this fact, it is proved that the use of a plurality of flux nozzles 3 is effective in increasing the height of the bubbles 12 rising, and is most effective particularly in the case where two bubbles are used in close contact. I did. The length W of the auxiliary fins 5 naturally increases as the number of the flux nozzles 3 increases.
【００７０】本発明は、上記のように構成されており、
以下その作用について説明する。図１から図４におい
て、フラックス補給管１５から矢印Ｋの如くバージンフ
ラックスが補給され、フラックス槽２内のフラックスノ
ズル３内及びフラックスプール１８内にフラックス２２
が貯溜される。The present invention is configured as described above,
The operation will be described below. 1 to 4, virgin flux is replenished from the flux replenishment pipe 15 as shown by an arrow K, and the flux 22 is supplied to the flux nozzle 3 in the flux tank 2 and the flux pool 18.
Is stored.
【００７１】そこで、矢印Ｉ，Ｊの如くエアパイプ（図
示せず）からエアが供給されると、フラックス発泡管４
の周囲には少なくとも泡１２の直径ｄより大きい隙間Ｃ
が形成されているので、泡１２が合一することなく、し
かも安定した大きさの泡１２となってフラックス２２中
を上昇し、液面２２ａより上には泡１２が充満して開口
部３ｂからオーバフローし、補助フィン５の作用により
大きく盛り上がって基板に順調に塗布される。Therefore, when air is supplied from an air pipe (not shown) as indicated by arrows I and J, the flux foam tube 4
Around the circumference of at least a gap C larger than the diameter d of the bubble 12
Since the bubbles 12 are formed, the bubbles 12 do not coalesce, and the bubbles 12 having a stable size rise in the flux 22 and the bubbles 12 are filled above the liquid surface 22a to fill the openings 3b. Overflows from the surface of the substrate, is greatly raised by the action of the auxiliary fin 5, and is smoothly applied to the substrate.
【００７２】この場合、オーバフローしたフラックス２
２の泡１２はそのほとんどが基板に塗布されてしまい、
わずかな量しかフラックスプール１８にもどされない。
そして補助フィンの穴５ｃを通ってもどされるフラック
ス２２はフラックスプール１８内に充填されたスペーサ
兼用フィルタ６により濾過されるため、基板に接触する
ことで混入した塵埃、水等の異物が完全に除去されたフ
ラックス２２となって再びバージンフラックスに混合さ
れて発泡し、泡１２となって基板に塗布される。In this case, the overflowed flux 2
Most of the bubbles 12 of 2 are applied to the substrate,
Only a small amount is returned to the flux pool 18.
Then, the flux 22 returned through the holes 5c of the auxiliary fins is filtered by the spacer / filter 6 filled in the flux pool 18, so that foreign matters such as dust and water mixed by coming into contact with the substrate are completely removed. The formed flux 22 is mixed with the virgin flux again to foam, and the foam 12 is applied to the substrate.
【００７３】この場合、フラックス槽２の容積は１リッ
トル程度と極めて小さいので、一度補給されたバージン
フラックスはほとんどバージンフラックスのまま基板に
塗布されてしまい、常にバージンフラックスに近い状態
のフラックス２２のみが基板に塗布されることになる。In this case, since the volume of the flux tank 2 is extremely small, about 1 liter, most of the virgin flux once supplied is applied to the substrate as virgin flux, and only the flux 22 in a state close to virgin flux is always present. It will be applied to the substrate.
【００７４】このため古くなったフラックスを繰り返し
使用していた従来例に比べて、フラックス２２の密度が
変化したり変質したものを基板に塗布するおそれが全く
なくなり、半田付け性能を向上させることができる。Therefore, as compared with the conventional example in which the old flux is repeatedly used, there is no possibility of applying the flux 22 having a changed density or a deteriorated flux to the substrate, and the soldering performance can be improved. it can.
【００７５】また極めて安定した大きさの泡１２が得ら
れ、しかも発泡したフラックス２２の泡のレベルが安定
し、基板に極く薄くフラックス２２を塗布すること及び
超低残渣のフラックスでも容易に発泡させて基板に塗布
することが可能となる。Further, the foam 12 having an extremely stable size is obtained, and the foam level of the foamed flux 22 is stable, so that it is possible to apply the flux 22 very thinly to the substrate and easily foam even the flux of ultra-low residue. Then, it becomes possible to apply it to the substrate.
【００７６】そしてフラックス槽２の容積が従来例に比
べて極端に小さいので、溶剤等の蒸発量も非常に少な
く、それだけ火災のおそれも小さく、安全性の上でも非
常に有利である。Since the volume of the flux tank 2 is extremely smaller than that of the conventional example, the evaporation amount of the solvent and the like is very small, the risk of fire is small accordingly, and it is very advantageous in safety.
【００７７】またフラックス２２の液面レベルＨは常に
フォトセンサ８により検出されており、所定レベルより
も液面２２ａが少しでも下がった場合にはすぐにこれが
検出されてフラックス２２が別途配設されたフラックス
貯蔵タンク（図示せず）から補給される。Further, the liquid level H of the flux 22 is always detected by the photosensor 8. When the liquid level 22a drops below a predetermined level, it is immediately detected and the flux 22 is separately arranged. It is replenished from a flux storage tank (not shown).
【００７８】[0078]
【発明の効果】本発明は、上記のように自動半田付け装
置用のフラックス塗布装置において、フラックスノズル
の外側に形成されるフラックスプールの容積をフラック
ス槽の容積に比べて著しく小さく設定したので、フラッ
クスノズルからオーバフロして基板に接触しながら塗布
されずにもどされるフラックスを溜めて置く量を極端に
少なくすることができ、またフラックスノズルを含むフ
ラックス槽全体の容積を非常に小さくしたので、発泡し
てオーバフローしたフラックスのほとんど全量が基板に
塗布されるという効果があり、またこの結果常にバージ
ンフラックスに近い状態の新しいフラックスのみが基板
に塗布されることになるので基板の半田付け性能を向上
させることができる効果がある。As described above, according to the present invention, in the flux applying apparatus for the automatic soldering apparatus, the volume of the flux pool formed outside the flux nozzle is set to be significantly smaller than the volume of the flux tank. It is possible to extremely reduce the amount of the flux that is overflowed from the flux nozzle and comes back to the substrate without being applied while being in contact with the substrate, and the volume of the entire flux tank including the flux nozzle is made extremely small. As a result, almost all of the overflowed flux is applied to the board, and as a result, only new flux close to the virgin flux is applied to the board at all times, improving the soldering performance of the board. There is an effect that can be.
【００７９】また発泡方式でありながらフラックスを基
板に薄く塗布でき、しかも超低残渣のフラックスでも十
分に塗布できるため、火災の危険の非常に少ないフラッ
クス塗布装置を提供することができる。Further, although the foaming method is used, the flux can be applied thinly on the substrate, and even the flux of ultra-low residue can be applied sufficiently, so that it is possible to provide a flux applying apparatus with a very low risk of fire.
【００８０】またフラックスノズルの外側とフラックス
槽の内壁との間の距離の合計を、フラックスノズルの底
部における基板の搬送方向長さの合計と同等以下に設定
したので、フラックスノズルの容積に比べてフラックス
プールの容積を相対的に小さく設定し、フラックス槽全
体の容積を減少させてフラックス塗布装置のコンパクト
化を図ることができると共に、基板に塗布されずにもど
されたフラックスの貯溜量を減少させ、常にバージンフ
ラックスに近い状態のフラックスが基板に塗布されるよ
うにすることができる。Since the total distance between the outside of the flux nozzle and the inner wall of the flux tank is set equal to or less than the total length of the bottom of the flux nozzle in the carrying direction of the substrate, it is smaller than the volume of the flux nozzle. By setting the volume of the flux pool to be relatively small, the volume of the entire flux tank can be reduced and the flux coating device can be made compact, and the amount of stored flux that has not been coated on the substrate and returned can be reduced. It is possible to always apply the flux in a state close to the virgin flux to the substrate.
【００８１】更には、フラックス発泡管をフラックスノ
ズルの底部に配設したので、フラックスの液面レベルを
増大させることがてき、またこの結果少ないエア流量で
フラックスを十分に発泡させることができる効果がある
と共に、非常に発泡しにくい超低残渣のフラックスでも
完全に発泡させることができる効果が得られる。Furthermore, since the flux foam tube is arranged at the bottom of the flux nozzle, the liquid level of the flux can be increased, and as a result, the flux can be sufficiently foamed with a small air flow rate. At the same time, it is possible to obtain the effect of completely foaming even with an extremely low residue flux that is extremely difficult to foam.
【００８２】またフラックス発泡管の外周とフラックス
ノズルの内壁との間の隙間を、フラックスの泡の直径よ
りも大きくフラックス発泡管の直径の１／２以下に設定
したので、フラックス発泡管からのフラックスの発泡を
十分に安定させながら、しかもフラックスノズルの基板
の搬送方向長さを小さくしてフラックスノズルの容積を
小さくし、結果としてフラックス槽のコンパクト化を達
成することができる効果がある。Further, since the gap between the outer circumference of the flux foam tube and the inner wall of the flux nozzle is set to be larger than the diameter of the foam of the flux and 1/2 or less of the diameter of the flux foam tube, the flux from the flux foam tube is While sufficiently stabilizing the bubbling, the length of the flux nozzle in the substrate transport direction is reduced to reduce the volume of the flux nozzle, and as a result, the flux tank can be made compact.
【００８３】またフラックスノズルの底部の基板搬送方
向長さをフラックス発泡管の直径の２倍に設定した場
合、該フラックスノズルの上部開口部の同方向長さをフ
ラックス発泡管の直径の０．８倍乃至１．２倍の範囲に
設定したので、フラックスノズル開口部からのフラック
スの発泡を最良の状態に安定させることができる効果が
あると共に、発泡するフラックスの泡の直径を適度の大
きさとし、またフラックスノズル開口部からの盛り上が
りを増大させて基板に対する塗布性能を向上させること
ができる。When the length of the bottom of the flux nozzle in the substrate transport direction is set to be twice the diameter of the flux foam tube, the same length of the upper opening of the flux nozzle is set to 0.8 of the diameter of the flux foam tube. Since the range is set to double to 1.2 times, there is an effect that the foaming of the flux from the flux nozzle opening can be stabilized in the best state, and the diameter of the foaming foam of the flux is set to an appropriate size, In addition, the protrusion from the opening of the flux nozzle can be increased to improve the coating performance on the substrate.
【００８４】更には、フラックスノズルの上部開口部に
装着される補助フィンの形状を、該開口部から一段低い
位置に配置された水平部と該水平部から連続して立ち上
がった垂直部からなるＬ字形に形成し、該補助フィンを
フラックスノズルの開口部の両側に固着したので、フラ
ックスノズルからオーバフローする発泡状態のフラック
スの盛り上がりを最大にするとことができると共に、ま
た該オーバフローの状態をフラット状態として基板に対
して面接触するようにしてフラックスの塗布性能を向上
させることができる効果がある。Further, the shape of the auxiliary fin attached to the upper opening of the flux nozzle is L, which is composed of a horizontal portion arranged at a position lower than the opening and a vertical portion continuously rising from the horizontal portion. Since the auxiliary fins are formed in the shape of a letter and the auxiliary fins are fixed to both sides of the opening of the flux nozzle, it is possible to maximize the rise of the foamed flux that overflows from the flux nozzle, and also to make the overflow state flat. There is an effect that the flux coating performance can be improved by making surface contact with the substrate.
【００８５】またフラックスプール内にフラックスの濾
過作用を有するスペーサ兼用フィルタを充填したので、
基板に接触しながら塗布されずにもどされるフラックス
に混入した塵埃等の異物を濾過して再びバージンフラッ
クスと共に発泡させてオーバフローさせることで、基板
に塗布されるフラックスを常に清浄に保つことができる
効果がある。Since the flux pool is filled with the spacer / filter having the flux filtering action,
The effect of keeping the flux applied to the substrate clean at all times by filtering the foreign substances such as dust mixed in the flux that is returned without being applied while contacting the substrate and foaming it again with the virgin flux to cause it to overflow There is.
【００８６】更には、フラックスプール内にフラックス
の液面を検出するためのフォトセンサを配設したので、
フラックス槽内のフラックスの残量を非常に正確に検出
できる効果があり、またこの結果フラックスの補充が最
も的確に行われるという効果がある。Furthermore, since the photosensor for detecting the liquid level of the flux is arranged in the flux pool,
There is an effect that the remaining amount of the flux in the flux tank can be detected very accurately, and as a result, the flux can be replenished most accurately.
【００８７】またフラックスノズルの外側に形成される
フラックスプールの容積をフラックス槽の容積に比べて
著しく小さく設定し、かつ単一のフラックス槽内に複数
のフラックスノズルを配設したので、フラックスノズル
からオーバフローするフラックスの盛り上がり高さを最
大とし、基板に対する塗布性能を向上させることができ
る効果がある。Further, since the volume of the flux pool formed outside the flux nozzle is set to be significantly smaller than the volume of the flux tank, and a plurality of flux nozzles are arranged in a single flux tank, This has the effect of maximizing the rising height of the overflowing flux and improving the coating performance on the substrate.
【００８８】またフラックスノズルの外側に形成される
フラックスプールの容積をフラックス槽の容積に比べて
著しく小さく設定し、かつフラックス槽内に２つのフラ
ックスノズルを密着して配設したので、フラックスノズ
ルからオーバフローするフラックスの盛り上がり高さを
最大にしながら、しかもフラックスノズルの容積は最小
にしてバージンフラックスの塗布が可能でコンパクトな
フラックスの塗布装置を提供することができる効果があ
る。Further, since the volume of the flux pool formed outside the flux nozzle is set to be significantly smaller than the volume of the flux tank, and the two flux nozzles are closely arranged in the flux tank, There is an effect that it is possible to provide a compact flux applicator capable of applying virgin flux while maximizing the rising height of overflowing flux and minimizing the volume of the flux nozzle.
【図１】図１から図４は本発明の第１実施例に係り、図
１は使用状態におけるフラックス塗布装置の縦断面図で
ある。1 to 4 relate to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a vertical cross-sectional view of a flux applicator in use.
【図２】フラックス塗布装置の斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of a flux applying device.
【図３】フラックス塗布装置の分解斜視図である。FIG. 3 is an exploded perspective view of a flux applying device.
【図４】フラックス塗布装置の平面図である。FIG. 4 is a plan view of a flux coating device.
【図５】本発明の第２実施例に係るフラックス塗布装置
の使用状態における縦断面図である。FIG. 5 is a vertical cross-sectional view of the flux coating apparatus according to the second embodiment of the present invention in use.
【図６】フラックス発泡管の外径を種々変えてオーバフ
ローが開始される際のエア流量を調べた実験用フラック
スノズルの縦断面図である。FIG. 6 is a vertical cross-sectional view of an experimental flux nozzle in which the air flow rate at the time when overflow is started by changing the outer diameter of the flux foam tube is investigated.
【図７】図６に示すフラックスノズルにおいてフラック
ス液面レベルを変化させた場合にオーバフローが開始さ
れる際のエアの流量を示す線図である。7 is a diagram showing the flow rate of air when overflow starts when the flux liquid level is changed in the flux nozzle shown in FIG.
【図８】図６に示すフラックスノズルにおいてフラック
スのヘッドを変化させた場合にオーバフローが開始され
る際のエアの流量を示す線図である。8 is a diagram showing a flow rate of air when overflow starts when the flux head is changed in the flux nozzle shown in FIG.
【図９】フラックス発泡管の周囲に必要な隙間を定める
ための実験用フラックスノズルの使用状態を示す縦断面
図である。FIG. 9 is a vertical cross-sectional view showing a usage state of an experimental flux nozzle for determining a necessary clearance around the flux foam tube.
【図１０】フラックス槽内におけるフラックスの発泡状
態を調べるための実験用フラックス槽とフラックス発泡
管の使用状態を示す縦断面図である。FIG. 10 is a vertical cross-sectional view showing a use state of an experimental flux tank and a flux foam tube for investigating a foam foaming state in the flux tank.
【図１１】フラックスノズルの底部と上部開口部との最
良の寸法比を定めるための実験用フラックスノズルの使
用状態を示す縦断面図である。FIG. 11 is a vertical cross-sectional view showing a usage state of the experimental flux nozzle for determining the best dimensional ratio between the bottom portion and the upper opening portion of the flux nozzle.
【図１２】補助フィンとオーバフローしたフラックスの
泡の盛り上がり高さとの関係を調べるための装置の概略
縦断面図である。FIG. 12 is a schematic vertical sectional view of an apparatus for investigating the relationship between auxiliary fins and the rising height of bubbles of overflowed flux.
【図１３】フラックスノズルを複数密着して用いた場合
のフラックスの泡の盛り上がり高さを調べるための実験
用フラックスノズルの概略縦断面図である。FIG. 13 is a schematic vertical cross-sectional view of an experimental flux nozzle for examining the rising height of bubbles of flux when a plurality of flux nozzles are used in close contact with each other.
１ フラックス塗布装置 ２ フラックス槽 ３ フラックスノズル ３ａ 底部 ３ｂ 上部開口部 ４ フラックス発泡管 ５ 補助フィン ５ａ 水平部 ５ｂ 垂直部 ６ スペーサ兼用フィルタ ８ フォトセンサ １２ フラックスの泡 １８ フラックスプール ２２ フラックス Ｂ フラックスノズルの底部の基板搬送方向長さ ｂ フラックスノズルの上部開口部の基板搬送方向長
さ Ｃ フラックス発泡管の外周とフラックスノズルの内
壁との間の隙間 Ｄ フラックス発泡管の外径 ｄ フラックスの泡の直径 Ｓ フラックスノズルの外側とフラックス槽の内壁と
の間の距離1 Flux coating device 2 Flux tank 3 Flux nozzle 3a Bottom part 3b Top opening 4 Flux foam tube 5 Auxiliary fin 5a Horizontal part 5b Vertical part 6 Spacer / filter 8 Photo sensor 12 Flux foam 18 Flux pool 22 Flux B Flux nozzle bottom Length of the substrate in the substrate transfer direction b Length of the upper opening of the flux nozzle in the substrate transfer direction C Gap between the outer circumference of the flux foam tube and the inner wall of the flux nozzle D Outer diameter of the flux foam tube d Flux bubble diameter S Flux Distance between the outside of the nozzle and the inner wall of the flux tank
─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成５年６月１４日[Submission date] June 14, 1993
【手続補正１】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing
【補正対象項目名】全図[Correction target item name] All drawings
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【図２】 [Fig. 2]
【図３】 [Figure 3]
【図１０】 [Figure 10]
【図１】 [Figure 1]
【図４】 [Figure 4]
【図５】 [Figure 5]
【図６】 [Figure 6]
【図７】 [Figure 7]
【図８】 [Figure 8]
【図９】 [Figure 9]
【図１２】 [Fig. 12]
【図１３】 [Fig. 13]
【図１１】 FIG. 11
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木村 明久 東京都八王子市諏訪町251番地株式会社ア サヒ化学研究所内 (72)発明者 王 錦文 東京都八王子市諏訪町251番地株式会社ア サヒ化学研究所内 (72)発明者 鴨志田 英明 東京都八王子市諏訪町251番地株式会社ア サヒ化学研究所内 (72)発明者 高山 金次郎 東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー 株式会社内 (72)発明者 冨塚 健一 東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー 株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Akihisa Kimura 251 Suwa-cho, Hachioji-shi, Tokyo, Asahi Chemical Research Institute Co., Ltd. In the laboratory (72) Hideaki Kamoshida, 251 Suwa-cho, Hachioji, Tokyo 251 Asahi Chemical Laboratory Co., Ltd. (72) Inventor Kinjiro Takayama 6-735 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation (72) Inventor Kenichi Tomizuka 6-7-35 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation
Claims (10)
置において、フラックスノズルの外側に形成されるフラ
ックスプールの容積をフラックス槽の容積に比べて著し
く小さく設定してなることを特徴とするフラックス塗布
装置。1. A flux applying apparatus for an automatic soldering apparatus, wherein a volume of a flux pool formed outside a flux nozzle is set to be significantly smaller than a volume of a flux tank. ..
の内壁との間の距離の合計を、フラックスノズルの底部
における基板の搬送方向長さの合計と同等以下に設定
し、前記フラックス槽の容積に比べて前記フラックスノ
ズルの外側に形成されるフラックスプールの容積を著し
く小さく設定してなることを特徴とするフラックス塗布
装置。2. The total distance between the outside of the flux nozzle and the inner wall of the flux tank is set equal to or less than the total length of the bottom of the flux nozzle in the carrying direction of the substrate, and compared with the volume of the flux tank. The flux applicator is characterized in that the volume of the flux pool formed outside the flux nozzle is set to be extremely small.
置において、フラックスノズルの外側に形成されるフラ
ックスプールの容積をフラックス槽の容積に比べて著し
く小さく設定し、かつフラックス発泡管を前記フラック
スノズルの底部に配設したことを特徴とするフラックス
塗布装置。3. In a flux applying device for an automatic soldering device, a volume of a flux pool formed outside a flux nozzle is set to be significantly smaller than a volume of a flux tank, and a flux foam tube is installed in the flux nozzle. A flux applicator which is arranged at the bottom.
置において、フラックスノズルの外側に形成されるフラ
ックスプールの容積をフラックス槽の容積に比べて著し
く小さく設定し、かつフラックス発泡管の外周と前記フ
ラックスノズルの内壁との間の隙間を、フラックスの泡
の直径よりも大きく前記フラックス発泡管の直径の１／
２以下に設定してなることを特徴とするフラックス塗布
装置。4. In a flux applying device for an automatic soldering device, the volume of a flux pool formed outside a flux nozzle is set to be significantly smaller than the volume of a flux tank, and the outer circumference of a flux foam tube and the flux are formed. The gap between the inner wall of the nozzle and the diameter of the flux foam is larger than the diameter of the flux foam by 1 /
A flux applicator characterized by being set to 2 or less.
置において、フラックスノズルの外側に形成されるフラ
ックスプールの容積をフラックス槽の容積に比べて著し
く小さく設定し、かつ前記フラックスノズルの底部の基
板搬送方向長さを前記フラックス発泡管の直径の２倍に
設定した場合、該フラックスノズルの上部開口部の同方
向長さを前記フラックス発泡管の直径の０．８倍乃至
１．２倍の範囲に設定したことを特徴とするフラックス
塗布装置。5. In a flux applying apparatus for an automatic soldering apparatus, the volume of a flux pool formed outside a flux nozzle is set to be significantly smaller than the volume of a flux tank, and the substrate transfer at the bottom of the flux nozzle is performed. When the directional length is set to twice the diameter of the flux foam tube, the same length of the upper opening of the flux nozzle is set in the range of 0.8 to 1.2 times the diameter of the flux foam tube. A flux coating device characterized by being set.
置において、フラックスノズルの外側に形成されるフラ
ックスプールの容積をフラックス槽の容積に比べて著し
く小さく設定し、かつ前記フラックスノズルの上部開口
部に装着される補助フィンの形状を、該開口部から一段
低い位置に配置された水平部と該水平部から連続して立
ち上がった垂直部からなるＬ字形に形成し、該補助フィ
ンを前記開口部の両側に固着してなることを特徴とする
フラックス塗布装置。6. A flux applying apparatus for an automatic soldering apparatus, wherein a volume of a flux pool formed outside a flux nozzle is set to be significantly smaller than a volume of a flux tank, and an upper opening of the flux nozzle is provided. The shape of the auxiliary fin to be mounted is formed into an L-shape having a horizontal portion arranged at a position one step lower than the opening and a vertical portion continuously rising from the horizontal portion, and the auxiliary fin is formed in the opening. A flux applicator characterized by being fixed on both sides.
置において、フラックスノズルの外側に形成されるフラ
ックスプールの容積をフラックス槽の容積に比べて著し
く小さく設定し、かつ前記フラックスプール内にフラッ
クスの濾過作用を有するスペーサ兼用フィルタを充填し
てなることを特徴とするフラックス塗布装置。7. A flux applicator for an automatic soldering device, wherein the volume of a flux pool formed outside a flux nozzle is set to be significantly smaller than the volume of a flux tank, and the flux is filtered into the flux pool. A flux applicator characterized by being filled with a filter that also serves as a spacer.
置において、フラックスノズルの外側に形成されるフラ
ックスプールの容積をフラックス槽の容積に比べて著し
く小さく設定し、かつ前記フラックスプール内にフラッ
クスの液面を検出するためのフォトセンサを配設してな
ることを特徴とするフラックス塗布装置。8. A flux applying apparatus for an automatic soldering apparatus, wherein the volume of a flux pool formed outside a flux nozzle is set to be significantly smaller than the volume of a flux tank, and the flux liquid is contained in the flux pool. A flux applicator characterized by being provided with a photosensor for detecting a surface.
置において、フラックスノズルの外側に形成されるフラ
ックスプールの容積をフラックス槽の容積に比べて著し
く小さく設定し、かつ単一の前記フラックス槽内に複数
の前記フラックスノズルを配設してなることを特徴とす
るフラックス塗布装置。9. A flux applying apparatus for an automatic soldering apparatus, wherein the volume of a flux pool formed outside a flux nozzle is set to be significantly smaller than the volume of a flux tank, and the flux tank is provided in a single flux tank. A flux applying device comprising a plurality of the flux nozzles.
装置において、フラックスノズルの外側に形成されるフ
ラックスプールの容積をフラックス槽の容積に比べて著
しく小さく設定し、かつ前記フラックス槽内に２つの前
記フラックスノズルが密着して配設されたことを特徴と
するフラックス塗布装置。10. A flux applying apparatus for an automatic soldering apparatus, wherein the volume of a flux pool formed outside a flux nozzle is set to be significantly smaller than the volume of a flux tank, and two flux tanks are provided in the flux tank. A flux applicator characterized in that flux nozzles are closely arranged.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10890392A JPH05309474A (en) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | Device for applying flux |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10890392A JPH05309474A (en) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | Device for applying flux |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05309474A true JPH05309474A (en) | 1993-11-22 |
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|---|---|---|---|
| JP10890392A Pending JPH05309474A (en) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | Device for applying flux |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JPH05309474A (en) |
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| US11818850B2 (en) | 2021-06-30 | 2023-11-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Flux dotting tool |
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