JPH05290412A - Pit forming method for optical master disk and master disk exposure machine - Google Patents
Pit forming method for optical master disk and master disk exposure machineInfo
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- JPH05290412A JPH05290412A JP11693592A JP11693592A JPH05290412A JP H05290412 A JPH05290412 A JP H05290412A JP 11693592 A JP11693592 A JP 11693592A JP 11693592 A JP11693592 A JP 11693592A JP H05290412 A JPH05290412 A JP H05290412A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【技術分野】本発明は、光ディスクの原盤のピット形成
方法及び原盤露光機に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for forming pits on an optical disk master and a master exposure apparatus.
【０００２】[0002]
【従来技術】現在、一般的に用いられている書き込み、
読み出し可能型の光ディスクは、ディスク回転面にそっ
てあらかじめ案内溝（トラッキンググルーブ）及びヘッ
ダ情報（トラックアドレス、セクターアドレス等）が原
盤露光時に露光されている。これらの光ディスクの原盤
露光を行なうときは、Ａr+（アルゴンイオン）レーザを
光源として、光量変調、パルス変調を行なって対物レン
ズをサブミクロンまで絞り、回転横移動しているレジス
ト板に露光を行なっている。2. Description of the Related Art Writing, which is commonly used at present,
In a readable optical disc, a guide groove (tracking groove) and header information (track address, sector address, etc.) are exposed in advance along the disc rotation surface during master exposure. When exposing the masters of these optical discs, the light quantity modulation and pulse modulation are performed using an Ar + (argon ion) laser as a light source to squeeze the objective lens to submicron, and the resist plate that is rotating and moving laterally is exposed. There is.
【０００３】この時の露光回転は、フォーマットにより
ターンテーブルがＣＬＶ（ConstantLinear Velocity：
線速一定），ＣＡＶ（Constant Angular Velocity：回
転角一定）駆動される。記録領域内を同じ露光溝幅にす
るのには、ＣＬＶは露光中光量が一定となるようにし、
ＣＡＶは半径位置により光量を変えていく必要がある。
また、円周方向の大きさ（ピットの長さ）はフォーマッ
トに応じてパルス変調器で光をＯＮ／ＯＦＦすること
で、ピットを形成又は未露光部を形成している。The exposure rotation at this time depends on the format of the CLV (Constant Linear Velocity:
Constant linear velocity) and CAV (Constant Angular Velocity) are driven. In order to have the same exposure groove width in the recording area, CLV is such that the light amount during exposure is constant,
It is necessary to change the light amount of the CAV depending on the radial position.
The size in the circumferential direction (pit length) is such that pits are formed or unexposed portions are formed by turning on / off light with a pulse modulator according to the format.
【０００４】図５（ａ）〜（ｃ）は、従来のピット形成
方法を説明するための図で、図（ａ）はピット平面、図
（ｂ）はピット形成パルス、図（ｃ）はピット溝を各々
示す図である。ピット長の長いピット（例えば１０Ｔ）
の時、露光光量を下げて短かいピット（１Ｔ）と同じ溝
幅になるように光量変調をして露光する。光量を一定に
して露光しても、１Ｔの短かいピットと１０Ｔの長いピ
ットではピットの幅が１０Ｔピットの方が幅広くなる傾
向がある。この傾向はＣＬＶでもＣＡＶでも同様の傾向
があり、レジスト板への照射時間によって、レジストの
温度の微妙な変化により、レジスト感度があがり、長い
ピットの方が幅広くなってしまうためである。このよう
に短かいピット（１Ｔ）と長いピット（例えば１０Ｔ）
では、溝幅（半径方向）の違いにより、信号振幅に差が
生じてしまうことになり、安定した信号振幅を有する光
ディスクを作製することは難しくなる。このように、長
いピットを露光する時に光量を下げて露光して短かいピ
ットと同じ溝幅にする方法では、ＣＬＶ露光では行なえ
るが、ＣＡＶ露光の場合では、半径位置により露光光量
を変えるようにして変調しているので、その変調信号を
さらに制御しなければならず、複雑になってしまうとい
う問題点がある。5A to 5C are views for explaining a conventional pit forming method. FIG. 5A is a pit plane, FIG. 5B is a pit forming pulse, and FIG. 5C is a pit. It is a figure which shows each groove. Long pit (for example, 10T)
At this time, the exposure light amount is reduced and the light amount is modulated so that the groove width is the same as that of the short pit (1T), and the exposure is performed. Even when exposure is performed with a constant amount of light, the width of the pit tends to be wider for the short pit of 1T and the long pit of 10T. This tendency is the same in both CLV and CAV, and the sensitivity of the resist increases due to a slight change in the temperature of the resist depending on the irradiation time of the resist plate, and the longer pits become wider. Short pits (1T) and long pits (eg 10T)
Then, the difference in signal width causes a difference in signal amplitude, which makes it difficult to manufacture an optical disc having a stable signal amplitude. In this way, when exposing a long pit, the method of lowering the light amount to expose the same groove width as that of a short pit can be performed in CLV exposure, but in the case of CAV exposure, the exposure light amount is changed depending on the radial position. Since the modulation is performed in the above manner, the modulated signal has to be further controlled, which makes it complicated.
【０００５】また、特公昭６３−８４８号公報に提案さ
れている「光情報記録再生方式」は、円周方向のピット
長変化をなくすために、所定寸法のピット長を所定間隔
で複数個形成するもので、この方式によると、ピット長
を所定寸法にすることができるが、最小パルス幅が１Ｔ
ではないので、１Ｔと同じ溝幅にすることは難しく、こ
の方式によれば光量も同時に変調する必要があり、制御
が複雑になってしまうという問題点がある。Further, in the "optical information recording / reproducing system" proposed in Japanese Patent Publication No. 63-848, a plurality of pit lengths having a predetermined size are formed at predetermined intervals in order to eliminate a change in pit length in the circumferential direction. According to this method, the pit length can be set to a predetermined dimension, but the minimum pulse width is 1T.
However, it is difficult to make the groove width the same as 1T, and according to this method, the amount of light also needs to be modulated at the same time, which makes the control complicated.
【０００６】[0006]
【目的】本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなされた
もので、ピット長にかかわらず同じ溝幅にして安定した
信号振幅を得るような露光を行なう光ディスク原盤のピ
ット形成方法を提供することを目的としてなされたもの
である。An object of the present invention is to provide a method for forming pits on an optical disk master for performing exposure such that the groove width is the same regardless of the pit length and stable signal amplitude is obtained regardless of the pit length. It was made for the purpose.
【０００７】[0007]
【構成】本発明は、上記目的を達成するために、（１）
レーザ光源からのレーザ光を光量変調、パルス変調を行
なって対物レンズで絞り、回転横移動しているレジスト
板に露光を行なう光ディスク原盤のピット形成方法にお
いて、長いピットを露光する時に、短いピットのパルス
を繰り返し露光すること、更には、（２）前記（１）に
おいて、前記短いピットを１Ｔとした場合に、該１Ｔピ
ットのパルス変調の周期を（１／４）Ｔ以下で繰り返す
こと、更には、（３）前記（１）又は（２）において、
前記パルス変調に電気光学変調器を用いて露光するこ
と、或いは、（４）レーザ光源と、該レーザ光源からの
レーザ光を光量変調する光量変調器と、該光量変調器か
らのレーザ光をパルス変調するパルス変調器と、該パル
ス変調器からのレーザ光をレジスト板に絞って露光する
対物レンズとから成り、前記レーザ光源からのレーザ光
を２分割し、前記光量変調器と前記パルス変調器を２つ
の光学系を用いて露光することを特徴としたものであ
る。以下、本発明の実施例に基づいて説明する。In order to achieve the above object, the present invention provides (1)
In the method of forming pits on an optical disc master in which a laser beam from a laser light source is modulated in light quantity and pulse-modulated and is squeezed by an objective lens to expose a resist plate that is rotating and moving laterally, when a long pit is exposed, Repeatedly exposing a pulse, and (2) in (1), when the short pit is 1T, the pulse modulation cycle of the 1T pit is repeated at (1/4) T or less, and (3) In the above (1) or (2),
Exposure is performed by using an electro-optic modulator for the pulse modulation, or (4) a laser light source, a light quantity modulator for modulating the light quantity of the laser light from the laser light source, and a pulse of the laser light from the light quantity modulator. A pulse modulator for modulating and an objective lens for exposing the laser light from the pulse modulator by narrowing it down to a resist plate, and dividing the laser light from the laser light source into two, the light quantity modulator and the pulse modulator Is exposed using two optical systems. Hereinafter, description will be given based on examples of the present invention.
【０００８】図１（ａ）〜（ｃ）は、本発明による光デ
ィスク原盤のピット形成方法の一実施例を説明するため
の図で、図（ａ）はピット平面、図（ｂ）はピット形成
パルス、図（ｃ）はピット溝を各々示す図である。図の
ように１０Ｔのような長いピットを露光する時は、溝幅
Ｗ4の１Ｔピットのパルスを繰り返し露光することで、
同じ溝幅Ｗ3＝Ｗ4の長いピットを形成する。その時のパ
ルスの間隔は、図（ｂ）に示すように、（１／４）Ｔ以
下とする。このような、露光方式によれば、従来のよう
に長いピットを露光する時にレーザ光を連続照射して、
熱による影響が生じにくく、１Ｔピットと同じ溝幅を露
光することができる。また、溝の深さも１sm ＝１vfoと
することができる。FIGS. 1A to 1C are views for explaining an embodiment of a method for forming pits on an optical disk master according to the present invention. FIG. 1A is a pit plane and FIG. 1B is a pit formation. Pulses and FIG. 6C are diagrams showing pit grooves, respectively. When exposing a long pit such as 10T as shown in the figure, by repeatedly exposing a pulse of 1T pit having a groove width W 4 ,
A long pit having the same groove width W 3 = W 4 is formed. The pulse interval at that time is set to (1/4) T or less as shown in FIG. According to such an exposure method, when a long pit is exposed as in the conventional case, laser light is continuously irradiated,
The influence of heat is unlikely to occur, and the same groove width as 1T pit can be exposed. Further, the depth of the groove can be 1 sm = 1 vfo.
【０００９】図２は、パルス信号とピットの径の関係を
示す図である。パルス間を（１／４）Ｔ以下とするの
は、図３（ａ）,（ｂ）に示すように、パルス間を、例
えば、図（ｂ）のように１／２Ｔとすると、レーザ光が
ガウス分布のために斜線部が露光されず、溝幅の変動を
起こす影響が多くなるからである。また、パルス変調を
行なう変調器は、Ｅ／Ｏ（Electro Optic：電気光学）
変調器を用いている。一般的に、Ｅ／Ｏ変調器は、Ａ／
Ｏ（Acousto Optic：音響光学）変調器に比べて高価で
はあるが、パルス変調の立ち上がり時間がＡ／Ｏ変調器
が２０ｎｓ程度に対して３.５〜５ｎｓと非常に早いた
め、本発明のように早い周期でパルス変調を行なって長
いピットを形成することができる。FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the pulse signal and the pit diameter. The pulse interval is set to (1/4) T or less when the laser pulse is set to 1 / 2T as shown in FIGS. 3A and 3B, for example, as shown in FIG. However, due to the Gaussian distribution, the shaded area is not exposed and the fluctuation of the groove width increases. In addition, the modulator that performs pulse modulation is E / O (Electro Optic)
It uses a modulator. Generally, the E / O modulator is
Although it is more expensive than an O (Acousto Optic) modulator, the rise time of pulse modulation is 3.5 to 5 ns for an A / O modulator of about 20 ns, which is very fast. It is possible to form a long pit by performing pulse modulation at a very early cycle.
【００１０】図４は、本発明による光ディスク原盤露光
機を示す図で、図中、１はＡr+レーザ（アリゴンイオン
レーザ）、２ａ，２ｂは光量変調器、３ａ，３ｂはパル
ス変調器、４ａ，４ｂはビームエキスパンダ、５は対物
レンズ、６はレジスト板、７はターンテーブルモータ、
８は横送りネジ、９は横送りモータである。光ディスク
の原盤露光を行なう時は、Ａr+レーザ１を光源として光
量変調器２ａ，２ｂにより光量変調と、パルス変調器３
ａ，３ｂによるパルス変調を行ない、対物レンズ５でサ
ブミクロンまで絞り、横送りモータ９と横送りネジ８に
よる横移動と、ターンテーブルモータ７による回転運動
をしてレジスト板６に露光を行なっている。なお、光量
変調器としては、Ａ／Ｏ変調器を用い、パルス変調器と
してはＥ／Ｏ変調器を用いている。FIG. 4 is a diagram showing an optical disk master exposure apparatus according to the present invention. In the figure, 1 is an Ar + laser (Argon ion laser), 2a and 2b are light quantity modulators, 3a and 3b are pulse modulators and 4a. , 4b is a beam expander, 5 is an objective lens, 6 is a resist plate, 7 is a turntable motor,
Reference numeral 8 is a transverse feed screw, and 9 is a transverse feed motor. When the master disc of the optical disc is exposed, the light quantity modulators 2a and 2b are used as the light quantity modulator with the Ar + laser 1 as the light source and the pulse modulator 3
Pulse modulation by a and 3b is performed, the objective lens 5 is used to squeeze to submicron, lateral movement is performed by the lateral feed motor 9 and lateral feed screw 8, and rotational movement is performed by the turntable motor 7 to expose the resist plate 6. There is. An A / O modulator is used as the light quantity modulator, and an E / O modulator is used as the pulse modulator.
【００１１】[0011]
【効果】以上の説明から明らかなように、本発明による
と、以下のような効果がある。 （１）請求項１に対応する効果：１Ｔのパルス変調によ
り１０Ｔピットを露光するようにすれば、レジストへの
熱の影響がなく、１Ｔと同じ溝幅の１０Ｔピットを露光
することができるので安定した信号振幅が得られる。
（２）請求項２に対応する効果：パルス変調の周期を１
／４Ｔ以下にすることで、露光ビーム形状による溝幅の
変動を防ぐことができる。 （３）請求項３に対応する効果：パルス変調にＥ／Ｏ変
調器を用いることで、早いパルス変調を行なうことがで
きる。 （４）請求項４に対応する効果：２本の光学系を有する
ので、同時に２種類の溝又はピットを露光することがで
きる。As is apparent from the above description, the present invention has the following effects. (1) Effect corresponding to claim 1 If 10T pits are exposed by pulse modulation of 1T, there is no influence of heat on the resist and 10T pits having the same groove width as 1T can be exposed. A stable signal amplitude can be obtained.
(2) Effect corresponding to claim 2: The period of pulse modulation is 1
By setting / 4T or less, it is possible to prevent the groove width from varying due to the shape of the exposure beam. (3) Effect corresponding to claim 3: By using an E / O modulator for pulse modulation, fast pulse modulation can be performed. (4) Effect corresponding to claim 4: Since it has two optical systems, it is possible to expose two types of grooves or pits at the same time.
【図１】 本発明による光ディスク原盤のピット形成方
法の一実施例を説明するための構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram for explaining an embodiment of a method for forming pits on an optical disc master according to the present invention.
【図２】 パルス信号とピットの径の関係を示す図であ
る。FIG. 2 is a diagram showing a relationship between a pulse signal and a pit diameter.
【図３】 パルス間隔と露光状態を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a pulse interval and an exposure state.
【図４】 本発明による原盤露光機を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a master exposure apparatus according to the present invention.
【図５】 従来のピット形成方法を説明するための図で
ある。FIG. 5 is a diagram for explaining a conventional pit forming method.
１…Ａr+レーザ（アリゴンイオンレーザ）、２ａ，２ｂ
…光量変調器、３ａ，３ｂ…パルス変調器、４ａ，４ｂ
…ビームエキスパンダ、５…対物レンズ、６…レジスト
板、７…ターンテーブルモータ、８…横送りネジ、９…
横送りモータ。1 ... Ar + laser (arigon ion laser), 2a, 2b
... Light intensity modulator, 3a, 3b ... Pulse modulator, 4a, 4b
... Beam expander, 5 ... Objective lens, 6 ... Resist plate, 7 ... Turntable motor, 8 ... Side feed screw, 9 ...
Traverse motor.
Claims (4)
パルス変調を行なって対物レンズで絞り、回転横移動し
ているレジスト板に露光を行なう光ディスク原盤のピッ
ト形成方法において、長いピットを露光する時に、短い
ピットのパルスを繰り返し露光することを特徴とする光
ディスク原盤のピット形成方法。1. A light amount modulation of laser light from a laser light source,
A method for forming pits on an optical disc master, which performs pulse modulation, squeezes with an objective lens, and exposes a rotationally laterally moving resist plate, characterized in that when long pits are exposed, short pit pulses are repeatedly exposed. Method for forming pits on optical disk master.
１Ｔピットのパルス変調の周期を（１／４）Ｔ以下で繰
り返すことを特徴とする請求項１記載の光ディスク原盤
のピット形成方法。2. The method of forming a pit on an optical disc master according to claim 1, wherein, when the short pit is 1T, the pulse modulation cycle of the 1T pit is repeated at (1/4) T or less.
て露光することを特徴とする請求項１又は２記載の光デ
ィスク原盤のピット形成方法。3. The method for forming pits on an optical disc master according to claim 1, wherein the pulse modulation is performed using an electro-optic modulator for exposure.
ザ光を光量変調する光量変調器と、該光量変調器からの
レーザ光をパルス変調するパルス変調器と、該パルス変
調器からのレーザ光をレジスト板に絞って露光する対物
レンズとから成り、前記レーザ光源からのレーザ光を２
分割し、前記光量変調器と前記パルス変調器を２つの光
学系を用いて露光することを特徴とする原盤露光機。4. A laser light source, a light quantity modulator for modulating the light quantity of the laser light from the laser light source, a pulse modulator for pulse-modulating the laser light from the light quantity modulator, and a laser light from the pulse modulator. Of the laser light from the laser light source.
A master exposure apparatus, which is divided, and the light quantity modulator and the pulse modulator are exposed using two optical systems.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11693592A JPH05290412A (en) | 1992-04-09 | 1992-04-09 | Pit forming method for optical master disk and master disk exposure machine |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11693592A JPH05290412A (en) | 1992-04-09 | 1992-04-09 | Pit forming method for optical master disk and master disk exposure machine |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05290412A true JPH05290412A (en) | 1993-11-05 |
Family
ID=14699349
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11693592A Pending JPH05290412A (en) | 1992-04-09 | 1992-04-09 | Pit forming method for optical master disk and master disk exposure machine |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05290412A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19980023062A (en) * | 1996-09-25 | 1998-07-06 | 구자홍 | Light source control method of optical recording device |
| US7297472B2 (en) * | 2002-03-11 | 2007-11-20 | Tdk Corporation | Processing method for photoresist master, production method for recording medium-use mater, production method for recording medium, photoresist master, recording medium-use master and recording medium |
-
1992
- 1992-04-09 JP JP11693592A patent/JPH05290412A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19980023062A (en) * | 1996-09-25 | 1998-07-06 | 구자홍 | Light source control method of optical recording device |
| US7297472B2 (en) * | 2002-03-11 | 2007-11-20 | Tdk Corporation | Processing method for photoresist master, production method for recording medium-use mater, production method for recording medium, photoresist master, recording medium-use master and recording medium |
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