JPH048404Y2 - - Google Patents
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- JPH048404Y2 JPH048404Y2 JP1986195022U JP19502286U JPH048404Y2 JP H048404 Y2 JPH048404 Y2 JP H048404Y2 JP 1986195022 U JP1986195022 U JP 1986195022U JP 19502286 U JP19502286 U JP 19502286U JP H048404 Y2 JPH048404 Y2 JP H048404Y2
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- JP
- Japan
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- light
- shielding
- shielding plate
- transmitting slit
- heat
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 18
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この考案は集光点付近で光をマスキングするの
に用いられる光学機器、特にICリード線等の光
ハンダ付機器に使用される透光用スリツト装置に
関し、その目的はハンダ付対象物の外縁のみの複
数箇所を同時に同時に加熱し、且つ光源からの照
射光による透光用スリツトのスリツト部分の熱変
形を防止して、精密なマスキングを行うことがで
きる光ハンダ付機器の透光用スリツト装置の提供
にある。
に用いられる光学機器、特にICリード線等の光
ハンダ付機器に使用される透光用スリツト装置に
関し、その目的はハンダ付対象物の外縁のみの複
数箇所を同時に同時に加熱し、且つ光源からの照
射光による透光用スリツトのスリツト部分の熱変
形を防止して、精密なマスキングを行うことがで
きる光ハンダ付機器の透光用スリツト装置の提供
にある。
(従来技術及びその問題点)
従来、第4図A,Bに示すように光学機器の透
光用スリツト装置aは遮光板bの略中央部に透光
用スリツトcを形成しており、遮光板bに向けて
照射した光を遮光板bでマスキングし、一部透光
用スリツトcから透過させている。
光用スリツト装置aは遮光板bの略中央部に透光
用スリツトcを形成しており、遮光板bに向けて
照射した光を遮光板bでマスキングし、一部透光
用スリツトcから透過させている。
しかしながら、この透光用スリツト装置aでは
透光用スリツトcを打抜きにより形成しているた
め、次のような問題があつた。
透光用スリツトcを打抜きにより形成しているた
め、次のような問題があつた。
すなわち、光照射により発生する熱で中央部d
を保持する連結部eが破損され易かつた。
を保持する連結部eが破損され易かつた。
また、集光密度の高い中央部dに吸収された熱
が連結部eを介して透光用スリツトcの周囲に伝
達され、同部の温度が上昇するが、同部はいずれ
も平板状であるため透光用スリツトc周囲が平面
方向に熱膨張し、透光用スリツトcの形状が変化
し光のマスキングが精密に行われなかつた。
が連結部eを介して透光用スリツトcの周囲に伝
達され、同部の温度が上昇するが、同部はいずれ
も平板状であるため透光用スリツトc周囲が平面
方向に熱膨張し、透光用スリツトcの形状が変化
し光のマスキングが精密に行われなかつた。
一方、特開昭61−212838号公報においては、コ
ンタクトガラスと光源との間に耐熱透明部材を設
けて、電子写真複写機の原稿載置部の温度上昇を
防止した「電子写真複写機の原稿照明装置」が開
示されている。
ンタクトガラスと光源との間に耐熱透明部材を設
けて、電子写真複写機の原稿載置部の温度上昇を
防止した「電子写真複写機の原稿照明装置」が開
示されている。
しかしながら、この技術のように耐熱透明部材
を設けてスリツト装置を構成しても、ハンダ付作
業のように精密な光のマスキングを行いながら、
且つ、スリツト部分のより完全な熱劣化を防止す
るという用途には不充分であつた。
を設けてスリツト装置を構成しても、ハンダ付作
業のように精密な光のマスキングを行いながら、
且つ、スリツト部分のより完全な熱劣化を防止す
るという用途には不充分であつた。
また、特開昭53−30350号「暗視野照明顕微鏡」
公報においては、環状マスクを対物レンズの写像
位置に設けた技術も開示されている。
公報においては、環状マスクを対物レンズの写像
位置に設けた技術も開示されている。
この技術においては、光源からの照射光を遮光
するために環状マスクが使用されているが、平板
形状であるため、前記第4図に示すものと同様、
光源からの照射光によりハンダ付けを行う場合に
は、スリツト孔周囲が熱により変形しやすく精密
なマスキングを行うには不向きであつた。
するために環状マスクが使用されているが、平板
形状であるため、前記第4図に示すものと同様、
光源からの照射光によりハンダ付けを行う場合に
は、スリツト孔周囲が熱により変形しやすく精密
なマスキングを行うには不向きであつた。
(問題を解決するための手段)
この考案では遮光板とこの遮光板上に立設され
た円筒形状の支持胴とこの支持胴の上端に水平装
着された耐熱ガラスとからなり、前記耐熱ガラス
には下面中央部から遮光板へ向けて遮光軸が垂設
され、前記遮光板の略中央部には十文字形状の透
孔が形成され、この透孔の内周縁と前記遮光軸の
先端部外周縁との間が透光用スリツトとして形成
されてなるとともに前記遮光軸は軸線に沿つて熱
膨張自在とされ且つ前記支持胴の周面には冷却フ
インが形成されてなることを特徴とする光ハンダ
付機器の透光用スリツト装置を提供することによ
り上記問題点を悉く解決する。
た円筒形状の支持胴とこの支持胴の上端に水平装
着された耐熱ガラスとからなり、前記耐熱ガラス
には下面中央部から遮光板へ向けて遮光軸が垂設
され、前記遮光板の略中央部には十文字形状の透
孔が形成され、この透孔の内周縁と前記遮光軸の
先端部外周縁との間が透光用スリツトとして形成
されてなるとともに前記遮光軸は軸線に沿つて熱
膨張自在とされ且つ前記支持胴の周面には冷却フ
インが形成されてなることを特徴とする光ハンダ
付機器の透光用スリツト装置を提供することによ
り上記問題点を悉く解決する。
(実施例 1)
第1図A乃至B、第2図A乃至Cはこの考案の
実施例1に係る光学機器としての光ハンダ付装置
を説明する図で、図中1は光ハンダ付装置を示
す。
実施例1に係る光学機器としての光ハンダ付装置
を説明する図で、図中1は光ハンダ付装置を示
す。
この光ハンダ付装置1はケーシング2の上部に
曲面反射鏡3を有している。
曲面反射鏡3を有している。
この曲面反射鏡3は仮想直線4上に第1焦点5
を有するとともにこの第1焦点5で仮想直線4と
所定角度6をなして交わる光軸7上に第2焦点8
を有する楕円弧9を設定し、この楕円弧9を前記
仮想直線4を中心に回転させて得られる回転軌跡
を反射面10としてこの反射面10前方に円環状
に集光される第2焦点群11を有している(第2
図B参照)。
を有するとともにこの第1焦点5で仮想直線4と
所定角度6をなして交わる光軸7上に第2焦点8
を有する楕円弧9を設定し、この楕円弧9を前記
仮想直線4を中心に回転させて得られる回転軌跡
を反射面10としてこの反射面10前方に円環状
に集光される第2焦点群11を有している(第2
図B参照)。
この曲面反射鏡3の第1焦点5位置には光源1
2が配設されている。
2が配設されている。
この光源12としてはクセノンランプその他の
赤外線を有する高効率の光源が用いられる。
赤外線を有する高効率の光源が用いられる。
また、ケーシング2の中途部には透光用スリツ
ト装置sが出入自在に収容されている。
ト装置sが出入自在に収容されている。
この透光用スリツト装置sには曲面反射鏡3の
第2焦点群11とオーバーラツプする透光用スリ
ツト13が形成されている。
第2焦点群11とオーバーラツプする透光用スリ
ツト13が形成されている。
この透光用スリツト13は遮光軸14の先端部
外周縁と遮光板15の透孔16内周縁との間に形
成されている。
外周縁と遮光板15の透孔16内周縁との間に形
成されている。
遮光板15はケーシング2の中途部に出入自在
に水平に装着され、その中央部には十文字形状の
透孔16が形成されている(第2図B参照)。
に水平に装着され、その中央部には十文字形状の
透孔16が形成されている(第2図B参照)。
一方、遮光軸14は遮光板15上に立設された
円筒形状の支持胴18の上端に水平装着された耐
熱ガラス19の中央部から前記仮想直線4に沿つ
て垂設されている。
円筒形状の支持胴18の上端に水平装着された耐
熱ガラス19の中央部から前記仮想直線4に沿つ
て垂設されている。
この遮光軸14は真鋳、黄銅等の金属素材で角
柱形状に形成されており、その先端20は十文字
形状の透孔16の交叉部分とオーバーラツプさせ
ている(第2図B参照)。
柱形状に形成されており、その先端20は十文字
形状の透孔16の交叉部分とオーバーラツプさせ
ている(第2図B参照)。
この遮光軸14と透孔16の各種大きさのもの
を大小組合せた数種の透光用スリツト装置sを複
数用意しておき、ハンダ付対象物に応じて交換自
在とする。
を大小組合せた数種の透光用スリツト装置sを複
数用意しておき、ハンダ付対象物に応じて交換自
在とする。
尚、支持胴18の周面には冷却フイン21が形
成されている。
成されている。
また、ケーシング2の下部には透光用スリツト
13の前方に位置して絞り筒22が配設されてい
る。
13の前方に位置して絞り筒22が配設されてい
る。
この絞り筒22には上下部に各2枚の凸状の絞
りレンズ23が配列されている。
りレンズ23が配列されている。
この絞り筒22の前方にはハンダ付作業台24
が配設されている。
が配設されている。
また、絞り筒22の側方にはモニタースクリー
ン25が配設されている。
ン25が配設されている。
このモニタースクリーン25は折曲状のスクリ
ーンケース26を有している。
ーンケース26を有している。
このスクリーンケース26は先端拡開状に形成
され基端を絞り筒22の側壁27に軸支されてい
る。
され基端を絞り筒22の側壁27に軸支されてい
る。
このスクリーンケース26の先端開口28にス
クリーン29が装着され、スクリーンケース26
の折曲部30内に平面の投影反射鏡31が配設さ
れている。
クリーン29が装着され、スクリーンケース26
の折曲部30内に平面の投影反射鏡31が配設さ
れている。
一方、絞り筒22の内部中央にはハンダ付作業
台24からの反射光37を投影反射鏡31に中継
する平面の中継反射鏡32が配設されている。
台24からの反射光37を投影反射鏡31に中継
する平面の中継反射鏡32が配設されている。
この考案の実施例1の構成は以上の通りであ
り、次に同例の使用状態を説明する。
り、次に同例の使用状態を説明する。
第2図に示すようにこの光ハンダ付装置1を用
いてICのフラツトパツケージ33をプリント基
板34に装着するには、所定位置に予備的にハン
ダを付着させたプリント基板34をハンダ付作業
台24に載置し、プリント基板34の所定位置に
フラツトパツケージ33を載せ、光源12を点灯
すればよい。
いてICのフラツトパツケージ33をプリント基
板34に装着するには、所定位置に予備的にハン
ダを付着させたプリント基板34をハンダ付作業
台24に載置し、プリント基板34の所定位置に
フラツトパツケージ33を載せ、光源12を点灯
すればよい。
光源12から照射される光線35は曲面反射鏡
3の反射面10で反射された第2焦点8位置で第
2焦点群11として円環状に集光され、透光用ス
リツト13から透過され、各絞りレンズ23によ
り絞られ、フラツトパツケージ33の四周から突
出されているリード線36の先端に沿つて集光3
8して同部を加熱し、リード線36がプリント基
板34にハンダ付けされる。
3の反射面10で反射された第2焦点8位置で第
2焦点群11として円環状に集光され、透光用ス
リツト13から透過され、各絞りレンズ23によ
り絞られ、フラツトパツケージ33の四周から突
出されているリード線36の先端に沿つて集光3
8して同部を加熱し、リード線36がプリント基
板34にハンダ付けされる。
この際、第2焦点8位置での集光により発生す
る熱は遮光軸14に吸収されるが、遮光軸14は
軸線に沿つて熱膨張できるので径方向の熱変化が
小さく透光用スリツトの熱による形状変化が小さ
い。
る熱は遮光軸14に吸収されるが、遮光軸14は
軸線に沿つて熱膨張できるので径方向の熱変化が
小さく透光用スリツトの熱による形状変化が小さ
い。
一方、プリント基板34上で反射する光線37
は中継反射鏡32、投影反射鏡31を順次介して
スクリーン29上に照射され、スクリーン29に
ハンダ付作業台24上の作業状況が投影される。
は中継反射鏡32、投影反射鏡31を順次介して
スクリーン29上に照射され、スクリーン29に
ハンダ付作業台24上の作業状況が投影される。
(実施例 2)
第3図A乃至Cはこの考案の実施例2に係る光
学機器としての光ハンダ付装置を説明する図であ
る。
学機器としての光ハンダ付装置を説明する図であ
る。
この例では曲面反射鏡3に通常の楕円反射鏡、
すなわち仮想直線4上に第1焦点5と第2焦点8
を共に有するものを用い、透光用スリツト13を
第2焦点8よりも曲面反射鏡12に近づけた他は
実施例1と同様に構成した。
すなわち仮想直線4上に第1焦点5と第2焦点8
を共に有するものを用い、透光用スリツト13を
第2焦点8よりも曲面反射鏡12に近づけた他は
実施例1と同様に構成した。
この例の光ハンダ付装置1では光線35は耐熱
ガラスを円環状ではなく円形状に透過し、透光用
スリツト13を透過した後に第2焦点8で集光さ
れ、各絞りレンズ23により絞られ、フラツトパ
ツケージ33の四周から突出されているリード線
36の先端に沿つて集光して同部を加熱し、リー
ド線36がプリント基板34にハンダ付けされ
る。
ガラスを円環状ではなく円形状に透過し、透光用
スリツト13を透過した後に第2焦点8で集光さ
れ、各絞りレンズ23により絞られ、フラツトパ
ツケージ33の四周から突出されているリード線
36の先端に沿つて集光して同部を加熱し、リー
ド線36がプリント基板34にハンダ付けされ
る。
この際、第2焦点8位置での集光により発生す
る熱は遮光軸14に吸収されるが、遮光軸14は
軸線に沿つて熱膨張できるので、径方向の変化が
小さく、透光用スリツト13の熱による形状変化
が小さい。
る熱は遮光軸14に吸収されるが、遮光軸14は
軸線に沿つて熱膨張できるので、径方向の変化が
小さく、透光用スリツト13の熱による形状変化
が小さい。
(考案の効果)
この考案は遮光板とこの遮光板上に立設された
円筒形状の支持胴とこの支持胴の上端に水平装着
された耐熱ガラスとからなり、前記耐熱ガラスに
は下面中央部から遮光板へ向けて遮光軸が垂設さ
れ、前記遮光板の略中央部には十文字形状の透孔
が形成され、この透孔の内周縁と前記遮光軸の先
端部外周縁との間が透光用スリツトとして形成さ
れてなるとともに前記遮光軸は軸線に沿つて熱膨
張自在とされ且つ前記支持胴の周面には冷却フイ
ンが形成されてなることを特徴とする光ハンダ付
機器の透光用スリツト装置であるから以下の効果
を奏する。
円筒形状の支持胴とこの支持胴の上端に水平装着
された耐熱ガラスとからなり、前記耐熱ガラスに
は下面中央部から遮光板へ向けて遮光軸が垂設さ
れ、前記遮光板の略中央部には十文字形状の透孔
が形成され、この透孔の内周縁と前記遮光軸の先
端部外周縁との間が透光用スリツトとして形成さ
れてなるとともに前記遮光軸は軸線に沿つて熱膨
張自在とされ且つ前記支持胴の周面には冷却フイ
ンが形成されてなることを特徴とする光ハンダ付
機器の透光用スリツト装置であるから以下の効果
を奏する。
すなわち、光源からの照射光及び曲面反射鏡か
らの反射光の集束光により発生する熱は耐熱ガラ
スによつて吸収され、この耐熱ガラスに吸収され
た熱がさらに遮光軸によつて吸収されるが、この
遮光軸は軸線に沿つて熱膨張できるので、径方向
の変化が小さく、透光用スリツトの熱による形状
変化がほとんどないので、ハンダ付け作業におい
ては、光のマスキングが精密に行え、ハンダ付け
対象物の中央部を加熱することなく、外周面の複
数箇所を同時に加熱できる。
らの反射光の集束光により発生する熱は耐熱ガラ
スによつて吸収され、この耐熱ガラスに吸収され
た熱がさらに遮光軸によつて吸収されるが、この
遮光軸は軸線に沿つて熱膨張できるので、径方向
の変化が小さく、透光用スリツトの熱による形状
変化がほとんどないので、ハンダ付け作業におい
ては、光のマスキングが精密に行え、ハンダ付け
対象物の中央部を加熱することなく、外周面の複
数箇所を同時に加熱できる。
さらに、遮光板上には周面に冷却フインが形成
された支持胴が立設されているので遮光板上の加
熱が遮光軸のみではなく、この支持胴によつても
防止される。
された支持胴が立設されているので遮光板上の加
熱が遮光軸のみではなく、この支持胴によつても
防止される。
また、スリツト装置は、遮光板上に形成された
十文字状の透孔の内周縁と、遮光軸先端部の外周
縁との間に形成されているので、ハンダ付対象物
の加熱を避けなければならない中央部を加熱する
ことなく、加熱を必要とする外周囲の複数箇所を
同時に加熱でき、しかも、このスリツト装置は耐
熱ガラス、遮光軸、支持胴の冷却フインにより加
熱されることがないのでスリツト装置が熱劣化さ
れることなく、精密な光のマスキングが行なえる
という優れた効果を奏する。
十文字状の透孔の内周縁と、遮光軸先端部の外周
縁との間に形成されているので、ハンダ付対象物
の加熱を避けなければならない中央部を加熱する
ことなく、加熱を必要とする外周囲の複数箇所を
同時に加熱でき、しかも、このスリツト装置は耐
熱ガラス、遮光軸、支持胴の冷却フインにより加
熱されることがないのでスリツト装置が熱劣化さ
れることなく、精密な光のマスキングが行なえる
という優れた効果を奏する。
第1図Aはこの考案の実施例1に係る光ハンダ
付装置の正面図、同図Bは同装置の内部構造説明
図、第2図Aは同装置の使用状態説明図、同図B
は同図AのB−B断面図、同図Cは同図AのC−
C断面図、第3図Aはこの考案の実施例2に係る
光ハンダ付装置の説明図、同図Bは同図AのB−
B断面図、同図Cは同図AのC−C断面図、第4
図Aは従来の透光用装置の正面図、同図Bは同平
面図である。 1……光ハンダ付装置、s……透光用スリツト
装置、13……透光用スリツト、14……遮光
軸、15……遮光板、16……透孔、19……耐
熱ガラス。
付装置の正面図、同図Bは同装置の内部構造説明
図、第2図Aは同装置の使用状態説明図、同図B
は同図AのB−B断面図、同図Cは同図AのC−
C断面図、第3図Aはこの考案の実施例2に係る
光ハンダ付装置の説明図、同図Bは同図AのB−
B断面図、同図Cは同図AのC−C断面図、第4
図Aは従来の透光用装置の正面図、同図Bは同平
面図である。 1……光ハンダ付装置、s……透光用スリツト
装置、13……透光用スリツト、14……遮光
軸、15……遮光板、16……透孔、19……耐
熱ガラス。
Claims (1)
- 遮光板とこの遮光板上に立設された円筒形状の
支持胴とこの支持胴の上端に水平装着された耐熱
ガラスとからなり、前記耐熱ガラスには下面中央
部から遮光板へ向けて遮光軸が垂設され、前記遮
光板の略中央部には十文字形状の透孔が形成さ
れ、この透孔の内周縁と前記遮光軸の先端部外周
縁との間が透光用スリツトとして形成されてなる
とともに前記遮光軸は軸線に沿つて熱膨張自在と
され且つ前記支持胴の周面には冷却フインが形成
されてなることを特徴とする光ハンダ付機器の透
光用スリツト装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986195022U JPH048404Y2 (ja) | 1986-12-17 | 1986-12-17 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986195022U JPH048404Y2 (ja) | 1986-12-17 | 1986-12-17 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6398520U JPS6398520U (ja) | 1988-06-25 |
JPH048404Y2 true JPH048404Y2 (ja) | 1992-03-03 |
Family
ID=31152525
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1986195022U Expired JPH048404Y2 (ja) | 1986-12-17 | 1986-12-17 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH048404Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0735648Y2 (ja) * | 1990-03-22 | 1995-08-16 | 松下電器産業株式会社 | 光ビーム加熱機 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5330350A (en) * | 1976-09-01 | 1978-03-22 | Olympus Optical Co Ltd | Optical microscope |
JPS61212838A (ja) * | 1985-03-18 | 1986-09-20 | Ricoh Co Ltd | 電子写真複写機の原稿照明装置 |
-
1986
- 1986-12-17 JP JP1986195022U patent/JPH048404Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5330350A (en) * | 1976-09-01 | 1978-03-22 | Olympus Optical Co Ltd | Optical microscope |
JPS61212838A (ja) * | 1985-03-18 | 1986-09-20 | Ricoh Co Ltd | 電子写真複写機の原稿照明装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6398520U (ja) | 1988-06-25 |
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