JPH05255641A

JPH05255641A - カラーフィルター保護膜形成用組成物、カラーフィルター付き電極基板及び液晶表示素子

Info

Publication number: JPH05255641A
Application number: JP4089990A
Authority: JP
Inventors: Atsuko Kaneko; 敦子金子; Tomoko Suzuki; 智子鈴木
Original assignee: AG Technology Co Ltd
Current assignee: AG Technology Co Ltd
Priority date: 1992-03-13
Filing date: 1992-03-13
Publication date: 1993-10-05

Abstract

(57)【要約】【目的】厚膜化可能できわめて高い平坦化能を有するカ
ラーフィルター保護膜形成用組成物を得る。【構成】（ａ）一般式Ｒ¹ _xＳｉ（ＯＲ² ）_4-x で表され
るオルガノシラン、（ｂ）一般式Ｒ³ Ｒ⁴ Ｓｉ（ＯＲ
⁵ ）₂ （式中でＲ³ 、Ｒ⁴ は同一または異なる水素、フ
ェニル基または炭素数１〜１０の飽和炭化水素基、Ｒ⁵
は有機基）で表されるオルガノシラン、（ｃ）無機酸化
物ゾルを主原料とする組成物を硬化してカラーフィルタ
ー用保護膜とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はカラーフィルター保護膜
用組成物、カラーフィルター付き電極基板およびそれを
用いた液晶表示素子に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示素子等の受光型表示素子はその
薄さ、軽さ、低消費電力などの特徴から従来表示装置の
主流を占めてきたＣＲＴ（陰極線管）に替わり得るもの
として近年目覚ましい発展を示している。この表示素子
をカラー化し、よりＣＲＴに近い表示性能を得るために
欠くことができないものがカラーフィルターであり、こ
れまでに様々な材料や方式が提案されてきている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】その代表例はゼラチン
などの高分子の薄膜を染料により染色して得られる染色
カラーフィルターであり、これまでの液晶方式の小型カ
ラーテレビなどに用いられてきている。この染色カラー
フィルターは透過率、色度の点で優れているものであっ
たが、近年液晶表示素子の大型化が進むに及んで幾つか
の欠点が指摘されている。すなわち、大面積にわたる色
度の均一性の不足、工程の複雑さからくるコスト高、あ
るいは染料を用いることによる耐熱性や耐候性の不足等
である。

【０００４】こうした欠点を補うものとして、近年、様
々なカラーフィルターの製造法が提案されている。例え
ば、色素を感光性樹脂の中にあらかじめ分散させてフォ
トリソグラフィーによりパターニングしていく、いわゆ
るスラリー法、無機あるいは有機の顔料や染料を用い
て、スクリーン、オフセット、グラビア印刷等により基
板上に直接パターンを形成する印刷法などである。

【０００５】しかし、これらのカラーフィルター付き基
板には、各色内または各色間で厚みむらを生じる（通常
０．１μｍ以上）という問題点がある。特に、上記のス
ラリー法ではパターン精度の良いカラーフィルターを形
成することが可能である一方、色間の重なりによる厚み
むらが大きい。かかる厚みむらは、このようなカラーフ
ィルター付き基板を液晶表示素子の一方の電極基板とし
て用いたとき、十分なコントラストや階調がとれないな
どの問題をひきおこす。

【０００６】かかるカラーフィルターにおいては、着色
層保護等を目的として着色層の上に透明な保護膜を形成
することが多いが、このような保護膜は、同時に着色層
の平坦化の機能もある程度有する。したがって、保護膜
として平坦化機能の高いものを用いることは重要であ
る。保護膜には、いくつかの材料が提案されており、大
別して、アクリル系、ポリイミド・ポリアミド系、シリ
コーン系などが例示される。

【０００７】アクリル系としては、特開昭６１−１７１
２４号公報、特開昭６１−１４１４０１号公報、特開昭
６２−８９０２２号公報等に記載されているが、一般
に、上記の平坦化機能が十分でない欠点を有する上、透
明電極との密着性、およびパターニング性が十分でない
欠点を有する。すなわち、保護膜の上には透明導電膜を
形成し、フォトリソ工程・ウェットエッチング処理によ
り、微細加工（パターニング）が施されるが、この際、
十分な保護膜／透明導電膜間の付着力が得られにくく、
透明導電膜のパターニング中において、剥離が発生した
り、アンダーカットやサイドエッチが激しい等の問題が
あった。

【０００８】ポリイミド・ポリアミド系としては、特開
昭６０−７８４０１号公報、特開昭６１−７７００７号
公報等に記載されている。これは、一般に、上記の透明
電極との密着性、およびパターニング性についてはアク
リル系に比べて勝るものの、平坦化機能が極めて低い欠
点があるうえ、コストが高いことから、あまり使用され
ることがない。

【０００９】さらに、シリコーン系については、特開昭
６２−５６９０２号公報、特開昭６３−７８８３号公報
特開昭６３−１９９３１８号公報、特開昭６３−２１８
７７１号公報、特開平１−１４０１８６号公報等に記載
されているが、数μｍ以上の厚膜化が困難で、上記の平
坦化機能が十分でない。また、保護膜形成液の固形分濃
度を増加させることにより、むりに厚膜化すると、クラ
ック発生のおそれがあるうえ、形成液のポットライフが
短く、大変使用しにくいものであった。

【００１０】また、保護膜表面を平坦化するための別な
試みとして、保護膜の上を研磨することが特開平１−１
９３７８１号公報、特開平１−２０６３０４号公報など
により提案されている。

【００１１】しかし、これは研磨という生産性の悪い工
程を必要とするために、コストアップの大きな要因とな
ってしまう。また、研磨により保護膜上にキズが発生し
やすいことなどの問題点をも有する。

【００１２】本発明は、従来技術が有していた前述の欠
点を解消しようというものであり、着色層の平坦化能に
優れ、また電極層との密着性等がよい保護膜を設けるこ
とにより、高品質、かつ品質が安定で、高生産性、低コ
ストのカラーフィルター付き電極基板を得ることを目的
とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明者は上記の課題を
解決すべく鋭意研究を行った結果、特定の組成物を硬化
せしめた保護膜を用いることが上記課題解決に極めて有
効であることを見出すに至った。

【００１４】すなわち、本発明は、下記（ａ）〜（ｃ）
を主原料として混合して得られるカラーフィルター保護
膜形成用組成物である。（ａ）一般式Ｒ1xＳｉ（ＯＲ2 ）4-x （式中でＲ1 、Ｒ
2 は同一または異なる有機基。ｘは０または１。）で表
されるオルガノシラン、または、このオルガノシランの
加水分解物および／または部分的縮合物（ｂ）一般式Ｒ3 Ｒ4 Ｓｉ（ＯＲ5 ）2 （式中でＲ3 、
Ｒ4 は同一または異なる水素、フェニル基または炭素数
１〜１０の飽和炭化水素基。Ｒ5 は有機基。）で表され
るオルガノシラン、または、このオルガノシランの加水
分解物および／または部分的縮合物（ｃ）無機酸化物ゾル

【００１５】また、基板と、該基板上に形成された着色
層と、前記組成物を硬化して前記着色層の上に形成され
た保護膜と、該保護膜上に設けられた電極層とを有する
ことを特徴とするカラーフィルター付き電極基板、並び
に前記のカラーフィルター付き電極基板を用いたことを
特徴とする液晶表示素子を提供するものである。

【００１６】（ａ）のオルガノシランにおけるＲ1 は、
好ましくは炭素数１〜１０の有機基であり、例えば、メ
チル基、エチル基、、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル
基、ブチル基、ビニル基、フェニル基等が挙げられる。
また、Ｒ2 は好ましくは炭素数１〜４の有機基であり、
例えば、メチル基、エチル基、、ｎ−プロピル基、ｉ−
プロピル基、ブチル基である。（ａ）のオルガノシラン
としては、メチルトリメトキシシラン、エチルトリエト
キシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリ
エトキシシラン等が例示される。また、これらの３官能
オルガノシランに４官能のテトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン等のオルガノシランを本発明の効果を
損しない範囲で添加してもよい。

【００１７】これらのオルガノシランは加水分解するこ
とにより、その加水分解物を形成し、更に、触媒存在下
で部分縮合することにより、オルガノポリシロキサンを
生成する。

【００１８】また、（ｂ）のオルガノシランで、式中Ｒ
3 、Ｒ4 は、同一または異なる水素、フェニル基または
炭素数１〜１０の飽和炭化水素基であり、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基な
どが挙げられる。また、Ｒ5は好ましくは炭素数１〜４
の有機基であり、例えば、メチル基、エチル基、、ｎ−
プロピル基、ｉ−プロピル基、ブチル基である。かかる
オルガノシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、
メチルエチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシ
ラン、メチルフェニルジメトキシシラン等が例示され
る。

【００１９】Ｒ3 、Ｒ4 を、同一または異なる水素、フ
ェニル基または炭素数１〜１０の飽和炭化水素基とした
のは、炭素数が１０より大きくなると組成物中のシリコ
ーンが大分子量となり、所望の平坦性が得られにくくな
るからである。また、側鎖に一般的な不飽和炭化水素基
を導入した場合、ビニル基の反応により架橋密度が高く
なり易く、膜にクラックが入り易くなり、耐熱性が低下
してしまうおそれがある。

【００２０】また、かかるオルガノシランの加水分解物
または、部分的縮合物でも良い。この部分的縮合物とし
ては、ジメチルポリシロキサン、メチルエチルポリシロ
キサン、メチルフェニルポリシロキサンなどが例示され
る。

【００２１】また、（ｃ）の無機酸化物ゾルとしては、
シリカゾル、アルミナゾル、チタニアゾル等が例示され
る。これは、シリカ、アルミナ、チタニア等の微粒子を
メタノールやｉ−ブタノール、ヘキシレングリコール、
ジアセトンアルコールなどのアルコール等の溶媒に分散
したもので、粒子の粒径は、５〜５０ｎｍ、好ましく
は、１０〜２０ｎｍである。特に透明性等の観点から
は、シリカゾルを用いることが好ましい。

【００２２】また、本発明の保護膜形成用組成物には、
塗布性向上等のため、界面活性剤を添加してもよい。

【００２３】本発明の保護膜形成用組成物の各成分の混
合量は、成分（ａ）１００重量部に対し、（ｂ）は０．
１〜２０重量部、好ましくは１〜１０重量部、（ｃ）は
３〜４０重量部、好ましくは５〜３０重量部程度であ
る。

【００２４】成分（ｂ）のオルガノポリシロキサンがこ
れより多いと、保護膜硬度が十分でなく、これより少な
いと、厚膜化が困難で十分な保護膜平坦性が得られない
おそれがある。また、成分（ｃ）の無機酸化物ゾルがこ
れより少ないと、保護膜硬度が十分でなく、これより多
いと、厚膜化した際にクラック等が発生するおそれがあ
る。

【００２５】さらに、この組成物はメタノールやエタノ
ール、ｉ−ブタノール、ヘキシレングリコール、ジアセ
トンアルコール、エチルセロソルブアセテートなどの溶
剤で固形分濃度２０％程度まで希釈してもよい。

【００２６】最終的には硬化膜の硬度は、鉛筆硬度でＨ
Ｂ以上好ましくは３Ｈ以上とされることが好ましい。

【００２７】保護膜の厚みは、硬化後で 1μｍ〜１００
μｍ、特に２μｍ〜１０μｍ程度が好ましい。これより
薄いと、平坦化性能が不足し、これより厚いと、透明性
が低下したり、クラック等を生じて強度低下の原因とな
るおそれがある。特に、厚みを３μｍ以上とすると着色
層上の異物の影響を受けにくくすることが可能になるた
め、きわめて好ましい。

【００２８】本発明に用いられる基板としては特に限定
されない。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エステル、ジアセテート等の有機シート、各種ガラス板
等の透明基板が例示される。基板の厚みは、目的により
選ばれ、特に限定されない。液晶表示素子用でガラス基
板を用いる場合については、０．３ｍｍ〜１．５ｍｍ程
度が通常用いられる。

【００２９】本発明のカラーフィルターは、上記のスラ
リー法の他、どのような方法で形成されていても良い。
カラーフィルターのパターンも特に限定されるものでは
なく、例えばストライプパターン、モザイクパターン、
デルタパターン等のいずれでもよい。また、コントラス
トを向上させるために、パターン間にブラックマトリク
スなどの光遮蔽パターンを形成してもよく、ブラックマ
トリクスの形成も黒色クロム等の蒸着法のほか、黒色感
光性レジストをフォトリソグラフィーでパターニングし
たものでも良い。

【００３０】以下、スラリー法を採用した場合につい
て、本発明に係るカラーフィルター付き電極基板の製造
方法について説明する。

【００３１】まずガラス、プラスチック等の透明基板に
ブラックマトリクスと呼ばれる遮光層を形成する。この
遮光層はＴＦＴ方式の液晶素子においてはトランジスタ
の特性の保持あるいはコントラストの低下防止のために
設けられるもので、通常遮光性に優れた黒色クロム薄膜
により形成される。

【００３２】またＳＴＮ（スーパーツイステッドネマチ
ック）方式の液晶素子に代表される単純マトリクス駆動
においては、もともとこれらの素子のコントラストがＴ
ＦＴ方式に比べて低いことや、低コスト化の追求のため
に、ブラックマトリクスは省略されたり、あるいは３原
色の重ね合わせにより形成されたり、着色レジストで形
成されることが多い。

【００３３】次に、基板上に顔料等の色素と感光性樹脂
とを含む着色レジストを塗布し、さらにこの着色レジス
ト層に重ねて酸素遮断膜としてＰＶＡ（ポリビニルアル
コール）層等を塗布した後、所定のパターン形状のフォ
トマスクを介して露光を行い、その後現像により未露光
部分を除去してカラーパターンを形成する。この操作を
さらに別の色で２回繰り返し３原色のカラーフィルター
が形成される。

【００３４】この上に、上記組成物からなる層を形成す
る。その方法としては、ロールコーター、エアナイフコ
ーター、ブレードコーター、ロッドコーター、バーコー
ター、スピンコーター等の各種コーターによることがで
きる。

【００３５】保護膜形成用組成物層の硬化は、オーブン
やホットプレートあるいは遠赤外線ヒーターなどで加熱
することにより行われれば良い。コーターによる塗布時
に膜をパターニングして形成してもよい。このようにす
ると、カラーフィルター付き電極基板と対向する電極パ
ターン付き基板を重ねた間に液晶を封入してシールする
際に、シール部分の保護膜を選択的に除去しておくこと
ができるので、シール接着効果を向上させることが可能
となる。

【００３６】次いで、保護膜の上には電極層が形成され
る。電極層は、アルミニウム、またはクロム等からな
る。また、透過型表示体においては光透過性である必要
があり、一般に酸化インジウム錫（ＩＴＯ）や酸化錫等
を用いることが好ましいが、これに限られない。また、
電極層は、表示に対応してパターニングされていてもよ
いし、共通電極として用いられる場合などにはベタ電極
とされてもよい。電極層の形成方法としては、特にこれ
に限るものではないが、層厚を均一にする見地からは、
蒸着法、スパッタ法等が好ましく用いられる。

【００３７】なお、本発明においては、必要に応じて電
極の上もしくは下にＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 等の絶縁膜、Ｔ
ＦＴ、ＭＩＭ、薄膜ダイオード等の能動素子、位相差
膜、偏光膜、反射膜、光導電膜等が形成されていてもよ
い。

【００３８】さらに、電極付基板上に、液晶表示体の場
合は、必要に応じて配向膜を形成する。これは、ポリイ
ミド、ポリアミド、ポリビニルアルコール等の有機樹脂
膜をラビングしたものであってもよいし、ＳｉＯ等を斜
め蒸着しても良いし、垂直配向剤を塗布したものであっ
てもよい。

【００３９】さらに、液晶表示体を製造する方法につい
ては、通常用いられる方法が採用できる。すなわち、一
対の基板のうちの一方を上記カラーフィルター付き電極
基板とし、他方を適宜パターニングされた電極付基板と
し、上記基板上に必要に応じて液晶配向膜を形成し、次
いで、前記一対の基板を電極面側を相対向させて周辺部
をシールしてその内部に液晶を封入する。これにより、
鮮明度の高いカラー液晶表示体を得ることができる。

【００４０】本発明のカラーフィルター付き電極基板を
用途の面からみれば、液晶ディスプレイ面、ブラウン管
表示面、撮像管の受光面等があげられる。また、特に、
厚みむらのきわめて少ないカラーフィルターが得られる
ことから、基板間隔精度の要求の厳しい液晶素子用とし
て好ましいものである。

【００４１】したがって、後工程でカラーフィルターの
表面を研磨する必要がなくなることから、研磨による異
物やキズの発生がなくなることによる品質の向上の他、
カラーフィルターの製造時間の短縮、コストの低減、ク
リーン度のアップなどの効果を得ることができる。

【００４２】さらに、この保護膜はＩＴＯとの透明導電
膜との付着力がよく、ＩＴＯの抵抗値もガラス基板上に
成膜したときの透明導電膜並みに低くすることができ
る。この機構は必ずしも明確ではないが、保護膜樹脂の
官能基と透明導電膜との間の結合手の化学的結合が関与
していると考えられる。

【００４３】したがって、保護膜と透明導電膜との間に
ＳｉＯ2 膜のような中間膜を設ける必要もなく、カラー
フィルターの製造時間の短縮やコストの低減が図れる。

【００４４】

【実施例】

（実施例１）本発明に関わるカラーフィルターの製造方
法を図１（ａ）〜（ｅ）を参照して説明する。

【００４５】まず、透明ガラス基板１上に、感光性を有
する黒色レジスト２０をスピンコ−ターで全面に塗布形
成した後、フォトマスクを用いて露光する（図１
（ａ））。その後、黒色レジスト層２０の未露光部のみ
を溶解する溶剤で現像して、黒色の光遮閉パターン２１
を形成した後、熱処理を施して樹脂を硬化させる（図１
（ｂ））。

【００４６】次に、同様にして赤色２１Ｒ、緑色２１
Ｇ、青色２１Ｂの着色パターンを光遮閉パターンの間に
順次形成する（図１（ｃ））。

【００４７】この着色パターンの上に、トリエトキシメ
チルシラン１０重量部とジエトキシジメチルシラン１重
量部、および平均粒径が約１５μｍのシリカゾル３重量
部をエタノール、イソブタノール、メタノールの混合溶
剤に溶かして３０％濃度にした組成物溶液をスピンコー
ターで硬化後の保護膜３の膜厚が３μｍになるように全
面に塗布した（図１（ｄ））。その後、オーブンを用い
て２００℃で１０分間加熱して、該保護膜を硬化した。

【００４８】次に、マグネトロンスパッタリング法で、
ＩＴＯ膜４０を０．２５μｍの厚みに成膜した（図１
（ｅ））。上記のＩＴＯ膜上にライン形状のレジスト
（マスキング剤）を塗布した後、塩酸・塩化第二鉄系エ
ッチング剤中に浸漬して、ＩＴＯ膜のパターニングを行
った。

【００４９】（実施例２）実施例１の組成物で、ジエト
キシジメチルシランの量を５重量部とした組成物溶液を
用いたほかは、実施例１と同様に行った。

【００５０】（比較例１）実施例１の組成物の替わり
に、アクリル系樹脂（日本合成ゴム社製商品名「オプ
トマーＳＳ−７２３５」）を用い、２２０℃で１時間オ
ーブンで加熱して硬化させたほかは実施例１と同様に行
った。

【００５１】（比較例２）実施例１の組成物の替わり
に、実施例１で成分（ｂ）のオルガノポリシロキサンを
含まないシリコーン系熱硬化性樹脂の２０％エタノール
溶液を用い、硬化後の膜厚を１．５μｍとし、２２０℃
で１０分間オーブンで加熱して硬化させたほかは実施例
１と同様に行った。

【００５２】上記実施例および比較例の方法により製造
されたカラーフィルターについて、表面粗さ計を用いて
着色層上のコート層形成前後の表面の凹凸を調べ、下記
式により定義された平坦化率δを求めて平坦化能を評価
した。

【００５３】平坦化率 δ＝（１−ａ／ｂ）×１００（％）（式中ａはコート層形成後の表面の段差を表し、ｂは形
成前の段差を表す。）

【００５４】また、ＩＴＯ膜をパターニングした際のＩ
ＴＯ膜のサイドエッチング量（マスキング剤の幅よりさ
らにエッチングが進行し、細くなった量）Ａ（μｍ）、
ＩＴＯ膜の面抵抗値ｒ（Ω／ｃｍ2 ）もともに評価し
た。結果を表１に示す。

【００５５】

【表１】

【００５６】表１から明らかなように、実際例の方法で
は比較例の方法よりも、着色層の表面の凹凸を大幅に改
善できることがわかる。

【００５７】保護膜形成前には着色層表面の段差は、実
施例、比較例ともに１．２μｍであったが、比較例の方
法ではいずれも保護膜形成後の表面の段差は０．３〜
０．５μｍあり、このままでは、例えば単純マトリクス
方式の液晶表示装置に用いた場合、十分なコントラスト
や階調がとれないなどの問題が発生する。したがって、
保護膜を研磨して表面を物理的に平坦化する必要があ
る。

【００５８】これに対して実施例の方法では、保護膜形
成後に表面段差が最大で０．１μｍの平坦性を有する面
が形成され、表面研磨を必要とせず、高品位の液晶表示
を達成できるレベルであった。

【００５９】また、ＩＴＯ膜をパターニングした際のＩ
ＴＯ膜のサイドエッチング量も実施例のものは極めて少
なく、良好であった。また、実施例のＩＴＯ膜の面抵抗
値は９〜１０Ω／ｃｍ2 で、ガラスのみの上に成膜した
ＩＴＯ膜の値とほぼ同じで、下地膜によるＩＴＯ膜の比
抵抗値上昇がほとんど見られなかった。

【００６０】（実施例３、４）実施例１、２で得られた
カラーフィルター付き電極基板を一方の基板として使用
し、もう一方の電極付き基板とともに、表面にポリイミ
ド膜をラビングして得た配向膜を形成した。液晶として
はカイラル化合物を添加した液晶ＺＬＩ２２９３（商品
名、メルク社製）を使用してこの基板間に挟持し、２４
０度ツイストの１／２４０デューティ液晶表示素子を作
成した。この液晶表示素子を駆動したところ、面内の色
差が少なくコントラストや色再現性等が良好であって、
高品位のフルカラー表示ができることが確認された。

【００６１】

【発明の効果】本発明の組成のカラーフィルター保護膜
形成用組成物を硬化した膜をカラーフィルターの保護膜
とすることによって、厚膜化可能で極めて高い平坦化能
を有する保護膜が得られる。

【００６２】すなわち、本発明のカラーフィルター付き
基板においては、後工程でカラーフィルターの表面を研
磨する必要がなくなることから、研磨による異物やキズ
の発生がなくなることによる品質の向上の他、カラーフ
ィルターの製造時間の短縮、コストの低減、クリーン度
のアップなどの効果を得ることができる。

【００６３】さらに、本発明のカラーフィルター付き電
極基板を用いることにより、面内の色差が少なくコント
ラストや色再現性等が良好であって、高品位のフルカラ
ー液晶表示素子が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のカラーフィルター付き電極基板の製造
工程を示す概略断面図

【符号の説明】

１：透明ガラス基板２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂ：着色パターン３：保護膜４０：ＩＴＯ膜

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【手続補正書】

【提出日】平成４年９月１１日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】請求項１

【補正方法】変更

【補正内容】

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１４

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１４】すなわち、本発明は、下記（ａ）〜（ｃ）
を主原料として混合して得られるカラーフィルター保護
膜形成用組成物である。（ａ）一般式Ｒ¹ _xＳｉ（ＯＲ² ）_4-x （式中でＲ¹ 、Ｒ
² は同一または異なる有機基。ｘは０または１。）で表
されるオルガノシラン、または、このオルガノシランの
加水分解物および／または部分的縮合物（ｂ）一般式Ｒ³ Ｒ⁴ Ｓｉ（ＯＲ⁵ ）₂ （式中でＲ³ 、
Ｒ⁴ は同一または異なる水素、フェニル基または炭素数
１〜１０の飽和炭化水素基。Ｒ⁵ は有機基。）で表され
るオルガノシラン、または、このオルガノシランの加水
分解物および／または部分的縮合物（ｃ）無機酸化物ゾル

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１６

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１６】（ａ）のオルガノシランにおけるＲ¹ は、
好ましくは炭素数１〜１０の有機基であり、例えば、メ
チル基、エチル基、、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル
基、ブチル基、ビニル基、フェニル基等が挙げられる。
また、Ｒ² は好ましくは炭素数１〜４の有機基であり、
例えば、メチル基、エチル基、、ｎ−プロピル基、ｉ−
プロピル基、ブチル基である。（ａ）のオルガノシラン
としては、メチルトリメトキシシラン、エチルトリエト
キシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリ
エトキシシラン等が例示される。また、これらの３官能
オルガノシランに４官能のテトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン等のオルガノシランを本発明の効果を
損しない範囲で添加してもよい。

【手続補正４】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１８

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１８】また、（ｂ）のオルガノシランで、式中Ｒ
³ 、Ｒ⁴ は、同一または異なる水素、フェニル基または
炭素数１〜１０の飽和炭化水素基であり、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基な
どが挙げられる。また、Ｒ⁵は好ましくは炭素数１〜４
の有機基であり、例えば、メチル基、エチル基、、ｎ−
プロピル基、ｉ−プロピル基、ブチル基である。かかる
オルガノシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、
メチルエチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシ
ラン、メチルフェニルジメトキシシラン等が例示され
る。

【手続補正５】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１９

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１９】Ｒ³ 、Ｒ⁴ を、同一または異なる水素、フ
ェニル基または炭素数１〜１０の飽和炭化水素基とした
のは、炭素数が１０より大きくなると組成物中のシリコ
ーンが大分子量となり、所望の平坦性が得られにくくな
るからである。また、側鎖に一般的な不飽和炭化水素基
を導入した場合、ビニル基の反応により架橋密度が高く
なり易く、膜にクラックが入り易くなり、耐熱性が低下
してしまうおそれがある。

【手続補正６】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３７

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３７】なお、本発明においては、必要に応じて電
極の上もしくは下にＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 等の絶縁膜、Ｔ
ＦＴ、ＭＩＭ、薄膜ダイオード等の能動素子、位相差
膜、偏光膜、反射膜、光導電膜等が形成されていてもよ
い。

【手続補正７】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００４３

【補正方法】変更

【補正内容】

【００４３】したがって、保護膜と透明導電膜との間に
ＳｉＯ₂ 膜のような中間膜を設ける必要もなく、カラー
フィルターの製造時間の短縮やコストの低減が図れる。

【手続補正８】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５４

【補正方法】変更

【補正内容】

【００５４】また、ＩＴＯ膜をパターニングした際のＩ
ＴＯ膜のサイドエッチング量（マスキング剤の幅よりさ
らにエッチングが進行し、細くなった量）Ａ（μｍ）、
ＩＴＯ膜の面抵抗値ｒ（Ω／ｃｍ² ）もともに評価し
た。結果を表１に示す。

【手続補正９】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５９

【補正方法】変更

【補正内容】

【００５９】また、ＩＴＯ膜をパターニングした際のＩ
ＴＯ膜のサイドエッチング量も実施例のものは極めて少
なく、良好であった。また、実施例のＩＴＯ膜の面抵抗
値は９〜１０Ω／ｃｍ² で、ガラスのみの上に成膜した
ＩＴＯ膜の値とほぼ同じで、下地膜によるＩＴＯ膜の比
抵抗値上昇がほとんど見られなかった。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記（ａ）〜（ｃ）を主原料として混合し
て得られるカラーフィルター保護膜形成用組成物。（ａ）一般式Ｒ1xＳｉ（ＯＲ2 ）4-x （式中でＲ1 、Ｒ
2 は同一または異なる有機基。ｘは０または１。）で表
されるオルガノシラン、または、このオルガノシランの
加水分解物および／または部分的縮合物（ｂ）一般式Ｒ3 Ｒ4 Ｓｉ（ＯＲ5 ）2 （式中でＲ3 、
Ｒ4 は同一または異なる水素、フェニル基または炭素数
１〜１０の飽和炭化水素基。Ｒ5 は有機基。）で表され
るオルガノシラン、または、このオルガノシランの加水
分解物および／または部分的縮合物（ｃ）無機酸化物ゾル
【請求項２】基板と、該基板上に形成された着色層と、
請求項１のカラーフィルター保護膜形成用組成物を硬化
して前記着色層の上に形成された保護膜と、該保護膜上
に設けられた電極層とを有することを特徴とするカラー
フィルター付き電極基板。
【請求項３】液晶パネルを構成する少なくとも一方の電
極基板として請求項２のカラーフィルター付き電極基板
を用いたことを特徴とする液晶表示素子。