JPH05200577A - Laser beam irradiating method and device - Google Patents
Laser beam irradiating method and deviceInfo
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- JPH05200577A JPH05200577A JP4009275A JP927592A JPH05200577A JP H05200577 A JPH05200577 A JP H05200577A JP 4009275 A JP4009275 A JP 4009275A JP 927592 A JP927592 A JP 927592A JP H05200577 A JPH05200577 A JP H05200577A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ加工機や類似の
装置に使用されるレーザ照射装置及び照射方法に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser irradiation device and an irradiation method used for a laser processing machine or a similar device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、レーザ加工機や類似の装置に使用
されるレーザ照射装置においては、レーザーハンドブッ
ク（p．690 ３４章レーザー加工、１９８２年，オーム
社）に例示されているように、平板鏡の軸回転によりレ
ーザビーム（以下、ビームという）の照射位置を制御し
ていた。2. Description of the Related Art Conventionally, a laser irradiation apparatus used in a laser processing machine or a similar apparatus has a flat plate as exemplified in a laser handbook (p.690, Chapter 34, laser processing, 1982, Ohmsha). The irradiation position of a laser beam (hereinafter referred to as a beam) was controlled by rotating the axis of the mirror.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では、ビ
ームの方向のみが制御されているため、照射位置で焦点
ずれが生じることがあった。また、ビームの照射形状は
制御できなかった。In the above prior art, since only the beam direction is controlled, defocus sometimes occurs at the irradiation position. Further, the irradiation shape of the beam could not be controlled.
【０００４】本発明の第１の課題は、照射位置での焦点
ずれをなくすにある。A first object of the present invention is to eliminate defocus at the irradiation position.
【０００５】本発明の第２の課題は、同時に複数の照射
点に照射するにある。A second object of the present invention is to irradiate a plurality of irradiation points at the same time.
【０００６】本発明の第３の課題は、照射位置でのビー
ムの照射形状を制御するにある。A third object of the present invention is to control the irradiation shape of the beam at the irradiation position.
【０００７】本発明の第４の課題は、レーザ発振器など
で生じる不要な位相変化を取り除き、照射位置精度の低
下を避けることにある。A fourth object of the present invention is to eliminate an unnecessary phase change caused by a laser oscillator or the like and avoid a decrease in irradiation position accuracy.
【０００８】本発明の第５の課題は、照射する物体（以
下、照射体という）の表面状態に合わせてビームを制御
するにある。A fifth object of the present invention is to control the beam in accordance with the surface condition of the object to be irradiated (hereinafter referred to as "irradiator").
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】上記第１、第２及び第３
の課題は、レーザビームを発生するレーザ発振器を備
え、発生したレーザビームを物体に照射するレーザ照射
装置に、物体に照射されるレーザビーム断面を複数の領
域に区分する手段と、該複数の領域のレーザビームの位
相を予め設定された位相情報によってそれぞれ独立に制
御する位相制御手段とを設けることにより達成される。Means for Solving the Problems First, Second, and Third
An object of the present invention is to provide a laser irradiation device that includes a laser oscillator that generates a laser beam, and that irradiates an object with the generated laser beam, and a unit that divides a laser beam cross section irradiated onto the object into a plurality of areas, and And phase control means for independently controlling the phase of the laser beam according to preset phase information.
【００１０】上記第１の課題はまた、レーザ発振器で発
生されたレーザビームを物体の所定の位置に照射するレ
ーザ照射方法において、物体に照射されるレーザビーム
断面を複数の領域に区分し、該複数の領域のレーザビー
ムの位相を予め設定された位相情報によってそれぞれ独
立に制御して全体としてのレーザビームの焦点位置を変
化させることによっても達成される。The first object is also to provide a laser irradiation method of irradiating a predetermined position of an object with a laser beam generated by a laser oscillator, dividing a laser beam cross-section irradiated to the object into a plurality of regions, This can also be achieved by independently controlling the phases of the laser beams in a plurality of regions by preset phase information to change the focal position of the laser beam as a whole.
【００１１】上記第２の課題はまた、レーザ発振器で発
生されたレーザビームを物体の所定の位置に照射するレ
ーザ照射方法において、物体に照射されるレーザビーム
断面を複数の領域に区分し、該複数の領域のレーザビー
ムの位相を予め設定された位相情報によってそれぞれ独
立に制御してレーザビームを同時に複数の方向に照射さ
せることによっても達成される。The second problem is that, in the laser irradiation method of irradiating a predetermined position on an object with a laser beam generated by a laser oscillator, a section of the laser beam irradiated on the object is divided into a plurality of regions, This can also be achieved by controlling the phases of the laser beams in a plurality of regions independently by preset phase information and irradiating the laser beams in a plurality of directions at the same time.
【００１２】上記第３の課題はまた、レーザ発振器で発
生されたレーザビームを物体の所定の位置に照射するレ
ーザ照射方法において、物体に照射されるレーザビーム
断面を複数の領域に区分し、該複数の領域のレーザビー
ムの位相を予め設定された位相情報によってそれぞれ独
立に制御して全体としてのレーザビームが物体を照射す
る形状を制御することによっても達成される。The third object is also to provide a laser irradiation method for irradiating a predetermined position of an object with a laser beam generated by a laser oscillator, by dividing a cross section of the laser beam applied to the object into a plurality of regions, This can also be achieved by independently controlling the phases of the laser beams in a plurality of regions by preset phase information and controlling the shape of the laser beam as a whole that irradiates the object.
【００１３】また上記第４の課題は、請求項１に記載の
レーザ照射装置に、物体に照射されるレーザビーム断面
の位相分布を予め設定された領域区分ごとに測定して実
位相情報として出力する位相検出手段を付加し、位相制
御手段を前記実位相情報と予め設定された位相情報との
偏差を算出し、該偏差が零になるように前記予め設定さ
れた位相情報を補正するものとすることにより達成され
る。A fourth object of the present invention is to provide the laser irradiating device according to the first aspect of the present invention to measure the phase distribution of a laser beam cross-section irradiating an object for each preset area section and output it as actual phase information. Phase detection means is added, and the phase control means calculates a deviation between the actual phase information and preset phase information, and corrects the preset phase information so that the deviation becomes zero. It is achieved by
【００１４】さらに上記第５の課題は、請求項１または
２に記載のレーザ照射装置に、レーザビームで照射され
た物体からのレーザビーム反射波を測定して強度情報と
して出力する検出手段を付加し、位相制御手段を前記強
度情報に基づいて前記予め設定された位相情報を補正す
るものとすることにより達成される。A fifth object of the present invention is to add the detection means for measuring the laser beam reflected wave from the object irradiated with the laser beam and outputting it as intensity information to the laser irradiation device according to the first or second aspect. However, the phase control means corrects the preset phase information based on the intensity information.
【００１５】[0015]
【作用】物体に照射されるレーザビーム断面を複数の領
域に区分する手段と、該複数の領域のレーザビームの位
相を予め設定された位相情報によってそれぞれ独立に制
御する位相制御手段とを設けることにより、ビームの焦
点距離を変えられるので、焦点ずれの発生を回避でき
る。また、ビーム断面の前記複数の領域でのビームの伝
搬方向及び照射点での位相を変えられるので、照射点の
個数及びビームの照射形状を制御できる。There is provided means for dividing the laser beam cross-section irradiated to the object into a plurality of regions, and phase control means for independently controlling the phase of the laser beam in the plurality of regions by preset phase information. As a result, the focal length of the beam can be changed, so that the occurrence of defocus can be avoided. Moreover, since the propagation direction of the beam and the phase at the irradiation point in the plurality of regions of the beam cross section can be changed, the number of irradiation points and the irradiation shape of the beam can be controlled.
【００１６】さらに、物体に照射されるレーザビーム断
面の位相分布を予め設定された領域区分ごとに測定し、
実位相情報として出力する位相検出手段を付加し、位相
制御手段を前記実位相情報と予め設定された位相情報と
の偏差を算出し、該偏差が零になるように前記予め設定
された位相情報を補正するものとすることにより、レー
ザ発振器などで生じる不要な位相変化を取り除き、照射
位置精度の低下を避けることができる。さらに、レーザ
ビームで照射された物体からのレーザビーム反射波を測
定して強度情報として出力する検出手段を付加し、位相
制御手段を前記強度情報に基づいて前記予め設定された
位相情報を補正するものとすることにより、照射体の表
面状態を複数の領域に区分されたビームの位相を制御に
用いられる位相情報に反映できるので、照射体の表面状
態に合わせたビームの制御ができる。Furthermore, the phase distribution of the cross section of the laser beam applied to the object is measured for each preset area section,
Phase detection means for outputting as real phase information is added, phase control means calculates a deviation between the real phase information and preset phase information, and the preset phase information is set so that the deviation becomes zero. By correcting the above, it is possible to remove an unnecessary phase change caused by a laser oscillator or the like, and avoid a decrease in irradiation position accuracy. Further, a detection means for measuring a laser beam reflected wave from an object irradiated with a laser beam and outputting it as intensity information is added, and a phase control means corrects the preset phase information based on the intensity information. By doing so, since the surface condition of the irradiation body can be reflected in the phase information used for control of the phase of the beam divided into a plurality of regions, the beam can be controlled according to the surface condition of the irradiation body.
【００１７】[0017]
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。図１は、本発明の第１の実施例であるレーザ照射
装置により、支持台５上の照射体４を照射する状態を示
すブロック図である。図示のレーザ照射装置は、レーザ
ビームＡを発生するレーザ発振器１と、ビームＡの断面
各点の位相制御量を位相制御信号Ｂとして後述する位相
可変装置２に出力する位相制御装置３と、位相制御信号
ＢによりビームＡの断面各点の位相を変えたビームＣを
照射体４に照射する位相可変装置２と、を含んで構成さ
れる。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing a state of irradiating an irradiation body 4 on a support 5 with a laser irradiation device according to a first embodiment of the present invention. The illustrated laser irradiation device includes a laser oscillator 1 that generates a laser beam A, a phase control device 3 that outputs a phase control amount at each cross-sectional point of the beam A as a phase control signal B to a phase variable device 2 described later, and a phase control device. The phase varying device 2 for irradiating the irradiation body 4 with the beam C in which the phase of each point of the cross section of the beam A is changed by the control signal B.
【００１８】次に、本発明の前記実施例の前記位相可変
装置２について詳細に説明する。図２は、位相可変装置
２の例を示し、直方体をなす反射鏡駆動部１０と、該反
射鏡駆動部１０の一つの面に碁盤目をなして密に配置さ
れたそれぞれが同じ大きさの正方形の複数の反射鏡９−
１〜９−ｎとを含んで構成されている。反射鏡９−１〜
９−ｎが物体に照射されるレーザビーム断面を複数の領
域に区分する手段をなしている。Next, the phase varying device 2 of the embodiment of the present invention will be described in detail. FIG. 2 shows an example of the phase changing device 2. The reflector driving unit 10 which is a rectangular parallelepiped and one of the reflector driving units 10 which are densely arranged in a grid pattern have the same size. Square reflectors 9-
1 to 9-n. Reflector 9-1 ~
9-n is a means for dividing the laser beam cross-section irradiated to the object into a plurality of regions.
【００１９】反射鏡駆動部１０の内部には、図３に示す
ように、個々の反射鏡１１に駆動棒１３を介して接続さ
れ、該反射鏡１１を反射面の法線方向つまりｚ方向に個
別に進退させる複数の駆動装置１２が内装されている。
前記位相制御装置３と駆動装置１２が、複数の領域のレ
ーザビームの位相を、予め設定された位相情報によって
それぞれ独立に制御する位相制御手段をなしている。As shown in FIG. 3, the inside of the reflecting mirror driving section 10 is connected to individual reflecting mirrors 11 via driving rods 13, and the reflecting mirrors 11 are arranged in the normal direction of the reflecting surface, that is, in the z direction. A plurality of drive devices 12 for individually advancing and retracting are installed.
The phase control device 3 and the drive device 12 form a phase control means for independently controlling the phases of the laser beams in a plurality of regions according to preset phase information.
【００２０】上記機構により反射鏡ごとに光路差を生じ
させ、ビームの各反射鏡ごとの位相を変えることができ
る。すなわち、前記位相制御装置３は、各駆動装置１２
に対し、反射鏡１１のｚ方向位置を予め設定された位相
情報である位相制御信号Ｂとして出力し、該位相制御信
号Ｂを受けた駆動装置１２は、駆動棒１３を直線的に軸
方向に動かすことにより、反射鏡１１のｚ方向（軸方
向）位置を指定された位置に変化させるのである。With the above mechanism, an optical path difference can be generated for each reflecting mirror, and the phase of the beam for each reflecting mirror can be changed. That is, the phase control device 3 includes the drive devices 12
On the other hand, the drive device 12 that outputs the z-direction position of the reflecting mirror 11 as a phase control signal B that is preset phase information, and receives the phase control signal B causes the drive rod 13 to move linearly in the axial direction. By moving, the position of the reflecting mirror 11 in the z direction (axial direction) is changed to the designated position.
【００２１】図４、図５および図６を用いて、上記位相
可変装置によりビームの方向及び焦点距離を変化させる
原理を説明する。入射ビームａは、反射鏡１４ａ，１４
ｂおよび１４ｃに垂直に入射され、反射ビームｂとして
反射される。このとき、反射鏡１４ａ，１４ｂおよび１
４ｃにより反射されたビームの等位相面は、ｃ１，ｃ２
およびｃ３となり、これらの等位相面を連ねる反射ビー
ムｂ全体の位相面はｄとなる。The principle of changing the beam direction and the focal length by the phase varying device will be described with reference to FIGS. 4, 5 and 6. The incident beam a is reflected by the reflecting mirrors 14a, 14
It is vertically incident on b and 14c and is reflected as a reflected beam b. At this time, the reflecting mirrors 14a, 14b and 1
The equiphase surfaces of the beam reflected by 4c are c1, c2
And c3, and the phase plane of the entire reflected beam b connecting these equiphase planes is d.
【００２２】図４の場合、反射鏡１４ａ，１４ｂおよび
１４ｃの前記ｚ方向位置はすべて同一位置に設定されて
いて等位相面、ｃ１，ｃ２およびｃ３は同じ位置とな
り、ビーム全体としての位相面ｄは入射ビームａと垂直
になる。すなわち、反射ビームｂは入射ビームａと平行
になる。In the case of FIG. 4, the positions of the reflecting mirrors 14a, 14b and 14c in the z direction are all set to the same position and the equal phase planes, c1, c2 and c3 are the same position, and the phase plane d of the entire beam is set. Is perpendicular to the incident beam a. That is, the reflected beam b becomes parallel to the incident beam a.
【００２３】図５においては、反射鏡１４ａ，１４ｂお
よび１４ｃの前記ｚ方向位置が反射鏡１４ａ，１４ｂ，
１４ｃの順に少しづつ後退する位置に設定されていて、
位相面ｄが傾いており、反射ビームｂは入射ビームａと
平行にならず、方向を変える。つまり、反射鏡１４ａ，
１４ｂ，１４ｃの前記ｚ方向の位置のずれ量を変えるこ
とにより反射ビームｂの方向、すなわち照射位置を変更
できる。In FIG. 5, the z-direction positions of the reflecting mirrors 14a, 14b and 14c are the reflecting mirrors 14a, 14b,
14c is set to a position where it retreats little by little,
The phase plane d is tilted so that the reflected beam b is not parallel to the incident beam a and changes direction. That is, the reflecting mirror 14a,
The direction of the reflected beam b, that is, the irradiation position can be changed by changing the shift amount of the positions of 14b and 14c in the z direction.
【００２４】図６においては、反射鏡１４ｂが反射鏡１
４ａ，１４ｃよりも後退した位置にあり、ビーム全体と
しての位相面ｄが曲率を持つため、反射ビームｂの焦点
距離が変化する。つまり、反射鏡１４ａおよび１４ｃに
対する反射鏡１４ｂの前記ｚ方向の相対位置を変化させ
ることにより、反射ビームｂの焦点距離を自由に変える
ことができるのである。In FIG. 6, the reflecting mirror 14b is the reflecting mirror 1.
Since the phase plane d as a whole beam has a curvature at a position retracted from the positions 4a and 14c, the focal length of the reflected beam b changes. That is, the focal length of the reflected beam b can be freely changed by changing the relative position of the reflecting mirror 14b in the z direction with respect to the reflecting mirrors 14a and 14c.
【００２５】上述のように、本実施例によれば、上記図
５に示す手法と図６に示す手法とをくみあわせることに
より、照射位置の変化に伴う焦点ずれを起こすことな
く、ビームの照射位置を変化させることができる。ま
た、照射ビーム断面を複数の領域にわけ、各領域に対応
する反射鏡グループごとに図４、図５の原理にもとずい
て独立に位相制御することにより、同時に複数の照射位
置に照射することができる。さらに、上記方法による複
数の照射ビームを重ね合わせることにより、照射点での
照射ビームの形状を制御することができる。As described above, according to the present embodiment, by combining the method shown in FIG. 5 and the method shown in FIG. 6, the beam irradiation is performed without defocusing due to the change of the irradiation position. The position can be changed. Further, the irradiation beam cross section is divided into a plurality of regions, and the phase is controlled independently for each reflecting mirror group corresponding to each region based on the principle of FIGS. 4 and 5, so that a plurality of irradiation positions are simultaneously irradiated. be able to. Furthermore, the shape of the irradiation beam at the irradiation point can be controlled by superimposing a plurality of irradiation beams by the above method.
【００２６】以上のような作用により、本実施例を適用
したレーザ加工機において、加工工程数の低減、加工時
間の短縮の効果が得られる。With the above operation, the laser processing machine to which the present embodiment is applied has the effect of reducing the number of processing steps and processing time.
【００２７】図７を用いて本発明の第２の実施例につい
て説明する。本実施例は、図１に示す第１の実施例の構
成に、位相可変装置２より射出されたビームＣをビーム
ＤとビームＥに分離し、ビームＤを照射体４に照射し、
ビームＥを位相検出器７に出力するビームスプリッター
６と、ビームＥの断面における位相を前記位相可変装置
２の各反射鏡の位置に対応する領域ごとに検出し、検出
した実位相情報Ｆを位相制御装置３に出力する位相検出
手段である位相検出装置７とを付加し、位相制御装置３
を、入力される実位相情報Ｆより目的とする位相可変量
と実際の位相可変量の差を求め、位相制御信号Ｂを補正
して出力するものとしたものである。位相検出器７の例
としては、ハルトマン位相検出器、シェアリング位相検
出器などがある。A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the present embodiment, in addition to the configuration of the first embodiment shown in FIG. 1, the beam C emitted from the phase varying device 2 is separated into a beam D and a beam E, and the beam D is applied to the irradiation body 4,
The beam splitter 6 that outputs the beam E to the phase detector 7 and the phase in the cross section of the beam E are detected for each region corresponding to the position of each reflecting mirror of the phase varying device 2, and the detected actual phase information F is phased. The phase control device 3 is added with a phase detection device 7 which is a phase detection means for outputting to the control device 3.
Is to obtain the difference between the target phase variable amount and the actual phase variable amount from the input actual phase information F, and correct and output the phase control signal B. Examples of the phase detector 7 include a Hartmann phase detector and a sharing phase detector.
【００２８】本実施例によれば、レーザ発振器などの位
相可変装置以外で生じる不要な位相変化を補正すること
が可能となり、照射位置の精度が向上する。また、位相
可変装置の位相制御不足を補正することができる。According to the present embodiment, it becomes possible to correct unnecessary phase changes that occur in other than the phase varying device such as the laser oscillator, and the accuracy of the irradiation position is improved. In addition, it is possible to correct insufficient phase control of the phase varying device.
【００２９】図８を用いて本発明の第３の実施例につい
て説明する。本実施例は、図１に示す第１の実施例の構
成に、照射体４よりの反射波Ｇを検出し、反射波の強度
情報（照度、温度等）Ｈを位相制御装置３に出力する検
出手段である光検出器８を付加し、位相制御装置３を、
前記強度情報Ｈの変化により照射体の融解等の表面状態
変化を検出し、照射位置の走査（照射位置の移動、絞り
込み）等の制御をするものとしたものである。光検出器
８としては、例えばＣＣＤが適用される。A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the present embodiment, in addition to the configuration of the first embodiment shown in FIG. 1, the reflected wave G from the irradiation body 4 is detected and the intensity information (illuminance, temperature, etc.) H of the reflected wave is output to the phase controller 3. A photodetector 8 as a detection means is added, and the phase control device 3 is
A change in the surface state such as melting of the irradiation body is detected by the change in the intensity information H, and scanning of the irradiation position (movement of irradiation position, narrowing down) and the like are controlled. For example, a CCD is applied as the photodetector 8.
【００３０】本実施例によれば、照射点の表面状態に合
わせたビームの制御ができる。また、光検出器８の代わ
りにビデオモニターを設けることにより、照射体の凹凸
や融解等による形状変化に合わせたビーム焦点距離の制
御も可能である。According to this embodiment, the beam can be controlled according to the surface condition of the irradiation point. Further, by providing a video monitor instead of the photodetector 8, it is possible to control the beam focal length according to the shape change due to unevenness or melting of the irradiation body.
【００３１】[0031]
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、焦点
ずれなく照射点の位置を制御することができる。また、
複数の照射点に照射できる。さらに、ビームの照射形状
を制御できる。As described above, according to the present invention, the position of the irradiation point can be controlled without defocusing. Also,
It is possible to irradiate multiple irradiation points. Further, the irradiation shape of the beam can be controlled.
【図１】本発明の第１の実施例を示すブロック図であ
る。FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of the present invention.
【図２】図１に示す実施例の部分を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a part of the embodiment shown in FIG.
【図３】図１に示す実施例の部分の詳細を示す斜視図で
ある。FIG. 3 is a perspective view showing details of a portion of the embodiment shown in FIG.
【図４】本発明の原理を示す概念図である。FIG. 4 is a conceptual diagram showing the principle of the present invention.
【図５】本発明の原理を示す概念図である。FIG. 5 is a conceptual diagram showing the principle of the present invention.
【図６】本発明の原理を示す概念図である。FIG. 6 is a conceptual diagram showing the principle of the present invention.
【図７】本発明の第２の実施例を示すブロック図であ
る。FIG. 7 is a block diagram showing a second embodiment of the present invention.
【図８】本発明の第３の実施例を示すブロック図であ
る。FIG. 8 is a block diagram showing a third embodiment of the present invention.
１ レーザ発振器 ２ 位相可変装置 ３ 位相制御装置 ４ 照射体 ５ 照射体を支持する支持台 ６ ビームスプリッター ７ 位相検出器 ８ 光検出器 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laser oscillator 2 Phase changing device 3 Phase control device 4 Irradiation body 5 Supporting platform for supporting irradiation body 6 Beam splitter 7 Phase detector 8 Photodetector
Claims (6)
備え、発生したレーザビームを物体に照射するレーザ照
射装置において、物体に照射されるレーザビーム断面を
複数の領域に区分する手段と、該複数の領域のレーザビ
ームの位相を予め設定された位相情報によってそれぞれ
独立に制御する位相制御手段とを設けたことを特徴とす
るレーザ照射装置。1. A laser irradiation apparatus comprising a laser oscillator for generating a laser beam, for irradiating an object with the generated laser beam, and means for dividing a cross section of the laser beam with which the object is irradiated into a plurality of regions; A laser irradiation apparatus, comprising: a phase control unit that independently controls the phase of a laser beam in a region based on preset phase information.
相分布を予め設定された領域区分ごとに測定し、実位相
情報として出力する位相検出手段を付加し、位相制御手
段は前記実位相情報と予め設定された位相情報との偏差
を算出し、該偏差が零になるように前記予め設定された
位相情報を補正するものであることを特徴とする請求項
１に記載のレーザ照射装置。2. A phase detecting means for measuring a phase distribution of a laser beam cross-section irradiating an object for each preset area section and outputting it as real phase information is added, and the phase controlling means is provided with the real phase information. The laser irradiation apparatus according to claim 1, wherein a deviation from preset phase information is calculated, and the preset phase information is corrected so that the deviation becomes zero.
ーザビーム反射波を測定し、強度情報として出力する検
出手段を付加し、位相制御手段は前記強度情報に基づい
て前記予め設定された位相情報を補正するものであるた
ことを特徴とする請求項１または２に記載のレーザ照射
装置。3. A detection means for measuring a laser beam reflected wave from an object irradiated with a laser beam and outputting it as intensity information is added, and the phase control means uses the preset phase information based on the intensity information. The laser irradiation apparatus according to claim 1, wherein the laser irradiation apparatus corrects
を物体の所定の位置に照射するレーザ照射方法におい
て、物体に照射されるレーザビーム断面を複数の領域に
区分し、該複数の領域のレーザビームの位相を予め設定
された位相情報によってそれぞれ独立に制御して全体と
してのレーザビームの焦点位置を変化させることを特徴
とするレーザ照射方法。4. A laser irradiation method for irradiating a predetermined position of an object with a laser beam generated by a laser oscillator, wherein a cross section of a laser beam applied to the object is divided into a plurality of areas, and the laser beam of the plurality of areas is divided. The laser irradiation method is characterized in that the focus position of the laser beam as a whole is changed by independently controlling the phase of the laser beam according to preset phase information.
を物体の所定の位置に照射するレーザ照射方法におい
て、物体に照射されるレーザビーム断面を複数の領域に
区分し、該複数の領域のレーザビームの位相を予め設定
された位相情報によってそれぞれ独立に制御してレーザ
ビームを同時に複数の方向に照射させることを特徴とす
るレーザ照射方法。5. A laser irradiation method for irradiating a predetermined position on an object with a laser beam generated by a laser oscillator, wherein a section of a laser beam irradiated on the object is divided into a plurality of regions, and the laser beam in the plurality of regions is divided. The method of irradiating a laser beam in a plurality of directions at the same time by controlling the phase of each of them independently according to preset phase information.
を物体の所定の位置に照射するレーザ照射方法におい
て、物体に照射されるレーザビーム断面を複数の領域に
区分し、該複数の領域のレーザビームの位相を予め設定
された位相情報によってそれぞれ独立に制御して全体と
してのレーザビームが物体を照射する形状を制御するこ
とを特徴とするレーザ照射方法。6. A laser irradiation method for irradiating a predetermined position of an object with a laser beam generated by a laser oscillator, wherein a section of a laser beam irradiated on the object is divided into a plurality of regions, and the laser beam of the plurality of regions is divided. The method for irradiating a laser is controlled independently of each other according to preset phase information to control the shape of the laser beam irradiating the object as a whole.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4009275A JPH05200577A (en) | 1992-01-22 | 1992-01-22 | Laser beam irradiating method and device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4009275A JPH05200577A (en) | 1992-01-22 | 1992-01-22 | Laser beam irradiating method and device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05200577A true JPH05200577A (en) | 1993-08-10 |
Family
ID=11715915
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4009275A Pending JPH05200577A (en) | 1992-01-22 | 1992-01-22 | Laser beam irradiating method and device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05200577A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998006676A1 (en) * | 1996-08-13 | 1998-02-19 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | LASER MACHINING METHOD FOR GlASS SUBSTRATE, DIFFRACTION TYPE OPTICAL DEVICE FABRICATED BY THE MACHINING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL DEVICE |
-
1992
- 1992-01-22 JP JP4009275A patent/JPH05200577A/en active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998006676A1 (en) * | 1996-08-13 | 1998-02-19 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | LASER MACHINING METHOD FOR GlASS SUBSTRATE, DIFFRACTION TYPE OPTICAL DEVICE FABRICATED BY THE MACHINING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL DEVICE |
| EP0959051A4 (en) * | 1996-08-13 | 1999-12-15 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Laser machining method for glass substrate, diffraction type optical device fabricated by the machining method, and method of manufacturing optical device |
| US6291797B1 (en) | 1996-08-13 | 2001-09-18 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Laser machining method for glass substrate, diffraction type optical device fabricated by the machining method, and method of manufacturing optical device |
| US6645603B2 (en) | 1996-08-13 | 2003-11-11 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Laser processing method to a glass substrate and an optical diffraction element obtained thereby, and a method for manufacturing optical elements |
| US6924457B2 (en) | 1996-08-13 | 2005-08-02 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Laser processing method to a class substrate and an optical diffraction element obtained thereby, and a method for manufacturing optical elements |
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