JPH05176128A - Recorder - Google Patents
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- JPH05176128A JPH05176128A JP3084660A JP8466091A JPH05176128A JP H05176128 A JPH05176128 A JP H05176128A JP 3084660 A JP3084660 A JP 3084660A JP 8466091 A JP8466091 A JP 8466091A JP H05176128 A JPH05176128 A JP H05176128A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
- B41J2/473—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror using multiple light beams, wavelengths or colours
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- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ディジタル複写機、レ
ーザービームプリンター等の、光ビームで画像の書き込
みを行う記録装置に関し、特にマルチビーム半導体レー
ザーアレイのような複数の発光源を有する光源部を用
い、被走査面を同時に複数の光ビームで走査して情報を
記録する記録装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a recording apparatus for writing an image with a light beam, such as a digital copying machine or a laser beam printer, and more particularly to a light source section having a plurality of light emitting sources such as a multi-beam semiconductor laser array. The present invention relates to a recording apparatus for recording information by scanning a surface to be scanned with a plurality of light beams simultaneously.
【０００２】[0002]
【従来の技術】例えば、レーザービームプリンターにお
いては、半導体レーザーからのレーザービームがポリゴ
ンスキャナーと呼ばれる回転多面鏡に照射され、回転多
面鏡からの反射ビームが一定速度で移動する帯電された
感光体の表面に照射される。回転多面鏡の回転によりレ
ーザービームは感光体の移動方向と垂直な方向に走査さ
れる。レーザービームは出力すべき画像に応じて変調さ
れるので、感光体上には静電潜像が形成され、この静電
潜像が現像されて可視のトナー像となる。このようなレ
ーザービームプリンターにおいては、出力画像の精細度
を高めるためには走査線の間隔を狭くする必要がある。
また高速で画像を出力するためには走査速度を高める必
要がある。このレーザービームプリンターの高精細度
化、高速化において最も問題となるのはポリゴンスキャ
ナーの回転速度に限界があることである。2. Description of the Related Art For example, in a laser beam printer, a laser beam from a semiconductor laser is applied to a rotating polygon mirror called a polygon scanner, and a reflected beam from the rotating polygon mirror moves at a constant speed. The surface is illuminated. The laser beam is scanned in the direction perpendicular to the moving direction of the photoconductor by the rotation of the rotary polygon mirror. Since the laser beam is modulated according to the image to be output, an electrostatic latent image is formed on the photoconductor, and this electrostatic latent image is developed into a visible toner image. In such a laser beam printer, it is necessary to narrow the interval between scanning lines in order to increase the definition of the output image.
Further, in order to output an image at high speed, it is necessary to increase the scanning speed. The most problematic issue in achieving high definition and high speed of this laser beam printer is that the rotation speed of the polygon scanner is limited.
【０００３】この問題を解決するために複数のレーザー
ビームによって被走査面を一度に走査するマルチビーム
スキャン方式が提案されている。このマルチビームスキ
ャン方式にあっては当然のことながら、複数のレーザー
ビームスポットをポリゴンスキャナーによる走査方向
（以下、主走査方向と呼ぶ）と垂直な方向（以下、副走
査方向と呼ぶ）に充分近接させなくてはならない。この
ために、複数の半導体レーザーを近接させて製造する努
力がなされており、現在１０μｍ間隔まで近接させた半
導体レーザーアレイが試作されている（たとえば特開平
２ー３９５８３号公報、Ｒ．Ｌ．Ｔｈｏｒｎｔｏｎ ｅ
ｔ． ａｌ．， “Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆ ｃｌｏ
ｓｅｌｙ ｓｐａｃｅｄ ｉｎｄｉｅｐｅｎｄｅｎｔｌ
ｙ ａｄｄｒｅｓｓａｂｌｅ ｌａｓｅｒｓ ｆａｂｌ
ｉｃａｔｅｄ ｂｙ ｉｍｐｕｒｉｔｙ−ｉｎｄｕｃｅ
ｄ ｄｉｓｏｒｄｅｒｉｎｇ”， Ａｐｐｌ． Ｐｈｙ
ｓ． Ｌｅｔｔ． ５６（１７）， １６２３−１６２
５（１９９０）等参照）。To solve this problem, a multi-beam scanning method has been proposed in which the surface to be scanned is scanned at once with a plurality of laser beams. As a matter of course, in this multi-beam scanning method, a plurality of laser beam spots are sufficiently close to the direction perpendicular to the scanning direction of the polygon scanner (hereinafter referred to as the main scanning direction) (hereinafter referred to as the sub-scanning direction). I have to let them do it. For this reason, efforts have been made to manufacture a plurality of semiconductor lasers close to each other, and at present, a semiconductor laser array in which a plurality of semiconductor lasers are arranged close to each other by 10 μm is being prototyped (for example, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2-39583, RL Thornton). e
t. al. , "Properties of clo
sely spaced inpendentl
y addressable lasers fabl
icated by importance-induce
d disordering ", Appl. Phy
s. Lett. 56 (17), 1623-162
5 (1990) etc.).
【０００４】しかしながら、上記公報等に開示されてい
る技術を使い、複数の半導体レーザーを１０μｍまで近
接させたとしても副走査方向に隙間なく走査するにはま
だ不足である。これを補うための手段として飛び越し走
査によって、副走査方向の隙間を埋めていく方法が考案
されている（特開昭５６ー１１０９６０号公報参照）。
また、１０μｍ間隔の半導体レーザーアレイを用いて飛
び越し走査によって、副走査方向の隙間を埋めていくマ
ルチビーム走査光学系が考案され、本出願人より特願平
２ー４４４３５号として出願されている。However, even if a plurality of semiconductor lasers are brought close to each other up to 10 μm by using the technique disclosed in the above-mentioned publications, it is still insufficient to scan in the sub-scanning direction without a gap. As a means for compensating for this, there has been devised a method of filling a gap in the sub-scanning direction by interlaced scanning (see Japanese Patent Laid-Open No. 56-110960).
In addition, a multi-beam scanning optical system has been devised which fills a gap in the sub-scanning direction by interlaced scanning using a semiconductor laser array with a 10 μm interval, and has been filed by the applicant as Japanese Patent Application No. 2-44435.
【０００５】飛び越し走査の一例を図６に示す。この例
では、２本のレーザービームＬ1，Ｌ2によって飛び越し
走査を行っている。図６において、ｄxは電子写真的に
定義されるレーザースポット径である（以下、電子写真
的スポット径と呼ぶ）。電子写真的スポット径とは、被
走査面Ａ上のレーザースポットの径そのものではなく、
帯電された感光体である被走査面Ａ上にレーザー露光に
より形成された静電潜像が現像されたときに現れるスポ
ットの径を意味する。２本のレーザービームＬ1，Ｌ2に
よって被走査面Ａ上に結像する２つのスポットＢ1，Ｂ2
の中心の間隔ｒ3は３ｄxである。１回の主走査毎に２ｄ
xだけ副走査が行われるので、図６中に示されるように
１回目の走査でレーザービームＬ2によって第２走査ラ
インが走査され、２回目の走査でレーザービームＬ1に
よって第１走査ライン、レーザービームＬ2によって第
４走査ラインが走査されるというように以下順次隙間な
く走査されていくことになる。すなわち、各回の走査で
は隙間が生じるのであるが、ある回で走査した走査ライ
ンを次回の走査では飛び越して走査していくことによ
り、全体としては隙間なく走査される。FIG. 6 shows an example of interlaced scanning. In this example, interlaced scanning is performed by two laser beams L 1 and L 2 . In FIG. 6, d x is a laser spot diameter that is electrophotographically defined (hereinafter referred to as an electrophotographic spot diameter). The electrophotographic spot diameter is not the diameter of the laser spot on the surface A to be scanned,
It means the diameter of the spot that appears when the electrostatic latent image formed by laser exposure on the surface to be scanned A, which is a charged photoreceptor, is developed. Two spots B 1 and B 2 imaged on the surface A to be scanned by the two laser beams L 1 and L 2.
The center spacing r 3 is 3d x . 2d for each main scan
Since the sub-scan is performed by x , as shown in FIG. 6, the second scan line is scanned by the laser beam L 2 in the first scan and the first scan line is scanned by the laser beam L 1 in the second scan, The fourth scanning line is scanned by the laser beam L 2 , and the scanning is sequentially performed without a gap. That is, although a gap is generated in each scanning, the scanning line scanned in a certain time is skipped in the next scanning, so that the entire scanning is performed without a gap.
【０００６】飛び越し走査において重複走査や、走査さ
れない部分が生じないためには次の３条件を満たす必要
がある。 １）１回の主走査につきレーザービーム数ｎに対してｎ
ｄxだけ副走査されなくてはならない。 ２）２つのレーザービームの被走査面上における間隔ｒ
3は電子写真的スポット径の整数倍でなくてはならな
い。 ３）ある回の主走査で走査された走査ラインは他の回の
主走査で走査されてはいけない。 この３条件の内第３番目の条件が成り立つには、レーザ
ービーム光源の数をｎ個、レーザービーム光源の間隔ｒ
、結像光学系の副走査方向の横倍率をβ、走査ピッチｐ
とした時に次式を満たせば良いことが知られている（特
開昭５６ー１１０９６０号公報）。 ｐ＝β・ｒ／（ｍｎ＋１） …………式（１） ただし、ｍはｍ≧０の整数である。式（１）において、
ｍ＝０の場合は飛び越し走査ではなく、隣接するスポッ
トが副走査方向に密に並んでいる状態である。なお、特
開昭５６ー１１０９６０号公報においては式（１）のｎ
に対応する文字としてＭ、ｒに対応する文字としてｐo
がそれぞれ用いられている。なお、走査ラインの最小間
隔を走査ピッチと呼び図６ではｐで表している。１つの
レーザービームの走査で被走査面を隙間なく走査するた
めには、ピッチは電子写真的レーザービームスポット径
に等しく一般的にはｐ＝ｄxである。被走査面上のマル
チビームレーザーのスポット間隔β・ｒはβ・ｒ＝Ｉ・
ｐで表され、このＩ（正の整数）を走査次数と呼ぶ。The following three conditions must be satisfied in order to prevent overlapping scans and unscanned portions from occurring in interlaced scans. 1) n for the number of laser beams n in one main scan
It must be sub-scanned by d x . 2) Distance r between two laser beams on the surface to be scanned
3 must be an integral multiple of the electrophotographic spot diameter. 3) A scan line scanned in one main scan must not be scanned in another main scan. In order to satisfy the third condition of these three conditions, the number of laser beam light sources is n, and the distance r between the laser beam light sources is r.
, Β is the lateral magnification of the imaging optical system in the sub-scanning direction, and scanning pitch p
It has been known that the following formula should be satisfied in such a case (Japanese Patent Laid-Open No. 56-110960). p = βr / (mn + 1) (1) where m is an integer of m ≧ 0. In equation (1),
When m = 0, the spots are not interlaced and adjacent spots are densely arranged in the sub-scanning direction. In JP-A-56-110960, n of the formula (1)
M as the character corresponding to, and p o as the character corresponding to r
Are used respectively. The minimum interval between scanning lines is called a scanning pitch and is represented by p in FIG. In order to scan the surface to be scanned with one laser beam without gaps, the pitch is equal to the electrophotographic laser beam spot diameter, and generally p = d x . The spot spacing β · r of the multi-beam laser on the surface to be scanned is β · r = I ·
It is represented by p, and this I (a positive integer) is called a scan order.
【０００７】レーザービームのスポット径は一般には光
の振幅がスポット中心の１／ｅ（パワーでは１／ｅ2）
となる直径で定義される（このように定義されるスポッ
ト径を以下光学的スポット径と呼びｄoで表す）。図７
は光学的スポット径と電子写真スポット径の関係を示す
図である。なお、図７においては、レーザービーム光の
主線上の光強度を１に規格化している。光学的スポット
径ｄoと電子写真的スポット径ｄxとの比をスポット径補
正係数と呼び、ｋで表し次式のように定義する。 ｋ＝ｄo/ｄx ｋの値は用いる電子写真のプロセスによって異なる。光
の当たった部分にトナーを付着させる反転現像のプロセ
スでは、１．４≦ｋ≦１．６が望ましく、光の当たらな
い部分にトナーを付着させる正転現像のプロセスでは、
１．５≦ｋ≦１．８が望ましいことが知られている（田
中：”レーザーゼログラフィーにおける階調再現の検討
“、第６回色彩工学コンファレンス、Ｐ７７−Ｐ８０
（１９８９）参照）。The spot diameter of the laser beam is generally such that the amplitude of the light is 1 / e of the center of the spot (1 / e 2 for power).
Is defined as a diameter (the spot diameter thus defined is hereinafter referred to as an optical spot diameter and is represented by d o ). Figure 7
FIG. 3 is a diagram showing a relationship between an optical spot diameter and an electrophotographic spot diameter. In addition, in FIG. 7, the light intensity on the main line of the laser beam light is normalized to 1. The ratio between the optical spot diameter d o and the electrophotographic spot diameter d x is called the spot diameter correction coefficient, which is represented by k and is defined by the following equation. The value of k = d o / d x k depends on the electrophotographic process used. In the reversal development process in which the toner is attached to the light-exposed portion, 1.4 ≦ k ≦ 1.6 is desirable, and in the normal rotation development process in which the toner is attached to the non-light-exposed portion,
It is known that 1.5 ≦ k ≦ 1.8 is desirable (Tanaka: “Study on gradation reproduction in laser xerography”, 6th Color Engineering Conference, P77-P80.
(1989)).
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】ところで、前述の飛び
越し走査によれば被走査面上において、結像スポット間
隔をいくら広くとったとしても、適切な前記整数ｍを選
べば良いように思われる。しかしながら、実際には結像
スポット間隔を広く取った場合、走査装置に要求される
機械的精度が著しく高精度になるという問題があった。
以下その理由を説明する。By the way, according to the above-mentioned interlaced scanning, it seems that no matter how wide the imaging spot interval is made on the surface to be scanned, the appropriate integer m should be selected. However, in actuality, when the distance between the image forming spots is wide, there is a problem that the mechanical accuracy required for the scanning device becomes extremely high.
The reason will be described below.
【０００９】図９に示すようにひとつのスポットＢで被
走査面上を走査している場合において走査面上のピッチ
ｐはある誤差Δｐ内になくてはならないとすると、副走
査方向の速度の許容誤差率δoは次式で表されることに
なる。 δo＝Δｖ／ｖ＝Δｐ／ｐ ただし、ｖは副走査の速度、Δｖは副走査の速度誤差で
ある。図１０に示すようなｎ＝４、前記整数ｍ＝１の場
合の許容誤差率はδ4,1＝Δｐ／１６ｐ＝δo／１６とな
り、図９の場合に比べて一桁以上高い精度が要求される
ことになる。この傾向は光源の数ｎ及び、前記整数ｍの
増加に伴い顕著になる。以上、副走査方向の速度の許容
誤差について述べたが、このことは副走査の速度誤差の
みならず、光学系の横倍率の精度、光源の間隔の寸法精
度についても同様の問題が発生する。As shown in FIG. 9, when one spot B is used to scan the surface to be scanned, the pitch p on the scanning surface must be within a certain error Δp. The allowable error rate δ o is expressed by the following equation. δ o = Δv / v = Δp / p where v is the sub-scanning speed and Δv is the sub-scanning speed error. When n = 4 and the integer m = 1 as shown in FIG. 10, the permissible error rate is δ 4,1 = Δp / 16p = δ o / 16, which is higher than the accuracy of FIG. 9 by one digit or more. Will be required. This tendency becomes remarkable as the number n of light sources and the integer m increase. Although the allowable error in the speed in the sub-scanning direction has been described above, this causes not only the speed error in the sub-scanning, but also the accuracy of the lateral magnification of the optical system and the dimensional accuracy of the distance between the light sources.
【００１０】これらの問題を解決するためには可能な範
囲でなるべく結像スポット間隔を狭くすることが望まし
いことは明らかである。前述の（１）式においては、ｍ
＝０の場合が最も結像スポット間隔が小さいのである
が、前述のようにｍ＝０の時は飛び越し走査ではない。
したがって、前述の（１）式においてｍ＝１の時が実質
的に結像スポット間隔が最少となり、その時の被走査面
上の隣接する結像スポットの間隔β・ｒは（ｎ＋１）ｐ
となり、光源の数ｎの増加に比例して増加する。以上の
ことから、光源の数ｎ、前記整数ｍの場合に必要となる
許容誤差率δn,mは次式のような関係を有することが計
算される。 δn,m■δn,1＝δo／ｎ2…………式（２） これは、図８に模式的に示すようにｍ＝１の時は個々の
結像スポットの間隔が（ｎ＋１）ｐとなるため、最も離
れた結像スポットの間隔が（ｎ2−１）・ｐとなり、１
回目で走査された最後尾スポットＢとｎ回目で走査され
た先頭スポットＣとが隣接するからである。In order to solve these problems, it is clear that it is desirable to make the image forming spot interval as narrow as possible. In the above formula (1), m
The image forming spot interval is smallest when = 0, but as described above, when m = 0, interlaced scanning is not performed.
Therefore, in the above equation (1), when m = 1, the image forming spot interval is substantially the minimum, and the interval β · r between the adjacent image forming spots on the surface to be scanned at that time is (n + 1) p.
And increases in proportion to the increase in the number n of light sources. From the above, it is calculated that the allowable error rate δ n, m required in the case of the number of light sources n and the integer m has the following relationship. δ n, m ■ δ n, 1 = δ o / n 2 (2) As shown schematically in FIG. 8, when m = 1, the distance between the individual imaging spots is ( Since n + 1) p, the distance between the most distant imaging spots is (n 2 −1) · p, which is 1
This is because the trailing spot B scanned at the ninth time and the leading spot C scanned at the nth time are adjacent to each other.
【００１１】また、結像スポット間隔を広くし、その間
を隙間なく埋めるためにビームで複数回の走査を行うた
めには飛び越す走査線の数が増えるほど飛び越し走査を
電気的に制御するのに必要な高速のメモリー量が増える
という問題もあった。本発明は、前記問題点を解決する
ために案出されたものであって、結像スポット間隔を小
さくし、走査向学系に要求される精度を緩和し、従来よ
り簡単な走査光学で同等以上の飛び越し走査が可能な記
録装置を提供することを目的とする。Further, in order to widen the image forming spot interval and perform a plurality of scannings with a beam to fill the gaps without gaps, it is necessary to electrically control the interlaced scanning as the number of interlaced scanning lines increases. There was also the problem that the amount of high-speed memory increases. The present invention has been devised in order to solve the above-mentioned problems, and reduces the imaging spot interval, relaxes the accuracy required for a scanning optical system, and is equivalent to the conventional scanning optics. It is an object of the present invention to provide a recording apparatus capable of the above interlaced scanning.
【００１２】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明は前記目的を達成
するために、互いに独立に駆動が可能なｎ個の発光源を
有する光源部と、該光源部からの光束を感光媒体面に結
像する光学系と、前記光源部からの複数の光束を所定の
方向に偏向する偏向器とを有し、前記感光媒体面を複数
の光束で同時に走査する記録装置において、前記光源部
はｎ個の発光源がｒなる間隔で副走査方向に配列され、
前記結像光学系の横倍率をβとし、ｎがｎ≧３の整数
で、走査次数Ｉがｎと互いに素で、２≦Ｉ≦ｎ−１の範
囲の整数とした場合に、感光媒体面での隣り合った走査
線の間隔ｐが、 ｐ＝（β・ｒ）／Ｉ であることを特徴とする。特に前記発光源の数ｎが奇数
の場合は走査次数Ｉが２のときには、スポットの数ｎに
よらずスポット間隔を等しくすることができ、製造が容
易にできるという効果がある。また、特に前記発光源の
数ｎが偶数の場合には走査次数Ｉが前記発光源の数ｎと
互いに素である最小の自然数であれば効果がある。例え
ば、発光源の数ｎが４の場合はＩは３，発光源の数ｎが
６の時はＩは５であれば効果がある。In order to achieve the above object, the present invention connects a light source section having n light emitting sources which can be driven independently of each other and a light beam from the light source section to a photosensitive medium surface. In a recording apparatus having an optical system for forming an image and a deflector for deflecting a plurality of light fluxes from the light source section in a predetermined direction, and simultaneously scanning the photosensitive medium surface with the plurality of light fluxes, n light source sections are provided. Light emitting sources are arrayed in the sub-scanning direction at intervals r.
When the lateral magnification of the imaging optical system is β, n is an integer of n ≧ 3, the scanning order I is relatively prime to n, and an integer in the range of 2 ≦ I ≦ n−1, the photosensitive medium surface is The interval p between adjacent scanning lines in is p = (β · r) / I. Particularly, when the number n of the light emitting sources is an odd number and the scanning order I is 2, the spot intervals can be made equal regardless of the number n of the spots, and there is an effect that the manufacturing can be facilitated. Further, particularly when the number n of the light emitting sources is an even number, it is effective if the scan order I is the smallest natural number that is relatively prime to the number n of the light emitting sources. For example, when the number n of light emitting sources is 4, I is 3, and when the number n of light emitting sources is 6, I is 5, which is effective.
【００１３】[0013]
【作用】被走査面上の隣接する結像スポットの間隔β・
ｒを走査ピッチｐで除したものを走査次数Ｉと定義する
と、光源の数ｎとこの走査次数Ｉとが互いに素、すなわ
ち、Ｉとｎの最大公約数が１であるならば飛び越し走査
が可能であり、式（１）で表されるよりも小さい光源の
間隔ｒにおいても飛び越し走査が成り立ち得る。Ｉの定
義を式（３）に示す。 Ｉ＝（β・ｒ）／ｐ …………式（３） この定義に基づいて式（３）を書き直すと式（４）とな
り、この場合に飛び越し走査が可能である。 β・ｒ＝Ｉ・ｐ …………式（４） （但しＩはｎと互いに素な整数）式（４）と式（１）を
比較し、各々の条件での飛び越し走査可能な場合の特性
を比較する。[Function] Space β between adjacent imaging spots on the surface to be scanned
If r is divided by the scanning pitch p to define the scanning order I, the number n of light sources and this scanning order I are relatively prime, that is, interlaced scanning is possible if the greatest common divisor of I and n is 1. Therefore, the interlaced scanning can be established even at a light source interval r smaller than that expressed by the equation (1). The definition of I is shown in formula (3). I = (β · r) / p Equation (3) Equation (3) can be rewritten based on this definition to obtain Equation (4), and interlaced scanning is possible in this case. β · r = I · p Equation (4) (where I is an integer that is relatively prime to n) Equation (4) and Equation (1) are compared, and interlaced scanning is possible under each condition. Compare the characteristics.
【００１４】例えば、光源の数ｎが４個の場合、式
（１）を満たす最小のスポット間隔β・ｒはβ・ｒ＝
（ｍｎ＋１）ｐであるから、β・ｒ＝５ｐである。それ
に対して式（４）の場合ｎ＝４に対して互いに素である
最小のＩは３である。したがって、β・ｒ＝３ｐとな
る。さらに光源の数ｎが５個の場合は、式（１）を満た
す最小のβ・ｒはβ・ｒ＝６ｐであるのに対し、ｎ＝５
に対して互いに素である最小のＩは２であるからβ・ｒ
＝２ｐとなり、式（４）の場合は式（１）の場合に対し
被走査面上の結像スポット間隔β・ｒを（１／３）にす
ることができる。For example, when the number of light sources n is 4, the minimum spot spacing β · r that satisfies the equation (1) is β · r =
Since (mn + 1) p, β · r = 5p. On the other hand, in the case of the equation (4), the smallest I that is relatively prime for n = 4 is 3. Therefore, β · r = 3p. Further, when the number n of light sources is 5, the minimum β · r that satisfies the equation (1) is β · r = 6p, while n = 5.
The smallest I that is disjoint with respect to is 2, so β · r
= 2p, and in the case of the formula (4), the imaging spot interval β · r on the surface to be scanned can be set to (1/3) as compared with the case of the formula (1).
【００１５】本発明の構成の記録装置によれば発光源の
数ｎが３個以上の場合において、走査次数Ｉをｎより小
さい値とすることができる。このため、副走査方向の必
要な位置あるいは速度精度が低くてすむ。本発明の構成
によれば光源の数がｎで、操作次数がＩの場合に必要な
副走査方向の位置あるいは速度の許容誤差率γn,Iは次
式で表される。 γn,I≧δo／Ｉ・（ｎ−１） ここで、Ｉ≦ｎ−１であるから、γn,Iは結局次式で表
される。 γn,I≧δo／（ｎ−１）2………式（６） 光源の数ｎが等しい場合に従来の方法の許容誤差である
式（２）と本発明の許容誤差式（６）とを比較すると、
δo／（ｎ−１）2≧δo／ｎ2が常に成り立つので、γ
n,I≧δn,mが常に成り立つことになる。したがって、本
出願の構成を用いれば従来例より必ず副走査方向の必要
な位置あるいは速度精度が低くてすむことになる。ま
た、飛び越し走査を制御するのに必要な高速のメモリー
の量が少なくなる。According to the recording apparatus of the present invention, the scanning order I can be set to a value smaller than n when the number n of light emitting sources is 3 or more. Therefore, the required position or speed accuracy in the sub-scanning direction can be low. According to the configuration of the present invention, the allowable error rate γ n, I of the position or speed in the sub-scanning direction required when the number of light sources is n and the operation order is I is expressed by the following equation. γ n, I ≧ δ o / I · (n−1) Since I ≦ n−1, γ n, I is eventually expressed by the following equation. γ n, I ≧ δ o / (n−1) 2 (Equation 6) When the number n of light sources is equal, the equation (2) which is the tolerance of the conventional method and the tolerance equation (6) of the present invention. ) And
Since δ o / (n-1) 2 ≧ δ o / n 2 always holds, γ
n, I ≧ δ n, m always holds. Therefore, if the configuration of the present application is used, the required position or speed accuracy in the sub-scanning direction is necessarily lower than in the conventional example. It also reduces the amount of high speed memory required to control interlaced scanning.
【００１６】特に発光源の数ｎを３以上の奇数とするこ
とにより、走査次数Ｉ＝２という理論的に考え得る最低
次の飛び越し走査を実現することができる。このため、
副走査方向の必要な位置あるいは速度精度は本発明の中
でも特に低くなる。例えば、図１２に示すように光源の
数ｎ＝５で走査次数Ｉ＝３の場合にはγ5.3＝δo／１０
であるのに対しＩ＝２の場合にはγ5.2＝δo／５であ
り、必要な機械的精度は半分で良い。図１３と図１４を
比較すればわかるようにＩ＝２の時に必要な機械的精度
は飛び越し走査を用いない場合と同じで良い。さらに飛
び越し走査を制御するのに必要な高速のメモリーの量も
本発明中でも特に少なくてすむ。また、発光源の数ｎに
よらず、光源の間隔は一定になる。In particular, by setting the number n of light emitting sources to an odd number of 3 or more, it is possible to realize the theoretically conceivable lowest-order interlaced scanning of the scanning order I = 2. For this reason,
The required position or speed accuracy in the sub-scanning direction is particularly low in the present invention. For example, as shown in FIG. 12, when the number of light sources is n = 5 and the scanning order is I = 3, γ 5.3 = δ o / 10
On the other hand, when I = 2, γ 5.2 = δ o / 5, and the required mechanical accuracy is half. As can be seen by comparing FIGS. 13 and 14, the mechanical precision required when I = 2 is the same as that when interlaced scanning is not used. Furthermore, the amount of high-speed memory required to control interlaced scanning is also particularly small in the present invention. Further, the distance between the light sources is constant regardless of the number n of the light emitting sources.
【００１７】また発光源の数ｎを４以上の偶数とし、か
つ走査次数Ｉを発光源の数ｎと互いに素となる最小の自
然数とすることにより、発光源の数が偶数の時に理論的
に考え得る最低次の飛び越し走査を実現することができ
る。このため、副走査方向の必要な位置あるいは速度精
度は特に低くてすむ。また、飛び越し走査を制御するの
に必要な高速のメモリーの量も少なくてすむ。副走査方
向の位置あるいは速度誤差について本発明に基づく場合
と従来例（特開昭５６ー１１０９６０号公報参照）との
比較を光源の数が３から８の範囲の場合について表１に
示す。また、飛び越し走査の可能な光源（レーザービー
ム）の数ｎと走査次数Ｉの組合せをグラフにしたものを
図１５に示す。Further, by setting the number n of light emitting sources to be an even number of 4 or more and the scanning order I to be a minimum natural number that is relatively prime to the number n of light emitting sources, theoretically when the number of light emitting sources is even. The lowest possible interlaced scan can be realized. Therefore, the required position or speed accuracy in the sub-scanning direction can be particularly low. It also requires less fast memory to control interlaced scanning. Table 1 shows a comparison of the position or speed error in the sub-scanning direction between the case of the present invention and the conventional example (see Japanese Patent Laid-Open No. 56-110960) for the case where the number of light sources is in the range of 3 to 8. FIG. 15 is a graph showing a combination of the number n of light sources (laser beams) capable of interlaced scanning and the scanning order I.
【表１】 [Table 1]
【００１８】[0018]
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の一実施例を説
明する。解像度８００ｓｐｉ（ｓｐｏｔ／ｉｎｃｈ）の
レーザービームプリンターをマルチビーム半導体レーザ
ーアレイを用いて実現する例を光学系の設計例を中心に
説明する。図２は本発明の一実施例を模式的に示した図
である。マルチビーム半導体レーザーアレイ１より出射
した３本のレーザービーム光はコリメーター２、シリン
ドリカルレンズ３を経てポリゴンスキャナー４によって
偏向され、感光体上を走査される。この偏向されたレー
ザービーム光はシリンドリカルレンズ５及び結像（ｆ−
θ）レンズを経て感光体７上に結像する。感光体７は矢
印８方向に回転する。この感光体７の矢印８方向への回
転による移動を副走査という。シリンドリカルレンズ３
及び５はポリゴンスキャナー４の面倒れ補正のためのも
ので、いわゆるアナモフィック光学系を形成している。
感光体７上に描き込まれた光学像は電子写真のプロセス
によって現像され可視化される（図示せず）。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. An example in which a laser beam printer having a resolution of 800 spi (spot / inch) is realized by using a multi-beam semiconductor laser array will be described focusing on an example of designing an optical system. FIG. 2 is a diagram schematically showing an embodiment of the present invention. The three laser beam lights emitted from the multi-beam semiconductor laser array 1 are deflected by the polygon scanner 4 through the collimator 2 and the cylindrical lens 3 and scanned on the photoconductor. The deflected laser beam light is focused on the cylindrical lens 5 and imaged (f-
θ) Form an image on the photoconductor 7 through the lens. The photoconductor 7 rotates in the direction of arrow 8. The movement of the photoconductor 7 in the direction of the arrow 8 is called sub-scanning. Cylindrical lens 3
Reference numerals 5 and 5 are for correcting the surface tilt of the polygon scanner 4, and form a so-called anamorphic optical system.
The optical image drawn on the photoconductor 7 is developed and visualized by an electrophotographic process (not shown).
【００１９】図３は偏向面に垂直でかつ光軸を含む面で
見た図１の光学系の部分を展開した図である。また、図
４は図１及び図３に示したマルチビーム半導体レーザー
アレイ１の構成斜視図である。用いた半導体レーザーア
レイの接合面に平行な方向のレーザービーム光の拡がり
角θ1は１２°である。なお、拡がり角の定義は図１１
に示すようにパワーが光軸上のパワーの１／ｅ2になる
角度である。半導体レーザーの拡がり角はパワーが光軸
の１／２となる全角半値幅（ＦＷＨＭ）で表すことも多
いので区別を要する。また、半導体レーザーの発光波長
λ＝０．７８μｍである。被走査面におけるレーザービ
ーム光の結像スポットの副走査方向の直径ｄoは結像光
学系に入射するレーザービーム光の副走査方向のビーム
径をＤ、結像光学系の副走査方向の焦点距離をｆ2、円周
率をπとすると次式で表される。 ｄo＝４ｆ2λ／πＤ 結像光学系に入射するレーザービーム光の副走査方向の
ビーム径はコリメーターの焦点距離をｆ1とすると次式
で表される。 Ｄ＝２ｆ1ｓｉｎ（θ1／２）FIG. 3 is a developed view of a portion of the optical system of FIG. 1 viewed from a plane which is perpendicular to the deflecting surface and includes the optical axis. 4 is a perspective view showing the structure of the multi-beam semiconductor laser array 1 shown in FIGS. The divergence angle θ 1 of the laser beam light in the direction parallel to the bonding surface of the used semiconductor laser array is 12 °. The divergence angle is defined in FIG.
Is the angle at which the power becomes 1 / e 2 of the power on the optical axis. The divergence angle of the semiconductor laser is often represented by the full width half maximum width (FWHM) at which the power is ½ of the optical axis, and therefore, distinction is required. Further, the emission wavelength λ of the semiconductor laser is 0.78 μm. The diameter d o of the imaging spot of the laser beam light on the surface to be scanned in the sub-scanning direction is the beam diameter of the laser beam light incident on the imaging optical system in the sub-scanning direction, and the focus of the imaging optical system in the sub-scanning direction. When the distance is f 2 and the circular constant is π, it is expressed by the following equation. d o = 4f 2 λ / πD The beam diameter of the laser beam light incident on the imaging optical system in the sub-scanning direction is expressed by the following formula, where f 1 is the focal length of the collimator. D = 2f 1 sin (θ 1 /2)
【００２０】したがって、結像光学系の副走査方向の横
倍率βをβ＝ｆ2／ｆ1とすると、被走査面におけるレー
ザービーム光の結像スポットの副走査方向の直径ｄoは
結局次式で表されることになる（図５参照）。 ｄo＝２λβ／πｓｉｎ（θ1／２） これは前述の光学的スポット径であり、最終的に画像と
して形成されるのはこの径とは異なる。電子写真のプロ
セスによって最終的に画像として形成される副走査方向
の径、すなわち、電子写真的スポット径ｄxはｄoをｋで
除したものであるから、次式のようになる。 ｄx＝ｄo／ｋ＝２λβ／πｋｓｉｎ（θ1／２） マルチビーム半導体レーザーアレイ１の隣接する半導体
レーザー素子の間隔がｒであるので、被走査面上の隣接
する結像スポットの間隔ｒiは次式で表される。 ｒi＝βｒ このｒiをｄxで除した値が走査次数Ｉにならなければな
らないから、Ｉ＝ｒi／ｄxである。Therefore , when the lateral magnification β of the imaging optical system in the sub-scanning direction is β = f 2 / f 1 , the diameter d o of the imaging spot of the laser beam light on the surface to be scanned in the sub-scanning direction is as follows. It will be represented by a formula (see FIG. 5). d o = 2λβ / πsin (θ 1/2) which is optically spot diameter of above, what is formed as the final image is different from the diameter. The diameter in the sub-scanning direction, which is finally formed as an image by the electrophotographic process, that is, the electrophotographic spot diameter d x is obtained by dividing d o by k, and is thus expressed by the following equation. d x = d o / k = 2λβ / πksin (θ 1/2) multi-beam semiconductor laser the spacing of adjacent semiconductor laser device array 1 is r, distance r of imaging spots adjacent on the surface to be scanned i is expressed by the following equation. r i = βr Since the value obtained by dividing this r i by d x must be the scan order I, I = r i / d x .
【００２１】以上より、マルチビーム半導体レーザーア
レイ１の隣接する半導体レーザー素子の間隔ｒは次式で
表される。 ｒ＝２λＩ／πｋｓｉｎ（θ1／２） ………式（７） この式（７）に基づいてｒの値をλ＝０．７８μｍ，θ
1＝１２°，Ｉ＝２とすると、ｒ＝７．０μｍと計算さ
れる。この値はビームの数が奇数であればビームの数に
よらずに一定でよいことは既に述べた。したがって、ｎ
＝５でも、ｎ＝７でもｒ＝７．０μｍとなる。これは半
導体レーザーアレイの製造プロセスの共通化ができるこ
とを意味する。１インチ当たり８００本のスポットの解
像度（８００ｓｐｉ）のレーザービームプリンターを作
るためにはｄxが２５．４ｍｍ／８００＝３１．７５μ
ｍでなくてはならない。したがって走査次数Ｉ＝２の時
はｒi＝６３．５μｍとなり、これから逆に光学系の横
倍率β＝９．１が計算される。From the above, the interval r between the adjacent semiconductor laser elements of the multi-beam semiconductor laser array 1 is expressed by the following equation. r = 2λI / πksin (θ 1 /2)...Equation (7) Based on this equation (7), the value of r is λ = 0.78 μm, θ
If 1 = 12 ° and I = 2, r = 7.0 μm is calculated. As described above, this value may be constant regardless of the number of beams if the number of beams is odd. Therefore, n
= 5 or n = 7, r = 7.0 μm. This means that the manufacturing process of semiconductor laser arrays can be standardized. To make a laser beam printer with a resolution of 800 spots per inch (800 spi), d x is 25.4 mm / 800 = 31.75 μ
Must be m. Therefore, when the scanning order I = 2, r i = 63.5 μm, and conversely, the lateral magnification β = 9.1 of the optical system is calculated.
【００２２】以上の実施例は電子写真のプロセスに基づ
くものであるが、本発明は電子写真以外のプロセスを用
いた記録装置に対しても適用できることは言うまでもな
い。すなわち、電子写真用感光体の代わりに通常の感光
フィルムを走査する記録装置、あるいは、レーザービー
ム光の熱効果を利用して描画を行う感熱記録、光磁気記
録等にも適用可能である。ただし、これらの場合は前述
の式（７）のｋの最適値は電子写真プロセスを用いた場
合と必ずしも一致するとは限らないので、用いる記録プ
ロセスに応じてレーザービーム光源の間隔は別途実験的
に定める必要がある。また、以上の説明において、感光
体の全面を隙間なく露光するためには、電子写真的スポ
ット径をｄxをピッチｐと等しくする必要があるとして
説明した。しかしながら、本発明は、走査線ピッチをｐ
とする走査線を、走査開始部と走査終了部を除き、もれ
なく走査することのできる記録装置を提供するものであ
り、全面を隙間なく露光しなくても、飛び越し走査によ
り走査開始部と走査終了部を除き、全ての走査線をもれ
なく走査する場合にも適用できることはいうまでもな
い。Although the above embodiments are based on the electrophotographic process, it goes without saying that the present invention can be applied to a recording apparatus using a process other than the electrophotographic process. That is, the present invention can be applied to a recording device that scans an ordinary photosensitive film instead of the electrophotographic photoconductor, or thermal recording or magneto-optical recording that draws by utilizing the thermal effect of laser beam light. However, in these cases, the optimum value of k in the above formula (7) does not always match the case where the electrophotographic process is used. Therefore, the interval between the laser beam light sources may be experimentally determined separately depending on the recording process used. Need to be determined. Further, in the above description, in order to expose the entire surface of the photoconductor without gaps, it is necessary to make the electrophotographic spot diameter d x equal to the pitch p. However, the present invention sets the scan line pitch to p
The present invention provides a recording apparatus capable of scanning all scanning lines except the scanning start portion and the scanning end portion, and the scanning start portion and the scanning end portion can be scanned by the interlaced scanning without exposing the entire surface without a gap. It goes without saying that the present invention can also be applied to the case where all the scanning lines except all the parts are scanned without omission.
【００２３】[0023]
【発明の効果】前述の本発明の記録装置によれば、飛び
越し走査によってマルチビームスキャンを行う場合に、
従来技術において必要となる副走査の機械的精度、光学
系の倍率の精度、もしくは使用するマルチビーム半導体
レーザーアレイの寸法精度を必要とせず、容易に高解像
度および高速記録が可能になる。また、飛び越し走査の
制御に必要な高速のメモリーも少なくて良い。さらに、
レーザービームの数を奇数とした時は半導体レーザーの
製造プロセスを共通化することができる。According to the recording apparatus of the present invention described above, when performing multi-beam scanning by interlaced scanning,
High resolution and high-speed recording can be easily performed without requiring the mechanical precision of the sub-scanning, the precision of the magnification of the optical system, or the dimensional precision of the multi-beam semiconductor laser array used, which is required in the prior art. Also, the high-speed memory required to control the interlaced scanning may be small. further,
When the number of laser beams is an odd number, the manufacturing process of semiconductor lasers can be made common.
【００２４】[0024]
【図１】図１は本発明の記録装置におけるビームスポッ
トの間隔（β・ｒ）、スポットの数（ｎ）、走査次数
（Ｉ）を模式的に示す図である。FIG. 1 is a diagram schematically showing a beam spot interval (β · r), the number of spots (n), and a scanning order (I) in a recording apparatus of the present invention.
【図２】図２は本発明に係わる装置の一実施例の概略の
構成を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a schematic configuration of an embodiment of an apparatus according to the present invention.
【図３】図３は図１の光学系を偏向面に垂直でかつ光軸
を含む面で見た場合を展開した図である。FIG. 3 is a developed view of the optical system of FIG. 1 viewed from a plane perpendicular to a deflection surface and including an optical axis.
【図４】図４は図２および図３に示したマルチビーム半
導体レーザーアレイの構成斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing the configuration of the multi-beam semiconductor laser array shown in FIGS. 2 and 3.
【図５】図５はレーザービームの結像光学系を模式的に
示した図である。FIG. 5 is a diagram schematically showing an imaging optical system of a laser beam.
【図６】図６は飛び越し走査の原理を示す図で、被走査
面上のレーザー光の結像スポットと走査ラインの関係を
示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a principle of interlaced scanning, and is a diagram showing a relationship between an image forming spot of laser light on a surface to be scanned and a scanning line.
【図７】図７はレーザー光の結像スポットのスポットの
中心からの距離と光振幅の関係を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing the relationship between the distance from the center of the spot of the laser light imaged spot and the light amplitude.
【図８】図８は従来技術による飛び越し走査におけるス
ポットの位置関係を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a positional relationship of spots in interlaced scanning according to a conventional technique.
【図９】図９は単一ビームで走査した場合のスポットの
位置誤差を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing spot position errors when scanning is performed with a single beam.
【図１０】図１０は半導体レーザー素子数ｎがｎ＝４
で、走査次数ＩがＩ＝５の時のスポットの位置誤差を示
す図である。FIG. 10 shows that the number n of semiconductor laser elements is n = 4.
4 is a diagram showing a positional error of a spot when the scanning order I is I = 5. FIG.
【図１１】図１１は半導体レーザーから出射するレーザ
ー光振幅の放射角依存性を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing the radiation angle dependence of the amplitude of laser light emitted from a semiconductor laser.
【図１２】図１２は半導体レーザー素子数ｎ＝５、走査
次数Ｉ＝３の場合に必要となる副走査方向の位置あるい
は速度誤差の関係を示す図である。FIG. 12 is a diagram showing a relationship between position and speed errors in the sub-scanning direction, which is necessary when the number of semiconductor laser elements is n = 5 and the scanning order is I = 3.
【図１３】図１３は半導体レーザー素子数ｎ＝５、走査
次数Ｉ＝２の場合に必要となる副走査方向の位置あるい
は速度誤差の関係を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing a relationship between a position error and a speed error in the sub-scanning direction, which is necessary when the number of semiconductor laser elements is n = 5 and the scanning order is I = 2.
【図１４】図１４は半導体レーザー素子数ｎ＝５、走査
次数Ｉ＝１の場合に必要となる副走査方向の位置あるい
は速度誤差の関係を示す図である。FIG. 14 is a diagram showing a relationship between a position error or a speed error in the sub-scanning direction, which is necessary when the number of semiconductor laser elements is n = 5 and the scanning order is I = 1.
【図１５】図１５は飛び越し走査が可能な光源（レーザ
ービーム）の数ｎと走査次数Ｉの組合せを示すグラフで
ある。FIG. 15 is a graph showing a combination of the number n of light sources (laser beams) capable of interlaced scanning and the scanning order I.
【００２５】[0025]
１…マルチビーム半導体レーザーアレイ、２…コリメー
ターレンズ、３…シリンドリカルレンズ、４…ポリゴン
スキャナー、５…シリンドリカルレンズ、６…結像（ｆ
−θ）レンズ、７…感光体、８…ポリゴンスキャナーの
反射面、１０…ＧａＡｓ基板，、１１ａ〜ｃ…ボンデイ
ングパッド、１２… ボンデイングワイヤー（Ａｕ）、
１３…Ａｌ2Ｏ3１／２λコーテイング、１４…（Ａｌ2
Ｏ3１／４λ＋Ｓｉ１／４λ）３周期コーテイング、１
５…半導体レーザー素子、１６…レーザービーム光、ｌ
1…走査ライン１、ｌ2…走査ライン２、ｌ3…走査ライ
ン３、θ1…半導体レーザー素子から出射するレーザー
光の接合面に平行な方向の拡がり角、θ2…半導体レー
ザー素子からレーザー光の接合面に垂直な方向の拡がり
角、Ｌ1…レーザー光１、Ｌ2…レーザー光２、ｐ…走査
ピッチ、Δｐ…走査ピッチの位置誤差、ＦＷＨＭ…レー
ザー光の拡がり角の全角半値幅、、ｒ…半導体レーザー
素子の間隔、ｎ…半導体レーザー素子の数及び対応する
レーザービーム光の数、Ｉ…走査次数、ｆ1…光学系の
光源側の焦点距離、ｆ2…光学系の結像面側の焦点距
離、β…光学系の横倍率、、λ…半導体レーザー素子の
発光波長、ｄx…電子写真的スポット径、ｄo…光学的ス
ポット径、δｏ…単一ビームの時に必要な副走査方向の
位置あるいは速度誤差率、δｎ，ｍ…従来技術において
半導体レーザー素子ｎ個整数ｍの時に必要な副走査方向
の位置あるいは速度誤差率、γn,I…本発明に基づく場
合の半導体レーザー素子ｎ個走査次数Ｉの時に必要な副
走査方向の位置あるいは速度誤差率。1 ... Multi-beam semiconductor laser array, 2 ... Collimator lens, 3 ... Cylindrical lens, 4 ... Polygon scanner, 5 ... Cylindrical lens, 6 ... Imaging (f
- [theta]) lens, 7 ... photoreceptor, the reflecting surface of 8 ... polygon scanner, 10 ... GaAs substrate ,, lla-c ... Bonde Lee
Ngupaddo, 12 ... Bonde Lee bridging wire (Au),
13 ... Al 2 O 3 1 / 2λ coating, 14 ... (Al 2
O 3 1 / 4λ + Si 1 / 4λ) 3 period coating, 1
5 ... Semiconductor laser device, 16 ... Laser beam light, l
1 ... Scan line 1, l 2 ... Scan line 2, l 3 ... Scan line 3, θ 1 ... Divergence angle of laser light emitted from the semiconductor laser element in a direction parallel to the joint surface, θ 2 ... Laser from semiconductor laser element Spread angle of light in a direction perpendicular to the joining surface, L 1 ... Laser light 1, L 2 ... Laser light 2, p ... Scan pitch, Δp ... Position error of scan pitch, FWHM ... Full width half width of spread angle of laser light , R: spacing between semiconductor laser elements, n: number of semiconductor laser elements and corresponding number of laser beam lights, I: scanning order, f 1 ... focal length of light source side of optical system, f 2 ... connection of optical system focal length of the image plane side, beta ... emission wavelength of lateral magnification ,, lambda ... semiconductor laser elements of the optical system, d x ... electrophotographic spot diameter, d o ... optical spot diameter required when .delta.o ... single beam Position or speed in the sub-scanning direction Saritsu, .DELTA.n, m ... sub scanning direction position or velocity error rate required when the semiconductor laser element of n integers m in the prior art, gamma n, the semiconductor laser element when I ... according to the present invention the n interlacing I Position or speed error rate in the sub-scanning direction required at the time.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０４Ｎ 1/23 １０３ Ｚ 9186−5Ｃ ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location H04N 1/23 103 Z 9186-5C
Claims (1)
する光源部と、この光源部からの複数の光束を感光媒体
面に結像する光学系と、前記光源部からの複数の光束を
所定の方向に偏向する偏向器とを有し、この偏向器によ
り偏向される複数の光束で前記感光媒体面を同時に走査
する記録装置において、前記光源部は、ｎ個の発光源が
ｒなる間隔で前記偏向方向と概ね垂直方向になるよう配
列され、前記結像光学系の発光源の配列方向の横倍率を
βとし、ｎがｎ≧３の整数で、Ｉがｎと互いに素で、２
≦Ｉ≦ｎ−１の範囲の整数で、感光媒体面での隣り合っ
た走査ラインの間隔ｐが ｐ＝（β・ｒ）／Ｉ であることを特徴とする記録装置。1. A light source section having n light emitting sources that can be driven independently of each other, an optical system for forming a plurality of light fluxes from the light source section on a photosensitive medium surface, and a plurality of light fluxes from the light source section. In a predetermined direction, and a light source section in which a plurality of light beams deflected by the deflector simultaneously scan the photosensitive medium surface Are arranged so as to be substantially perpendicular to the deflection direction at intervals, the lateral magnification in the arrangement direction of the light emission source of the imaging optical system is β, n is an integer of n ≧ 3, and I is relatively prime to n, Two
A recording apparatus characterized in that it is an integer in the range of ≦ I ≦ n−1, and an interval p between adjacent scanning lines on the photosensitive medium surface is p = (β · r) / I.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3084660A JPH0648846B2 (en) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | Recording device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3084660A JPH0648846B2 (en) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | Recording device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05176128A true JPH05176128A (en) | 1993-07-13 |
| JPH0648846B2 JPH0648846B2 (en) | 1994-06-22 |
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ID=13836883
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP3084660A Expired - Fee Related JPH0648846B2 (en) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | Recording device |
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| JP (1) | JPH0648846B2 (en) |
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| US6034806A (en) * | 1997-03-10 | 2000-03-07 | Minolta Co., Ltd. | Light source device and light beam scanning optical apparatus |
| US6049408A (en) * | 1998-01-14 | 2000-04-11 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Optical scanning apparatus |
| US6340983B1 (en) | 1998-09-25 | 2002-01-22 | Minolta Co., Ltd. | Multi-beam image recording apparatus |
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- 1991-03-25 JP JP3084660A patent/JPH0648846B2/en not_active Expired - Fee Related
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| US6340983B1 (en) | 1998-09-25 | 2002-01-22 | Minolta Co., Ltd. | Multi-beam image recording apparatus |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0648846B2 (en) | 1994-06-22 |
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