JPH0525162A - キノロン誘導体およびその製造法 - Google Patents

キノロン誘導体およびその製造法

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JPH0525162A
JPH0525162A JP3172227A JP17222791A JPH0525162A JP H0525162 A JPH0525162 A JP H0525162A JP 3172227 A JP3172227 A JP 3172227A JP 17222791 A JP17222791 A JP 17222791A JP H0525162 A JPH0525162 A JP H0525162A
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JP
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formula
compound
hydrogen
lower alkyl
optionally substituted
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JP3172227A
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English (en)
Inventor
Akira Murabayashi
旭 村林
Tsuneo Iwakawa
恒男 岩川
Kazuo Ueda
和生 上田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shionogi and Co Ltd
Original Assignee
Shionogi and Co Ltd
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Publication date
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 抗菌剤として有用な5−アミノキノロンカル
ボン酸誘導体(I)の改良された製造法を提供する。 【構成】 上記の目的は、新規化合物である5−置換ま
たは非置換ベンジルアミノ−7−置換ピロリジノキノロ
ン化合物(VI)を経由する製造法を採用することによっ
て達成される。それに至る中間体、(IV)及び(V)も
本発明を構成する。 (式中、Rは低級アルキル、Rは水素または低級ア
ルキル、Rは水素またはアミノ保護基、Rはシクロ
プロピル、フルオロエチル、置換されていてもよいフェ
ニルまたは置換されていてもよいチエニル、Rはハロ
ゲン、Yは水素または置換されていてもよいベンジルを
表わす。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はキノロン誘導体およびそ
の製造法、特に抗菌剤として有用な5−アミノキノロン
カルボン酸誘導体の合成中間体であるキノロン誘導体お
よびその製造法に関する。
【0002】
【先行技術】キノロンカルボン酸系抗菌剤としては、特
開昭49−14240号公報明細書、特開昭57−46
986号公報明細書、特開昭60−228479号公報
明細書、特開昭60−64979号公報明細書、特開昭
61−225181号公報明細書、特開昭63−198
664号公報明細書などに記載の種々の化合物が知られ
ているが、これらの化合物は人体に投与したときけいれ
んのような中枢性の副作用を示す場合が多い。人体に対
しそのような副作用を示すことなく強力な抗菌作用を発
揮するキノロンカルボン酸系抗菌剤の開発研究が進めら
れた結果、先に特開平2−76875号公報明細書に記
載の下記5−アミノキノロンカルボン酸誘導体がそのよ
うな研究目的に適う物質であることが見出された:
【化11】 (式中、R1は低級アルキル、R2は水素または低級アル
キル、R3は水素またはアミノ保護基、R4はシクロプロ
ピル、フルオロエチル、置換されていてもよいフェニル
または置換されていてもよいチエニル、R5はハロゲン
を表わす。)
【0003】上記5−アミノキノロンカルボン酸誘導体
(I)は、7位の置換基に2個の不斉炭素原子を含んで
いるので、シス、トランスの2種の立体異性体が存在
し、それらは光学活性体あるいはラセミ体として存在す
ることが出来る。また、5−アミノキノロンカルボン酸
誘導体(I)は、遊離酸として存在してもよく、酸付加
塩やアルカリ金属塩などの塩として存在してもよい。酸
付加塩を形成する酸としては、塩酸、硫酸、リン酸など
の無機酸やメタンスルホン酸、乳酸、シュウ酸、酢酸な
どの有機酸が例示される。また、アルカリ金属塩を形成
するアリカリ金属としては、ナトリウム、カリウムなど
が例示される。
【0004】なお、低級アルキルとは、C1〜C3アルキ
ルを意味し、具体的には、メチル、エチル、n−プロピ
ル、イソプロピルなどが例示される。アミノ保護基と
は、ホルミル、アセチル、プロピオニルなどのアシル、
カルボベンゾキシ、トリチルなどを意味する。置換され
ていてもよいフェニルとは、置換または非置換のフェニ
ルを意味し、置換基としては、フッ素、塩素、臭素、ヨ
ウ素などのハロゲンが挙げられ、フェニルはこれらの1
〜2個の置換基を有しても良い。置換されていてもよい
チエニルとは、置換または非置換のチエニルを意味し、
置換基としては、メチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピルなどのC1〜C3アルキル、フッ素、塩素、臭素
などのハロゲン等が挙げられる。置換されていてもよい
ベンジルとは、ベンゼン環上にメチル、ニトロなどの置
換基を有することもあるベンジルを意味する。ハロゲン
とは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などを意味し、とり
わけフッ素および塩素が好ましい。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記特開平2−768
75号公報明細書には、5−アミノキノロンカルボン酸
誘導体(I)の製造法として、公知の方法(特開昭57
−46986号公報明細書および特開昭61−2252
号公報明細書参照)によって製造された対応する7−フ
ルオロ化合物に3,4−ジ置体ピロリジンを反応させる
方法(製造法A)と、2,3,4,6−テトラフルオロ−
5−ハロベンゾイル酢酸またはその低級アルキルエステ
ルと3,4−ジ置換ピロリジンを反応させて2,3,6−
トリフルオロ−4−(3,4−ジ置換ピロリジン)−5
−ハロベンゾイル酢酸またはその低級アルキルエステル
を得、次いでその1位と6位の間でピリドン環形成のた
めの閉環反応を行う方法(製造法B)が開示されてい
る。しかしながら、そのいずれの方法も原料物質の製造
法を含め、工程数が多く、かつ各工程の収率が低いた
め、目的物質の工業的生産には適しておらず、その改良
が要望されていた。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の要望
に沿うべく研究を進めた結果、前記製造法Aや製造法B
とは異なる、新規化合物を中間体として経由する新しい
製造ルートを確立し、良好な収率で5−アミノキノロン
カルボン酸誘導体(I)を製造することに成功した。
【0007】すなわち、本発明は5−アミノキノロンカ
ルボン酸誘導体(I)の工業的生産を可能にする製造法
を提供するものであって、次の図に要約される一連の工
程を含むものである:
【化12】 (式中、Rは水素または低級アルキル、Xはハロゲン、
Yは置換されていてもよいベンジルを表わす。R1
2,R3,R4およびR5は前記と同意義。)。以下、上記
の方法を各工程毎に説明する。
【0008】第1工程は、ベンゾイルハライド化合物
(1)とシアノ酢酸またはその低級アルキルエステルを
反応させるものであって、通常、両者を塩基の存在下、
必要に応じ適宜の不活性溶媒中、室温〜還流下で処理す
ればよい。塩基は水素化ナトリウム,カリウムt−ブト
キシド、トリエチルアミン、ジメチルアミノピリジンな
どから適宜に選択する。不活性溶媒としてはテトラヒド
ロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、クロロホルムな
どが例示される。
【0009】第2工程は、ここに生成したベンゾイル酢
酸化合物(2)を脱炭酸するものであって、酸性媒質
中、室温〜還流下で処理することにより行われる。酸性
媒質としては、通常、水、メタノール、エタノールなど
を塩酸酸性としたものが使用される。
【0010】第3工程は、ここに生成したシアノアセト
フェノン化合物(3)とオルトギ酸トリ(低級)アルキ
ルを反応させ、次いでその反応成績体と1級アミン(R
4NH2)を反応させた後、その反応成績体を塩基で処理
することにより、3−シアノキノロン化合物(5)を得
るものである。前者の反応は、通常、脱水剤(たとえば
無水酢酸)の存在下、必要に応じ適宜の不活性溶媒(た
とえばテトラヒドロフラン、ジオキサン)中、加熱還流
下に処理することによってこれを行う。また、後者の反
応は必要に応じ適宜の不活性溶媒(たとえばテトラヒド
ロフラン、ジオキサン)中、加熱還流することによって
実施する。最後の塩基との処理は、必要に応じ極性非プ
ロトン性溶媒を使用し、その中で加熱還流させればよ
い。この場合の塩基の具体例としては三級アミン(たと
えばトリエチルアミン、トリプロピルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、ジメチルアニリン、ジメチルアミ
ノビリジン)や無機塩基(たとえば水素化ナトリウム、
カリウムt−ブトキシド、炭酸カリウム、水酸化ナトリ
ウム)などが挙げられ、極性非プロトン性溶媒の具体例
としてはジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミ
ド、N−メチルピロリドン、アセトニトリルなどが挙げ
られる。
【0011】第4工程は、前記ベンゾイル酢酸化合物
(2)を第3工程におけると同様の反応と処理に付する
ことにより3−シアノキノロン化合物(5)を生成せし
めるものである。反応と処理の操作は、第3工程につい
て説明したのと全く同様である。
【0012】第5工程は、3−シアノキノロン化合物
(5)に置換または非置換ベンジルアミンを反応させて
5位のフッ素を置換または非置換ベンジルアミノ基で置
換するものである。この反応は、3−シアノキノロン化
合物(5)と置換または非置換ベンジルアミンを適宜の
不活性溶媒(たとえばクロロホルム、塩化メチレン、ジ
クロロエタン)中、加熱還流することによって実施され
る。なお、必要に応じて、その反応成績体(III:Y=
置換または非置換ベンジル)を自体常套の方法により脱
ベンジル化すれば、脱ベンジル体(III:Y=H)が得
られる。脱ベンジル化は、たとえば接触還元で行えばよ
く、具体的にはパラジウム炭素を触媒とし、不活性溶媒
(たとえばジオキサン、テトラヒドロフラン、酢酸)
中、加熱(たとえば100℃前後)下に水素と処理すれ
ばよい。
【0013】第6工程は、このようにして得られた5−
置換または非置換ベンジルアミノキノロン化合物(II
I)に式
【化13】 (式中、R1、R2およびR3は前記と同意義。)で表わさ
れる置換ピロリジンを反応させて、前者の7位に存在す
るフッ素を置換ピロリジノ基で置換するものである。こ
の反応は、5−置換または非置換ベンジルアミノキノロ
ン化合物(III)と置換ピロリジンを適宜の不活性溶媒
(たとえば水、メタノール、エタノール、アセトニトリ
ル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド)
中、縮合剤としての脱酸剤の存在下、加熱還流させるこ
とによって実施できる。脱酸剤の具体例としては、有機
塩基(たとえばトリエチルアミン、DBU、ピリジン)
や無機塩基(たとえば炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム)が挙げられ
る。
【0014】第7工程は、ここに得られた5−置換また
は非置換ベンジルアミノ−7−置換ピロリジノキノロン
化合物(IV)の3位に存在するシアノ基を加水分解して
カルボキシル基に変換することにより目的とする5−置
換または非置換ベンジルアミノ−7−置換ピロリジノキ
ノロンカルボン酸化合物(VI)を得るものである。加水
分解は、自体常套の方法で実施すればよく、その条件如
何によって直接5−置換または非置換ベンジルアミノ−
7−置換ピロリジノキノロンカルボン酸化合物(VI)が
得られる場合もあれば、途中で5−置換または非置換ベ
ンジルアミノ−7−置換ピロリジノキノロンカルボン酸
アミド化合物(V)が生成する場合もある。
【0015】たとえば、3−シアノ体(IV)を濃塩酸の
存在下、100℃前後に加熱すれば対応する3−カルボ
キシル体(VI)が直接生成するが、この際3−シアノ体
(IV)の5位アミノ基に置換または非置換ベンジル基が
存在しても同時にこれを離脱させることが可能である。
また、3−シアノ体(VI)を50%硫酸の存在下、70
〜75℃程度に加熱すれば対応する3−カルバモイル体
(V)が生成し、これを更に20〜30%水酸化ナトリ
ウムの存在下還流加熱すれば、対応する3−カルボキシ
ル体(VI)が生成する。3−カルバモイル体(V)や3
−カルボキシル体(VI)の5位アミノ基に置換または非
置換ベンジル基が存在する場合には、、第5工程で述べ
たようにそれ自体常套の脱ベンジル化法を適用すること
によってこれを離脱させることが出来る。
【0016】上記各工程で得られる各種中間体のうち、
5−置換または非置換ベンジルアミノ−7−置換ピロリ
ジノキノロン化合物(IV)および5−置換または非置換
ベンジルアミノ−6−置換ピロリジノキノロンカルボン
アミド化合物(V)、すなわち式
【化14】 (式中、Zはシアノまたはカルバモイルを表す。R1
2、R3、R4、R5およびYは前記と同意義。)で示さ
れる化合物は新規物質である。
【0017】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明方法の具体的な
実施態様を説明する。 実施例1 (a)60%水素化ナトリウム(油性)1.1gに無水
テトラヒドロフラン20mlを加え、−5〜0℃に冷却撹
拌下、シアノ酢酸第三ブチル1.9gを無水テトラヒド
ロフラン10mlで希釈した溶液を滴下する。次いでペン
タフルオロベンゾイルクロライド(1:R5=F;X=
Cl)3.0gを無水テトラヒドロフラン10mlで希釈
した溶液を注意しつつ滴下すれば、内温が20℃に上昇
する。10分後氷水を加え、トルエン抽出を行う。水層
を塩酸酸性とし、酢酸エチルで抽出する。抽出物を水
洗、芒硝乾燥後、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルの画分より
2−シアノー3−オキソ−3−(2,3,4,5,6−ペン
タフルオロフェニル)−プロピオン酸第三ブチル(2:
R=t−C49;R5=F)3.7gを得る。m.p.:5
6〜57℃。 IRνmax(Nujol):3100〜3600(broad)、2240、1662cm
-1。 NMRδ(CDCl3):1.62s(t-C4H9)、14.06(OH)。
【0018】(b)シアノ酢酸エチル1.36g、トリエ
チルアミン3mlおよびジメチルアミノピリジン15mgを
塩化メチレン20mlに溶解し、氷冷撹拌下、ペンタフル
オロベンゾイルクロライド(1:R5=F;X=Cl)
2.12gを加える。室温で15時間撹拌後、塩化メチレ
ンで抽出する。抽出物を水洗、乾燥後、溶媒を留去す
る。残渣をシリカゲル50gのカラムクロマトグラフィ
ーに付し、塩化メチレンの画分より油状物質として2−
シアノ−3−オキソ−3−(2,3,4,5,6−ペンタフ
ルオロフェニル)−プロピオン酸エチル(2:R=C2
5;R5=F)1.8gを得る。油状物質。 NMRδ(CDCl3):1.44t(J=7.8Hz)(CH3)、4.50q
(J=7.8Hz)(CH2)。
【0019】実施例2 (a)2−シアノ−3−オキソ−3−(2,3,4,5,6
−ペンタフルオロフェニル)−プロピオン酸第三ブチル
(2:R=t−C49;R5=F)2.7gをメタノール
10mlと1N−塩酸3mlの混合物に溶解し、60℃で2
時間反応させた後、溶媒を留去する。残渣を塩化メチレ
ンで抽出、水洗、乾燥、留去し、結晶性残渣として2,
3,4,5,6−ペンタフルオロベンゾイルアセトニトリ
ル(3:R5=F)1.8gを得る。m.p.:55〜56
℃。 IRνmax(Nujol):2260、1700、1642cm-1。 NMRδ(CDCl3):3.99(s)(CH2)。
【0020】(b)2−シアノ−3−オキソ−3−
(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル)−プロピ
オン酸エチル(2:R=C25;R5=F)1.45gを
メタノール8mlと塩酸2mlの混合物に溶解し、70℃で
22時間反応させる。反応混合物を濃縮し、水を加え、
塩化メチレンで抽出する。抽出物を水洗、乾燥後、溶媒
を留去し、残渣をシリカゲル30gのカラムクロマトグ
ラフィーに付し、クロロホルム画分より、2,3,4,5,
6−ペンタフルオロベンゾイルアセトニトリル(3:R
5=F)220mgを得る。m.p.:55〜56℃。
【0021】実施例3 2,3,4,5,6−ペンタフルオロベンゾイルアセトニト
リル(3:R5=F)500mgに無水酢酸1.5mlおよび
オルトギ酸トリエチル650mgを加え、140℃で40
分間加熱後、減圧下で留去する。残渣に無水テトラヒド
ロフラン5mlを加え、氷冷下更にシクロプロピルアミン
146mgを加え、室温で1時間撹拌する。その後、トリ
エチルアミン0.35mlを加え、2時間還流した後、溶
媒を留去する。残渣を塩化メチレンで抽出し、1N−塩
酸、次いで食塩水溶液で洗い、芒硝乾燥後、溶媒を留去
する。残渣をシリカゲル35gのカラムクロマトグラフ
ィーに付し、5%酢酸エチル−塩化メチレンの画分より
結晶として1−シクロプロピル−3−シアノ−5,6,
7,8−テトラフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ
キノリン(5:R4=▽;R5=F)420mgを得る。
m.p.:195〜196℃(ヘキサン)。
【0022】実施例4 2−シアノ−3−オキソ−3−(2,3,4,5,6−ペン
タフルオロフェニル)プロピオン酸第三ブチル(2:R
=C25;R5=F)22.0gに無水酢酸34.0gとオ
ルトギ酸トリエチル30.0gを加え、150℃で5時間
加熱、撹拌の後、減圧下に溶媒を留去する。残渣にテト
ラヒドロフラン110mlを加え、氷冷下にシクロプロピ
ルアミン4.5gを加え、0〜3℃で一夜放置後、トリエ
チルアミン11mlを加え、2時間還流する。溶媒を留去
し、残渣を塩化メチレンで抽出する。抽出物を1N−塩
酸、次いで食塩水溶液で洗い、濃縮する。残渣をシリカ
ゲル500gのカラムクロマトグラフィーに付し、2〜
5%酢酸エチル:塩化メチレンの画分より1−シクロプ
ロピル−3−シアノ−5,6,7,8−テトラフルオロ−
1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン(5:R4=▽;
5=F)11.1gを得る。m.p.:198〜200
℃。
【0023】実施例5 1−シクロプロピル−3−シアノ−5,6,7,8−テト
ラフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン
(5:R1=▽;R5=F)1.9gをベンジルアミン1.
5gと塩化メチレン100mlに溶解し、22時間還流し
た後、冷却する。析出物を濾過し、濾液を減圧下で留去
する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(5
0g)に付し、2%酢酸エチル−塩化メチレンの画分よ
り結晶として1−シクロプロピル−3−シアノ−5−ベ
ンジルアミノ−6,7,8−トリフルオロ−1,4−ジヒ
ドロ−4−オキソキノリン(6:R4=▽;R5=F;Y
=CH265)1.9gを得る。m.p.:195〜19
7℃。
【0024】実施例6 1−シクロプロピル−3−シアノ−5−ベンジルアミノ
−6,7,8−トリフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オ
キソキノリン(III:R4=▽;R5=F;Y=CH26
5)3gを酢酸80mlとジオキサン80mlに溶解し、1
0%パラジウム炭素1.0gを添加し、100℃で接触水
素添加する。3時間後パラジウム炭素を濾去し、濾液に
塩化メチレンを加え、析出結晶を濾取して、1−シクロ
プロピル−3−シアノ−5−アミノ−6,7,8−トリフ
ルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン(III:
4=▽;R5=F;Y=H)900mgを得る。母液を減
圧濃縮し、残渣をシリカゲル10gのカラムクロマトグ
ラフィーに付し、5%酢酸エチル−塩化メチレン画分よ
り更に420mgを得る。m.p.:240℃。 IRνmax(Nujol):3460、2240、1660、1560cm-1。 NMRδ(CDCl3):1.02〜1.13m(2H)、1.20〜1.31m(2
H)、3.79〜3.90m(1H)、6.83brs(2H)、7.99s(1H)。
【0025】実施例7 1−シクロプロピル−3−シアノ−5−アミノ−6,7,
8−トリフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノ
リン(III:R4=▽;R5=F;Y=H)600mgと
(3R*,4S*)−3−メトキシ−4−メチルアミノ
ピロリジン・2塩酸塩650mgにアセトニトリル15m
l、DBU1.4gを加え、2時間加熱還流させた。冷却
後、析出結晶を濾取し、アセトニトリルで洗浄、乾燥さ
せて1−シクロプロピル−3−シアノ−5−アミノ−7
−(3R*,4S*)−(3−メトキシ−4−メチルア
ミノピロリジン−1−イル)−6,8−ジフルオロ−1,
4−ジヒドロ−4−オキソキノリン(IV:R1=CH3
2=CH3;R3=H;R4=▽;R5=F;Y=H)5
90mgを得る。m.p.:225〜228℃。 IRνmax(Nujol):2220、1645、1575cm-1。 NMRδ(CDCl3):0.90〜1.06m(2H)、1.06〜1.22m(2
H)、3.18〜3.29m(1H)、3.43s(3H)、3.57〜3.68m(1H)、
3.70〜3.68m(1H)、3.70〜3.84m(3H)、3.84〜3.96m(2
H)、6.51brs(2H)、7.88s(1H)。
【0026】実施例8 1−シクロプロピル−3−シアノ−5−アミノ−7−
(3R*,4S*)−(3−メトキシ−4−メチルアミ
ノピロリジン−1−イル)−6,8−ジフルオロ−1,4
−ジヒドロ−4−オキソキノリン(IV:R1=CH3;R
2=CH3;R3=H;R4=▽;R5=F;Y=H)10
0mgに濃塩酸5mlを加え、封管中、100℃に17時間
加熱して、加水分解した。反応混合物を濃縮し、残渣に
エタノールを加え、析出結晶を濾取し、エタノールで洗
浄し、乾燥して1−シクロプロピル−5−アミノ−7−
(3R*,4S*)−(3−メトキシ−4−メチルアミ
ノピロリジン−1−イル)−5−アミノ−6,8−ジフ
ルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリン
カルボン酸(I:R1=CH3;R2=CH3;R3=H;
4=▽;R5=F)の塩酸塩68mgを得る。m.p.:2
72〜275℃(分解)。
【0027】実施例9 1−シクロプロピル−3−シアノ−5−ベンジルアミノ
−6,7,8−トリフロオロ−1,4−ジヒドロ−4−オ
キソキノリン(III:R4=▽;R5=F;Y=CH26
5)200mgおよび(3R*,4S*)−3−メトキ
シ−4−メチルアミノピリジン・2塩酸塩(160mg)
をアセトニトリル(12ml)中で混合し、更にDBU
(370mg)を加え、2.5時間還流する。溶媒を留去
し、残渣をシリカゲル25gのカラムクロマトグラフィ
ーに付し、10%メタノール−塩化メチレンの画分より
結晶として1−シクロプロピル−3−シアノ−5−ベン
ジルアミノ−7−[(3R*,4S*)−3−メトキシ−
4−メチルアミノピロリジン−1−イル]−6,8−ジ
フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン(I
V:R1=CH3;R2=CH3;R3=H;R4=▽;R5
F;Y=CH265)220mgを得る。m.p.:15
2〜155℃。 IRνmax(CHCl3):2230、1640cm-11 H−NMRδ(CDCl3):0.86〜1.20m(4H)、2.48s(3H)、
3.16〜3.26m(1H)、3.41s(3H)、3.50〜3.73m(3H)、3.73
〜3.92m(3H)、4.56dd(2H,J=4,6)、7.12〜7.38m(5H)、
7.87s(1H)、9.92brs(1H)。
【0028】実施例10 1−シクロプロピル−3−シアノ−5−ベンジルアミノ
−7−[(3R*,4S*)−3−メトキシ−4−メチルア
ミノピロリジン−1−イル]−6,8−ジフルオロ−1,
4−ジヒドロ−4−オキソキノリン(IV:R1=CH3
2=CH3;R3=H;R4=▽;R5=F;Y=CH2
65)1gを50%硫酸40mlを加え、70〜75℃で
15時間加熱する。反応混合物を氷冷し、アンモニア水
で中和後、酢酸エチルで抽出する。抽出物を濃縮し、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5%
メタノール−塩化メチレンの画分より1−シクロプロピ
ル−5−ベンジルアミノ−7−[(3R*,4S*)−3−
メトキシ−4−メチルアミノピロリジン−1−イル]−
6,8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3
−キノリンカルボキシアミド(V:R1=CH3;R2=C
3;R3=H;R4=▽;R5=F;Y=CH265
830mgを得る。m.p.:196〜198℃。 IRνmax(CHCl3):1665、1625、1550、1440cm-11 H−NMRδ(CDCl3):0.85〜1.19m(4H)、2.48s(3H)、
3.15〜3.28m(1H)、3.41s(3H)、3.50〜3.72m(3H)、3.78
〜3.92m(3H)、4.58dd(2H,J=4,6)、5.60brs(1H,J=
5)、7.18〜7.40m(5H)、8.62s(1H)、9.53brd(1H,J=5)、
10.03brs(1H)。
【0029】実施例11 1−シクロプロピル−5−ベンジルアミノ−7−[(3R
*,4S*)−3−メトキシ−4−メチルアミノピロリジ
ン−1−イル]−6,8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ
−4−オキソ−3−キノリンカルボキシアミド(V:R1
=CH3;R2=CH3;R3=H;R4=▽;R5=F;Y
=CH265)850mgを酢酸17mlとメタノール1
7mlに溶解し、10%パラジウム炭素40mgを添加し、
室温で接触水素添加する。5時間後パラジウム炭素を濾
去し、濾液の溶媒を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、20%メタノール塩化メチレ
ン画分より1−シクロプロピル−5−アミノ−7−[(3
R*,4S*)−3−メトキシ−4−メチルアミノピロリ
ジン−1−イル]−6,8−ジフルオロ−1,4−ジヒド
ロ−4−オキソ−3−キノリンカルボキシアミド(V:
1=CH3;R2=CH3;R3=H;R4=▽;R5
F;Y=H)460mgを得る。m.p.:221〜224
℃。 IRνmax(CHCl3):1665、1625、1450cm-11 H−NMRδ(CDCl3):0.92〜1.20m(4H)、2.50s(3H)、
3.20〜3.30m(1H)、3.43s(3H)、3.58〜3.70m(3H)、3.71
〜3.98m(5H)、5.60brd(1H,J=5)、6.55brs(2H)、8.63s
(1H)、9.55brd(1H,J=5)。
【0030】実施例12 1−シクロプロピル−5−アミノ−7−[(3R*,4S
*)−3−メトキシ−4−メチルアミノピロリジン−1
−イル]−6,8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−
オキソ−3−キノリンカルボキシアミド(V:R1=CH
3;R2=CH3;R3=H;R4=▽;R5=F;Y=H)
90mgを30%NaOH水溶液2mlとエタノール4mlに
溶解し、2時間還流する。反応液を1N−塩酸で中和
し、塩化メチレンで抽出、芒硝乾燥後溶媒を留去するこ
とにより1−シクロプロピル−5−アミノ−7−[(3R
*,4S*)−3−メトキシ−4−メチルアミノピロリジ
ン−1−イル]−6,8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ
−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸(I:R1=CH
3;R2=CH3;R3=H;R4=▽;R5=F)50mgを
得る。m.p.:261〜262℃。 IRνmax(CHCl3):1725、1635、1615、1445cm-11 H−NMRδ(CDCl3):0.98〜1.25m(4H)、2.50s(3H)、
3.20〜3.30m(1H)、3.44s(3H)、3.58〜3.70m(1H)、3.72
〜3.98m(5H)、6.41brs(2H)、8.59s(1H)。
【0031】実施例13 1−シクロプロピル−3−シアノ−5−ベンジルアミノ
−7−[(3R*,4S*)−3−メトキシ−4−メチルア
ミノピロリジン−1−イル]−6,8−ジフルオロ−1,
4−ジヒドロ−4−オキソキノリン(IV:R1=CH3
2=CH3;R3=H;R4=▽;R5=F;Y=CH2
65)500mgに濃塩酸20mlを加え、100℃で8時
間加熱封管する。反応液を飽和炭酸水素ナトリウムで中
和後、塩化メチレンで抽出し、芒硝乾燥後、溶媒を留去
し、1−シクロプロピル−5−アミノ−7−[(3R*,
4S*)−3−メトキシ−4−メチルアミノピロリジン
−1−イル]−6,8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−
4−オキソ−3−キノリンカルボキシアミド(V:R1
CH3;R2=CH3;R3=H;R4=▽;R5=F;Y=
H)と1−シクロプロピル−5−アミノ−7−[(3R
*,4S*)−3−メトキシ−4−メチルアミノピロリジ
ン−1−イル]−6,8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ
−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸(I:R1=CH
3;R2=CH3;R3=H;R4=▽;R5=F;Y=H)
の混合物310mgを得る。更にこの混合物をエタノール
で再結晶し、1−シクロプロピル−5−アミノ−7−
[(3R*,4S*)−3−メトキシ−4−メチルアミノピ
ロリジン−1−イル]−6,8−ジフルオロ−1,4−ジ
ヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸(I:R1
=CH3;R2=CH3;R3=H;R4=▽;R5=F;Y
=H)120mgを得る。
【0032】実施例14 1−シクロプロピル−3−シアノ−5−ベンジルアミノ
−7−[(3R*,4S*)−3−メトキシ−4−メチルア
ミノピロリジン−1−イル]−6,8−ジフルオロ−1,
4−ジヒドロ−4−オキソキノリン(IV:R1=CH3
2=CH3;R3=H;R4=▽;R5=F;Y=CH2
65)150mgに50%硫酸6mlを加え、90℃で1
3.5時間加熱する。反応液を氷冷し、アンモニア水で
中和後、酢酸エチルおよび塩化メチレンで抽出する。抽
出物を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付し、5%メタノール−塩化メチレンの画分より
1−シクロプロピル−5−ベンジルアミノ−7−[(3R
*,4S*)−3−メトキシ−4−メチルアミノピロリジ
ン−1−イル]−6,8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ
−4−オキソ−3−キノリンカルボキシアミド(V:R1
=CH3;R2=CH3;R3=H;R4=▽;R5=F;Y
=CH265)70mgと、10%メタノール−塩化メ
チレンの画分より1−シクロプロピル−5−アミノ−7
−[(3R*,4S*)−3−メトキシ−4−メチルアミノ
ピロリジン−1−イル]−6,8−ジフルオロ−1,4−
ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボキシアミド
(V:R1=CH3;R2=CH3;R3=H;R4=▽;R5
=F;Y=H)30mgを得る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 215:00) (C07D 409/14 207:00 215:00 333:00)

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式 【化1】 (式中、R1は低級アルキル、R2は水素または低級アル
    キル、R3は水素またはアミノ保護基、R4はシクロプロ
    ピル、フルオロエチル、置換されていてもよいフェニル
    または置換されていてもよいチエニル、R5はハロゲ
    ン、Yは水素または置換されていてもよいベンジル、Z
    はシアノまたはカルバモイルを表わす。)で示されるキ
    ノロン誘導体。
  2. 【請求項2】式 【化2】 (式中、R4はシクロプロピル、フルオロエチル、置換
    されていてもよいフェニルまたは置換されていてもよい
    チエニル、R5はハロゲン、Yは水素または置換されて
    いてもよいベンジルを表わす。)で示される化合物を脱
    ベンジル化するかまたはすることなく式 【化3】 (式中、R1は低級アルキル、R2は水素または低級アル
    キル、R3は水素またはアミノ保護基を表わす。)で示さ
    れる置換ピロリジンと反応させ、その反応成績体の5位
    に置換または非置換ベンジルアミノ基が存在する場合に
    は、必要に応じてこれを脱ベンジル化してアミノ基に変
    換することにより式 【化4】 (式中、R1、R2、R3、R4、R5およびYは前記と同
    意義。)で示される化合物を得ることを特徴とする、キ
    ノロン誘導体の製造法。
  3. 【請求項3】 出発物質である化合物(III)が、式 【化5】 (式中、R5はハロゲン、Xはハロゲンを表わす。)で
    示される化合物をシアノ酢酸またはその低級アルキルエ
    ステルと反応させて式 【化6】 (式中、Rは水素または低級アルキルを表わす。R5
    前記と同意義。)で示される化合物を得、これを脱炭酸
    させるかまたはさせることなく、オルトギ酸トリ(低
    級)アルキルおよび1級アミンと順次反応させた後、塩
    基で処理して式 【化7】 (式中、R4はシクロプロピル、フルオロエチル、置換
    されていてもよいフェニルまたは置換されていてもよい
    チエニルを表わす。R5は前記と同意義。)で示される化
    合物を得、これを置換または非置換ベンジルアミンと反
    応させて式 【化8】 (式中、Yは置換または非置換ベンジルを表わす。R4
    とR5は前記と同意義。)で示される化合物を得、必要に
    応じてこれを脱ベンジル化して得られたものである請求
    項2記載の製造法。
  4. 【請求項4】 請求項2の製造法で得られた化合物(I
    V)を加水分解し、その反応成績体の5位に置換または
    非置換ベンジルアミノ基が存在する場合には、必要に応
    じてこれを脱ベンジル化してアミノ基に変換することに
    より式 【化9】 (式中、R1は低級アルキル、R2は水素または低級アル
    キル、R3は水素またはアミノ保護基、R4はシクロプロ
    ピル、フルオロエチル、置換されていてもよいフェニル
    または置換されていてもよいチエニル、R5はハロゲ
    ン、Yは水素または置換されていてもよいベンジルを表
    わす。)で示される化合物を得ることを特徴とする、キ
    ノロン誘導体の製造法。
  5. 【請求項5】 請求項2の製造法で得られた化合物(I
    V)または請求項4の製造法で得られた化合物(V)を加
    水分解し、その反応成績体の5位に置換または非置換ベ
    ンジルアミノ基が存在する場合には、必要に応じてこれ
    を脱ベンジル化してアミノ基に変換することにより式 【化10】 (式中、R1は低級アルキル、R2は水素または低級アル
    キル、R3は水素またはアミノ保護基、R4はシクロプロ
    ピル、フルオロエチル、置換されていてもよいフェニル
    または置換されていてもよいチエニル、R5はハロゲ
    ン、Yは水素または置換されていてもよいベンジルを表
    わす。)で示される化合物を得ることを特徴とする、キ
    ノロン誘導体の製造法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997031919A1 (fr) * 1996-02-27 1997-09-04 Dainippon Pharmaceutical Co., Ltd. Derives d'acide pyridonecarboxylique et leur intermediaires de synthese
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US8063221B2 (en) 2006-03-13 2011-11-22 Kyorin Pharmaceutical Co., Ltd. Aminoquinolones as GSK-3 inhibitors
US8071591B2 (en) 2009-03-11 2011-12-06 Kyorin Pharmaceutical Co., Ltd. 7-cycloalkylaminoquinolones as GSK-3 inhibitors

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