JPH05258693A - 走査電子顕微鏡 - Google Patents
走査電子顕微鏡Info
- Publication number
- JPH05258693A JPH05258693A JP4054806A JP5480692A JPH05258693A JP H05258693 A JPH05258693 A JP H05258693A JP 4054806 A JP4054806 A JP 4054806A JP 5480692 A JP5480692 A JP 5480692A JP H05258693 A JPH05258693 A JP H05258693A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- unsensitive
- electron microscope
- scanning electron
- dead time
- ray detector
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、エネルギー分散型Ｘ線分析装置を備
えた走査電子顕微鏡に係り、特に、Ｘ線検出器で生じる
不感時間を適切な割合（２０％〜３０％）に自動的に設
定可能とするもので、金属，セラミックスから高分子材
料に至るまで高精度分析の実現を提供することにある。 【構成】Ｘ線検出器８で生じた不感時間を、波高分析器
１２からＣＰＵ１３へ転送する。ＣＰＵ１３では、不感
時間の増減に対応して収束レンズ電源２０を制御するた
めのデータをＤ／Ａ変換器１４に転送することでプロー
ブ電流を自動設定する。
えた走査電子顕微鏡に係り、特に、Ｘ線検出器で生じる
不感時間を適切な割合（２０％〜３０％）に自動的に設
定可能とするもので、金属，セラミックスから高分子材
料に至るまで高精度分析の実現を提供することにある。 【構成】Ｘ線検出器８で生じた不感時間を、波高分析器
１２からＣＰＵ１３へ転送する。ＣＰＵ１３では、不感
時間の増減に対応して収束レンズ電源２０を制御するた
めのデータをＤ／Ａ変換器１４に転送することでプロー
ブ電流を自動設定する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、エネルギー分散型Ｘ線
分析装置を備えた走査電子顕微鏡に係り、特に、Ｘ線検
出器で生じる不感時間を適切な割合（分析に要する時間
の２０％〜３０％）に自動的に設定可能とするもので、
金属，セラミックスから高分子材料に至るまで精度の高
い分析を実現するものである。
分析装置を備えた走査電子顕微鏡に係り、特に、Ｘ線検
出器で生じる不感時間を適切な割合（分析に要する時間
の２０％〜３０％）に自動的に設定可能とするもので、
金属，セラミックスから高分子材料に至るまで精度の高
い分析を実現するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来は、エネルギー分散型Ｘ線分析装置
でＸ線分析を実施する場合、分析時間に対して不感時間
の占める割合が大きくなると、エネルギー分解能の劣化
や擬似ピークの発生などの問題を生じて分析精度が低下
する。このため、従来は、不感時間をメータ等により目
視で読み取りながら、手動で収束レンズ電流を調整して
プローブ電流を設定していた。
でＸ線分析を実施する場合、分析時間に対して不感時間
の占める割合が大きくなると、エネルギー分解能の劣化
や擬似ピークの発生などの問題を生じて分析精度が低下
する。このため、従来は、不感時間をメータ等により目
視で読み取りながら、手動で収束レンズ電流を調整して
プローブ電流を設定していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
技術においては、試料を変えたときや分析位置を変えた
ときに変化する不感時間を、分析を行う毎に手動で収束
レンズを設定しなおすという煩わしさがあった。本発明
の目的は、収束レンズ電流を制御して任意の不感時間に
対して、プローブ電流を自動的に設定可能とする手段を
提供することにある。
技術においては、試料を変えたときや分析位置を変えた
ときに変化する不感時間を、分析を行う毎に手動で収束
レンズを設定しなおすという煩わしさがあった。本発明
の目的は、収束レンズ電流を制御して任意の不感時間に
対して、プローブ電流を自動的に設定可能とする手段を
提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的は、検出器の不
感時間を読み取ってデジタル化して、コンピュータで演
算処理を行い収束レンズ電流を制御する機構を備えるこ
とにより容易に達成できる。
感時間を読み取ってデジタル化して、コンピュータで演
算処理を行い収束レンズ電流を制御する機構を備えるこ
とにより容易に達成できる。
【０００５】
【作用】本発明の作用は、不感時間をモニタしながら、
所定の分析時間に対する不感時間の割合になるよう、収
束レンズ電流を制御することによってプローブ電流を変
化させるものである。
所定の分析時間に対する不感時間の割合になるよう、収
束レンズ電流を制御することによってプローブ電流を変
化させるものである。
【０００６】
【実施例】本発明の実施例を図１に示す。Ｘ線７は、真
空中で電子ビーム３を試料６に照射すると励起される。
励起されたＸ線７は、Ｘ線検出器８に入射し、その内部
でＸ線７のエネルギに対応した電荷に変わり収集され
る。Ｘ線検出器８と前置増幅器９は、エネルギ分解能を
向上させるためにクライオスタット１０の中に取り付け
られ真空に封じ切ってある。ここで、多量のＸ線７が入
射するとＸ線検出器８で発生する不感時間が長くなり、
分解能劣化や擬似ピークの原因となるため、Ｘ線７の発
生量を、プローブ電流を可変することで適性値（通常、
加速電圧や試料によって異なる。）に設定しなければな
らない。そこで、不感時間の長さで、任意にプローブ電
流を制御するため、不感時間を波高分析器１５からＣＰ
Ｕ１６で読み取りデジタル化する。プローブ電流は、収
束レンズ電流の増減により可変されるので、読み取った
不感時間の長さが、設定した適性な割合（分析時間の２
０％〜３０％）となるよう、ＣＰＵ１６で演算処理を行
い、そのデータをＤ／Ａ変換器１７に転送し収束レンズ
電源２０の制御をおこなう。これにより、不感時間に対
応したプローブ電流を自動設定することが可能となる。
尚、従来は、不感時間をＣＲＴ１５から目視で読み取
り、収束レンズ電流を可変抵抗１９で手動で設定してい
る。
空中で電子ビーム３を試料６に照射すると励起される。
励起されたＸ線７は、Ｘ線検出器８に入射し、その内部
でＸ線７のエネルギに対応した電荷に変わり収集され
る。Ｘ線検出器８と前置増幅器９は、エネルギ分解能を
向上させるためにクライオスタット１０の中に取り付け
られ真空に封じ切ってある。ここで、多量のＸ線７が入
射するとＸ線検出器８で発生する不感時間が長くなり、
分解能劣化や擬似ピークの原因となるため、Ｘ線７の発
生量を、プローブ電流を可変することで適性値（通常、
加速電圧や試料によって異なる。）に設定しなければな
らない。そこで、不感時間の長さで、任意にプローブ電
流を制御するため、不感時間を波高分析器１５からＣＰ
Ｕ１６で読み取りデジタル化する。プローブ電流は、収
束レンズ電流の増減により可変されるので、読み取った
不感時間の長さが、設定した適性な割合（分析時間の２
０％〜３０％）となるよう、ＣＰＵ１６で演算処理を行
い、そのデータをＤ／Ａ変換器１７に転送し収束レンズ
電源２０の制御をおこなう。これにより、不感時間に対
応したプローブ電流を自動設定することが可能となる。
尚、従来は、不感時間をＣＲＴ１５から目視で読み取
り、収束レンズ電流を可変抵抗１９で手動で設定してい
る。
【０００７】
【発明の効果】本発明によれば、Ｘ線検出器で生じる不
感時間を適切な割合(２０％〜３０％)に自動設定するこ
とが可能となるため、エネルギー分散型Ｘ線検出器によ
るＸ線分析が簡略化されるとともに、金属，セラミック
スから高分子材料に至るまで、高精度な分析を実施でき
る効果がある。
感時間を適切な割合(２０％〜３０％)に自動設定するこ
とが可能となるため、エネルギー分散型Ｘ線検出器によ
るＸ線分析が簡略化されるとともに、金属，セラミック
スから高分子材料に至るまで、高精度な分析を実施でき
る効果がある。
【図１】本発明の原理を説明するための図である。
１…走査電子顕微鏡、２…電子銃、３…電子ビーム、４
…収束レンズ、５…対物レンズ、６…試料、７…Ｘ線、
８…Ｘ線検出器、９…前置増幅器、１０…クライオスタ
ット、１１…デュワー、１２…液体窒素、１３…直線増
幅器、１４…波高分析器、１５…ＣＲＴ、１６…ＣＰ
Ｕ、１７…Ｄ／Ａ変換器、１８…前置増幅器、１９…可
変抵抗、２０…コンデンサレンズ電源。
…収束レンズ、５…対物レンズ、６…試料、７…Ｘ線、
８…Ｘ線検出器、９…前置増幅器、１０…クライオスタ
ット、１１…デュワー、１２…液体窒素、１３…直線増
幅器、１４…波高分析器、１５…ＣＲＴ、１６…ＣＰ
Ｕ、１７…Ｄ／Ａ変換器、１８…前置増幅器、１９…可
変抵抗、２０…コンデンサレンズ電源。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 猛夫 茨城県勝田市堀口字長久保832番地２ 日 立計測エンジニアリング株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】エネルギー分散型Ｘ線分析装置を備えた走
査電子顕微鏡において、任意の不感時間に対応したプロ
ーブ電流の設定を自動的に行う手段を備えたことを特徴
とする走査電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4054806A JPH05258693A (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | 走査電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4054806A JPH05258693A (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | 走査電子顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05258693A true JPH05258693A (ja) | 1993-10-08 |
Family
ID=12980978
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4054806A Pending JPH05258693A (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | 走査電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05258693A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007086011A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡制御装置、電子顕微鏡システムおよび電子顕微鏡の制御方法 |
| US7529337B2 (en) | 2006-06-22 | 2009-05-05 | Sii Nano Technology Inc. | Energy dispersion type radiation detecting system and method of measuring content of object element |
-
1992
- 1992-03-13 JP JP4054806A patent/JPH05258693A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007086011A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡制御装置、電子顕微鏡システムおよび電子顕微鏡の制御方法 |
| JP4644084B2 (ja) * | 2005-09-26 | 2011-03-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡制御装置、電子顕微鏡システムおよび電子顕微鏡の制御方法 |
| US7529337B2 (en) | 2006-06-22 | 2009-05-05 | Sii Nano Technology Inc. | Energy dispersion type radiation detecting system and method of measuring content of object element |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0377446A2 (en) | Surface analysis method and apparatus | |
| JPS5963648A (ja) | 分析装置 | |
| Graczyk et al. | Scanning electron diffraction attachment with electron energy filtering | |
| Egerton | A simple electron spectrometer for energy analysis in the transmission microscope | |
| Oatley | Isolation of potential contrast in the scanning electron microscope | |
| CN1040251C (zh) | 样品表面分析中校正本底的方法和装置 | |
| Egerton et al. | Modification of a transmission electron microscope to give energy-filtered images and diffraction patterns, and electron energy loss spectra | |
| JPH05258693A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| Traxel et al. | The new Heidelberg proton microprobe: The success of a minimal concept | |
| Ding et al. | X-ray spectrometry using polycapillary X-ray optics and position sensitive detector | |
| Joy et al. | A practical electron spectrometer for chemical analysis | |
| Jaklevic et al. | X-ray fluorescence analysis applied to small samples | |
| JPH04334861A (ja) | 電子分光画像測定方式 | |
| Müller et al. | SPA‐RHEED—A novel method in reflection high‐energy electron diffraction with extremely high angular and energy resolution | |
| Lindström et al. | Microdensitometer system for microradiography | |
| Miller et al. | Nickel by XPS | |
| Lanford et al. | Characteristics of Albany’s compact high resolution magnetic spectrometer | |
| Baumbach et al. | A laboratory 8 keV transmission full-field x-ray microscope with a polycapillary as condenser for bright and dark field imaging | |
| JPH0581875B2 (ja) | ||
| Allison et al. | Imaging and small spot analysis with ESCA | |
| Furnas Jr et al. | Use of toroidal monochromators in a hybrid XRF system to obtain increased effectiveness ratios | |
| JPH0758297B2 (ja) | 非接触電位測定装置 | |
| Bolz et al. | Ultrasensitive logarithmic picoammeter for exposure and dose measurement in electron microscopy of polymer crystals | |
| JP2002168813A (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| Lamvik et al. | Calibration methods for quantitative image processing in electron microscopy |