JPH05224009A - Formation of color filter - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To simplify the filter forming process and to improve the reliability of the filter by forming a single body to be dyed on a substrate and selectively dyeing the body for each color by using a photoresist. CONSTITUTION:(a) A single material 7 to be dyed is formed on the light receiving diodes 2 for each color formed in parallel in an N-type Si single crystal substrate 1. (b) A photoresist 8 is formed on the substrate 1 except the region to be dyed with a first color (e.g. red). (c) The resist open part of the material 7 is then dyed with a dye, the dye is fixed, and the photoresist 8 is removed to obtain a dyed color filter. The process is repeated, the regions of the material 7 needed by the color filter are respectively colored with a second color (e.g. green) and a third color (e.g. blue), and (e) tricolor filters 9, 10 and 11 are formed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子スチルカメラやＶ
ＴＲカメラ等の色調整を行なうオート・ホワイト・バラ
ンス（Ａ．Ｗ．Ｂ）モジュールに用いるフィルタ・オン
・チップ（Ｆ．Ｏ．Ｃ．）タイプカラーセンサや液晶デ
ィスプレイ（Ｌ．Ｃ．Ｄ．）等に使用するカラーフィル
タの形成方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to an electronic still camera and a V
Filter-on-chip (FOC) type color sensor and liquid crystal display (LCD) used in an auto white balance (AWB) module for color adjustment of TR cameras and the like. The present invention relates to a method for forming a color filter used for the above.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来の技術について、図２を参照して説
明する。図２は従来のカラーフィルタの染色方法を説明
するための図であり、ＲＥｄ，Ｇｒｅｅｎ，Ｂｌｕｅの
各々の受光面に対応するカラーフィルタを形成したＦ．
Ｏ．Ｃ．タイプカラーセンサチップの断面図である。2. Description of the Related Art A conventional technique will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a diagram for explaining a conventional dyeing method of a color filter, in which an F.I.
O. C. It is sectional drawing of a type color sensor chip.

【０００３】図２に示した通り、周知のウェハプロセス
技術を用いて、Ｎ型Ｓｉ単結晶基板１の、並列に形成さ
れた各色用の受光ダイオード部２上に、周知のフォトリ
ソグラフィの技術を用いて、第１色（例えばＲｅｄ）用
の被染色材を形成し、染料Ｒにて染色し、カラーフィル
タ３を得た後、同様のフォトリソグラフィの技術を用い
て、他色の混色や、機械的外力及び後工程で使用される
溶剤類等からカラーフィルタを保護する為の保護膜４を
形成する。As shown in FIG. 2, a well-known wafer process technique is used to form a well-known photolithography technique on the light-receiving diode portions 2 for each color formed in parallel on the N-type Si single crystal substrate 1. After forming a material to be dyed for the first color (for example, Red) using the dye R to obtain the color filter 3, the same photolithography technique is used to mix other colors or A protective film 4 is formed to protect the color filter from mechanical external force and solvents used in the subsequent process.

【０００４】以後、上記の工程を繰り返して第２色（例
えばＧｒｅｅｎ），第３色（例えばＢｌｕｅ）のカラー
フィルタ５，６をそれぞれ形成する。After that, the above steps are repeated to form the color filters 5 and 6 of the second color (for example, Green) and the third color (for example, Blue).

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、図２に示し
た様な方法でカラーフィルタを形成した場合、一色毎に
被染色材形成工程と、保護膜形成工程とが必要となる
為、フィルタ形成プロセスが長くなり、コストアップに
つながる。By the way, when a color filter is formed by the method shown in FIG. 2, a dyeing material forming step and a protective film forming step are required for each color. This lengthens the process and increases costs.

【０００６】また、保護膜を何層にも重なって形成する
事となる為、熱的な歪みが生じ易く、保護膜上にクラッ
クが発生する恐れがあり、クラックが発生した場合に
は、外観上，特性上の不具合につながる危険性がある。Further, since the protective film is formed by stacking a number of layers, thermal distortion is likely to occur and cracks may occur on the protective film. In addition, there is a risk of causing a defect in characteristics.

【０００７】そこで、本発明の目的は、形成プロセスが
簡単で、しかも保護膜を何層にも重なって形成すること
のないカラーフィルタの形成方法を提供することにあ
る。Therefore, an object of the present invention is to provide a method of forming a color filter which has a simple forming process and which does not form a protective film in multiple layers.

【０００８】[0008]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明は、基板上に複数色のカラーフィルタを形成す
るカラーフィルタの形成方法において、前記基板上に単
一の被染色体を形成後、前記被染色体をフォトレジスト
を用いて前記各色毎に選択的に染色してなることを特徴
とする。In order to achieve the above object, the present invention provides a method of forming a color filter for forming a plurality of color filters on a substrate, comprising the steps of forming a single chromosome on the substrate. It is characterized in that the chromosomes are selectively dyed for each color using a photoresist.

【０００９】[0009]

【作用】前述のように、単一の被染色体をフォトレジス
トを用いて複数色に染色するのでプロセスが簡易化され
る。また、被染色体が単一であるため保護膜も一枚で良
く、従来のように複数の保護膜を重ねることが無いの
で、熱的な歪みによるクラックが生じることもなく高信
頼性が得られる。As described above, the process is simplified because a single chromosome is dyed in a plurality of colors using a photoresist. In addition, a single protective film is required because the chromosome is single, and since multiple protective films are not stacked as in the conventional case, high reliability can be obtained without cracks due to thermal strain. ..

【００１０】[0010]

【実施例】本発明の一実施例について、図１（ａ）乃至
（ｅ）を参照して説明する。図１（ａ）乃至（ｅ）は本
実施例によるカラーフィルタの形成方法を示す工程図で
ある。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1A to 1E are process drawings showing a method of forming a color filter according to this embodiment.

【００１１】なお、図２に示す従来例と同一機能部分に
は同一記号を付している。まず、図１（ａ）に示した通
り、周知のウェハプロセス技術を用いてＮ型Ｓｉ単結晶
基板１に並列に形成された各色用の受光ダイオード部２
上に、単一の被染色材７を形成する。The same functional parts as those of the conventional example shown in FIG. 2 are designated by the same symbols. First, as shown in FIG. 1A, the light-receiving diode unit 2 for each color formed in parallel on the N-type Si single crystal substrate 1 using a well-known wafer process technique.
A single material 7 to be dyed is formed on the top.

【００１２】次に、図１（ｂ）に示すように、通常のフ
ォトリソグラフィの技術を用いて、被染色材７上にフォ
トレジスト８を第１色（例えばＲｅｄ）を染色する領域
を除いて基板１上に形成する。Next, as shown in FIG. 1B, the photoresist 8 is dyed on the material 7 to be dyed except for the area for dyeing the first color (for example, Red) by using a normal photolithography technique. It is formed on the substrate 1.

【００１３】次に、図１（ｃ）に示すように、染料を用
いて、被染色材７のレジスト開口部分を染色し、固着処
理を施した後、フォトレジスト８を除去することによっ
て、図１（ｂ）に示すように染色されたカラーフィルタ
を得る。Next, as shown in FIG. 1C, the resist opening portion of the material 7 to be dyed is dyed with a dye, a fixing process is performed, and then the photoresist 8 is removed. A dyed color filter is obtained as shown in 1 (b).

【００１４】以下、上記の工程を繰り返して、図１
（ｅ）に示すように第２色（例えばＧｒｅｅｎ），第３
色（例えばＢｌｕｅ）のカラーフィルタを必要とする領
域の被染色材を各々染色し、３色のカラーフィルタ９，
１０，１１を形成する。Thereafter, the above steps are repeated to obtain the structure shown in FIG.
As shown in (e), the second color (for example, Green), the third color
Each of the materials to be dyed in a region requiring a color filter of a color (for example, Blue) is dyed, and the three color filters
10 and 11 are formed.

【００１５】その後、機械的外力，及び後工程で使用さ
れえる溶剤類等からカラーフィルタを保護する為の保護
膜１２を形成する。After that, a protective film 12 is formed to protect the color filter from mechanical external force, solvents that can be used in the subsequent steps, and the like.

【００１６】以上のように本実施例によるカラーフィル
タの形成方法によれば、単一の被染色体をフォトレジス
トを用いて複数色に染色するので形成プロセスが簡略化
される。As described above, according to the color filter forming method of this embodiment, a single chromosome is dyed in a plurality of colors by using a photoresist, so that the forming process is simplified.

【００１７】また、被染色体が単一であるため被染色体
の保護膜も一枚で良く、従来のように複数の保護膜を重
ねることが無いので熱的な歪みによるクラックが生じる
こともなく高信頼性が得られる。Further, since the chromosome is single, a single protective film for the chromosome is sufficient. Since there is no need to stack a plurality of protective films as in the conventional case, cracks due to thermal strain do not occur and it is high. Reliable.

【００１８】尚、本発明は、カラーフィルタを形成する
基板の種類及び形成するカラーフィルタの色の種類を限
定するものではなく、ガラスや他の素材からなる基板に
カラーフィルタを形成する場合や、２色あるいは４色以
上のカラーフィルタを同一基板上に形成する場合に応用
できる。The present invention does not limit the type of the substrate on which the color filter is formed and the type of color of the color filter to be formed. For example, when the color filter is formed on a substrate made of glass or another material, It can be applied when two or four or more color filters are formed on the same substrate.

【００１９】[0019]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、カ
ラーフィルタの形成プロセスを簡略化できる。また、従
来カラーフィルタを複数枚重ねることによって生じてい
た熱歪みによるクラックを解消でき信頼性を向上でき
る。As described above, according to the present invention, the color filter forming process can be simplified. Further, it is possible to eliminate cracks due to thermal strain, which has been conventionally caused by stacking a plurality of color filters, and to improve reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】（ａ）乃至（ｅ）は本発明の一実施例によるカ
ラーフィルタの形成方法を示す工程図である。1A to 1E are process drawings showing a method of forming a color filter according to an embodiment of the present invention.

【図２】従来例によるカラーフィルタの形成方法を説明
するための断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a method of forming a color filter according to a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 基板 ７ 被染色体 ８ フォトレジスト 1 Substrate 7 Chromosome 8 Photoresist

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 基板上に複数色のカラーフィルタを形成
するカラーフィルタの形成方法において、 前記基板上に単一の被染色体を形成後、前記被染色体を
フォトレジストを用いて前記各色毎に選択的に染色して
なることを特徴とするカラーフィルタの形成方法。1. A method for forming a color filter for forming color filters of a plurality of colors on a substrate, wherein a single chromosome is formed on the substrate, and then the chromosome is selected for each color by using a photoresist. A method for forming a color filter, which is characterized in that the color filter is dyed.