JPH05257280A - Formation of pattern - Google Patents
Formation of patternInfo
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- JPH05257280A JPH05257280A JP8658592A JP8658592A JPH05257280A JP H05257280 A JPH05257280 A JP H05257280A JP 8658592 A JP8658592 A JP 8658592A JP 8658592 A JP8658592 A JP 8658592A JP H05257280 A JPH05257280 A JP H05257280A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ガラス板、ＣＣＤのウ
エハプロセス済みのウエハー等の基材上にストライプ又
は、モザイク状に設けられ、かつ染色する為の可染性樹
脂製のパターンの形成法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention provides a pattern of a dyeable resin for dyeing, which is provided in a stripe or mosaic pattern on a substrate such as a glass plate or a wafer on which a CCD wafer has been processed. It is about law.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、ガラス、ＣＣＤのウエハプロセス
済みのウエハー等の基材上に設けられた樹脂膜をストラ
イプ又は、モザイク状等に着色したものがカラーフィル
ターとして、液晶ディスプレイやビデオカメラに使用さ
れ、その需要が増大しつつある。本発明は、かかるガラ
ス板、シリコーンウェハー等の基材にストライプ又は、
モザイク状等に染色する為の可染性樹脂膜のパターンを
形成する方法に関するものである。尚、一般に、ＣＣＤ
ウエハープロセス済みのウエハーとしては、アクリル系
樹脂等により、表面コートされたものが使用されてい
る。2. Description of the Related Art In recent years, a resin film provided on a substrate such as a glass or a wafer that has been subjected to a CCD wafer process and colored in a stripe or mosaic pattern is used as a color filter in a liquid crystal display or a video camera. The demand is increasing. The present invention is such a glass plate, a substrate such as a silicone wafer with stripes or
The present invention relates to a method for forming a pattern of a dyeable resin film for dyeing in a mosaic shape or the like. Generally, CCD
As the wafer that has been subjected to the wafer process, one whose surface is coated with an acrylic resin or the like is used.
【０００３】従来、この分野に於いては皮膜を設ける為
の樹脂として感光性で可染性の樹脂組成物が用いられて
いるが、これら可染性感光性樹脂の用い方は、先ずその
ような樹脂を適当な濃度に希釈した溶液をガラス板、Ｃ
ＣＤのウエハプロセス済みのウエハー等に塗付し、次
に、マスクを介して露光したのち現像してストライプ又
はモザイク状の可染性樹脂膜を形成し、その後、所定の
分光特性を有する染料により、染色する等の操作を繰返
すことにより色分解フィルター（カラーフィルター）を
作成しているが、可染性感光性樹脂溶液を基材に塗付す
る際、基材と可染性感光性樹脂膜との密着性を充分に保
つ為に、通常シランカップラーが使用される。又、露光
後の現像に於いては、通常２０〜７０℃の中性乃至酸性
水溶液又は、非イオン界面活性剤を含有する水溶液を使
用して行われている。Conventionally, in this field, a photosensitive and dyeable resin composition has been used as a resin for forming a film. The method of using these dyeable photosensitive resins is as follows. A solution prepared by diluting various resins to an appropriate concentration on a glass plate, C
It is applied to a wafer that has undergone the wafer process of CD, and then exposed through a mask and then developed to form a stripe or mosaic dyeable resin film, and then a dye having a predetermined spectral characteristic is used. A color separation filter (color filter) is created by repeating operations such as dyeing, but when the dyeable photosensitive resin solution is applied to the substrate, the substrate and the dyeable photosensitive resin film are used. A silane coupler is usually used in order to maintain sufficient adhesion with. The development after exposure is usually carried out using a neutral to acidic aqueous solution at 20 to 70 ° C. or an aqueous solution containing a nonionic surfactant.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】可染性感光性樹脂組成
物を、ガラス板、ＣＣＤのウエハプロセス済みのウエハ
ー等に塗付する際にシランカップラーを使用すると、可
染性感光性樹脂膜と基材との密着性は良くなるが、現像
時間が長くかかる上現像時間を長くすると、一度現像に
より脱落した可染性感光性樹脂の粕状物が、ガラス板等
に再付着する為に不良品が発生しやすいとか、ストライ
プ又はモザイク状の樹脂膜の形状が崩れたり、又、未露
光部の脱落が不十分な為解像度が悪くなるとかの問題が
あり、工程の合理化、収率の向上、品質の向上の点で、
更に改良が望まれている。When a silane coupler is used when a dyeable photosensitive resin composition is applied to a glass plate, a wafer that has undergone a wafer process of CCD, etc., a dyeable photosensitive resin film is obtained. Although the adhesion to the substrate is improved, it takes a long time to develop, and if the development time is increased, the stains of the dyeable photosensitive resin that have once fallen off due to development will re-adhere to the glass plate, etc. There are problems that good products are likely to occur, the shape of the resin film in stripes or mosaics is broken, and the resolution is deteriorated due to insufficient removal of unexposed parts, streamlining the process and improving yield. , In terms of quality improvement,
Further improvements are desired.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者等は、これらの
問題点を解決すべく鋭意検討を行った結果、可染性感光
性樹脂液をガラス板、ＣＣＤのウエハプロセス済みのウ
エハー等に塗付する際、特定の薬剤を含む塗工液を用
い、マスクを介して露光したのち、アルコール類を用い
て現像を行う事により前記目的が達成出来る事を見出
し、本発明を完成させるに至った。The inventors of the present invention have conducted diligent studies to solve these problems, and as a result, the dyeable photosensitive resin liquid was applied to a glass plate, a wafer for which a CCD wafer process has been performed, or the like. Upon application, it was found that the above object can be achieved by using a coating solution containing a specific chemical agent, exposing through a mask, and then developing with alcohols, thus completing the present invention. It was
【０００６】即ち本発明は （ａ）可染性樹脂モノマー（Ａ）、（ｂ）可染性モノマ
ー（Ａ）以外の親水性モノマー（Ｂ）、（ｃ）疎水性モ
ノマー（Ｃ）より成る共重合体〔Ｄ〕及びシリコーンオ
イルを主要成分とする可染性感光性樹脂組成物を用いて
基材表面に皮膜を設け、次にマスクを用いて露光したあ
と、アルコール類で現像することを特徴とするパターン
形成法を提供する。That is, the present invention comprises a copolymer (a) of a dyeable resin monomer (A), (b) a hydrophilic monomer (B) other than the dyeable monomer (A), and (c) a hydrophobic monomer (C). A film is formed on the surface of a substrate by using a dyeable photosensitive resin composition containing a polymer [D] and a silicone oil as main components, then exposed using a mask, and then developed with alcohols. A pattern forming method is provided.
【０００７】本発明のパターン形成法によると従来の方
法に比べ、現像時間が短縮できる上に、現像により脱落
した未露光部の樹脂の再付着も減少し、又、ストライプ
又は、モザイク状の樹脂膜の形状が崩れるのを防止でき
る。又、未現像部分が残ることも防止でき解像度をあげ
ることが可能となり、工程の合理化と品質の向上及び収
率の向上を達成する事ができる。According to the pattern forming method of the present invention, compared with the conventional method, the developing time can be shortened, the redeposition of the resin of the unexposed portion which is dropped by the development is reduced, and the stripe or mosaic resin is also reduced. It is possible to prevent the shape of the film from collapsing. In addition, it is possible to prevent the undeveloped portion from remaining, and it is possible to increase the resolution, so that the process can be rationalized, the quality can be improved, and the yield can be improved.
【０００８】本発明で使用するシリコーンオイルは水、
アルコール、セロソルブ、ジグライム等の溶媒に可溶で
あり、その使用量は、感光性樹脂溶液中に含まれる樹脂
固形分に対し、０．０１〜１％、好ましくは０．１〜
０．６％である。本発明のパターン形成法では現像剤と
してアルコール類が使用されるが、アルコール類の例と
してはメタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ
−プロパノール、イソブタノール、ｎ−ブタノールが挙
げられこれらの混合液であってもよい。これらのアルコ
ール類は水を含まない方が好ましいが数％の水の混入は
許容される。現像温度は、０〜５０℃が好ましいが、特
に好ましいのは１０〜２５℃である。The silicone oil used in the present invention is water,
It is soluble in solvents such as alcohol, cellosolve, and diglyme, and its amount used is 0.01 to 1%, preferably 0.1 to 1% of the resin solid content contained in the photosensitive resin solution.
It is 0.6%. Alcohols are used as a developer in the pattern forming method of the present invention. Examples of alcohols include methanol, ethanol, isopropanol, and n.
-Propanol, isobutanol, n-butanol may be mentioned, and a mixture thereof may be used. It is preferable that these alcohols do not contain water, but mixing of several% of water is acceptable. The developing temperature is preferably 0 to 50 ° C, and particularly preferably 10 to 25 ° C.
【０００９】本発明で用いられる可染性感光性樹脂組成
物としては、例えば、次のようなものが挙げられる。即
ち、可染性モノマー（Ａ）、親水性モノマー（Ｂ）、疎
水性モノマー（Ｃ）より成る共重合体（Ｄ）に、感光剤
として例えば、４，４′−ジアジドカルコン、２，６−
ビス（４′−アジドベンザル）シクロヘキサン、２，６
−ビス（４′−アジドベンザル）４−メチルシクロヘキ
サノン、１，３−ビス（４′−アジドベンザル）−２−
プロパノン等を組み合わせて、可染性感光性樹脂組成物
としたものExamples of the dyeable photosensitive resin composition used in the present invention include the following. That is, a copolymer (D) composed of a dyeable monomer (A), a hydrophilic monomer (B), and a hydrophobic monomer (C) is added to a copolymer such as 4,4′-diazidochalcone, 2,6 as a photosensitizer. −
Bis (4'-azidobenzal) cyclohexane, 2,6
-Bis (4'-azidobenzal) 4-methylcyclohexanone, 1,3-bis (4'-azidobenzal) -2-
A dyeable photosensitive resin composition prepared by combining propanone, etc.
【００１０】又は、この共重合体〔Ｄ〕に感光性基例え
ば、シンナモイル基、アジド基、アクリル基、スチリル
ピリジニウム塩構造、又はスチリルキノリウム塩構造等
を有するモノマーを共重合させて可染性感光性樹脂組成
物としたもの等がある。Alternatively, the copolymer [D] is copolymerized with a monomer having a photosensitive group such as a cinnamoyl group, an azido group, an acryl group, a styrylpyridinium salt structure, or a styrylquinolium salt structure to give a dyeable composition. There is a photosensitive resin composition.
【００１１】本発明で用いられる可染性モノマー（Ａ）
としては、例えば次のものが挙げられる。 （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルアクリレート （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルメタクリレート （Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチルアクリレート （Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチルメタクリレート （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルアクリルアミド （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルメタクリルアミド （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルビニルエーテル （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルアクリレート （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルメタクリレート ４−ビニルピリジンジアリルアミン ２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピルト
リメチルアンモニウムクロライド メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムク
ロライドThe dyeable monomer (A) used in the present invention
For example, the following may be mentioned. (N, N-Dimethylamino) ethyl acrylate (N, N-Dimethylamino) ethyl methacrylate (N, N-Diethylamino) ethyl acrylate (N, N-Diethylamino) ethyl methacrylate (N, N-Dimethylamino) propylacrylamide (N , N-Dimethylamino) propylmethacrylamide (N, N-dimethylamino) ethyl vinyl ether (N, N-dimethylamino) propyl acrylate (N, N-dimethylamino) propyl methacrylate 4-vinylpyridine diallylamine 2-hydroxy-3- Methacryloyloxypropyl trimethyl ammonium chloride Methacryloyl oxyethyl trimethyl ammonium chloride
【００１２】本発明で用いられる親水性モノマー（Ｂ）
としては、次のものが挙げられる。 ヒドロキシエチルアクリレート ヒドロキシエチルメタクリレート アクリルアミド、メタアクリルアミド ビニルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドHydrophilic monomer (B) used in the present invention
The following may be mentioned. Hydroxyethyl acrylate hydroxyethyl methacrylate acrylamide, methacrylamide vinylpyrrolidone, N, N-dimethylacrylamide
【００１３】又、本発明で用いられる疎水性モノマー
（Ｃ）としてはメチルアクリレート、メチルメタクリレ
ート、エチルアクリレート、スチレン、Ｐ−メチルスチ
レン、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート等が
挙げられる。Examples of the hydrophobic monomer (C) used in the present invention include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, styrene, P-methylstyrene, butyl acrylate, butyl methacrylate and the like.
【００１４】これら、可染性モノマー（Ａ）、親水性モ
ノマー（Ｂ）、疎水性モノマー（Ｃ）の配合割合は、可
染性モノマー（Ａ）１０〜８０ｗｔ％、親水性モノマー
（Ｂ）２〜６０ｗｔ％、疎水性モノマー（Ｃ）５〜５０
ｗｔ％、であるものが好ましい。これらのモノマーは、
従来技術により重合できる。The dyeable monomer (A), the hydrophilic monomer (B) and the hydrophobic monomer (C) are mixed in proportions of 10 to 80 wt% of the dyeable monomer (A) and 2 of the hydrophilic monomer (B). -60 wt%, hydrophobic monomer (C) 5-50
% is preferable. These monomers are
It can be polymerized by conventional techniques.
【００１５】又、本発明で用いられる可染性感光性樹脂
組成物は、共重合体（Ｄ）とシリコーンオイルを更に必
要により感光剤を混合してえられ、これは更にガラス板
ＣＣＤのウエハプロセス済みのウエハー等に塗布し易く
する為に、通常有機溶剤に希釈されて用いられる。有機
溶剤としては例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、ジグライム、エチレングリコールモノエチルエー
テルアセテート、メチルイソブチルケトン、イソプロピ
ルセロソルブ、トルエン、キシレン等が使用される。The dyeable photosensitive resin composition used in the present invention can be obtained by further mixing the copolymer (D) and silicone oil with a photosensitizer, if necessary. It is usually diluted with an organic solvent for use in order to facilitate coating on processed wafers and the like. As the organic solvent, for example, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, diglyme, ethylene glycol monoethyl ether acetate, methyl isobutyl ketone, isopropyl cellosolve, toluene, xylene and the like are used.
【００１６】可染性感光性樹脂組成物又はその溶液が塗
布されたガラス、ＣＣＤのウエハプロセス済みのウエハ
ー等の基材は、マスクを介して紫外線等により面照度５
〜１０ｍｗ／cm2 で３〜３０秒照射し露光される。未露
光部は、アルコール類により現像される。この様に現像
された樹脂の膜厚は、０．１〜１０μになるように樹脂
組成物の塗工量が調整される。現像された所定のパター
ンを有するガラス、ＣＣＤのウエハプロセス済みのウエ
ハー等の基材は、好ましくはアニオン染料により染色さ
れる。A substrate coated with a dyeable photosensitive resin composition or a solution thereof, such as glass or a wafer that has undergone a wafer process of a CCD, has a surface illuminance of 5 with ultraviolet rays or the like through a mask.
Exposure is performed by irradiating at 10 mw / cm 2 for 3 to 30 seconds. The unexposed area is developed with alcohols. The coating amount of the resin composition is adjusted so that the film thickness of the resin thus developed is 0.1 to 10 μm. Substrates such as developed glass having a predetermined pattern and wafers subjected to wafer processing of CCD are preferably dyed with an anionic dye.
【００１７】アニオン染料としては、カラーインデッス
(Society of Dyers and Colourists発行）に、C.I.Acid
として記載されている酸性染料、同じく、C.I.Directと
して記載されている直接染料及びC.I.Reactiveとして記
載されている反応性染料等が挙げられるが、特に酸性染
料が好ましい。As the anionic dye, a color index
(Published by Society of Dyers and Colorists), CIAcid
Examples of the acid dyes described as, the direct dyes described as CIDirect, the reactive dyes described as CI Reactive, and the like, and the acid dyes are particularly preferable.
【００１８】[0018]
【実施例】実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例において部は重量部を示す。The present invention will be described in more detail by way of examples.
In the examples, “part” means “part by weight”.
【００１９】実施例１ ジメチルアミノプロピルアクリルアミド ３０部 ２−ヒドロキシエチルメタクリレート １５部 ビニルピロリドン １５部 メチルメタクリレート ３０部 ジメチルアミノアクリルアミド １０部 α−α′−アゾビス（イソブチロニトリル） ２部 ジオキサン ２５０部Example 1 Dimethylaminopropylacrylamide 30 parts 2-Hydroxyethylmethacrylate 15 parts Vinylpyrrolidone 15 parts Methylmethacrylate 30 parts Dimethylaminoacrylamide 10 parts α-α'-azobis (isobutyronitrile) 2 parts Dioxane 250 parts
【００２０】上記処法の液体を窒素雰囲気中、７０℃で
８時間重合反応を行った後、この重合溶液をイソプロピ
ルエーテル中に投入し、ポリマーを沈澱させた。ポリマ
ーを取出し乾燥後、このポリマー１６部に、４，４′−
ジアジドカルコンの０．６５部、シリコーンオイル、Ｓ
Ｈ２００オイル（東レ、ダウコーニング・シリコーン株
製）０．２部エチルセロソルブ６３部、ジグライム２１
部を混合溶解させ可染性感光性樹脂液とした。次に、ガ
ラス基板にスピンコーター法により前記可染性感光性樹
脂液を塗付し、オーブンで１００℃、３０分乾燥後、所
定のパターンを有するマスクを介して面照度７．５ｍｗ
／cm2 のＵＶ照射を１５秒間行い２０℃のエタノールに
て攪拌下１分間現像を行うと、照射部のみ可染膜（パタ
ーン）を有するガラス基板が得られた。The liquid of the above treatment was subjected to a polymerization reaction at 70 ° C. for 8 hours in a nitrogen atmosphere, and then this polymerization solution was put into isopropyl ether to precipitate the polymer. After the polymer was taken out and dried, 16 parts of this polymer was added to 4,4'-
0.65 parts of diazido chalcone, silicone oil, S
H200 oil (Toray, Dow Corning Silicone Co., Ltd.) 0.2 parts Ethyl Cellosolve 63 parts, Jiglyme 21
Parts were mixed and dissolved to obtain a dyeable photosensitive resin liquid. Next, the dyeable photosensitive resin liquid was applied onto a glass substrate by a spin coater method, dried in an oven at 100 ° C. for 30 minutes, and then a surface illuminance of 7.5 mw through a mask having a predetermined pattern.
/ When cm 2 of UV irradiation carried out under 1 minute development stirred at deeds 20 ° C. 15 seconds ethanol, a glass substrate having only the irradiated portion Kasomemaku (pattern) was obtained.
【００２１】このガラス基板をオーブンで１５０℃、３
０分間乾燥後、これをPC Red 137P（日本化薬（株）製
カラーフィルター用色素）をその濃度が０．１重量％と
なるように水に溶解させた液に浸し、６０℃で１０分間
染色を行うと濃厚赤色のパターンに染色されたガラス板
が得られた。このガラス板は、現像による未露光部の脱
落樹脂の再付着が極めて少ない上、未現像部分が残るこ
ともなく、又、形成された赤色の樹脂膜の形状を崩れる
こともなく，画像は極めて鮮明であった。又、ガラス基
板と樹脂膜の密着性を十分であった。This glass substrate was placed in an oven at 150 ° C. for 3 days.
After drying for 0 minutes, dip this in a liquid in which PC Red 137P (a dye for color filters manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) is dissolved in water to a concentration of 0.1% by weight, and at 60 ° C. for 10 minutes. Upon dyeing, a glass plate dyed in a deep red pattern was obtained. This glass plate has very little redeposition of the resin that has fallen off in the unexposed area due to development, there is no undeveloped area left, and the shape of the red resin film formed is not destroyed, and the image quality is extremely high. It was clear. Further, the adhesion between the glass substrate and the resin film was sufficient.
【００２２】比較例１ 実施例１に於いて、 シリコーンオイルＳＨ２００オイ
ルの代わりに、シランカップリング剤（信越化学工業株
製、ＫＢＭ６０３）０．３４部を用いて感光性樹脂液を
調製し、又エマルゲン９１３〔花王石鹸（株）製、ポリ
オキシエチレンノニルフェノールエーテル型非イオン界
面活性剤〕を水１００部中に２部含有する６０℃の現像
液にて攪拌下で５分間現像を行ったところ、実施例１に
比して未現像部分が、極めて多く残り、又、脱落樹脂の
再付着も多く、形成された赤色の樹脂膜の形状も大きく
崩れている事が認められた。現像時間を１０分間にして
も、同様であった。Comparative Example 1 In Example 1, 0.34 parts of a silane coupling agent (KBM603, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used in place of the silicone oil SH200 oil to prepare a photosensitive resin liquid. When Emulgen 913 (a polyoxyethylene nonylphenol ether type nonionic surfactant manufactured by Kao Soap Co., Ltd.) was developed with stirring in a developer containing 2 parts in 100 parts of water at 60 ° C. for 5 minutes with stirring, It was confirmed that an undeveloped portion was left in an extremely large amount as compared with Example 1 and that the dropped resin was re-attached, and the shape of the formed red resin film was largely destroyed. The same was true when the developing time was 10 minutes.
【００２３】実施例２ 実施例１に於いて、基材としてガラス基板の代わりに、
ＣＣＤのウエハ処理済みのウエハを用いて、実施例１と
同様の操作を行ったところ、実施例１と同様良好な着色
パターンが得られた。Example 2 In Example 1, instead of the glass substrate as the base material,
When the same operation as in Example 1 was performed using the wafer which had been subjected to the wafer processing of CCD, the same favorable colored pattern as in Example 1 was obtained.
【００２４】実施例３ ジメチルアミノプロピルアクリルアミド ４０部 ２−ヒドロキシエチルメタクリレート １０部 ビニルピロリドン ５部 メチルメタクリレート １５部 メチルアクリレート １５部 ジメチルアミノアクリルアミド １５部 α−α′−アゾビス（イソブチロニトリル） １０部 ジオキサン ２５０部Example 3 Dimethylaminopropylacrylamide 40 parts 2-Hydroxyethylmethacrylate 10 parts Vinylpyrrolidone 5 parts Methylmethacrylate 15 parts Methylacrylate 15 parts Dimethylaminoacrylamide 15 parts α-α'-azobis (isobutyronitrile) 10 parts 250 parts of dioxane
【００２５】上記処法の液体を窒素雰囲気中、７０℃８
時間重合反応を行ったのち、この重合液をイソプロピル
エーテル中に投入し、ポリマーを沈澱させた。ポリマー
を取出し乾燥後、このポリマー１６部に、４，４′−ジ
アジドカルコン０．６５部、シリコーンオイル、ＳＨ７
０９０オイル（東レ、ダウコーニングシリコン（株）
製）０．５部、エチルセロソルブ４２部、ジクライム４
２部を混合溶解させた溶液を可料性感光性樹脂液とし
た。The liquid of the above treatment was placed in a nitrogen atmosphere at 70 ° C for 8 hours.
After carrying out the polymerization reaction for a period of time, the polymer solution was poured into isopropyl ether to precipitate the polymer. After the polymer was taken out and dried, 16 parts of this polymer were added to 0.65 part of 4,4'-diazidochalcone, silicone oil, and SH7.
090 Oil (Toray, Dow Corning Silicon Co., Ltd.)
Made) 0.5 parts, ethyl cellosolve 42 parts, diclime 4
A solution obtained by mixing and dissolving 2 parts was used as a liquid photosensitive resin liquid.
【００２６】次に、この樹脂液をＣＣＤのウエハプロセ
ス済みのウエハにスピンコーター法で塗付し、これをオ
ーブンで１００℃３０分乾燥後、所定のパターンを有す
るマスクを介して面照度７．５ｍｗ／cm2 のＵＶ照射を
１０秒間行い２５℃のイソプロピルアルコールにて、攪
拌下１分間の現像を行うと照射部のみ可染膜（パター
ン）を有する基板が得られた。この可染性膜は０．３ｒ
の膜厚であった。Next, this resin solution is applied to a wafer that has undergone a wafer process of CCD by a spin coater method, dried at 100 ° C. for 30 minutes in an oven, and then the surface illuminance is 7. through a mask having a predetermined pattern. UV irradiation of 5 mw / cm 2 was performed for 10 seconds, and development was performed for 1 minute with stirring at 25 ° C. in isopropyl alcohol, whereby a substrate having a dyeable film (pattern) only on the irradiated portion was obtained. This dyeable film is 0.3r
The film thickness was.
【００２７】この基板をオーブンで１５０℃、３０分間
乾燥した後、これをPC cyan16 （日本化薬（株）製 カ
ラーフィルター色素）を０．１％となるように水に溶解
させた液に浸漬し４０℃、５分間染色を行うと、濃厚シ
アン色のパターンに染色された基板が得られた。この基
板は、未露光部への現像による脱落樹脂の再付着を極め
て少なく、未現像部分が残ることもなく、又、形成され
た樹脂膜の形状も崩れることなく画像は、極めて鮮明で
あった。又、形成された樹脂膜と基材のＣＣＤのウエハ
プロセス済みのウエハとの密着性は十分であった。This substrate was dried in an oven at 150 ° C. for 30 minutes and then dipped in a solution in which PC cyan16 (a color filter dye manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was dissolved in water to 0.1%. Then, when dyeing was carried out at 40 ° C. for 5 minutes, a substrate dyed in a deep cyan pattern was obtained. With this substrate, the reattachment of the resin dropped to the unexposed area due to the development was extremely small, the undeveloped area did not remain, and the shape of the formed resin film was not destroyed, and the image was extremely clear. .. Further, the adhesion between the formed resin film and the wafer on which the CCD as the base material has been subjected to the wafer process was sufficient.
【００２８】比較例２ 実施例３に於いて、シリコーンオイルを使用しないこと
以外は、実施例３と同様の操作を行ったところ、未露光
部への脱落樹脂の再付着、並びに未現像部分は実施例３
に比較し、はるかに多く、形成された樹脂膜の形上も崩
れているものが多くみられた。現像時間を１５分に延長
しても同様であった。Comparative Example 2 The same operation as in Example 3 was carried out except that the silicone oil was not used. In Example 3, redeposition of the falling resin on the unexposed area and undeveloped area were observed. Example 3
Compared with the above, much more, and many of the resin films formed were also broken in shape. The same was true even if the developing time was extended to 15 minutes.
【００２９】実施例４ 実施例３に於いてイソプロピルアルコールの代わりにエ
タノールを用い、又シリコーンオイルとしてＳＨ−７０
９０オイルの代わりにＳＨ７０９１オイル（東レ・ダウ
コーニング・シリコーン（株）製）を用いる以外は実施
例３と同様の操作を行ったところ、良好な着色パターン
が得られた。Example 4 In Example 3, ethanol was used instead of isopropyl alcohol, and SH-70 was used as silicone oil.
The same operation as in Example 3 was carried out except that SH7091 oil (manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) was used instead of 90 oil, and a good coloring pattern was obtained.
【００３０】実施例５ 実施例３に於いて、ＳＨ７０９０オイル（東レ・ダウコ
ーニング・シリコン（株）製）とＳＨ２００オイル（東
レ・ダウコーニング・シリコン（株）製）とを、各々
０．３部ずつ用いる以外は、実施例３と同様の操作を行
ったところ、実施例３と同様な結果が得られた。Example 5 In Example 3, 0.3 part each of SH7090 oil (manufactured by Toray Dow Corning Silicon Co., Ltd.) and SH200 oil (manufactured by Toray Dow Corning Silicon Co., Ltd.) were used. The same operation as in Example 3 was carried out except that each of them was used, and the same results as in Example 3 were obtained.
【００３１】[0031]
【発明の効果】未露光部への脱落樹脂の再付着が防止出
来、形成された樹脂膜の形状の崩れることのないカラー
着色用のパターンを形成する方法が見出された。本発明
の方法により高品質のパターンが得られると共に歩留り
の向上がはかれる。EFFECTS OF THE INVENTION A method for forming a color coloring pattern which can prevent re-adhesion of the dropped resin to the unexposed portion and prevent the formed resin film from losing its shape has been found. According to the method of the present invention, a high quality pattern can be obtained and the yield can be improved.
Claims (1)
可染性モノマー（Ａ）以外の親水性モノマー（Ｂ）、
（ｃ）疎水性モノマー（Ｃ）より成る共重合体（Ｄ）及
びシリコーンオイルを主要成分とする可染性感光性樹脂
組成物を用いて、基材表面に皮膜を設け、次にマスクを
用いて露光したあとアルコール類で現像することを特徴
とするパターン形成法1. A dyeable resin monomer (A), (b)
Hydrophilic monomer (B) other than dyeable monomer (A),
(C) A copolymer (D) composed of a hydrophobic monomer (C) and a dyeable photosensitive resin composition containing silicone oil as a main component are used to form a film on the surface of a substrate, and then a mask is used. Patterning method characterized by developing with alcohols after exposure to light
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8658592A JPH05257280A (en) | 1992-03-11 | 1992-03-11 | Formation of pattern |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8658592A JPH05257280A (en) | 1992-03-11 | 1992-03-11 | Formation of pattern |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05257280A true JPH05257280A (en) | 1993-10-08 |
Family
ID=13891092
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8658592A Pending JPH05257280A (en) | 1992-03-11 | 1992-03-11 | Formation of pattern |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05257280A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100526527B1 (en) * | 2002-11-29 | 2005-11-08 | 삼성전자주식회사 | Photomask and foaming mask pattern using the same |
-
1992
- 1992-03-11 JP JP8658592A patent/JPH05257280A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100526527B1 (en) * | 2002-11-29 | 2005-11-08 | 삼성전자주식회사 | Photomask and foaming mask pattern using the same |
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