JPH0522918Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed explanation of the idea]

〔産業上の利用分野〕 本考案は、新規なエレクトロクロミツク素子に
関するものである。以下、「エレクトロクロミツ
ク」をECと略称し、EC素子をECDと略称する。 〔従来の技術〕 ECDは、一般には少なくとも一方が透明な一
対の電極層とそれらの間にサンドイツチされた
EC層からなる。このECDは、乾電池から得られ
る程度の電圧を一対の電極間に印加すると、着色
し、逆の電圧を印加すると消色して元の無色透明
に戻る。そのためECDは表示装置特に「日」の
字型のセブンセグメントを用いた数字表示装置、
透過又は反射光量の制御装置、その他に利用すべ
く盛んに研究されている。 EC材料例えばWO₃が着色するには、電子（e^-）
とカチオン（X^-）の同時注入が必要とされ、着
色・消色に伴う反応式は、次のように信じられて
いる。 消色状態：WO₃＋ne^-＋nX⁺ ↑↓ 着色状態：XnWO₃ そして、カチオン（X⁺）としては、イオン半
径の小さく移動の容易なH⁺やLi⁺が主として利用
されている。カチオン（X⁺）は常時カチオンで
ある必要はなく、電圧が印加され電場が形成され
たときカチオンが生じればよいので、特にH⁺の
場合には水がカチオン供給源として利用される。
水は極く微量で充分であるらしく、ECDを大気
中にさらしたときに大気中から自然に層内に侵入
する程度の水分でしばしば間に合う。 しかしながら、単にWO₃層を一対の電極で挾
んで電圧を印加して着色させても、容易に消色す
ることが出来ない。何故ならば、消色しようとし
て逆電圧を印加しても陰極に接した電極側から電
子（e^-）が流入してくるので、もしH⁺があれば、 WO₃＋ne^-＋nH⁺→HnWO₃ の反応が起こつて着色するからである。 そのため、S.K.Debらは、WO₃層と一方の電極
との間に絶縁層例えばSiO₂，MgF₂を設けたECD
を提案した（特公昭52−46098）。この絶縁層は、
電子の移動はできないが、H⁺やOH^-のようなイ
オンの移動は自由であり、このH⁺やOH^-イオン
が電気を運び（この意味で絶縁層と呼ぶのは誤り
でイオン導電層と呼ぶのが正しい）、OH^-イオン
が陽極との界面で OH^-→１／2H₂Ｏ＋１／4O₂↑＋e^- の反応式に従つて反応し、電子を陽極側に放出し
ているものと思われる。 つまり着色時には、 陰極側：WO₃＋ne^-＋nH⁺→HnWO₃ 陽極側nOH^-→ｎ／2H₂Ｏ ＋ｎ／4O₂↑＋ne^- という反応が推定され、消色時には、 陽極側：HnWO₃→WO₃＋ne^-＋nH⁺ 陰極側：nH₂Ｏ＋ne^-→nOH^- ＋ｎ／2H₂↑ という反応が生じているものと推定されている。 これらの式からも明らかであるが、現実にもS.
K.DebらのECDは、着色・消色の駆動により水
が消費されているので大気中から速やかに水が供
給されないと着色しなくなり、また駆動に伴つて
O₂やH₂ガスが放出されるので層間剥離を生じる
という欠点がある。 そのため、Y.Takahashiらは、イオン導電層
と電極層との間に酸化着色性EC層を設けたECD
を提案した（特開昭56−4679）。このECDは酸化
着色性EC層として例えば水酸化イリジウムを利
用したもので、WO₃の着色時に陽極側で主とし
て 無色透明：Ir（OH）ｍ＋ｎ（OH^-） ↓ 着色：Ir（OH）ｐ・qH₂Ｏ rH₂Ｏ＋Ｓ（e^-） と反応し、WO₃の消色時には陰極側で主として Ir（OH）ｐ・qH₂Ｏ ＋rH₂Ｏ＋Ｓ（e^-） ↓ Ir（OH）ｍ＋ｎ（OH^-） と反応するものと推定されている。従つて、水が
再生されるので消費されてなくなることがなく、
また駆動に伴つてO₂やH₂ガスが放出されること
もない。 そのほか、EC層とリチウム固体電解質層とを
組み合わせたもの、EC層とプロトン含有又はプ
ロトン放出性固体ないし半固体樹脂層とを組み合
わせたものもある。 〔考案が解決しようとする問題点〕 ところで、従来のECDは表示部の面積が大き
い場合に、着色又は消色を起こさせると、全体が
着色又は消色するのに時間がかかりムラが生じる
という問題点があつた。 従つて、本考案の目的は、このムラの問題点を
軽減することにある。 〔問題点を解決するための手段〕 そのため、本考案は、ほぼ四辺形の基板上に形
成された表示面積の大きなECDに於いて、 該素子の一対の電極の取出し部をそれぞれ基板
の隣り合う２辺に沿つてほぼＬの字形に低抵抗電
極材料で構成し、各取出し部にそれぞれ外部配線
を接続したことを特徴とする。 〔作用〕 ECDでは、EC層を挟む一対の電極層が存在す
るが、このうち一方は、EC層の着消色を視認さ
せるために透明でなければならない。しかし、透
明な電極材料は現在のところ電気抵抗が高く、そ
のためそれに直接外部配線を接続しても点に於い
て電荷を供給するので、ことに電極面積が大きい
場合、電極全体に電荷が行きわたるのに時間がか
かる。そのため着消色に時間がかかりムラが生じ
るのである。 そこで、本考案では、この抵抗の高い電極側に
できるだけ大面積の低抵抗電極材料による取出し
部を設け、これに外部配線を接続することにより
高抵抗電極層への電荷の供給を点ではなく面−そ
れもできるだけ大きな面−で行なうべく、基板の
隣合う２辺にほぼ相当するＬ字形状及び寸法を有
する取出し部を設け、また抵抗の低い電極側にも
対称的にＬ字形に設けるのである。 このように低抵抗のＬ字形取出し部を設ける
と、外部配線の接続がそれぞれの電極について１
ケ所でも、２ケ所以上接続した場合と電荷の供給
に於いて変わらず、そのため配線が簡単になる利
点もある。 ECDに使用される電極材料としては、Al，
Ag，Ni，Pt，Au，Pd，Cr，Ir，Ru，Rhなどの
金属及び炭素、SnO₂，In₂O₃，ITO（SnO₂とIn₂
O₃の混合物）、ZnOなどの透明導電性酸化物など
が選択使用される。前者は不透明であるが電気抵
抗が低く、後者は無色透明であるが電気抵抗が高
い。 電極の形成ないし積層法としては、一般には真
空蒸着、反応性蒸着、イオンプレーテイング、反
応性イオンプレーテイング、スパツタリング、反
応性スパツタリング、CVDなどの薄膜形成法が
用いられる。場合によつては、厚膜法（有機金属
化合物例えば金属アルコラート又はそのオリゴマ
ーの溶液を塗布し、焼成して被膜を形成する）や
導電性ペーストを吐出することで形成してもよ
い。 電極の膜厚としては、透明導電性酸化物の場合
には抵抗値にもよるが一般には0.01〜0.5μｍが適
当であり、金属の場合には８×10^-5〜10^-1mmが適
当である。 一対の電極間にサンドイツチされるEC層とし
ては、主として還元着色型又は酸化着色型EC材
料が用いられる。還元着色型EC材料としては、
例えばWO₃又はMoO₃などの無機酸化物のほか有
機材料を使用することもできる。酸化着色型EC
材料としては、水酸化又は酸化イリジウム、同じ
くニツケル、同じくクロム、同じくバナジウム、
同じくルテニウム、同じくロジウムなどの無機物
のほか有機材料が使用される。 EC層は、単独でも又は還元着色型EC層と酸化
着色型EC層との２重層でも、或いはこれにイオ
ン導電層を併用したものでもよい。最も好ましい
構造は、還元着色型EC層／イオン導電層・酸化
着色型EC層（又は明確な着色は認められないも
のの可逆的に電解酸化するものでもよい）の３層
構造である。 これらのEC層は、一般にそれぞれ0.01〜数μ
ｍの厚さに形成される。形成法としては、主とし
て前述の薄膜形成法が用いられる。 場合によつて、設けてもよいイオン導電層は、
電子に対して絶縁体であるが、プロトン（H⁺）
及びヒドロキシイオン（OH^-）に対しては良導
体である。これは、本考案のECDにメモリ性即
ち着色させた後、電圧印加を止めても、着色状態
が保持される性質をもたせるために、必要に応じ
て設けられるもので、その具体的材料としては次
のものが例示される。 無機誘電体薄膜例えば酸化タンタル（Ta₂
O₅）、酸化ニオプ（Nb₂O₅）、酸化ジルコニウ
ム（ZrO₂）、酸化チタン（TiO₂）酸化ハフニウ
ム（HfO₂）、酸化イツトリウム（Y₂O₃）、酸化
ランタン（La₂O₃）、酸化珪素（SiO₂）、フツ化
マグネシウム、リン酸ジルコニウムあるいはこ
れらの混合物質（これらの物質は、電子に対し
て絶縁体であるが、プロトン（H⁺）及びヒド
ロキシイオン（OH^-）に対しては良導体であ
る。）全固体タイプのECD特に薄膜タイプの
ECDは、厚さを極めて薄くでき、しかも、液
もれの心配がない利点があり、その場合にはイ
オン導電層として、この無機誘電体を選ぶこと
が望ましい； 塩化ナトリウム、塩化カリウム、臭化ナトリ
ウム、臭化カリウム、Na₃Zr₂Si₂PO₁₂，Na_1+x
ZrSi_xP_3-xO₁₂，Na₅YSi₄O₁₂，RbAg₄I₅等の固
体電解質； 水又はプロトン供給源含有合成樹脂、例えば
メタクリル酸β−ヒドロキシエチルと２−アク
リルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸と
の共重合体、含水メタクリル酸メチル共重合体
のような含水ビニル重合体、含水ポリエステル
など； 電解液、例えば硫酸、塩酸、リン酸、酢酸、
酪酸、しゆう酸のような酸またはその水溶液、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなア
ルカリの水溶液、塩化ナトリウム、塩化リチウ
ム、塩化カリウム、硫酸リチウムのような固体
強電解質の水溶液； 半固体ゲル電解質、例えば電解質水溶液をゲ
ル化剤例えばポリビニルアルコール、CMC、
寒天、ゼラチン等でゲル化させたもの； などが挙げられる。 従つて、イオン導電層は、真空薄膜形成技術、
厚膜法、封入、注入、塗布、その他の手段で形成
され、厚さは材料によつて0.01μｍ〜１mm位まで
様々となる。 更に場合により、酸化着色性EC層ないし可逆
的電解酸化性層ないし触媒層を使用してもよく、
それには例えば酸化ないし水酸化イリジウム、同
じニツケル、同じくクロム、同じくバナジウム、
同じくルテニウム、同じロジウムなどが挙げられ
る。これらの物質は他の透明なイオン導電体層又
は透明電極中に分散されていても良い。 以下、実施例により本考案を詳細に説明する。 〔実施例 １〕 第１Ａ図は、この実施例のECDの概略平面図
であり、第１Ｂ図は、第１Ａ図の矢視断面端面図
である。このECDの製造工程を第２Ａ図（平面
図）及び第２Ｂ図（第２Ａ図の矢視断面端面図）
に示す。 (1) 縦10cm×横20cmの矩形のガラス基板Ｓ上に高
抵抗のITO膜を形成し、次にホトエツチングに
よりパターニングして、下部電極Ｂ、及び上部
電極の取出し部のための予備取出し部A₁を形
成した（第２Ａ図１及び第２Ｂ図１参照）。 ホトエツチングによるパターニングにかえ
て、最初から所望のパターンが得られるように
マスク蒸着その他の手段を採用してもよい。ま
た、一面に電極を形成した後、ホトエツチング
ではなくレーザーカツテイングによるパターニ
ングしてもよい。 (2) 次に酸化イリジウム−酸化スズ混合層Ｄ、酸
化タンタル層Ｅ及び酸化タングステン層Ｆを順
に積層した（第２Ａ図２及び第２Ｂ図２参照）。 (3) その上に上部電極として低抵抗のAl電極Ａ
をマスク蒸着により形成した（第２Ａ図３及び
第２Ｂ図３参照）。この場合、上部電極Ａの一
部が既に形成された予備取出し部A₁と接触す
るようにする。 尚、各層ないし各膜の製造方法及び製造条件
を下記第１表に示す。 (4) この状態では上部電極の予備取出し部A₁の
Ｌ字形外縁部及び下部電極Ｂの逆Ｌ字形の外縁
部が十分な大きさで露出している。 次に低抵抗の上部電極Ａの予備取出し部A₁に
対しては、断面が「コ」の字形を有し基板Ｓの隣
合う２辺にほぼ相当する長さ及び形状（ほぼＬ字
形）を有する導電性クリツプC_Aを用意し、高抵
抗の下部電極Ｂに対しても同様の導電性クリツプ
C_Bを用意し、第２Ｃ図に示すように、クリツプ
C_Aは予備取出し部A₁のＬ字形外縁部に装着し、
クリツプC_Bは下部電極Ｂの逆Ｌ字形外縁部に装
着することにより、それぞれの取出し部を形成し
た。 このクリツプは、例えばバネ性を有する厚さが
0.05〜２mmの金属例えばりん青銅を断面が「コ」
の字形となるように折り曲げて作成されるが、高
抵抗の下部電極よりもずつと電気抵抗が低い。 最後にこれらのクリツプC_A，C_Bにそれぞれ外
部配線L_A，L_Bをハンダ付け又は導電性接着剤に
より接続した。 こうして得られたECDの外観及び構造を第１
Ａ図及び第１Ｂ図に示す。外部配線の接続位置
は、第１Ａ図に示すように正反対側にせずともよ
く、むしろ互いに最も近い位置に持つて来てもよ
い。 通常は、上面にエポキシ樹脂Ｒを塗布し、その
上にクリツプC_A，C_Bで囲まれた形状に相当する
保護ガラス板Ｇを乗せて樹脂を硬化させ、ECD
を封止する。 このECDは、表示部が縦9.2cm×横19.2cmと大
きいが、外部配線L_A，L_Bを通じて駆動電源から
着色電圧（＋1.35V）を印加すると、基板Ｓ側か
ら入射させた波長633nmの光に対し反射率が15％
に減少し（10秒後）、この反射率は電圧印加を止
めても、しばらく保たれた。次に消色電圧（−
1.35V）を印加すると、同じく反射率は65％に回
復した（10秒後）。 [Industrial Application Field] The present invention relates to a novel electrochromic device. Hereinafter, "electrochromic" will be abbreviated as EC, and EC element will be abbreviated as ECD. [Prior Art] ECDs generally consist of a pair of electrode layers, at least one of which is transparent, and a sandwich sandwich between them.
Consists of EC layer. This ECD becomes colored when a voltage equivalent to that obtained from a dry battery is applied between a pair of electrodes, and disappears when the opposite voltage is applied, returning to its original colorless and transparent state. Therefore, ECD is a display device, especially a numeric display device using seven segments in the shape of a Japanese character.
It is being actively researched for use in devices that control the amount of transmitted or reflected light, and other applications. To color EC materials e.g. WO ₃ , electron ( ^e- )
The reaction formula for coloring and ^decoloring is believed to be as follows. Uncolored state: WO ₃ +ne ^- +nX ⁺ ↑↓ Colored state: XnWO ₃ And as the cation (X ⁺ ), H ⁺ and Li ⁺ , which have a small ionic radius and are easily mobile, are mainly used. The cation (X ⁺ ) does not need to be a cation all the time; it is sufficient that the cation is generated when a voltage is applied and an electric field is formed, so especially in the case of H ⁺ , water is used as a cation source.
It appears that a very small amount of water is sufficient, and when the ECD is exposed to the atmosphere, it is often sufficient to require only the amount of water that naturally enters the layer from the atmosphere. However, even if the WO ₃ layer is simply sandwiched between a pair of electrodes and colored by applying a voltage, the color cannot be easily erased. This is because even if a reverse voltage is applied to erase the color, electrons (e ^- ) will flow in from the electrode side in contact with the cathode, so if H ⁺ is present, WO ₃ +ne ^- +nH ⁺ →HnWO ₃ This is because the reaction takes place and the color develops. Therefore, SKDeb et al. developed an ECD with an insulating layer such as SiO ₂ or MgF ₂ between the WO ₃ layer and one electrode.
(Special Publication No. 52-46098). This insulating layer is
Although electrons cannot move, ions such as H ⁺ and OH ^- can move freely, and these H ⁺ and OH ^- ions carry electricity. It is thought that OH ^- ions react at the interface with the anode according to the reaction formula OH ^- → 1/2H ₂ O + 1/4O ₂ ↑+e ^- and release electrons to the anode. It will be done. In other words, when coloring, the reaction is estimated to be as follows: cathode side: WO ₃ +ne ^- +nH ⁺ →HnWO ₃ anode side nOH ^- →n/2H ₂ O +n/4O ₂ ↑+ne ^- , and when decoloring, anode side: HnWO ₃ →WO It is estimated that the following reaction occurs: ₃ +ne ^- +nH ⁺ cathode side: nH ₂ O+ne ^- →nOH ^- +n/2H ₂ ↑. As is clear from these equations, S.
K. Deb et al.'s ECD consumes water during the coloring and decoloring process, so if water is not quickly supplied from the atmosphere, the ECD will no longer be colored.
The disadvantage is that delamination occurs because O ₂ and H ₂ gases are released. Therefore, Y. Takahashi et al. have developed an ECD with an oxidation-colored EC layer between the ion conductive layer and the electrode layer.
(Japanese Patent Application Laid-Open No. 1983-4679). This ECD uses, for example, iridium hydroxide as an oxidative coloring EC layer, and when WO ₃ is colored, it is mainly colorless and transparent on the anode side: Ir(OH)m+n(OH ^- ) ↓ Coloring: Ir(OH)p・qH Reacts with ₂ O rH ₂ O+S(e ^- ), and when decolorizing WO ₃ , mainly Ir(OH)p・qH ₂ O +rH ₂ O+S(e ^- ) ↓ Ir(OH)m+n(OH ^- ) on the cathode side. It is estimated that it will react. Therefore, the water is recycled so it does not get consumed and runs out.
Furthermore, O ₂ and H ₂ gas are not released during driving. In addition, there are also combinations of an EC layer and a lithium solid electrolyte layer, and combinations of an EC layer and a proton-containing or proton-releasing solid or semi-solid resin layer. [Problems that the invention aims to solve] By the way, in conventional ECDs, when the display area is large, when coloring or decoloring occurs, it takes time for the entire display to be colored or decolorized, resulting in unevenness. There was a problem. Therefore, an object of the present invention is to alleviate this problem of unevenness. [Means for solving the problem] Therefore, the present invention, in an ECD with a large display area formed on a substantially quadrilateral substrate, connects the lead-out portions of a pair of electrodes of the element to adjacent portions of the substrate. It is characterized in that it is constructed of a low resistance electrode material in a substantially L-shape along two sides, and external wiring is connected to each lead-out portion. [Function] In ECD, there is a pair of electrode layers sandwiching the EC layer, and one of them must be transparent in order to visually recognize the color change of the EC layer. However, transparent electrode materials currently have high electrical resistance, so even if external wiring is directly connected to them, a charge is supplied at a point, so the charge is distributed over the entire electrode, especially if the electrode area is large. It takes time. Therefore, it takes time for coloring and decoloring to occur, resulting in unevenness. Therefore, in the present invention, by providing a lead-out part made of a low-resistance electrode material with as large an area as possible on the high-resistance electrode side and connecting external wiring to this, the charge is supplied to the high-resistance electrode layer not from a point but from a surface. In order to do this on as large a surface as possible, we provide an L-shaped extraction section with dimensions that roughly correspond to the two adjacent sides of the substrate, and we also provide an L-shaped extraction section symmetrically on the low resistance electrode side. . By providing a low-resistance L-shaped lead-out portion in this way, external wiring connections can be made at one time for each electrode.
Even if two or more locations are connected, the supply of charge is the same as when two or more locations are connected, which also has the advantage of simplifying the wiring. Electrode materials used for ECD include Al,
Metals such as Ag, Ni, Pt, Au, Pd, Cr, Ir, Ru, Rh, and carbon, SnO ₂ , In ₂ O ₃ , ITO (SnO ₂ and In ₂
O ₃ mixture), transparent conductive oxides such as ZnO, etc. are selectively used. The former is opaque but has low electrical resistance, and the latter is colorless and transparent but has high electrical resistance. As a method for forming or laminating electrodes, thin film forming methods such as vacuum evaporation, reactive evaporation, ion plating, reactive ion plating, sputtering, reactive sputtering, and CVD are generally used. Depending on the case, it may be formed by a thick film method (applying a solution of an organometallic compound such as a metal alcoholate or its oligomer and baking it to form a film) or by discharging a conductive paste. In the case of transparent conductive oxides, the appropriate thickness of the electrode is generally 0.01 to 0.5 μm, although it depends on the resistance value, and in the case of metals, the appropriate thickness is 8 × 10 ^-5 to 10 ^-1 mm. It is. As the EC layer sandwiched between a pair of electrodes, a reduction colored type or an oxidized colored type EC material is mainly used. As a reduction colored EC material,
Besides inorganic oxides, for example WO ₃ or MoO ₃ it is also possible to use organic materials. Oxidation colored EC
Materials include iridium hydroxide or oxide, nickel, chromium, vanadium,
In addition to inorganic materials such as ruthenium and rhodium, organic materials are also used. The EC layer may be used alone, or may be a double layer of a reduced colored EC layer and an oxidized colored EC layer, or may be combined with an ion conductive layer. The most preferable structure is a three-layer structure consisting of a reduction colored EC layer/ion conductive layer/oxidation colored EC layer (or one that is reversibly electrolytically oxidized although no clear coloring is observed). These EC layers generally each have a thickness of 0.01 to several μ
It is formed to a thickness of m. As a forming method, the above-mentioned thin film forming method is mainly used. Depending on the case, the ion conductive layer that may be provided is
Although it is an insulator for electrons, protons (H ⁺ )
It is also a good conductor for hydroxyl ions (OH ^- ). This is provided as necessary in order to give the ECD of the present invention a memory property, that is, the property that the colored state is maintained even after the voltage application is stopped after being colored.The specific material is as follows. Examples include: Inorganic dielectric thin film such as tantalum oxide (Ta ₂
O ₅ ), niobium oxide (Nb ₂ O ₅ ), zirconium oxide (ZrO ₂ ), titanium oxide (TiO ₂ ), hafnium oxide (HfO ₂ ), yttrium oxide (Y ₂ O ₃ ), lanthanum oxide (La ₂ O ₃ ) , silicon oxide (SiO ₂ ), magnesium fluoride, zirconium phosphate, or mixtures thereof (these materials are insulators for electrons, but are insulators for protons (H ⁺ ) and hydroxy ions (OH ^- ). (It is a good conductor.) All-solid-state type ECDs, especially thin-film types.
ECD has the advantage that it can be made extremely thin and there is no need to worry about liquid leakage. In that case, it is desirable to choose this inorganic dielectric material as the ion conductive layer; sodium chloride, potassium chloride, bromide. Sodium, potassium bromide, Na ₃ Zr ₂ Si ₂ PO ₁₂ , Na _1+x
Solid electrolytes such as ZrSi _x P _3-x O ₁₂ , Na ₅ YSi ₄ O ₁₂ , RbAg ₄ I ₅ ; water or synthetic resins containing proton sources, such as β-hydroxyethyl methacrylate and 2-acrylamide-2-methylpropane. Copolymers with sulfonic acid, hydrated vinyl polymers such as hydrated methyl methacrylate copolymers, hydrated polyesters, etc.; Electrolytes such as sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, acetic acid,
acids such as butyric acid, oxalic acid or their aqueous solutions;
Aqueous solutions of alkalis such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, aqueous solutions of solid strong electrolytes such as sodium chloride, lithium chloride, potassium chloride, lithium sulfate; semi-solid gel electrolytes, such as electrolyte aqueous solutions with gelling agents such as polyvinyl alcohol; CMC,
Examples include gelatinized with agar, gelatin, etc. Therefore, the ion conductive layer can be formed using vacuum thin film formation technology,
It is formed by a thick film method, encapsulation, injection, coating, or other means, and the thickness varies from about 0.01 μm to 1 mm depending on the material. Furthermore, depending on the case, an oxidatively colored EC layer, a reversible electrolytically oxidizable layer, or a catalyst layer may be used,
Examples include iridium oxide or hydroxide, nickel, chromium, vanadium,
Examples include the same ruthenium and the same rhodium. These substances may be dispersed in other transparent ion conductor layers or transparent electrodes. Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to Examples. [Example 1] FIG. 1A is a schematic plan view of the ECD of this example, and FIG. 1B is a cross-sectional end view taken in the direction of the arrows in FIG. 1A. The manufacturing process of this ECD is shown in Figure 2A (plan view) and Figure 2B (cross-sectional end view taken in the direction of the arrow in Figure 2A).
Shown below. (1) A high-resistance ITO film is formed on a rectangular glass substrate S measuring 10 cm long x 20 cm wide, and then patterned by photoetching to form a lower electrode B and a preliminary extraction part A for the upper electrode extraction part. ₁ (see FIG. 2A 1 and FIG. 2B 1). Instead of patterning by photoetching, mask deposition or other means may be used to obtain the desired pattern from the beginning. Further, after forming an electrode on one surface, patterning may be performed by laser cutting instead of photoetching. (2) Next, an iridium oxide-tin oxide mixed layer D, a tantalum oxide layer E, and a tungsten oxide layer F were laminated in this order (see FIG. 2A 2 and FIG. 2B 2). (3) On top of that, a low resistance Al electrode A is used as the upper electrode.
was formed by mask vapor deposition (see FIG. 2A, FIG. 3, and FIG. 2B, FIG. 3). In this case, a part of the upper electrode A is brought into contact with the already formed pre-extraction part _A1 . The manufacturing method and manufacturing conditions for each layer or film are shown in Table 1 below. (4) In this state, the L-shaped outer edge of the preliminary lead-out portion _A1 of the upper electrode and the inverted L-shaped outer edge of the lower electrode B are exposed to a sufficient extent. Next, for the preliminary lead-out portion A ₁ of the low resistance upper electrode A, the cross section has a U-shape, and the length and shape (approximately L-shape) corresponds to the two adjacent sides of the substrate S. A conductive clip C _A with a high resistance is prepared, and a similar conductive clip
Prepare C _B and insert a clip as shown in Figure 2C.
C _A is attached to the L-shaped outer edge of the preliminary ejection part A ₁ ,
The clip C _B was attached to the inverted L-shaped outer edge of the lower electrode B to form respective extraction portions. This clip has a springy thickness, for example.
A metal with a cross section of 0.05 to 2 mm, such as phosphor bronze, has a “C” shape.
It is made by bending it into a square shape, but it has a much lower electrical resistance than the high-resistance lower electrode. Finally, external wiring L _A and L _B were connected to these clips C _A and C _B , respectively, by soldering or conductive adhesive. The appearance and structure of the ECD obtained in this way are
This is shown in Figure A and Figure 1B. The external wiring connections need not be placed on opposite sides as shown in FIG. 1A, but may be placed closest to each other. Normally, epoxy resin R is applied to the top surface, a protective glass plate G corresponding to the shape surrounded by clips C _A and C _B is placed on top of it, and the resin is cured.
Seal. This ECD has a large display area, measuring 9.2cm in height x 19.2cm in width, but when a coloring voltage (+1.35V) is applied from the drive power supply through external wiring L _A and _LB Reflectance of light is 15%
(after 10 seconds), and this reflectance was maintained for a while even after the voltage application was stopped. Next, the decoloring voltage (−
1.35V), the reflectance recovered to 65% (after 10 seconds).

〔実施例 ２〕[Example 2]

実施例１に於いて、上部電極としてのAl電極
Ａをマスク蒸着する際に、マスク形状を変えて、
上部Al電極Ａと、それに連続的に続くＬ字形取
出し部C_Aと、上部電極Ａとは分離した逆Ｌ字形
取出し部C_B−ITOでできた下部電極Ｂの取出し
部−を一度に形成した。従つて、ここでは、実施
例１で用いたクリツプは使用しない。 こうして得られたECDの平面図を第３Ａ図に、
断面端面図を第３Ｂ図に示す。 〔実施例 ３〕 実施例２に於いて、基板上に予め上部Al電極
Ａの予備取出し部A₁−ITOからなる−を設けず
に、上部電極としてのAl電極Ａをマスク蒸着す
る際に、マスク形状を変えて、上部Al電極Ａと、
それに連続的に続くＬ字形取出し部C_Aと、上部
電極Ａとは分離した逆Ｌ字形取出し部C_B−ITO
でできた下部電極Ｂの取出し部−を一度に形成し
た。従つて、ここでも実施例１で用いたクリツプ
は使用しない。 こうして得られたECDの断面端面図を第４図
に示す。 これらの実施例のECDは、反射光量を電気的
に制御できるので自動車の防眩ミラーとして有用
である。 〔考案の効果〕 以上の通り、本考案によれば、ECDの一対の
電極のうち高抵抗電極の方に矩形基板の隣合う２
辺に沿つてＬ字形に低抵抗取出し部を形成し、ま
た低抵抗電極の方にも矩形基板の隣合う２辺に沿
つてＬ字形に低抵抗取出し部を形成したので、こ
の取出し部に外部配線を接続することにより、外
部配線から高抵抗電極への電荷の供給が接触面積
の大きい低抵抗取出し部を通じて行われ、従つ
て、表示部の面積が大きくとも着消色の応答速度
が速く、また着消色ムラも生じ難い。また、接続
が各電極について１ケ所でも２ケ所以上接続した
場合と変わらないので、配線が簡単になる。 In Example 1, when depositing the Al electrode A as the upper electrode with a mask, the shape of the mask was changed,
The upper Al electrode A, the continuous L-shaped lead-out part C _A , and the inverted L-shaped lead-out part C _B separated from the upper electrode A - the lead-out part of the lower electrode B made of ITO were formed at once. . Therefore, the clip used in Example 1 is not used here. The plan view of the ECD obtained in this way is shown in Figure 3A.
A cross-sectional end view is shown in FIG. 3B. [Example 3] In Example 2, when mask-evaporating the Al electrode A as the upper electrode without providing the preliminary extraction part A ₁ -made of ITO for the upper Al electrode A on the substrate in advance, By changing the mask shape, the upper Al electrode A and
There is an L-shaped take-out part C _A continuous to it, and an inverted L-shaped take-out part C _B -ITO which is separated from the upper electrode A.
The lead-out portion of the lower electrode B was formed at one time. Therefore, the clip used in Example 1 is not used here either. A cross-sectional end view of the ECD thus obtained is shown in FIG. The ECDs of these examples are useful as anti-glare mirrors for automobiles because the amount of reflected light can be electrically controlled. [Effects of the invention] As described above, according to the invention, the high resistance electrode of the pair of electrodes on the ECD has two adjacent electrodes on the rectangular substrate.
An L-shaped low-resistance lead-out part was formed along the side, and an L-shaped low-resistance lead-out part was formed along the two adjacent sides of the rectangular substrate toward the low-resistance electrode. By connecting the wiring, charge is supplied from the external wiring to the high-resistance electrode through the low-resistance extraction part with a large contact area, and therefore, even if the area of the display part is large, the response speed of coloring and erasing is fast. Also, uneven coloring and fading is less likely to occur. Further, since the connection is made at one point for each electrode, it is the same as if it were connected at two or more points, so the wiring becomes simple.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第１Ａ図は、本考案の実施例１にかかるECD
の概略平面図である。第１Ｂ図は、第１Ａ図の概
略矢視断面端面図である。第２Ａ図及び第２Ｃ図
は、実施例１のECDを製造する各工程における
平面図である。第２Ｂ図は、第２Ａ図の概略矢視
断面端面図である。第３Ａ図は、本考案の実施例
２にかかるECDの概略平面図である。第３Ｂ図
は、第３Ａ図の概略矢視断面端面図である。第４
図は、実施例３にかかるECDの概略断面端面図
である。図面は、いずれもデホルメして描いてあ
り正確な寸法比を表さない。 主要部分の符号の説明、Ａ……上部電極、A₁
……上部電極の予備取出し部、Ｂ……下部電極、
C_A……上部電極の取出し部又はその一例として
の導電性クリツプ、C_B……下部電極の取出し部
又はその一例としての導電性クリツプ、Ｆ……還
元着色性EC層又はその一例としてのWO₃層、L_A
……外部配線、L_B……外部配線。 FIG. 1A shows an ECD according to Embodiment 1 of the present invention.
FIG. FIG. 1B is a schematic cross-sectional end view of FIG. 1A. FIG. 2A and FIG. 2C are plan views of each step of manufacturing the ECD of Example 1. FIG. 2B is a schematic cross-sectional end view of FIG. 2A. FIG. 3A is a schematic plan view of an ECD according to Example 2 of the present invention. FIG. 3B is a schematic cross-sectional end view of FIG. 3A. Fourth
The figure is a schematic cross-sectional end view of the ECD according to Example 3. The drawings are all deformed and do not represent accurate dimensional ratios. Explanation of symbols of main parts, A... Upper electrode, A ₁
...Preliminary extraction part of the upper electrode, B...Lower electrode,
C _A ...The lead-out part of the upper electrode or a conductive clip as an example thereof, C _B ...The lead-out part of the lower electrode or a conductive clip as an example thereof, F...The reduction colored EC layer or WO as an example thereof ₃ layers, L _A
...External wiring, L _B ...External wiring.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】 ほぼ四辺形の基板上に形成された表示面積の大
きなエレクトロクロミツク素子に於いて、 該素子の一対の電極の取出し部をそれぞれ基板
の隣り合う２辺に沿つてほぼＬの字形に低抵抗電
極材料で構成し、各取出し部にそれぞれ外部配線
を接続したことを特徴とするエレクトロクロミツ
ク素子。[Claims for Utility Model Registration] In an electrochromic device with a large display area formed on a substantially quadrilateral substrate, the lead-out portions of a pair of electrodes of the device are arranged along two adjacent sides of the substrate. 1. An electrochromic device comprising a low-resistance electrode material in an approximately L-shape, and having external wiring connected to each lead-out portion.