JPH05299323A - Projection aligner - Google Patents
Projection alignerInfo
- Publication number
- JPH05299323A JPH05299323A JP4100768A JP10076892A JPH05299323A JP H05299323 A JPH05299323 A JP H05299323A JP 4100768 A JP4100768 A JP 4100768A JP 10076892 A JP10076892 A JP 10076892A JP H05299323 A JPH05299323 A JP H05299323A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- pulse
- interferometer
- detecting
- rotation amount
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は半導体素子、液晶表示素
子等の高密度集積回路製造用の露光装置に関するもので
あり、特に基板を載置するステージ装置のヨーイングの
影響を補正して位置決めする装置を含む露光装置に関す
るものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus for manufacturing high-density integrated circuits such as semiconductor devices and liquid crystal display devices, and particularly to positioning by correcting the influence of yawing of a stage device for mounting a substrate. The present invention relates to an exposure apparatus including an apparatus.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来のこの種の露光装置の概略的な構成
を図３に、またこの露光装置における基板の位置合わせ
用のアライメント光学系と、基板を載置して移動するス
テージ装置の位置を測定する光波干渉測長器の測長ビー
ムとの配置を図４に示す。図３において、不図示の照明
光学系からの照明光はレチクルＲを透過し、投影光学系
ＰＬを介して基板Ｐ上に集光する。基板Ｐは２次元方向
に移動可能なステージＳ上に載置され、平面内を２次元
に移動する。ステージＳ上には、その移動方向に沿って
Ｘ方向移動鏡ＭＲｘ、及びＹ方向移動鏡ＭＲｙが備えら
れ、図４に示すように光波干渉測長器（ステージ干渉
計）Ｌｘ，Ｌｙから垂直、且つ投影光学系ＰＬの光軸Ａ
を通過する方向に照射されるレーザ光Ｂｘ，Ｂｙを反射
してステージＳの位置を検出している。移動鏡のうちの
一方、例えば移動鏡ＭＲｙには、さらに２本のレーザ光
Ｂθ１，Ｂθ２がレーザ光Ｂｙの光軸に平行に照射さ
れ、レーザ光Ｂθ１，Ｂθ２の夫々の測長距離の差に基
づいてステージＳの基準位置からの回転ずれ（ヨーイン
グ）を検出している。基板Ｐ上には図４に示すようにア
ライメントマークＭｘ，Ｍｙ１，Ｍｙ２が設けられ、夫
々をアライメント光学系Ａｘ，Ａｙ１，Ａｙ２で検出す
ることによって基板Ｐを装置に対して位置決めする。2. Description of the Related Art FIG. 3 shows a schematic structure of a conventional exposure apparatus of this type, and an alignment optical system for aligning a substrate in this exposure apparatus and a position of a stage device for mounting and moving the substrate. FIG. 4 shows the arrangement of the interferometer with the measuring beam for measuring the. In FIG. 3, illumination light from an illumination optical system (not shown) passes through the reticle R and is focused on the substrate P via the projection optical system PL. The substrate P is placed on a stage S that can move in two dimensions and moves in two dimensions in a plane. On the stage S, an X-direction moving mirror MRx and a Y-direction moving mirror MRy are provided along the movement direction thereof, and as shown in FIG. 4, perpendicular to the light wave interferometers (stage interferometers) Lx, Ly, And the optical axis A of the projection optical system PL
The position of the stage S is detected by reflecting the laser beams Bx and By radiated in the direction passing through. One of the movable mirrors, for example, the movable mirror MRy, is further irradiated with two laser beams Bθ1 and Bθ2 in parallel with the optical axis of the laser beam By, and the difference in the distances between the laser beams Bθ1 and Bθ2 is measured. Based on this, the rotational deviation (yawing) of the stage S from the reference position is detected. As shown in FIG. 4, alignment marks Mx, My1, and My2 are provided on the substrate P, and the alignment optical systems Ax, Ay1, and Ay2 detect the alignment marks Mx, My1, and My2 to position the substrate P with respect to the apparatus.
【０００３】さて、基板を装置に対して位置決めするた
めにアライメント光学系Ａｙ１及びＡｙ２を用いて感光
基板ＰのアライメントマークＭｙ１，Ｍｙ２のＹ方向の
位置を求める場合、予め決定された設計値に基づいてス
テージＳを移動してアライメントマークをアライメント
光学系の検出領域近傍に配置する。そこからステージＳ
を一定速度で一定範囲だけＹ方向に移動（スキャン）
し、スキャン中におけるアライメントマークからの回折
光若しくは反射光をアライメント信号としてアライメン
ト光学系Ａｙ１，Ａｙ２で検出する。このときアライメ
ント光学系Ａｙ１，Ａｙ２で得られる信号は、ステージ
干渉計Ｌｙ（レーザ光Ｂｙ）で計測されるステージの位
置に同期して記憶され、アライメントマークからの回折
光若しくは反射光が検出されたときのステージ干渉計Ｌ
ｙの出力（絶対座標）をマークＭｙ１，Ｍｙ２のＹ方向
の位置として求めていた。When the positions of the alignment marks My1 and My2 of the photosensitive substrate P in the Y direction are obtained by using the alignment optical systems Ay1 and Ay2 to position the substrate with respect to the apparatus, based on a predetermined design value. And moves the stage S to arrange the alignment mark in the vicinity of the detection area of the alignment optical system. From there stage S
Moves in the Y direction at a constant speed in a certain range (scan)
Then, the diffracted light or the reflected light from the alignment mark during the scanning is detected as an alignment signal by the alignment optical systems Ay1 and Ay2. At this time, the signals obtained by the alignment optical systems Ay1 and Ay2 are stored in synchronization with the position of the stage measured by the stage interferometer Ly (laser beam By), and the diffracted light or reflected light from the alignment mark is detected. When stage interferometer L
The output of y (absolute coordinates) is obtained as the position of the marks My1 and My2 in the Y direction.
【０００４】一方、アライメントマークＭｘのＸ方向の
位置を求める場合は、ステージ干渉計Ｌｘ（レーザ光Ｂ
ｘ）で位置検出しながらステージＳをＸ方向にスキャン
して、アライメント光学系Ａｘでマークからのアライメ
ント信号を検出するようにすれば、前述と同様にして求
めることができる。ところで、一般的にアライメント光
学系Ａｘ，Ａｙ１，Ａｙ２は投影光学系ＰＬの光軸Ａに
対して偏心して配置されている。このため各ステージ干
渉計のレーザ光Ｂｘ，Ｂｙはアライメント光学系の検出
中心を通らない。よって、アライメント光学系でアライ
メントマークを検出した際に各ステージ干渉計で計測さ
れる位置をマークの位置とする場合には、この位置が実
際のアライメントマークの位置に対して所謂アッベ誤差
を含むことになる。つまり、ステージがその位置に応じ
て本来有るべき位置からの回転ずれを有していると、ア
ライメントマーク位置の検出結果に誤差が生じる。その
ため従来では、ステージのスキャン開始時及び終了時、
若しくはスキャン中の一定間隔毎にヨーイング干渉計
（レーザ光Ｂθ１，Ｂθ２）を用いてステージのヨーイ
ングを計測し、この平均値を求める。そしてこの平均値
を補正すべきヨーイング量（補正値）とし、アライメン
トマーク位置として求めたステージ位置に加えることに
よってヨーイングによる誤差を補正していた。On the other hand, when obtaining the position of the alignment mark Mx in the X direction, the stage interferometer Lx (laser light B
If the stage S is scanned in the X direction while the position is detected in (x) and the alignment signal from the mark is detected by the alignment optical system Ax, it can be obtained in the same manner as described above. By the way, generally, the alignment optical systems Ax, Ay1, and Ay2 are arranged eccentrically with respect to the optical axis A of the projection optical system PL. Therefore, the laser beams Bx and By of each stage interferometer do not pass through the detection center of the alignment optical system. Therefore, when the position measured by each stage interferometer when the alignment mark is detected by the alignment optical system is set as the mark position, this position must include a so-called Abbe error with respect to the actual position of the alignment mark. become. In other words, if the stage has a rotational deviation from the original position depending on the position, an error occurs in the detection result of the alignment mark position. Therefore, conventionally, at the beginning and end of stage scanning,
Alternatively, the yawing of the stage is measured using a yawing interferometer (laser beams Bθ1, Bθ2) at regular intervals during scanning, and this average value is obtained. Then, this average value is used as the yawing amount (correction value) to be corrected, and the error due to yawing is corrected by adding it to the stage position obtained as the alignment mark position.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の如
き従来の技術においては、ステージの移動中の平均的な
ヨーイング量しか求めていないため、ヨーイング量がス
テージの位置に応じて逐次変化するような場合には正確
な補正値を求めることができず、従ってアライメントマ
ーク位置を正確に求めることができないという問題点が
あった。However, in the prior art as described above, only the average yawing amount during the movement of the stage is obtained, so that the yawing amount is sequentially changed according to the position of the stage. However, there is a problem in that an accurate correction value cannot be obtained, and thus the alignment mark position cannot be obtained accurately.
【０００６】本発明は上記のような問題点に鑑み、ステ
ージ移動中に逐次変化するヨーイング量をも逐次、正確
に補正して、アライメントマーク位置を正確に検出する
ことが可能な投影露光装置を提供することを目的とす
る。In view of the above problems, the present invention provides a projection exposure apparatus capable of accurately detecting the alignment mark position by accurately and sequentially correcting the yawing amount that changes during the movement of the stage. The purpose is to provide.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上記問題点の解決のため
に本発明では、基板（Ｐ）を載置して平面内を２次元移
動するステージ（Ｓ）と；ステージの移動方向に沿って
ステージ上に配置された移動鏡（ＭＲｘ，ＭＲｙ）に対
してほぼ垂直にレーザ光（Ｂｘ，Ｂｙ）を照射し、ステ
ージ（Ｓ）の２次元的な位置を検出する光波干渉測長器
（Ｌｘ，Ｌｙ）と；光波干渉測長器のレーザ光の光軸
（Ｂｘ，Ｂｙ）と平行な光軸を有する２つのレーザ光
（Ｂθ１，Ｂθ２）を移動鏡（ＭＲｘ，ＭＲｙ）に対し
て照射し、２つのレーザ光（Ｂθ１，Ｂθ２）の夫々に
よる測長距離の差に基づいてステージ（Ｓ）の回転量を
検出する回転量検出手段（θ１，θ２）と；基板上に形
成された基準パターン（Ｍｘ，Ｍｙ１，Ｍｙ２）を検出
する基準パターン検出手段（Ａｘ，Ａｙ１，Ａｙ２）
と；基準パターン検出手段によって基準パターンを検出
した際の２次元的な位置を基準パターンの位置とすると
ともに、２次元的な位置を回転量に基づいて補正する位
置補正手段とを備え、補正された２次元的な位置に基づ
いて基板を位置決めし、マスクに形成されたパターンを
投影光学系（ＰＬ）を介して基板上に投影露光する投影
露光装置において、光波干渉測長器（Ｌｘ，Ｌｙ）は、
平面内の任意の位置からのステージの移動中におけるス
テージの移動量を第１のパルス（Ｐ１，Ｐ２）として逐
次検出する手段を含むとともに、回転量検出手段（θ
１，θ２）は、ステージの移動中に任意の位置に対して
逐次変化する回転量を第２のパルス（Ｐ３）として検出
する手段を含み；任意の位置からのステージの移動中
に、光波干渉測長器によって逐次検出される第１のパル
ス（Ｐ１，Ｐ２）に回転量検出手段による第２のパルス
（Ｐ３）を加算することによって第１のパルスを補正す
るパルス補正手段（２）を備えることとした。In order to solve the above-mentioned problems, according to the present invention, a stage (S) on which a substrate (P) is placed and which moves two-dimensionally in a plane; A light wave interferometer (Lx) that detects a two-dimensional position of the stage (S) by irradiating a moving mirror (MRx, MRy) arranged on the stage with laser light (Bx, By) substantially perpendicularly. , Ly) and; two laser beams (Bθ1, Bθ2) having an optical axis parallel to the optical axes (Bx, By) of the laser light of the light wave interferometer, are applied to the moving mirror (MRx, MRy). Rotation amount detection means (θ1, θ2) for detecting the rotation amount of the stage (S) based on the difference in the distances measured by the two laser beams (Bθ1, Bθ2); and a reference pattern formed on the substrate. Reference pattern detecting means for detecting (Mx, My1, My2) Ax, Ay1, Ay2)
The position of the reference pattern is detected when the reference pattern is detected by the reference pattern detection unit, and the position correction unit is provided to correct the two-dimensional position based on the rotation amount. In the projection exposure apparatus, which positions the substrate based on the two-dimensional position and projects and exposes the pattern formed on the mask onto the substrate through the projection optical system (PL), an optical interferometer (Lx, Ly) ) Is
The rotation amount detecting means (θ) is included as well as means for sequentially detecting the movement amount of the stage as the first pulse (P1, P2) during the movement of the stage from an arbitrary position on the plane.
1, θ2) includes means for detecting, as the second pulse (P3), a rotation amount that sequentially changes with respect to an arbitrary position during movement of the stage; light wave interference during movement of the stage from the arbitrary position. A pulse correction means (2) for correcting the first pulse by adding the second pulse (P3) by the rotation amount detection means to the first pulse (P1, P2) sequentially detected by the length measuring device is provided. I decided.
【０００８】[0008]
【作用】本発明においては、ステージの位置を計測する
測長器のアップダウンパルスにヨーイング干渉計で求め
たヨーイング量に相当するアップダウンパルスを常時加
算するようにしたため、ステージの移動中にヨーイング
が逐次変化してもこれをリアルタイムに補正することが
できる。In the present invention, since the up / down pulse corresponding to the yawing amount obtained by the yawing interferometer is always added to the up / down pulse of the length measuring device for measuring the position of the stage, the yawing is performed during the movement of the stage. Can be corrected in real time even if the value changes sequentially.
【０００９】[0009]
【実施例】本発明は、基本的な構成は従来の装置と全く
同様であるが、光波干渉測長器が検出するステージの移
動量及びヨーイング干渉計が検出するヨーイングの変化
量をパルスで検出し、夫々のパルスを加算する回路を設
けた点で異なる。図２は、本発明の実施例による投影露
光装置におけるアライメント光学系と光波干渉測長器
（ステージ干渉計）の測長ビームとの配置を示す図であ
る。図において、ヨーイング干渉計の２つのビームの間
隔が、ステージ干渉計のビームからのアライメント光学
系の偏位量と同じとなるように構成する。即ち、レーザ
光Ｂｙからの各アライメント光学系Ａｙ１，Ａｙ２の偏
位量を夫々ａ１，ａ２とし、レーザ光Ｂｘからのアライ
メント光学系Ａｘの偏位量をａ３として、これらの偏位
量がヨーイング干渉計のビーム間隔ａに対してａ１＝ａ
２＝ａ３＝ａの関係となるように配置する。また、ステ
ージ干渉計とヨーイング干渉計の分解能は同じ（例えば
0.０２μｍ）であるとする。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention has the same basic structure as the conventional device, but detects the amount of movement of the stage detected by the optical wave interferometer and the amount of change in yawing detected by the yawing interferometer with pulses. However, the difference is that a circuit for adding the respective pulses is provided. FIG. 2 is a diagram showing the arrangement of the alignment optical system and the measurement beam of the light wave interferometer (stage interferometer) in the projection exposure apparatus according to the embodiment of the present invention. In the figure, the distance between the two beams of the yawing interferometer is configured to be the same as the deviation amount of the alignment optical system from the beam of the stage interferometer. That is, the displacement amounts of the alignment optical systems Ay1 and Ay2 from the laser beam By are set to a1 and a2, respectively, and the displacement amount of the alignment optical system Ax from the laser beam Bx is set to a3, and these displacement amounts are yawing interference. A1 = a for the total beam spacing a
The arrangement is such that the relationship of 2 = a3 = a is satisfied. Also, the resolution of the stage interferometer and yawing interferometer are the same (for example,
0.02 μm).
【００１０】図１は本発明の実施例による投影露光装置
のステージ干渉計及びヨーイング干渉計で得られる信号
（アップダウンパルス）の処理を示すブロック図であ
る。ステージＳが移動した際のアップダウンパルスＰ
１，Ｐ２は、夫々ステージ干渉計Ｌｘ、ステージ干渉計
Ｌｙで計測されてアップパルスとダウンパルスとが別々
に出力され、ステージの移動量に対応して干渉計座標の
＋方向，−方向の変位を示している。アライメントマー
ク位置の計測時、図３のステージＳを一定速度でスキャ
ンすることによりステージ位置の移動に応じて各干渉計
でパルスが作成され、そのパルスをアライメント開始座
標（スキャン開始位置）をゲートとしてカウンタに入力
することにより、0.０２μｍの単位をもつアライメント
信号の入力アドレスを決定する。またアップダウンパル
スＰ３はヨーイング干渉計θ１，θ２で計測されて同様
に出力され、ステージのヨーイング量の変化に対応した
変位を示している。アライメント光学系Ａｘを用いてア
ライメントマークのＸ方向の位置（座標位置）を計測す
る際には、アップダウンパルスＰ１を選択回路１によっ
て選択し、パルス加算回路２に出力する。FIG. 1 is a block diagram showing processing of signals (up / down pulses) obtained by a stage interferometer and a yawing interferometer of a projection exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. Up-down pulse P when the stage S moves
1 and P2 are respectively measured by the stage interferometer Lx and the stage interferometer Ly, and the up pulse and the down pulse are separately output, and the displacements of the interferometer coordinates in the + direction and the − direction corresponding to the movement amount of the stage. Is shown. When measuring the alignment mark position, a pulse is created in each interferometer according to the movement of the stage position by scanning the stage S of FIG. 3 at a constant speed, and the pulse is used as the alignment start coordinate (scan start position) as a gate. By inputting to the counter, the input address of the alignment signal having a unit of 0.02 μm is determined. The up / down pulse P3 is measured by the yawing interferometers θ1 and θ2 and output in the same manner, indicating the displacement corresponding to the change in the yawing amount of the stage. When the position (coordinate position) of the alignment mark in the X direction is measured using the alignment optical system Ax, the up / down pulse P1 is selected by the selection circuit 1 and output to the pulse addition circuit 2.
【００１１】ここで、スキャン中にヨーイングが生じた
場合、ヨーイング量としてアップダウンパルスＰ３がヨ
ーイング干渉計θ１，θ２で計測される。上述のように
ステージ干渉計とヨーイング干渉計の分解能が同一であ
り、偏位量ａ３がヨーイング干渉計のビーム間隔ａと同
一であることから、得られるパルスＰ３の１パルスが表
す変位量はパルスＰ１のそれと等しい。よってパルスＰ
３は、ヨーイングによるアライメント光学系Ａｘの検出
誤差の補正量を表すことになる。When yawing occurs during scanning, the up / down pulse P3 is measured by the yawing interferometers θ1 and θ2 as the yawing amount. Since the stage interferometer and the yawing interferometer have the same resolution and the deviation amount a3 is the same as the beam interval a of the yawing interferometer as described above, the displacement amount represented by one pulse of the obtained pulse P3 is a pulse. It is equal to that of P1. Therefore pulse P
3 represents the correction amount of the detection error of the alignment optical system Ax due to yawing.
【００１２】しかしながら、ヨーイング干渉計で得られ
たパルスＰ３のアップパルスとダウンパルスが示す方向
（ステージの回転方向）とステージ干渉計の各パルスの
示す方向（ステージの進行方向）とは同一とは限らない
（干渉計の極性が異なる）。そのため、入換回路３でア
ップパルス及びダウンパルスの入れ替えをするか否かを
選択して適宜入れ替えた後、パルス加算回路２でパルス
Ｐ１にパルスＰ３を加算する。こうして得られたアップ
パルスＰｕ，ダウンパルスＰｄは、アライメント光学系
Ａｘの検出中心にＸ方向の干渉計ビームＢｘを照射して
得られる（アッベ誤差のない）マークの位置を示すアッ
プダウンパルスに近似される。このパルスＰｕ，Ｐｄを
用いてアライメント信号の入力アドレスを決定すること
で、スキャン中に逐次変化するヨーイングをリアルタイ
ムに補正して、アライメントマークの位置を正確に求め
ることが可能となる。However, the direction indicated by the up pulse and the down pulse of the pulse P3 obtained by the yawing interferometer (the rotation direction of the stage) and the direction indicated by each pulse of the stage interferometer (the traveling direction of the stage) are not the same. Not limited (polarity of interferometer is different). Therefore, the switching circuit 3 selects whether or not the up pulse and the down pulse are switched and appropriately switches them, and then the pulse adding circuit 2 adds the pulse P3 to the pulse P1. The up pulse Pu and the down pulse Pd thus obtained are approximated to the up / down pulse indicating the position of the mark (without Abbe error) obtained by irradiating the interferometer beam Bx in the X direction on the detection center of the alignment optical system Ax. To be done. By determining the input address of the alignment signal using these pulses Pu and Pd, it becomes possible to correct the yawing that changes successively during the scan in real time and to accurately obtain the position of the alignment mark.
【００１３】一方、アライメント光学系Ａｙ１，Ａｙ２
を用いてアライメントマークＭｙ１，Ｍｙ２のＹ方向の
位置（座標位置）を計測する際にも上記と同様に、アッ
プダウンパルスＰ２を選択回路１によって選択し、パル
ス加算回路２でアップダウンパルスＰ３を加算すればよ
い。上記の実施例では、ヨーイング干渉計の２つのビー
ム間隔とステージ干渉計のビームからのアライメント光
学系の偏位量とを同一としたが、例えばこれらの比率を
１：２としても構わない。このときは、アップダウンパ
ルスＰ３を分周分割回路４で分割することにより、アラ
イメントマーク位置を計測する際のヨーイングの補正量
をパルスＰ１の１パルスが表す変位量に変換したパルス
Ｐ４として形成することができる。また、ヨーイング干
渉計とステージ干渉計の分解能を異ならせて夫々0.０１
μｍと0.０２μｍとし、ビーム間隔とアライメント光学
系の偏位量との比を１：１とした場合は、アップダウン
パルスＰ３を分周すればよい。即ち、ステージ干渉計Ｌ
ｘ，Ｌｙとヨーイング干渉計θ１，θ２の分解能の比
や、ヨーイング干渉計θ１，θ２のビーム間隔と各アラ
イメント光学系Ａｘ，Ａｙ１，Ａｙ２の偏位量との比に
応じて、アップダウンパルスを適宜に分周、分割すれば
よい。On the other hand, the alignment optical systems Ay1 and Ay2
When the positions (coordinate positions) of the alignment marks My1 and My2 in the Y direction are measured using the same, the up / down pulse P2 is selected by the selection circuit 1 and the up / down pulse P3 is selected by the pulse addition circuit 2. Just add it. In the above-described embodiment, the two beam intervals of the yawing interferometer and the deviation amount of the alignment optical system from the beam of the stage interferometer are the same, but the ratio thereof may be 1: 2, for example. At this time, the up / down pulse P3 is divided by the frequency dividing / dividing circuit 4 to form a correction amount of yawing when measuring the alignment mark position as a pulse P4 converted into a displacement amount represented by one pulse of the pulse P1. be able to. In addition, the resolutions of the yawing interferometer and the stage interferometer are changed to 0.01
When the beam spacing and the deviation amount of the alignment optical system are set to 1: 1 with μm and 0.02 μm, the up / down pulse P3 may be divided. That is, the stage interferometer L
x and Ly and the resolution ratio of the yawing interferometers θ1 and θ2, and the up / down pulse according to the ratio between the beam spacing of the yawing interferometers θ1 and θ2 and the deviation amount of each alignment optical system Ax, Ay1, and Ay2. The frequency may be appropriately divided and divided.
【００１４】[0014]
【発明の効果】本発明によれば、ステージの移動中に回
転方向のエラーが逐次変化してもこれをリアルタイムに
補正するため、常に正確なアライメントマークの位置検
出が可能となる。According to the present invention, even if the error in the rotation direction changes successively during the movement of the stage, it is corrected in real time, so that the position of the alignment mark can always be detected accurately.
【図１】 本発明の実施例による投影露光装置における
光波干渉測長器及びヨーイング干渉計で得られる信号の
処理を示すブロック図FIG. 1 is a block diagram showing processing of signals obtained by a light wave interferometer and a yawing interferometer in a projection exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図２】 本発明の実施例による投影露光装置における
アライメント光学系と光波干渉測長器の測長ビームとの
配置を示す図FIG. 2 is a diagram showing an arrangement of an alignment optical system and a measuring beam of an optical wave interferometer in a projection exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図３】 従来の技術による投影露光装置の概略的な構
成を示す図FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of a projection exposure apparatus according to a conventional technique.
【図４】 従来の技術による投影露光装置におけるアラ
イメント光学系と光波干渉測長器の測長ビームとの配置
を示す図FIG. 4 is a diagram showing an arrangement of an alignment optical system and a measuring beam of an optical wave interferometer in a projection exposure apparatus according to a conventional technique.
２ パルス加算回路 ４ 分周分割回路 Ｌｘ，Ｌｙ レーザ干渉測長器 θ１，θ２ ヨーイング干渉計 Ａｘ，Ａｙ１，Ａｙ２ アライメント光学系 2 pulse adder circuit 4 frequency divider / divider circuit Lx, Ly laser interferometer length measuring device θ1, θ2 yawing interferometer Ax, Ay1, Ay2 alignment optical system
Claims (1)
ステージと；該ステージの移動方向に沿って該ステージ
上に配置された移動鏡に対してほぼ垂直にレーザ光を照
射し、前記ステージの２次元的な位置を検出する光波干
渉測長器と；該光波干渉測長器のレーザ光の光軸と平行
な光軸を有する２つのレーザ光を前記移動鏡に対して照
射し、前記２つのレーザ光の夫々による測長距離の差に
基づいて前記ステージの回転量を検出する回転量検出手
段と；前記基板上に形成された基準パターンを検出する
基準パターン検出手段と；該基準パターン検出手段によ
って前記基準パターンを検出した際の前記２次元的な位
置を前記基準パターンの位置とするとともに、前記２次
元的な位置を前記回転量に基づいて補正する位置補正手
段とを備え、該補正された前記２次元的な位置に基づい
て前記基板を位置決めし、マスクに形成されたパターン
を投影光学系を介して前記基板上に投影露光する投影露
光装置において、 前記光波干渉測長器は、前記平面内の任意の位置からの
前記ステージの移動中における前記ステージの移動量を
第１のパルスとして逐次検出する手段を含むとともに、
前記回転量検出手段は、前記ステージの移動中に前記任
意の位置に対して逐次変化する前記回転量を第２のパル
スとして検出する手段を含み；前記任意の位置からの前
記ステージの移動中に、前記光波干渉測長器によって逐
次検出される前記第１のパルスに前記回転量検出手段に
よる前記第２のパルスを加算することによって前記第１
のパルスを補正するパルス補正手段を備えたことを特徴
とする投影露光装置。1. A stage on which a substrate is placed and which moves two-dimensionally in a plane; and a laser beam is radiated substantially perpendicularly to a moving mirror arranged on the stage along a moving direction of the stage, An optical wave interferometer for detecting the two-dimensional position of the stage; and irradiating the movable mirror with two laser beams having an optical axis parallel to the optical axis of the laser beam of the optical interferometer. A rotation amount detecting means for detecting a rotation amount of the stage based on a difference in a distance measured by each of the two laser beams; a reference pattern detecting means for detecting a reference pattern formed on the substrate; The two-dimensional position when the reference pattern detection unit detects the reference pattern is the position of the reference pattern, and the position correction unit corrects the two-dimensional position based on the rotation amount. , The correction In the projection exposure apparatus, which positions the substrate based on the formed two-dimensional position, and projects and exposes the pattern formed on the mask onto the substrate through a projection optical system, While including means for sequentially detecting the amount of movement of the stage as a first pulse during movement of the stage from any position in the plane,
The rotation amount detecting means includes means for detecting, as a second pulse, the rotation amount that sequentially changes with respect to the arbitrary position during movement of the stage; during movement of the stage from the arbitrary position. , The first pulse is sequentially detected by the optical wave interferometer, and the first pulse is added by adding the second pulse by the rotation amount detecting means.
A projection exposure apparatus comprising pulse correction means for correcting the pulse of.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10076892A JP3237022B2 (en) | 1992-04-21 | 1992-04-21 | Projection exposure equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10076892A JP3237022B2 (en) | 1992-04-21 | 1992-04-21 | Projection exposure equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05299323A true JPH05299323A (en) | 1993-11-12 |
| JP3237022B2 JP3237022B2 (en) | 2001-12-10 |
Family
ID=14282675
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10076892A Expired - Lifetime JP3237022B2 (en) | 1992-04-21 | 1992-04-21 | Projection exposure equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3237022B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009128830A (en) * | 2007-11-27 | 2009-06-11 | Sharp Corp | Substrate processing apparatus and method for controlling substrate processing apparatus |
-
1992
- 1992-04-21 JP JP10076892A patent/JP3237022B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009128830A (en) * | 2007-11-27 | 2009-06-11 | Sharp Corp | Substrate processing apparatus and method for controlling substrate processing apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3237022B2 (en) | 2001-12-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5298761A (en) | Method and apparatus for exposure process | |
| US5003342A (en) | Exposure apparatus | |
| KR100303743B1 (en) | An exposure method | |
| JPH0845814A (en) | Exposure device and positioning method | |
| KR20000075541A (en) | Repetitively projecting a mask pattern using a time-saving height measurement | |
| JPH09275072A (en) | Straightness error correction method for moving mirror and stage device | |
| JPH02153519A (en) | Aligner | |
| JPH0310105A (en) | Method and apparatus for measuring or determining position | |
| US6198527B1 (en) | Projection exposure apparatus and exposure method | |
| JP3316706B2 (en) | Projection exposure apparatus and element manufacturing method using the apparatus | |
| JPH09223650A (en) | Aligner | |
| US5523574A (en) | Exposure apparatus | |
| JP2000349014A (en) | Registration measuring device, and manufacture of semiconductor device using the device | |
| JP3237022B2 (en) | Projection exposure equipment | |
| JPH09171954A (en) | Position measuring equipment | |
| JPH02272305A (en) | Aligning device for exposing device | |
| JPH11241909A (en) | Alignment method and apparatus for exposure | |
| JPH0992591A (en) | Aligning method | |
| JPH07283110A (en) | Scanning aligner | |
| JPH0697031A (en) | Positioning method for projection aligner | |
| JPH0237709A (en) | Aligner | |
| JPH11132762A (en) | Measuring method of difference in flatness of long mirror of scanning type exposing device | |
| JPH0782390B2 (en) | Stage positioning method | |
| JP3852486B2 (en) | Stage drive controller | |
| JPS61256636A (en) | Reduction stepper |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071005 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101005 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101005 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121005 Year of fee payment: 11 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121005 Year of fee payment: 11 |