JPH05150248A - Liquid crystal display device and its manufacture - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To prevent a spacer from falling in the display area or on the display electrode of the simple matrix or active matrix liquid crystal display device and to eliminate deterioration in the display quality due to the presence of the spacer. CONSTITUTION:The orienting film on the display electrode 35 is charged up to the negative polarity and other areas are discharged through a gate line 31 and a drain line 41. When spacers which are charged up to the negative polarity are scattered, the spacers reaching the display area are repelled and arranged except in the display area since the orientation film in this area is charged to the negative polarity.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、表示特性をより改善す
る液晶表示装置およびその製造方法に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device which further improves display characteristics and a manufacturing method thereof.

【０００２】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置は、２枚のガラス基板の間
隙に液晶が注入され、またこの基板の間隙を一定にする
ためにスペーサが用いられている。これらの技術として
は、 （ａ）スペーサを混入した封止材を用い、封止部分のス
ペーサによりギャップを保持する方法 （ｂ）基板上に配向膜を固化した後、スペーサを散布す
る方法 （ｃ）スペーサを接着剤でコーティングし、基板上に形
成した配向膜上に散布する方法 等が一般的である。2. Description of the Related Art In a liquid crystal display device, liquid crystal is injected into a gap between two glass substrates, and a spacer is used to keep the gap between the substrates constant. As these techniques, (a) a method of using a sealing material mixed with a spacer and holding a gap by a spacer in a sealing part (b) a method of spraying spacers after solidifying an alignment film on a substrate (c) ) A general method is to coat the spacers with an adhesive and spray the spacers on the alignment film formed on the substrate.

【０００３】一方、スペーサの散布方法としては、例え
ば特開平１−２２５９１９号公報がある。この中には、
湿式法と乾式法が述べられている。湿式法は、フレオン
等の分散液中にスペーサ粒子を添加して撹拌した後、ス
プレーノズルから窒素ガスを吹き付けることにより、こ
の溶液を基板の上から噴霧する方法であり、溶液が基板
に到達するまでに分散液を完全に飛散、乾燥させるよう
にしている。On the other hand, as a method of spraying spacers, there is, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-225919. In this,
Wet and dry methods are mentioned. The wet method is a method in which spacer particles are added to a dispersion liquid such as Freon and stirred, and then this solution is sprayed from above the substrate by spraying nitrogen gas from a spray nozzle, and the solution reaches the substrate. By this time, the dispersion is completely scattered and dried.

【０００４】また乾式法は、分散液を用いず、スペーサ
粒子をそのまま窒素ガス中に分散させておき、これを固
気二層流としてスプレーノズルから噴射する方法であ
る。これらの方法は、いずれにしても図２のように、ス
ペーサ（１）がランダムに分布している。４角形（２）
で示された領域が表示電極または表示領域である。例え
ばアクティブマトリックス型の場合、この他にスイッチ
ング素子等が形成されているが、ここでは省略してい
る。The dry method is a method in which spacer particles are directly dispersed in nitrogen gas without using a dispersion liquid, and the spacer particles are jetted from a spray nozzle as a solid gas two-layer flow. In any of these methods, the spacers (1) are randomly distributed as shown in FIG. Quadrangle (2)
The area indicated by is the display electrode or the display area. For example, in the case of the active matrix type, other switching elements and the like are formed, but they are omitted here.

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】図２に示すように、表
示電極（２）上にスペーサ（１）が存在すると表示品質
が低下する問題があった。図３は、この表示品質の低下
を説明するものであり、ノーマリーホワイトのＴＮセル
に電圧を印加した状態を示し、スペーサを挟んだ２枚の
ガラス基板（３）、（４）の外側には、偏光板（５）、
（６）が設けられている。前記ガラス基板（３）、
（４）の間には、点線で示す液晶（７）が充填されてい
る。もちろんガラス基板（３）、（４）の対向面には色
々な構成要素があるがここでは省略している。As shown in FIG. 2, there is a problem that the display quality is deteriorated when the spacer (1) is present on the display electrode (2). FIG. 3 is a diagram for explaining the deterioration of the display quality, showing a state in which a voltage is applied to a normally white TN cell, and is shown on the outside of two glass substrates (3) and (4) sandwiching a spacer. Is a polarizing plate (5),
(6) is provided. The glass substrate (3),
A liquid crystal (7) shown by a dotted line is filled between (4). Of course, there are various components on the facing surfaces of the glass substrates (3) and (4), but they are omitted here.

【０００６】スペーサがない部分に於て、偏光板（５）
を通過した光は、液晶（７）内を通過してもその偏光状
態は変化しないので、偏光板（５）に対して偏光軸が直
交するように配置された偏光板（６）を透過しない。一
方、スペーサ（１）の周辺は、液晶の配向あるいはツイ
スト状態が乱れており、偏光板（５）を通過した光は、
スペーサ（１）周辺の液晶（７）により偏光状態が乱さ
れ、偏光板（６）を透過する。A polarizing plate (5) is provided in a portion where there is no spacer.
Since the light passing through the liquid crystal (7) does not change its polarization state even if it passes through the liquid crystal (7), it does not pass through the polarizing plate (6) arranged such that the polarization axis is orthogonal to the polarizing plate (5). .. On the other hand, around the spacer (1), the alignment of liquid crystal or the twist state is disturbed, and the light passing through the polarizing plate (5) is
The polarization state is disturbed by the liquid crystal (7) around the spacer (1) and is transmitted through the polarizing plate (6).

【０００７】このような理由により、表示電極（２）上
または表示領域内にスペーサが存在すると、光漏れが生
じ、表示品質が低下する。この問題は、アクティブ型、
単純マトリックス型をとわず生じる。For these reasons, if the spacer exists on the display electrode (2) or in the display area, light leakage occurs and the display quality deteriorates. This issue is active,
It occurs regardless of the simple matrix type.

【０００８】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は前述の課題に鑑
みて成され、一対の透明な絶縁性基板の間にスペーサが
配置され、このスペーサにより前記一対の絶縁性基板が
所定間隔に設けられ、この間に液晶が注入された液晶表
示装置において、この透明な絶縁性基板上に電荷が逃げ
にくい配向膜を設け、前記スペーサを、遮光膜に対応す
る前記配向膜上に分散することで解決するものである。The present invention has been made in view of the above problems, and a spacer is arranged between a pair of transparent insulating substrates, and the pair of insulating substrates are provided at a predetermined interval by the spacer. In a liquid crystal display device in which liquid crystal is injected in the meantime, an alignment film is provided on the transparent insulating substrate to prevent the escape of electric charges, and the spacers are dispersed on the alignment film corresponding to the light shielding film. To do.

【０００９】またこの透明な絶縁性基板上に電荷が逃げ
にくい配向膜が設けられ、前記スペーサを、この透明な
絶縁性基板に形成された表示領域以外に対応する前記配
向膜上に分散することで解決するものである。また、透
明な第１の絶縁性基板（３０）上に絶縁層（３６）を介
して絶縁された複数本のデータ線（４１）および複数本
のアドレス線（３１）と、この交点に形成されたスイッ
チング素子と電気的に接続された表示電極（３５）と、
前記絶縁性基板（３０）全面に実質的に設けられた電荷
の逃げにくい配向膜と、この第１の絶縁性基板（３０）
に対向する透明な第２の絶縁性基板に形成された遮光膜
と、この絶縁性基板全面に実質的に設けられた対向電極
および配向膜とを少なくとも有する液晶表示装置におい
て、前記第１の絶縁性基板（３０）と第２の絶縁性基板
にスペーサを設け、このスペーサを、前記表示電極（３
５）以外に対応する領域に分散することで解決するもの
である。An alignment film is provided on the transparent insulating substrate so that charges are not easily released, and the spacers are dispersed on the alignment film corresponding to areas other than the display area formed on the transparent insulating substrate. Will be solved in. Further, a plurality of data lines (41) and a plurality of address lines (31) insulated from each other on the transparent first insulating substrate (30) through the insulating layer (36) are formed at this intersection. A display electrode (35) electrically connected to the switching element,
An alignment film, which is provided on the entire surface of the insulating substrate (30) so as to prevent the escape of electric charges, and the first insulating substrate (30).
A liquid crystal display device having at least a light-shielding film formed on a transparent second insulating substrate facing to the substrate, and a counter electrode and an alignment film substantially provided on the entire surface of the insulating substrate. Spacers are provided on the flexible substrate (30) and the second insulating substrate, and the spacers are connected to the display electrodes (3).
The problem is solved by distributing to areas other than 5).

【００１０】また、透明な第１の絶縁性基板（３０）上
に絶縁層（３６）を介して絶縁された複数本のアドレス
線（３１）および複数本のデータ線（４１）と、この交
点に形成されたＴＦＴのソース電極（４２）と電気的に
接続された表示電極（３５）と、前記絶縁性基板（３
０）全面に実質的に設けられた配向膜と、この第１の絶
縁性基板（３０）に対向する透明な第２の絶縁性基板に
形成された遮光膜と、この絶縁性基板全面に実質的に設
けられた対向電極および配向膜とを少なくとも有する液
晶表示装置において、前記第１の絶縁性基板（３０）と
第２の絶縁性基板にはスペーサが設けられ、このスペー
サを、前記表示電極（３５）上の配向膜に帯電した静電
気力に反発して、この表示電極（３５）以外に対応する
領域に分散することで解決するものである。Further, a plurality of address lines (31) and a plurality of data lines (41) insulated from each other through an insulating layer (36) on the transparent first insulating substrate (30) and the intersections thereof. The display electrode (35) electrically connected to the source electrode (42) of the TFT formed on the substrate, and the insulating substrate (3).
0) An alignment film substantially provided on the entire surface, a light-shielding film formed on a transparent second insulating substrate facing the first insulating substrate (30), and a light shielding film formed on the entire surface of the insulating substrate. In a liquid crystal display device having at least a counter electrode and an alignment film, a spacer is provided on the first insulating substrate (30) and the second insulating substrate, and the spacer is provided on the display electrode. This is solved by repelling the electrostatic force charged on the alignment film on (35) and dispersing it in a region other than the display electrode (35).

【００１１】更には透明な第１の絶縁性基板（２０）に
複数本の第１電極線（２１）を形成し、全面に配向膜
（２２）を形成する工程と、透明な第２の絶縁性基板
（２３）に前記第１電極線（２１）と交差する複数本の
第２電極線（２４）を形成し、全面に配向膜（２６）を
形成する工程と、前記第１の絶縁性基板（２０）または
／および第２の絶縁性基板（２３）に形成された第１電
極線（２１）または／および第２電極線（２４）を所定
の静電位に帯電させた状態で、ここにこの静電位と反発
するスペーサ（２７）を前記第１の絶縁性基板（２０）
または／および前記第２の絶縁性基板（２３）に噴霧す
る工程と、この第１の絶縁性基板（２０）と前記第２の
絶縁性基板（２３）を対向させてシールする工程と、こ
の一対の基板（２０）、（２３）間に液晶を注入する工
程とを少なくとも有することで解決するものである。Further, a step of forming a plurality of first electrode lines (21) on a transparent first insulating substrate (20) and forming an alignment film (22) on the entire surface, and a transparent second insulating layer. Forming a plurality of second electrode lines (24) on the flexible substrate (23) intersecting the first electrode lines (21) and forming an alignment film (26) on the entire surface, and the first insulating property. In a state where the first electrode wire (21) and / or the second electrode wire (24) formed on the substrate (20) or / and the second insulating substrate (23) is charged to a predetermined electrostatic potential, A spacer (27) that repels this electrostatic potential is attached to the first insulating substrate (20).
Or / and a step of spraying the second insulating substrate (23), a step of facing and sealing the first insulating substrate (20) and the second insulating substrate (23), The solution is to have at least a step of injecting liquid crystal between the pair of substrates (20) and (23).

【００１２】また透明な第１の絶縁性基板（２０）に複
数本の第１電極線（２１）を形成し、全面に配向膜（２
２）を形成する工程と、透明な第２の絶縁性基板（２
３）に前記第１電極線（２１）と交差する複数本の第２
電極線（２４）を形成し、全面に配向膜（２６）を形成
する工程と、前記第１の絶縁性基板（２０）または／お
よび第２の絶縁性基板（２３）に形成された前記電極線
（２１）、（２４）の電荷を放出し、この電極線（２
１）、（２４）を除く領域を所定の静電位に帯電した状
態で、ここにこの静電位に誘引するスペーサ（２７）を
前記第１の絶縁性基板（２１）または／および前記第２
の絶縁性基板（２４）に噴霧する工程と、この第１の絶
縁性基板（２１）と前記第２の絶縁性基板（２４）を対
向させてシールする工程と、この一対の基板（２１）、
（２４）間に液晶を注入する工程とを少なくとも有する
ことで解決するものである。A plurality of first electrode lines (21) are formed on a transparent first insulating substrate (20), and an alignment film (2) is formed on the entire surface.
2) and a transparent second insulating substrate (2
3) a plurality of second electrodes intersecting the first electrode wire (21)
Forming an electrode wire (24) and forming an alignment film (26) on the entire surface; and the electrode formed on the first insulating substrate (20) and / or the second insulating substrate (23) The electric charges of the lines (21) and (24) are discharged, and this electrode line (2
1) and (24) are charged to a predetermined electrostatic potential in a region charged with a predetermined electrostatic potential, and a spacer (27) that attracts the electrostatic potential is added to the first insulating substrate (21) and / or the second insulating substrate (21).
Spraying onto the insulative substrate (24), sealing the first insulative substrate (21) and the second insulative substrate (24) facing each other, and the pair of substrates (21). ,
This is solved by at least including the step of injecting liquid crystal between (24).

【００１３】[0013]

【作用】本発明は、表示特性を向上させるために、表示
電極上または表示領域上のスペーサを無くせば解決され
る。しかしスペーサはスプレーノズルから分散されるの
で、ランダムに配置される。ところがスペーサをチャー
ジアップさせ、表示電極または表示領域上の配向膜をこ
のスペーサと同じ極性にすることで、表示電極または表
示領域に到達するスペーサを反発させ、この領域以外に
飛散できることを見いだした。The present invention can be solved by eliminating the spacer on the display electrode or the display region in order to improve the display characteristics. However, since the spacers are dispersed from the spray nozzle, they are randomly arranged. However, it has been found that the spacer reaching the display electrode or the display region can be repelled and scattered to other regions by charging up the spacer and making the alignment film on the display electrode or the display region the same polarity as this spacer.

【００１４】またガラス基板にメタルラインを形成し、
この上に配向膜を形成した後に、配向膜をマイナスにチ
ャージアップさせ、マイナスにチャージされたスペーサ
を分散させると、メタルの上またはそのごく近傍にスペ
ーサが配置することを見いだした。チャージは、チャー
ジアップされた直近から時間が経つにつれて、殆ど全て
のチャージは外部へ放出される。実験によれば１０分程
度でなくなる。しかしこの１０分以内では、メタルライ
ンの上の配向膜に存在しているチャージは、このメタル
（例えば長く形成されたメタルの露出部）を介して外部
に放出され、メタルラインの存在していない配向膜のチ
ャージは、外部に放出されにくく留まっている。従って
マイナスのスペーサは、マイナスのチャージが留まって
いる配向膜と反発してメタルの上およびその近傍に配置
されることになる。Further, a metal line is formed on the glass substrate,
It has been found that, after the alignment film is formed on this, the alignment film is negatively charged up and the negatively charged spacers are dispersed, and the spacers are arranged on or very near the metal. As for the charges, almost all of the charges are discharged to the outside as time goes by from the most recently charged up. According to the experiment, it will take less than 10 minutes. However, within 10 minutes, the charge existing in the alignment film on the metal line is discharged to the outside through this metal (for example, the exposed portion of the metal formed long), and the metal line does not exist. The charge of the alignment film is less likely to be released to the outside. Therefore, the negative spacer repels the alignment film in which the negative charge remains and is arranged on and near the metal.

【００１５】この性質を利用することにより、アドレス
線やデータ線上の配向膜に於ては、チャージが放出さ
れ、表示電極上の配向膜においては、製造工程の途中で
はスイッチング素子と電気的に分離されているので、チ
ャージが放出されにくくチャージが留まっているので、
表示電極または表示領域以外にスペーサを分散させるこ
とができる。By utilizing this property, the charge is discharged in the alignment film on the address line and the data line, and the alignment film on the display electrode is electrically separated from the switching element during the manufacturing process. Since it is being charged, it is difficult to release the charge and the charge remains, so
Spacers can be dispersed in areas other than the display electrodes or the display areas.

【００１６】また配向膜の特性としては、シート抵抗が
高いほうが、チャージされ易くまたはチャージが外部に
逃げにくいので、例えばポリイミドを使う場合ほぼ完全
にイミド化が成されているほうシート抵抗が高く好まし
い。Regarding the characteristics of the alignment film, the sheet resistance is preferably high because it is easy to be charged or the charge does not easily escape to the outside. For example, when polyimide is used, the sheet resistance which is almost completely imidized is high and preferable. ..

【００１７】[0017]

【実施例】以下に本発明の実施例を説明する。本発明
は、ＴＮ型やＳＴＮ型の液晶表示装置等の単純マトリッ
クス型、アモルファスシリコンやポリシリコンを使った
ＴＦＴ等のアクティブマトリックス型に実施できる。具
体例を説明する前に、まず図１を活用して基本原理を説
明する。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below. The present invention can be applied to a simple matrix type such as a TN type or STN type liquid crystal display device or an active matrix type such as a TFT using amorphous silicon or polysilicon. Before explaining a specific example, the basic principle will be described with reference to FIG.

【００１８】まずスペーサによる表示品質の劣化を防止
するには、表示電極、表示領域または遮光膜が形成され
ていない領域にスペーサを設けなければ、液晶の配向あ
るいはツイスト状態が乱れないので達成できる。また表
示電極以外、表示領域以外または遮光膜が形成された領
域にスペーサが散布されるので、このスペーサを挟む一
対のガラス基板の間隙は一定に保たれる。First, in order to prevent the display quality from being deteriorated by the spacer, it is possible to prevent the liquid crystal alignment or the twisted state from being disturbed unless the spacer is provided in the display electrode, the display region or the region where the light shielding film is not formed. Further, since the spacers are scattered in areas other than the display electrodes, areas other than the display area or areas where the light shielding film is formed, the gap between the pair of glass substrates sandwiching the spacers is kept constant.

【００１９】図１では、４角形のアイランド（１０）が
表示電極、表示領域または遮光膜が形成されていない領
域を示し、このアイランド領域（１０）を除いた格子領
域（１１）が、アドレス線、データ線等の電極線および
スイッチング素子が形成される領域である。一方、スペ
ーサを前述した領域に散布する方法は、アイランド（１
０）を一方の極性にャージアップさせ、格子領域（１
１）は、チャージを全て抜きとるか、あるいは逆極性に
することで達成できる。スペーサをアイランドの極性と
同じにすれば、アイランドに到達するスペーサはアイラ
ンドの一方の極性により反発して格子領域に散在する。In FIG. 1, a rectangular island (10) indicates a display electrode, a display region or a region where a light-shielding film is not formed, and a lattice region (11) excluding the island region (10) is an address line. , A region where electrode lines such as data lines and switching elements are formed. On the other hand, the method of spreading the spacers in the above-mentioned area is described in
0) to one polarity, and the lattice region (1
1) can be achieved by removing all the charges or by making the polarities reversed. If the spacers have the same polarity as the islands, the spacers reaching the islands are repelled by one polarity of the islands and scattered in the lattice region.

【００２０】また配向膜をチャージさせる方法として
は、たんにラビング処理で達成できる。しかしイオンブ
ローを配向膜表面に行うことで、プラスでもマイナスで
もより確実に達成できる。また部分的にチャージを抜く
方法は、メタルラインを使用する。例えばＴＮ型で、メ
タルライン以外の部分にマイナスのスペーサを散布させ
るには、イオンブローにより配向膜全面をプラスにチャ
ージさせ、メタルを接地するかメタルの一部を露出させ
てこの露出領域より外部へチャージを放出させればよ
い。たまＴＦＴ型のようにゲートラインやドレインライ
ン上にマイナスにチャージしたスペーサを散布させたい
場合は、イオンブローにより全面をマイナスにチャージ
させ、ゲートラインおよびドレインラインを接地するか
あるいは外部雰囲気に露出している端子や別に設けた露
出領域等を介してマイナスチャージを放出する。また表
示電極は、工程中では、ＴＦＴと電気的に分離されてい
るので、この表示電極上の配向膜に存在するマイナスチ
ャージは放出できない。従ってマイナスイオンに帯電し
たスペーサは表示電極上の配向膜のチャージに反発し
て、表示電極以外の領域に散在される。The method of charging the alignment film can be achieved simply by rubbing. However, by performing ion blow on the surface of the alignment film, positive or negative can be achieved more reliably. A metal line is used to partially remove the charge. For example, in the case of a TN type, in order to disperse the negative spacers on the portion other than the metal line, the entire surface of the alignment film is positively charged by ion blow, and the metal is grounded or a part of the metal is exposed to the outside of the exposed region. You can release the charge to. When you want to spray negatively charged spacers on the gate line or drain line like the occasional TFT type, make the entire surface negatively charged by ion blow and ground the gate line and drain line or expose them to the external atmosphere. Negative charge is discharged through the terminals that are connected or exposed areas that are separately provided. Further, since the display electrode is electrically separated from the TFT during the process, the negative charge existing in the alignment film on the display electrode cannot be discharged. Therefore, the spacers charged with negative ions repel the charge of the alignment film on the display electrode and are scattered in the area other than the display electrode.

【００２１】またスペーサは、一般に樹脂よりなり、散
布装置内に収容されており、乾式法ではＮ₂ガスと一緒
に散布する。この散布前にスペーサはお互いに擦れあっ
ているので自然とマイナスにチャージアップされてい
る。さらには、強制的に振動を与えスペーサをこすり合
わせたり、電界を与えたり、またイオンブロー等により
チャージアップさせることができる。後者２つの方法で
は、逆の極性にチャージアップさせることもできる。ま
た湿式法では、フレオン、エタノール等の揮発剤または
Ｈ₂Ｏが用いられるが、前２つの揮発剤で 、チャージア
ップが可能である。スプレーノズルから散布されたスペ
ーサは、揮発剤が揮発した後周囲の雰囲気とこすれ合っ
て自然とチャージする。また基板到達直前にイオンブロ
ー等で強制的にチャージアップさせてもよい。ここでス
ペーサの材料としては、例えばスチレン樹脂やベンゾグ
アナミン樹脂等が使われる。Further, the spacer is generally made of resin and accommodated in the spraying device, and is sprayed together with N ₂ gas in the dry method. Before this spraying, the spacers rub against each other, so they are naturally charged negatively. Further, it is possible to forcibly apply vibration to rub the spacers, apply an electric field, or charge up by ion blow or the like. In the latter two methods, it is possible to charge up to the opposite polarity. Further, in the wet method, volatilizing agents such as freon and ethanol or H ₂ O are used, but charge-up is possible with the former two volatilizing agents. The spacers sprayed from the spray nozzle are rubbed against the surrounding atmosphere after the volatile agent has volatilized, and are naturally charged. Alternatively, the charge may be forcibly increased by ion blow or the like immediately before reaching the substrate. Here, as the material of the spacer, for example, styrene resin, benzoguanamine resin, or the like is used.

【００２２】先ず単純マトリックス型の液晶表示装置に
適用した実施例を図４に従い説明する。下側の第１基板
（２０）には、平行に複数本配列された第１電極（２
１）が形成され、更に上層には配向膜（２２）が全面に
被覆されている。また上側の第２基板（２３）には、前
記第１電極（２１）と交差して、平行に複数本配列され
た第２電極（２４）が形成され、更に上層には配向膜
（２６）が全面に被覆されている。First, an embodiment applied to a simple matrix type liquid crystal display device will be described with reference to FIG. A plurality of first electrodes (2) arranged in parallel are arranged on the lower first substrate (20).
1) is formed, and the upper surface is covered with an alignment film (22) over the entire surface. On the second substrate (23) on the upper side, a plurality of second electrodes (24) arranged in parallel are formed so as to intersect with the first electrode (21), and an alignment film (26) is further formed on the upper layer. Is entirely covered.

【００２３】スペーサ（２７）は、丸印で示したよう
に、第１電極（２１）や第２電極（２４）が形成されて
いない領域に配置されている。この配置方法は、配向膜
（２２）、（２６）が形成された第１基板（２０）また
は／および第２基板（２３）をラビングかイオンブロー
等によりプラスにチャージさせる。このチャージが自然
に放出される前、具体的には１０分以内が好ましい、第
１電極（２０）または／および第２電極（２３）の一部
（ここでは端子や表示領域以外の部分に配向膜を形成し
ない領域を設けることで達成できる。）を外部雰囲気に
露出させるか、あるいは接地することにより、第１電極
（２１）または／および第２電極（２４）の上の配向膜
（２２）、（２６）およびこれらの電極の極近傍の配向
膜のチャージを放出し、電極が形成されていない領域の
配向膜にはプラス電荷が残存するようにする。図４の第
１基板は、露出領域からチャージが放出される様子を、
第２基板では接地する様子を模式的に示してある。スペ
ーサ（２７）は、前述したようにあらかじめマイナスに
チャージされているので、スプレーノズルから噴霧され
たスペーサは、プラス電荷に引き寄せられる。スペーサ
は、基板（２０）、（２３）のいずれかに散布してもよ
いし、両方散布してもよい。ここでは両方に散布した時
の構成を示してある。The spacer (27) is arranged in a region where the first electrode (21) and the second electrode (24) are not formed, as indicated by circles. In this arrangement method, the first substrate (20) and / or the second substrate (23) on which the alignment films (22) and (26) are formed are positively charged by rubbing or ion blowing. Before this charge is spontaneously discharged, it is preferably within 10 minutes, specifically, a part of the first electrode (20) or / and the second electrode (23) (here, oriented to a part other than the terminal or the display region). Can be achieved by providing a region in which a film is not formed.) Is exposed to an external atmosphere or is grounded, so that the alignment film (22) on the first electrode (21) or / and the second electrode (24). , (26) and the charges of the alignment film in the immediate vicinity of these electrodes are discharged so that positive charges remain in the alignment film in the region where the electrodes are not formed. The first substrate of FIG. 4 shows how charges are discharged from the exposed region.
The second substrate is schematically shown as being grounded. Since the spacer (27) is charged in the negative in advance as described above, the spacer sprayed from the spray nozzle is attracted to the positive charge. The spacers may be sprinkled on either the substrate (20) or (23) or both. Here, the structure when sprayed on both is shown.

【００２４】またこの後には、第１基板（２０）と第２
基板（２３）がシールされ中に液晶が注入される。一般
に、工程中には、パネルを複数枚取れるように大型の基
板が採用されており、張り合わせが完了した後でブレー
クされる。一方、ラビング等で配向膜全面をチャージさ
せず、第１電極（２１）または／および第２電極（２
４）に所定の電位を与え、この電極上の配向膜のみチャ
ージし、この配向膜と反発するスペーサを噴霧しても実
施できる。After this, the first substrate (20) and the second substrate (20)
The substrate (23) is sealed and liquid crystal is injected therein. Generally, during the process, a large substrate is used so that a plurality of panels can be taken, and the substrate is broken after the bonding is completed. On the other hand, the first electrode (21) or / and the second electrode (2
It is also possible to apply a predetermined potential to 4), charge only the alignment film on this electrode, and spray a spacer that repels this alignment film.

【００２５】次にアクティブマトリックス型の液晶表示
装置に適用した実施例を図５、図６、図７および図８に
従い説明する。ここではアモルファスシリコンを使用し
たＴＦＴ構造のもので、詳細な構造は図６に、全体のス
ペーサ分布状況は図５に示した。先ず、透明な絶縁性基
板（３０）があり、この上には、複数本のゲートライン
（３１）およびこのゲートライン（３１）と実質的に平
行な複数本の補助容量ライン（３２）が設けられてい
る。図５には図面の都合上補助容量ラインは省略してあ
る。このゲートライン（３１）は、例えば約１５００Å
のＣｒより成り左右に延在されており、このゲートライ
ン（３１）から垂直に突出した領域を設け、これをＴＦ
Ｔのゲート（３３）としている。また補助容量電極（３
４）は、ゲートライン（３１）と同時に形成されるため
約１５００ÅのＣｒより成り、後述する表示電極（３
５）の下層に少なくとも一部が重畳して設けられ、左右
に隣接する補助容量電極と一体で構成するために、補助
容量ライン（３２）が前記ゲートライン（３１）と平行
に延在されている。Next, an embodiment applied to an active matrix type liquid crystal display device will be described with reference to FIGS. 5, 6, 7 and 8. Here, the TFT structure using amorphous silicon is shown in FIG. 6 for the detailed structure and in FIG. 5 for the entire spacer distribution. First, there is a transparent insulating substrate (30) on which a plurality of gate lines (31) and a plurality of auxiliary capacitance lines (32) substantially parallel to the gate lines (31) are provided. Has been. For convenience of drawing, the auxiliary capacitance line is omitted in FIG. This gate line (31) is, for example, about 1500 Å
Made of Cr and extending to the left and right, and a region vertically protruding from this gate line (31) is provided.
The gate (33) of T is used. In addition, the auxiliary capacitance electrode (3
Since 4) is formed at the same time as the gate line (31), it is made of Cr of about 1500Å, and the display electrode (3) described later is formed.
5) The auxiliary capacitance line (32) is provided so as to overlap at least a part of the lower layer and is integrally formed with the auxiliary capacitance electrodes adjacent to the left and right, so that the auxiliary capacitance line (32) extends in parallel with the gate line (31). There is.

【００２６】また前記ゲート（３３）と一体のゲートラ
イン（３１）および補助容量電極（３４）と一体の補助
容量ライン（３２）を覆うゲート絶縁膜（３６）と、こ
の補助容量電極（３４）と重畳したＩＴＯより成る表示
電極（３５）と、前記ゲート（３３）に対応する層間絶
縁層上に積層されたノンドープの非単結晶シリコン膜
（３７）と、このシリコン膜（３７）の両端に積層され
たＮ⁺型の非単結晶シリコン膜（３８）が設けられてい
る。Further, a gate insulating film (36) covering the gate line (31) integrated with the gate (33) and the auxiliary capacitance line (32) integrated with the auxiliary capacitance electrode (34), and the auxiliary capacitance electrode (34). And a non-doped non-single-crystal silicon film (37) laminated on the interlayer insulating layer corresponding to the gate (33), and a display electrode (35) made of ITO superposed on the silicon film (37). A laminated N ⁺ type non-single crystal silicon film (38) is provided.

【００２７】前記ゲート絶縁膜は、ＳｉＮｘより成り前
記ガラス基板表面に約４０００Åの厚さで形成される。
またＴＦＴが形成される層間絶縁層上には、例えばノン
ドープのアモルファスシリコン（以下ａ−Ｓｉ層とす
る。）（３７）およびＮ⁺型にドープされたアモルファ
スシリコン（以下Ｎ⁺ａ−Ｓｉ層とする。）（３８）が
積層されている。ａ−Ｓｉ層（３７）は、約１０００Å
の厚さで形成され、Ｎ⁺ａ−Ｓｉ層（３８）は、約５０
０Åの厚さで形成されている。またａ−Ｓｉ層とＮ⁺ａ
−Ｓｉ層との間には、約２５００ÅのＳｉＮｘより成る
半導体保護膜（３９） 設けられても良い。The gate insulating film is made of SiNx and is formed on the surface of the glass substrate to a thickness of about 4000Å.
On the interlayer insulating layer on which the TFT is formed, for example, non-doped amorphous silicon (hereinafter referred to as a-Si layer) (37) and N ⁺ -type amorphous silicon (hereinafter referred to as N ⁺ a-Si layer). (38) are laminated. The a-Si layer (37) is approximately 1000 Å
And the N ⁺ a-Si layer (38) has a thickness of about 50 nm.
It is formed with a thickness of 0Å. In addition, the a-Si layer and N ⁺ a
A semiconductor protective film (39) of about 2500 Å made of SiNx may be provided between the -Si layer and the -Si layer.

【００２８】更には、ドレイン領域と電気的に接続され
たドレイン電極（４０）と、このドレイン電極と一体で
前記ゲートライン（３１）と直交する方向に延在された
複数本のドレインライン（４１）と、ソース領域と電気
的に接続され前記ドレインライン（４１）とゲートライ
ン（３１）で囲まれた領域に設けられた表示電極（３
５）と電気的に接続されたソース電極（４２）とがあ
る。Further, a drain electrode (40) electrically connected to the drain region and a plurality of drain lines (41) integrally formed with the drain electrode and extending in a direction orthogonal to the gate line (31). ) And a display electrode (3) electrically connected to the source region and provided in a region surrounded by the drain line (41) and the gate line (31).
5) and the source electrode (42) electrically connected.

【００２９】前記ドレイン電極（４０）およびこれと一
体のドレインライン（４１）は、ＭｏとＡｌの２層構造
で成り、下層のＭｏは約１０００Å、上層のＡｌは約７
０００Åで成っている。また表示電極（３５）は、ＩＴ
Ｏで成っており、ソース電極をドレイン電極と同じよう
にＭｏとＡｌの２層構成で形成しているが、ＩＴＯで一
体で構成してもよい。The drain electrode (40) and the drain line (41) integral therewith have a two-layer structure of Mo and Al. The lower layer Mo has a thickness of about 1000 Å and the upper layer Al has a thickness of about 7 Å.
It is made of 000Å. The display electrode (35) is IT
Although it is made of O and the source electrode is formed of a two-layer structure of Mo and Al like the drain electrode, it may be integrally formed of ITO.

【００３０】ここまでの構造（図６におけるＡ−Ａ線に
おける断面図）を図７及び図８に示す。図７ではゲート
絶縁膜は１層であるが、図８は２層であり、下層は約３
０００ÅのＳｉＮ_x膜、上層は約２０００ÅのＳｉＮ_x膜
よりなっているが、ＳｉＯ₂膜を上層膜あるいは下層膜
として、または２層とも使用してもよい。また上層のゲ
ート絶縁膜（３５）は表示電極上の周辺を覆っており、
主な面はエッチングにより露出させてある。The structure up to this point (a sectional view taken along line AA in FIG. 6) is shown in FIGS. In FIG. 7, the gate insulating film has one layer, but FIG. 8 has two layers, and the lower layer has about 3 layers.
The SiN _x film of 000A, but the upper layer is made from the SiN _x film of about 2000 Å, the SiO ₂ film as an upper layer or a lower layer film, or both two layers may be used. The upper gate insulating film (35) covers the periphery of the display electrode,
The main surface is exposed by etching.

【００３１】更には図示を省略したがファイナルパシベ
ーションを形成し、またはこのパシベーションを省略
し、直接配向膜が形成され、対向するガラス基板には、
遮光膜、対向電極および配向膜等が設けられる。そして
スペーサを介してこの２枚のガラス基板の周辺がシール
され、中に液晶が注入されて本装置が得られる。ここで
前記配向膜、前記スペーサの配置状況およびこのスペー
サの配置方法が本発明の特徴である。Although not shown in the drawing, final passivation is formed, or this passivation is omitted and a direct alignment film is directly formed on the opposing glass substrate.
A light shielding film, a counter electrode, an alignment film and the like are provided. Then, the periphery of the two glass substrates is sealed via a spacer, and liquid crystal is injected into the inside to obtain the present device. Here, the alignment film, the arrangement state of the spacers, and the arrangement method of the spacers are the features of the present invention.

【００３２】配向膜は、シート抵抗が高い高分子膜が使
用されている。例えばポリイミドを用いる場合、略完全
にイミド化されているものが好ましい。完全に重合され
ていれば前記シート抵抗が高くなりチャージアップし易
くなるためである。この配向膜は、基板を洗浄した後印
刷等の技術で被覆され、硬化した後ラビング処理が施さ
れる。この後再び洗浄され、全面にイオンブローを行い
配向膜をマイナスにチャージアップさせる。A polymer film having a high sheet resistance is used as the alignment film. For example, when polyimide is used, it is preferable that it is almost completely imidized. This is because the sheet resistance becomes high and charging up becomes easy if the polymerization is completed. This alignment film is covered with a technique such as printing after cleaning the substrate, and after being cured, subjected to a rubbing treatment. After that, the film is washed again, and the entire surface is ion-blown to negatively charge up the alignment film.

【００３３】前述したようにゲートラインおよびドレイ
ンラインは、端子が基板の周辺にあり、外部雰囲気と接
触しているので、ゲートライン及びドレインライン上の
配向膜に存在しているチャージは、このゲートラインお
よびドレインラインを介して外部雰囲気に放出される。
図５ではこのことを説明するために矢印で放出の様子を
示した。あるいは、ゲート端子及びドレイン端子を接地
電極に接続し、強制的にチャージを抜いてもよい。As described above, since the terminals of the gate line and the drain line are in the periphery of the substrate and are in contact with the external atmosphere, the charge existing in the alignment film on the gate line and the drain line is It is released to the external atmosphere through the line and the drain line.
In FIG. 5, in order to explain this, the state of release is shown by an arrow. Alternatively, the gate terminal and the drain terminal may be connected to the ground electrode to forcibly discharge the charge.

【００３４】従ってゲートライン、ドレインラインおよ
びこれらのラインの近傍に位置する配向膜のチャージは
放出され、チャージ量が低くなるかまたは全くなくな
る。しかし表示電極は、スペーサを噴霧する工程ではト
ランジスタが停止しているので、電気的に分離されてお
り、この表示電極及びその近傍の配向膜のチャージは、
ドレインラインを介して放出できない。また直接外部に
放出することもあろうがその量は極めて少ない。従って
表示電極及びその近傍の配向膜のみがマイナスにチャー
ジされるので、マイナスにチャージされたスペーサを散
布すれば、配向膜の静電位に反発して表示電極以外の領
域に散布される。図５に示した丸印は、このスペーサの
散布状況である。またゲートラインおよびドレインライ
ンは上方に突出しているので、配向膜を形成してもやは
り上方に配向膜は突出している。この突出面は熱処理等
が加えられるのでどうしても丸く蒲鉾状に形成される。
従ってスペーサが直接あるいは反発して落下した場合で
も、このライン上で安定せず低いところに転がる。Therefore, the charges of the gate line, the drain line and the alignment film located in the vicinity of these lines are discharged, and the charge amount becomes low or disappears at all. However, the display electrode is electrically separated because the transistor is stopped in the process of spraying the spacer, and the charge of the display electrode and the alignment film in the vicinity thereof is
It cannot be released through the drain line. It may be released directly to the outside, but the amount is extremely small. Therefore, only the display electrode and the alignment film in the vicinity thereof are negatively charged. Therefore, if the negatively charged spacers are dispersed, the spacers repel the electrostatic potential of the alignment film and are dispersed in regions other than the display electrode. The circles shown in FIG. 5 indicate the spraying status of the spacers. Further, since the gate line and the drain line project upward, even if the alignment film is formed, the alignment film also projects upward. Since this protruding surface is subjected to heat treatment or the like, it is inevitably formed into a round and semi-cylindrical shape.
Therefore, even if the spacer falls directly or repulsively, it will not be stable on this line and will roll to a low position.

【００３５】以上のように表示電極上の配向膜をマイナ
スにチャージアップさせることで、殆どのスペーサはこ
の上に散布されず、このスペーサによる表示品質の低下
を防止できる。当然反発力が小さければ表示電極に落下
するがごく稀である。このスペーサの散布が終わると、
基板周辺にシール樹脂が塗布され対向基板と貼り合わさ
れ、中に液晶が注入される。ここまでは複数枚のパネル
が取れるように大型ガラス基板で進行してゆく。続いて
硝子カッターにより複数枚のパネルにブレークされた
後、検査工程を経て不良品を取り除き、偏光板がパネル
の両側に配置されて完成する。By negatively charging up the alignment film on the display electrodes as described above, most of the spacers are not scattered on the alignment film, and the deterioration of the display quality due to the spacers can be prevented. Naturally, if the repulsive force is small, it falls on the display electrode, but it is extremely rare. After spraying the spacers,
A seal resin is applied to the periphery of the substrate and bonded to the counter substrate, and liquid crystal is injected into the inside. Up to this point, we proceed with a large glass substrate so that multiple panels can be removed. Then, after being broken into a plurality of panels by a glass cutter, a defective product is removed through an inspection process, and polarizing plates are arranged on both sides of the panel to complete.

【００３６】以上アクティブマトリックス型の一例とし
て逆スタガー型のａ−ＳｉＴＦＴで説明してきたが、ス
タガー型、逆スタガー型またはスタガー型のポリシリコ
ンのＴＦＴ、ＭＩＭでも達成できることは言うまでもな
い。Although the reverse stagger type a-Si TFT has been described as an example of the active matrix type, it goes without saying that it can be achieved by a stagger type, reverse stagger type or stagger type polysilicon TFT, or MIM.

【００３７】[0037]

【発明の効果】以上の説明から明らかな通り、スペーサ
は表示電極上に落下することがないので、表示品質の低
下を防止できる。また今後高密度画素を達成するために
表示電極の微小化が考えられるが、表示電極上にスペー
サが落下しないのでハイビジョン等に有効である。As is clear from the above description, since the spacer does not drop on the display electrode, it is possible to prevent deterioration of display quality. Further, miniaturization of display electrodes can be considered in order to achieve high-density pixels in the future, but spacers do not drop on the display electrodes, which is effective for high-vision and the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本発明の液晶表示装置のスペーサ散布状況を説
明した概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a spacer dispersion state of a liquid crystal display device of the present invention.

【図２】従来の液晶表示装置のスペーサ散布状況を説明
した概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram illustrating how spacers are dispersed in a conventional liquid crystal display device.

【図３】スペーサによる表示品質の低下を説明した図で
ある。FIG. 3 is a diagram illustrating a reduction in display quality due to a spacer.

【図４】本発明を単純マトリックスに応用した時のスペ
ーサ散布状況図である。FIG. 4 is a diagram showing how spacers are scattered when the present invention is applied to a simple matrix.

【図５】本発明をアクティブマトリックスに応用した時
のスペーサ散布状況図である。FIG. 5 is a diagram showing how spacers are scattered when the present invention is applied to an active matrix.

【図６】図５における１セルの具体構造を示した平面図
である。6 is a plan view showing a specific structure of one cell in FIG.

【図７】図６のＡ−Ａ線における断面図である。7 is a sectional view taken along the line AA of FIG.

【図８】図６のＡ−Ａ線における断面図である。8 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.

【符号説明】[Explanation of symbols]

１０ 表示領域 ２０ 第１基板 ２１ 第１電極線 ２２ 配向膜 ２３ 第２基板 ２４ 第２電極 ２６ 配向膜 ２７ スペーサ ３０ 透明な絶縁性基板 ３１ ゲートライン ３３ ゲート ３５ 表示電極 ３６ ゲート絶縁膜 ３７ ａ−Ｓｉ膜 ３８ Ｎ⁺ａ−Ｓｉ膜 ４０ ドレイン電極 ４１ ドレインライン ４２ ソース電極10 Display Area 20 First Substrate 21 First Electrode Line 22 Alignment Film 23 Second Substrate 24 Second Electrode 26 Alignment Film 27 Spacer 30 Transparent Insulating Substrate 31 Gate Line 33 Gate 35 Display Electrode 36 Gate Insulation Film 37 a-Si Film 38 N ⁺ a-Si film 40 Drain electrode 41 Drain line 42 Source electrode

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 一対の透明な絶縁性基板の間にスペーサ
が配置され、このスペーサにより前記一対の絶縁性基板
が所定間隔に設けられ、この間に液晶が注入された液晶
表示装置において、 この透明な絶縁性基板上に電荷が逃げにくい配向膜が設
けられ、前記スペーサは、実質的に遮光膜に対応する前
記配向膜上に分散されることを特徴とした液晶表示装
置。1. A liquid crystal display device in which spacers are arranged between a pair of transparent insulating substrates, and the pair of insulating substrates are provided at predetermined intervals by the spacers, and liquid crystal is injected between them. A liquid crystal display device, characterized in that an alignment film, on which electric charges are hard to escape, is provided on a non-insulating substrate, and the spacers are dispersed on the alignment film substantially corresponding to the light-shielding film. 【請求項２】 一対の透明な絶縁性基板の間にスペーサ
が配置され、このスペーサにより前記一対の絶縁性基板
が所定間隔に設けられ、この間に液晶が注入された液晶
表示装置において、 この透明な絶縁性基板上に電荷が逃げにくい配向膜が設
けられ、前記スペーサは、実質的にこの透明な絶縁性基
板に形成された表示領域以外に対応する前記配向膜上に
分散されることを特徴とした液晶表示装置。2. A liquid crystal display device in which spacers are arranged between a pair of transparent insulating substrates, the pair of insulating substrates are provided at predetermined intervals by the spacers, and liquid crystal is injected between them. An alignment film is provided on the transparent insulating substrate, and the spacers are dispersed on the alignment film corresponding to a region other than the display region substantially formed on the transparent insulating substrate. Liquid crystal display device. 【請求項３】 透明な第１の絶縁性基板上に絶縁層を介
して絶縁された複数本のデータ線および複数本のアドレ
ス線と、この交点に形成されたスイッチング素子と電気
的に接続された表示電極と、前記絶縁性基板全面に実質
的に設けられた電荷の逃げにくい配向膜と、この第１の
絶縁性基板に対向する透明な第２の絶縁性基板に形成さ
れた遮光膜と、この絶縁性基板全面に実質的に設けられ
た対向電極および配向膜とを少なくとも有する液晶表示
装置において、 前記第１の絶縁性基板と第２の絶縁性基板にはスペーサ
が設けられ、このスペーサは、実質的に前記表示電極以
外に対応する領域に分散されることを特徴とした液晶表
示装置。3. A plurality of data lines and a plurality of address lines insulated via an insulating layer on a transparent first insulating substrate, and electrically connected to a switching element formed at this intersection. A display electrode, an alignment film that is substantially provided on the entire surface of the insulating substrate and does not allow the electric charge to easily escape, and a light-shielding film that is formed on a transparent second insulating substrate facing the first insulating substrate. In the liquid crystal display device having at least the counter electrode and the alignment film substantially provided on the entire surface of the insulating substrate, a spacer is provided on the first insulating substrate and the second insulating substrate, and the spacer is provided. Are dispersed in a region substantially corresponding to the area other than the display electrodes. 【請求項４】 透明な第１の絶縁性基板上に絶縁層を介
して絶縁された複数本のアドレス線および複数本のデー
タ線と、この交点に形成されたＴＦＴのソース電極と電
気的に接続された表示電極と、前記絶縁性基板全面に実
質的に設けられた配向膜と、この第１の絶縁性基板に対
向する透明な第２の絶縁性基板に形成された遮光膜と、
この絶縁性基板全面に実質的に設けられた対向電極およ
び配向膜とを少なくとも有する液晶表示装置において、 前記第１の絶縁性基板と第２の絶縁性基板にはスペーサ
が設けられ、このスペーサは、前記表示電極上の配向膜
に帯電した静電気力に反発して、この表示電極以外に対
応する領域に、実質的に分散されることを特徴とした液
晶表示装置。4. A plurality of address lines and a plurality of data lines insulated via an insulating layer on a transparent first insulating substrate, and a source electrode of a TFT formed at this intersection electrically. A connected display electrode, an alignment film substantially provided on the entire surface of the insulating substrate, and a light shielding film formed on a transparent second insulating substrate facing the first insulating substrate,
In a liquid crystal display device having at least a counter electrode and an alignment film substantially provided on the entire surface of the insulating substrate, a spacer is provided on the first insulating substrate and the second insulating substrate, and the spacer is A liquid crystal display device, wherein the liquid crystal display device is repelled by an electrostatic force charged on the alignment film on the display electrode and is substantially dispersed in a region other than the display electrode. 【請求項５】 前記第１の絶縁性基板に設けられる配向
膜は、前記静電気力によるスペーサの反発を生じさせる
ために、ほぼ完全に重合されたシート抵抗の高い有機材
料よりなる請求項４記載の液晶表示装置。5. The alignment film provided on the first insulative substrate is made of an organic material having a high sheet resistance, which is almost completely polymerized in order to cause repulsion of the spacer due to the electrostatic force. Liquid crystal display device. 【請求項６】 透明な第１の絶縁性基板に複数本の第１
電極線を形成し、全面に配向膜を形成する工程と、 透明な第２の絶縁性基板に前記第１電極線と交差する複
数本の第２電極線を形成し、全面に配向膜を形成する工
程と、 前記第１の絶縁性基板または／および第２の絶縁性基板
に形成された第１電極線または／および第２電極線上の
配向膜を所定の静電位に帯電させた状態で、ここにこの
静電位と反発するスペーサを前記第１の絶縁性基板また
は／および前記第２の絶縁性基板に噴霧する工程と、 この第２の絶縁性基板と前記第１の絶縁性基板を対向さ
せてシールする工程と、 この一対の基板間に液晶を注入する工程とを少なくとも
有することを特徴とした液晶表示装置の製造法法。6. A plurality of first electrodes on a transparent first insulating substrate.
A step of forming electrode lines and forming an alignment film on the entire surface, and forming a plurality of second electrode lines intersecting the first electrode lines on a transparent second insulating substrate and forming an alignment film on the entire surface. And a state in which the alignment film on the first electrode line or / and the second electrode line formed on the first insulating substrate or / and the second insulating substrate is charged to a predetermined electrostatic potential, Here, a step of spraying a spacer that repels this electrostatic potential onto the first insulating substrate and / or the second insulating substrate, and the second insulating substrate and the first insulating substrate are opposed to each other. A method for manufacturing a liquid crystal display device, which comprises at least a step of allowing the liquid crystal to be sealed and a step of injecting liquid crystal between the pair of substrates. 【請求項７】 透明な第１の絶縁性基板に複数本の第１
電極線形成し、全面に配向膜を形成する工程と、 透明な第２の絶縁性基板に前記第１電極線と交差する複
数本の第２電極線を形成し、全面に配向膜を形成する工
程と、 前記第１の絶縁性基板または／および第２の絶縁性基板
に形成された前記電極線上の配向膜の電荷を放出し、こ
の電極線を除く領域を所定の静電位に帯電した状態で、
ここにこの静電位に誘引するスペーサを前記第１の絶縁
性基板または／および前記第２の絶縁性基板に噴霧する
工程と、 この第２の絶縁性基板と前記第１の絶縁性基板を対向さ
せてシールする工程と、 この一対の基板間に液晶を注入する工程とを少なくとも
有することを特徴とした液晶表示装置の製造法法。7. A plurality of first electrodes on a transparent first insulating substrate.
A step of forming electrode lines and forming an alignment film on the entire surface, and forming a plurality of second electrode lines intersecting with the first electrode lines on a transparent second insulating substrate and forming an alignment film on the entire surface And a state in which the charge of the alignment film on the electrode line formed on the first insulating substrate and / or the second insulating substrate is discharged, and the region excluding the electrode line is charged to a predetermined electrostatic potential. so,
Spraying a spacer attracting this electrostatic potential onto the first insulating substrate and / or the second insulating substrate; and opposing the second insulating substrate and the first insulating substrate to each other. A method for manufacturing a liquid crystal display device, which comprises at least a step of allowing the liquid crystal to be sealed and a step of injecting liquid crystal between the pair of substrates. 【請求項８】 透明な第１の絶縁性基板上に絶縁膜を介
して設けられた複数本のアドレス線および複数本のデー
タ線とこの交点に設けられたスイッチング素子とこのス
イッチング素子と電気的に接続された表示電極とを形成
する工程と、 前記第１の絶縁性基板全面に配向膜を形成する工程と、 前記表示電極上の配向膜に別工程で静電気力を帯電させ
るかまたは前工程までに帯電した静電気力を保持し、こ
の静電気力と反発するスペーサを前記第１の絶縁性基板
上に噴霧し、表示電極に対応する領域以外にこのスペー
サを分散させる工程と、 前記第１の絶縁性基板またはこの基板と対向し、遮光
膜、対向電極および配向膜とを少なくとも有する透明な
第２の絶縁性基板と前記第１の絶縁性基板を対向させて
シールする工程と、 この一対の基板間に液晶を注入する工程とを少なくとも
有することを特徴とした液晶表示装置の製造法法。8. A plurality of address lines and a plurality of data lines provided on a transparent first insulating substrate via an insulating film and a switching element provided at this intersection, and an electrical connection between the switching element and the switching element. A step of forming a display electrode connected to the display electrode, a step of forming an alignment film on the entire surface of the first insulating substrate, and a step of charging the alignment film on the display electrode with an electrostatic force in a separate step or a previous step. Holding the electrostatic force charged up to, and spraying a spacer that repels the electrostatic force onto the first insulating substrate to disperse the spacer in a region other than the region corresponding to the display electrode; An insulating substrate or a step of facing the substrate and sealing the transparent second insulating substrate, which has at least a light-shielding film, a counter electrode and an alignment film, and the first insulating substrate so as to face each other; and substrate Preparation method of the liquid crystal display device characterized by having at least a step of injecting liquid crystal. 【請求項９】 前記表示電極と電気的に絶縁されている
データ線を所定の電位またはゼロ電位に設定し、前記表
示電極上の配向膜に帯電した静電気力に反発するスペー
サを表示電極領域以外で誘引させる請求項６記載の液晶
表示装置の製造法法。9. A data line electrically insulated from the display electrode is set to a predetermined potential or zero potential, and a spacer that repels the electrostatic force charged on the alignment film on the display electrode is provided outside the display electrode region. 7. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 6, wherein the method of manufacturing the liquid crystal display device is induced by.