JPH0477440A - Removal of chloroprene from 1,2-dichloroethane - Google Patents
Removal of chloroprene from 1,2-dichloroethaneInfo
- Publication number
- JPH0477440A JPH0477440A JP19067990A JP19067990A JPH0477440A JP H0477440 A JPH0477440 A JP H0477440A JP 19067990 A JP19067990 A JP 19067990A JP 19067990 A JP19067990 A JP 19067990A JP H0477440 A JPH0477440 A JP H0477440A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chloroprene
- edc
- column
- dichloroethane
- heat treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 101
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 100
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims abstract description 65
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 44
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 claims abstract description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 42
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 20
- 238000010992 reflux Methods 0.000 claims description 18
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract description 44
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 11
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 abstract description 5
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 13
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 12
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 9
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 8
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 8
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000004939 coking Methods 0.000 description 4
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940100630 metacresol Drugs 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
［技術分野］
本発明は、１．２−ジクロルエタン中に不純物として存
在することのあるクロロプレンを除去する方法に関する
。更に詳しくは、１．２−ジクロルエタンを蒸留により
精製する際に有効にクロロプレンを除去する方法であっ
て、１．２−ジクロルエタンの熱分解法による塩化ビニ
ル製造技術に適用できるものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a method for removing chloroprene, which may be present as an impurity in 1,2-dichloroethane. More specifically, it is a method for effectively removing chloroprene when 1,2-dichloroethane is purified by distillation, and is applicable to vinyl chloride manufacturing technology by thermal decomposition of 1,2-dichloroethane.
高純度の１，２−ジクロルエタン（以下、ＥＤＣと記す
。）を熱分解して塩化ビニル（以下、ＶＣＭと記す。）
を得る、所謂熱分解法によるＶＣＭの合成は工業的に大
規模に行われている。上記ＶＣＭの一般的製造工程とし
ては、エチレンの直接塩素化またはオキシクロリネーシ
ョンにより得られた粗ＥＤＣを、脱水塔、低沸物分離塔
、高沸物分離塔より構成される精製工程に供し、まず水
分を除去、次に低沸点不純物を除去、更に高沸点不純物
を除去して、精製ＥＤＣとして後、この精製ＥＤＣをＶ
ＣＭ製造用熱分解炉に供給する。High purity 1,2-dichloroethane (hereinafter referred to as EDC) is thermally decomposed to produce vinyl chloride (hereinafter referred to as VCM).
The synthesis of VCM by the so-called thermal decomposition method is carried out on a large scale industrially. The general production process for VCM is to subject crude EDC obtained by direct chlorination or oxychlorination of ethylene to a purification process consisting of a dehydration tower, a low-boiling separation tower, and a high-boiling separation tower, First, water is removed, then low-boiling point impurities are removed, and high-boiling point impurities are removed to produce purified EDC.
Supplied to a pyrolysis furnace for CM production.
熱分解炉において精製ＥＤＣの約５０〜６０％が分解し
、ＶＣＭと塩化水素を含有する分解ガスが得られる。こ
の分解ガスは急冷、凝縮され、まず塩化水素、次いでＶ
ＣＭが分離、回収される。Approximately 50 to 60% of the purified EDC is decomposed in the pyrolysis furnace, and a decomposed gas containing VCM and hydrogen chloride is obtained. This cracked gas is rapidly cooled and condensed, firstly hydrogen chloride, then V
CM is separated and collected.
塩化水素、次いでＶＣＭが分離、回収された役得られる
残部には未反応のＥＤＣの地熱分解時の副反応生成物が
含まれている。この副反応生成物を含有した未反応のＥ
ＤＣ（以下、未反応ＥＤＣという。）は前記した精製工
程を経て、精製ＥＤＣとし、再び熱分解炉に供給される
。Hydrogen chloride and then VCM are separated and recovered, and the resulting residue contains by-reaction products during the geothermal decomposition of unreacted EDC. Unreacted E containing this side reaction product
The DC (hereinafter referred to as unreacted EDC) undergoes the above-described purification process to become purified EDC, which is then supplied to the pyrolysis furnace again.
しかしながらこの未反応ＥＤＣの副反応生成物には低沸
点不純物としてクロロプレンが含有されている。However, the side reaction product of this unreacted EDC contains chloroprene as a low boiling point impurity.
ＥＤＣ中にクロロプレンが含まれていると、２つの大き
な問題が生じる。The inclusion of chloroprene in EDC creates two major problems.
まず、熱分解炉に供給される精製ＥＤＣ中にクロロプレ
ンが存在する場合、分解管のコーキング促進及び分解反
応の抑制が認められる。これを防止するためには精製Ｅ
ＤＣ（精製ＥＤＣ中のＥＤＣ含量は９９％以上である。First, when chloroprene is present in the purified EDC supplied to the pyrolysis furnace, coking of the cracking tube is promoted and the cracking reaction is suppressed. To prevent this, purification E
DC (EDC content in purified EDC is 99% or more.
）中のクロロプレンの含有量を１１００ｐｐ以下に抑え
ることが必要である。) It is necessary to suppress the content of chloroprene in 1100 pp or less.
第２に、クロロプレンは比較的重合し易いため、未反応
ＥＤＣ精製工程の際低沸物分離塔において濃縮された場
合、塔内で重合して塔の閉塞を引き起こす恐れがある。Secondly, since chloroprene is relatively easy to polymerize, if it is concentrated in a low boiling point separation column during the unreacted EDC purification process, it may polymerize in the column and cause blockage of the column.
このためクロロプレンの濃縮程度を上げ分離の効率を上
げることが困難で留出物中にＥＤＣが比較的多く混合し
たまま系外に排出されることになる。For this reason, it is difficult to increase the degree of concentration of chloroprene and increase the efficiency of separation, and the distillate is discharged from the system with a relatively large amount of EDC mixed therein.
したがって、精製工程においてクロロプレンの分離効果
を上げることは困難であり、またクロロプレンの存在は
ＥＤＣの原単位を低下させる原因となる。低沸物分離塔
の閉塞を防ぐためには、塔頂から排出される蒸気中のク
ロロプレン濃度を５ｗｔ％以下とする必要がある。Therefore, it is difficult to improve the separation effect of chloroprene in the purification process, and the presence of chloroprene causes a decrease in the EDC consumption rate. In order to prevent clogging of the low boiling point separation column, it is necessary to keep the chloroprene concentration in the vapor discharged from the top of the column to 5 wt% or less.
すなわち、従来技術においては、低沸物分離塔の閉塞等
の問題を回避し、ガス熱分解炉へ供給する精製ＥＤＣ中
のクロロプレンを１１００ｐｐ以下にすることは困難で
あったのである。That is, in the prior art, it was difficult to avoid problems such as clogging of the low boiling point separation column and reduce the amount of chloroprene in purified EDC supplied to the gas pyrolysis furnace to 1100 pp or less.
上記の問題を回避しクロロプレンの分離効果を改善する
方法として、■低沸物分離塔に塩素を吹き込む、または
■低沸物分離塔の留出物の一部に塩素を吹き込んで塔内
へ循環させることにより、クロロプレンを塩素化してＥ
ＤＣよりも高沸点物に転化した後高沸物分離塔において
分離する方法が開示されている（特開昭５４−６１１０
５、特開昭５７−４８１２７、特開昭５９−２４９６８
、特公昭５７−６１３３１）。As a method to avoid the above problems and improve the separation effect of chloroprene, there are two methods: 1. Blow chlorine into the low boiling point separation column, or 2. Blow chlorine into a part of the distillate of the low boiling point separation column and circulate it into the column. By chlorinating chloroprene to E
A method is disclosed in which a substance with a higher boiling point than DC is converted and then separated in a high-boiling substance separation column (Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-6110).
5, JP-A-57-48127, JP-A-59-24968
, Special Publication No. 57-61331).
ＥＤＣの精製工程から低沸点物を抜き出さず、ＥＤＣと
共に熱分解炉に供給する方法が開示されている（特公昭
４９−１６４０４）。この方法によれば、種々の不飽和
または飽和塩素化炭化水素とペンゾールとの混合物より
なる低沸点物は、４５０〜６５０℃、特に５００〜６ｏ
Ｏ℃で熱分解に付す際に、１，２−ジクロルエタンの存
在下で高沸点物に変化する。該公報の例３及び例４によ
れば、熱分解炉に供給されるＥＤＣ中のクロロプレン含
有量は４ｏ○〜１１０００ｐｐである。A method has been disclosed in which low-boiling substances are not extracted from the EDC purification process and are supplied together with EDC to a thermal decomposition furnace (Japanese Patent Publication No. 49-16404). According to this method, a low boiler consisting of a mixture of various unsaturated or saturated chlorinated hydrocarbons and penzole is heated at 450-650°C, especially at 500-60°C.
During thermal decomposition at 0° C., it transforms into a high boiler in the presence of 1,2-dichloroethane. According to Examples 3 and 4 of the publication, the chloroprene content in the EDC supplied to the pyrolysis furnace is 4000 to 11000 pp.
以上説明した従来技術は、クロロプレンに起因する問題
点のいくつかを解決するものであるが、以下に述べる課
題が残されている。Although the conventional techniques described above solve some of the problems caused by chloroprene, the following problems remain.
まず、クロロプレンを塩素化し分離する方法においては
、低沸物分離塔または低沸物分離塔の留出側に設けた塩
素化容器等に塩素ガスを吹き込むために、装置の防食上
、材質については耐塩素的にする必要がある。First, in the method of chlorinating and separating chloroprene, in order to blow chlorine gas into the low boiling point separation column or the chlorination container installed on the distillation side of the low boiling point separation column, the material should be carefully selected for corrosion protection of the equipment. Must be chlorine resistant.
更に低沸点物及びクロロプレンが塩素化されるだけでな
く、ＥＤＣの一部も塩素化され高沸点物のトリクロルエ
タン等が生成し、ＥＤＣが消費される。したがってこの
方法は経済性においても不利である。このため０−クレ
ゾールまたはメタクレゾールを添加して低沸点物の塩素
化選択性を高め、ＥＤＣの塩素化を防止する方法が提案
されている（特公昭５７−６１３３１）。しかしながら
この方法では添加薬剤を前もって溶液に調製しておき、
予備タンクから定量ポンプを使用して連続的に定量注入
する等の設備を必要とする。この方法は添加薬剤の消費
と共に経済性において不利であり、操作上も煩雑である
。Furthermore, not only low-boiling substances and chloroprene are chlorinated, but also a portion of EDC is chlorinated to produce high-boiling substances such as trichloroethane, and EDC is consumed. Therefore, this method is also economically disadvantageous. For this reason, a method has been proposed for preventing chlorination of EDC by adding 0-cresol or meta-cresol to enhance the chlorination selectivity of low-boiling substances (Japanese Patent Publication No. 57-61331). However, in this method, the additive drug is prepared in advance as a solution,
Equipment such as continuous metered injection using a metering pump from a reserve tank is required. This method is disadvantageous in terms of economy as it consumes added chemicals, and is also complicated to operate.
また、ＥＤＣの精製工程から低沸点物を抜き出さず、Ｅ
ＤＣと共に熱分解炉に供給する方法では、得られる精製
ＥＤＣの中のクロロプレンの含有量は、好ましいレベル
である１１００ｐｐ以下と比べて多すぎ（特公昭４９−
１６４０４） 、長期的には、分解管のコーキング、分
解反応の抑制等を回避できない。In addition, low boiling point substances are not extracted from the EDC purification process, and EDC
In the method of supplying DC to the pyrolysis furnace, the content of chloroprene in the purified EDC obtained is too high compared to the preferred level of 1100 pp or less (Japanese Patent Publication No. 49-1999).
16404), in the long term, it is impossible to avoid coking of the cracking tube and suppressing the cracking reaction.
［発明の開示］
本発明者らは、上記した課題すなわち、ＥＤＣの精製工
程中、低沸物分離塔の閉塞等を起こすことなくクロロプ
レンを分離し、クロロプレン含量を１１００ｐｐ以下と
した精製ＥＤＣを得るという課題を解決するために鋭意
検討を行った結果、クロロプレンを含有するＥＤＣを加
熱処理することによりＥＤＣ中のクロロプレンを除去で
きることを見出し、本発明を完成させるに至った。[Disclosure of the Invention] The present inventors have solved the above-mentioned problem, namely, to separate chloroprene without clogging the low boiling point separation column during the EDC purification process, and obtain purified EDC with a chloroprene content of 1100 pp or less. As a result of intensive studies to solve this problem, it was discovered that chloroprene in EDC can be removed by heat-treating EDC containing chloroprene, and the present invention was completed.
すなわち、本発明は、クロロプレンを含有する１、２−
ジクロルエタンを、１．２−ジクロルエタンの沸点（８
５℃）以上かつ熱分解温度（３００℃）以下の温度範囲
で加熱処理し、クロロプレンを除去することを特徴とす
る１、２−ジクロルエタン中のクロロプレン除去方法で
あり、更には精留塔により、クロロプレンを含有する１
、２−ジクロルエタンを蒸留して低沸点物を除去するに
際し、塔頂からの留出液の少なくとも一部を、１．２−
ジクロルエタンの沸点以上かつ熱分解温度以下の温度範
囲で加熱処理し、この少なくとも一部な精留塔に還流す
ることを特徴とする１、２−ジクロルエタン中のクロロ
プレン除去方法である。That is, the present invention provides chloroprene-containing 1,2-
The boiling point of 1,2-dichloroethane (8
A method for removing chloroprene in 1,2-dichloroethane, which is characterized by removing chloroprene by heat treatment at a temperature range of 5°C) or higher and lower than the thermal decomposition temperature (300°C), and further using a rectification column. 1 containing chloroprene
, when distilling 2-dichloroethane to remove low-boiling substances, at least a portion of the distillate from the top of the column is distilled into 1.2-dichloroethane.
This is a method for removing chloroprene from 1,2-dichloroethane, which is characterized by heat-treating dichloroethane in a temperature range above its boiling point and below its thermal decomposition temperature, and refluxing at least a portion of the dichloroethane to a rectification column.
また、好ましい加熱処理の温度範囲としては１００〜２
５０℃、処理時間は３０分〜１５時間であり、有効にク
ロロプレンを除去することができる。In addition, the preferred temperature range for heat treatment is 100 to 2
The treatment time is 50°C and 30 minutes to 15 hours, and chloroprene can be effectively removed.
このようにクロロプレンを含有するＥＤＣを加熱処理す
ることによりクロロプレンを除去することが可能となる
という知見は、産業上利用される技術としては知られて
おらず、本発明者らの研究により初めて技術として、実
現されたものである。The knowledge that chloroprene can be removed by heat-treating EDC containing chloroprene is not known as a technology for industrial use, and the research by the present inventors was the first to reveal the technology. It was realized as follows.
すなわち、クロロプレンは揮発性が高く（沸点５９．４
℃）重合し易いため、温度条件、濃度条件等により容易
に重合反応を起こし重合体を形成する。このため単に加
熱処理を施しただけではクロロプレンは熱分解を起こさ
ず、除去することは困難である。従来、クロロプレンの
除去に、塩素化処理を施すことにより沸点を上げ安定性
を高め分離する手段がとられていたのは、このためであ
る。That is, chloroprene is highly volatile (boiling point 59.4
°C) Because it is easy to polymerize, it easily causes a polymerization reaction depending on temperature conditions, concentration conditions, etc. to form a polymer. Therefore, chloroprene does not undergo thermal decomposition simply by heat treatment, and is difficult to remove. This is why chloroprene has conventionally been removed by chlorination treatment to raise the boiling point and improve stability.
本発明では上記したように基本的に、ＥＤＣの沸点（８
５℃）以上、熱分解温度（３００℃）以下の温度範囲で
クロロプレン含有ＥＤＣを加熱処理することによりクロ
ロプレンを有効に除去し、それに伴いＥＤＣ濃度を増加
させることを可能とするものである。In the present invention, as mentioned above, basically the boiling point of EDC (8
By heat-treating the chloroprene-containing EDC in a temperature range of 5° C. or higher and the thermal decomposition temperature (300° C.) or lower, it is possible to effectively remove chloroprene and thereby increase the EDC concentration.
本発明の方法により以下の効果が得られる。The method of the present invention provides the following effects.
（１）本発明では従来法のように塩素ガスを消費するこ
となくクロロプレンを除去できる。(1) In the present invention, chloroprene can be removed without consuming chlorine gas unlike conventional methods.
（２）塩素ガスを使用した従来法では塩素化による高沸
点残渣が多かったが、本発明では高沸点残渣は少ない。(2) In the conventional method using chlorine gas, there were many high-boiling point residues due to chlorination, but in the present invention, high-boiling point residues were small.
（３）本発明ではクロロプレンの減少およびＥＤＣの原
単位の増加が認められる。精製ＥＤＣ中のクロロプレン
の含有量は５０〜９５ｐｐｍを維持することができる。(3) In the present invention, a decrease in chloroprene and an increase in the basic unit of EDC are observed. The content of chloroprene in purified EDC can be maintained between 50 and 95 ppm.
（４）本発明では低沸物分離塔でのクロロプレン濃度が
低いので、クロロプレンの重合による閉塞等のトラブル
が防止される。(4) In the present invention, since the concentration of chloroprene in the low boiling point separation column is low, troubles such as blockage due to polymerization of chloroprene are prevented.
（５）本発明では精製ＥＤＣ中のクロロプレンの含有量
が少ないので、熱分解炉の分解管のコーキングが抑制さ
れ、分解反応が安定して行える。(5) In the present invention, since the content of chloroprene in purified EDC is small, coking of the cracking tube of the pyrolysis furnace is suppressed, and the cracking reaction can be performed stably.
［発明を実施するための最良の形態］
本発明の方法は、基本的にＥＤＣ中に存在するクロロプ
レンを除去するものであり、その実施の態様については
特に限定されるものではないが、クロロプレンを１〜１
０重量％程度含有しているＥＤＣ５すなわちクロロプレ
ンが不純物として存在しているＥＤＣであれば、本発明
を適用することができる。[BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION] The method of the present invention basically removes chloroprene present in EDC, and the mode of implementation is not particularly limited. 1-1
The present invention can be applied to any EDC containing about 0% by weight of EDC5, that is, EDC in which chloroprene is present as an impurity.
ＥＤＣの蒸留による精製工程において、低沸物分離塔で
、前記加熱処理を施してやれば不要な低沸点物質を合わ
せて除去できるため都合がよい。In the purification process by distillation of EDC, it is convenient to perform the heat treatment in a low-boiling substance separation column because unnecessary low-boiling substances can be removed at the same time.
いずれにしても、クロロプレンの除去にはＥＤＣが安定
な温度範囲内で充分な加熱処理が必要であり、好ましく
は１００〜２５０℃、３０分〜１５時間、更に好ましく
は、１００〜１５０℃、１〜１０時間であるが目的のＥ
ＤＣ純度、加熱処理手段等により適宜設定すればよい。In any case, sufficient heat treatment is required to remove chloroprene within a temperature range where EDC is stable, preferably at 100 to 250°C for 30 minutes to 15 hours, more preferably at 100 to 150°C for 1 hour. 〜10 hours, but the objective E
It may be set as appropriate depending on the DC purity, heat treatment means, etc.
不足な加熱処理では充分な効果が得られず、また過度な
加熱処理ではクロロプレン濃度が低下しても、その他不
純物量（塩素化炭化水素）が増加することになる。Insufficient heat treatment will not produce a sufficient effect, and excessive heat treatment will increase the amount of other impurities (chlorinated hydrocarbons) even if the chloroprene concentration decreases.
本発明の代表的な実施の態様としては、熱分解法により
塩化ビニルを製造するための原料として用いられるＥＤ
Ｃの精製工程におけるものを挙げることができる。As a typical embodiment of the present invention, ED used as a raw material for producing vinyl chloride by a pyrolysis method
Examples include those in the purification process of C.
以下、本発明を塩化ビニル製造用ＥＤＣの精製において
説明する。Hereinafter, the present invention will be explained in terms of purification of EDC for producing vinyl chloride.
本態様においては、前述した従来技術の問題点を解決す
ることができる。すなわち、低沸物分離塔においてクロ
ロプレンを高度に濃縮することなく、有効に除去するこ
とが可能となる。In this aspect, the problems of the prior art described above can be solved. That is, it becomes possible to effectively remove chloroprene without highly concentrating it in the low boiling point separation column.
本発明を図によって詳しく説明する。The present invention will be explained in detail with reference to the drawings.
第１図は本発明の方法によるＥＤＣの精製工程の一実施
例を示すフローチャートである。FIG. 1 is a flowchart showing one embodiment of the EDC purification process according to the method of the present invention.
なお、図中、脱水塔１、低沸物分離塔２、高沸物分離塔
３の段数、原料投入段、缶出液量、留出液量、還流比等
は、以下で特に言及していない限り、公知技術に基づい
て設定できるものである。In addition, in the figure, the number of stages of the dehydration tower 1, low-boiling material separation tower 2, and high-boiling material separation tower 3, raw material input stages, bottoms volume, distillate volume, reflux ratio, etc. are not particularly mentioned below. Unless otherwise specified, settings can be made based on known techniques.
まず、エチレンの直接塩素化及びオキシクロリネーショ
ンにより得られた粗ＥＤＣはライン１３を経て脱水塔１
に導入され、水分を分離した後、ライン１４を経て低沸
物分離塔２に供給される。First, crude EDC obtained by direct chlorination and oxychlorination of ethylene is passed through line 13 to dehydration tower 1.
After water is separated, it is supplied to the low boiling point separation column 2 via line 14.
クロロプレン及びその他の熱分解副生物を含有する熱分
解工程からの未反応ＥＤＣもライン３０を経て低沸物分
離塔２に供給される。Unreacted EDC from the pyrolysis step containing chloroprene and other pyrolysis by-products is also fed to the low boiler separation column 2 via line 30.
粗ＥＤＣは通常クロロプレンを含有しないが、未反応Ｅ
ＤＣは１１０００ｐｐ以上のクロロプレンを含有してお
り、これら両者を合わせて低沸物分離塔で精留する。Crude EDC usually does not contain chloroprene, but unreacted EDC
DC contains 11,000 pp or more of chloroprene, and both are combined and rectified in a low boiling point separation column.
粗ＥＤＣと未反応ＥＤＣの比は塔の分離効率に従い設定
するが、通常、未反応ＥＤＣは粗ＥＤＣより上段で塔に
投入する。また未反応ＥＤＣのみを専用の精留塔で精留
する態様としてもよい。The ratio of crude EDC to unreacted EDC is set according to the separation efficiency of the column, but unreacted EDC is normally charged into the column at a stage above the crude EDC. Alternatively, an embodiment may be adopted in which only unreacted EDC is rectified in a dedicated rectification column.
次に、低沸物分離塔２の塔頂よりクロロプレンその他の
低沸点物がＥＤＣの一部とともに蒸気として留出し、コ
ンデンサー５でクロロプレンを含むＥＤＣが凝縮し、受
器９に蓄えられる（これを留出液という。）その他の低
沸点物はコンデンサー６に至り冷却される。このときの
凝縮液はライン１６を経て、また未凝縮ガスはベント１
９により糸外に排出される。Next, chloroprene and other low-boiling substances are distilled out as vapor from the top of the low-boiling substance separation column 2 together with a part of the EDC, and the EDC containing chloroprene is condensed in the condenser 5 and stored in the receiver 9. (referred to as distillate) Other low boiling point substances reach the condenser 6 and are cooled. At this time, the condensed liquid passes through the line 16, and the uncondensed gas passes through the vent 1.
9, it is discharged to the outside of the thread.
ここで、低沸物分離塔２の塔頂からでる蒸気（これを留
出物という。）組成をＥＤＣ２０〜４０ ｗ ｔ％、ク
ロロプレン５ｗｔ％以下程度に維持するとよい。これに
より、クロロプレンの重合は抑制され塔の閉塞等を回避
することができる。Here, it is preferable to maintain the composition of the vapor (referred to as distillate) emerging from the top of the low boiling point separation column 2 to about 20 to 40 wt% EDC and 5 wt% or less chloroprene. Thereby, polymerization of chloroprene is suppressed and blockage of the tower can be avoided.
従来は、クロロプレンの分離効果を高めるため塔頂の蒸
気中のクロロプレン濃度を１０ ｗ ｔ％程度にまでは
上げる必要があった。このため上記クロロプレンの重合
の問題を生じるわけである。Conventionally, in order to enhance the separation effect of chloroprene, it was necessary to increase the chloroprene concentration in the vapor at the top of the column to about 10 wt%. This causes the above-mentioned problem of polymerization of chloroprene.
本発明においては、以下の加熱処理により塔頂における
クロロプレン濃度を５ｗｔ％以下に抑え、重合反応に起
因する弊害を防止するにもかかわらず、クロロプレンの
充分な除去を実現する。In the present invention, the concentration of chloroprene at the top of the column is suppressed to 5 wt % or less by the heat treatment described below, and sufficient removal of chloroprene is achieved while preventing adverse effects caused by the polymerization reaction.
なお、低沸物分離塔２は通常塔内圧力１〜２ｋｇ／ｃｍ
”、留出温度５０〜６０℃で操作される。Note that the low boiling point separation column 2 usually has an internal pressure of 1 to 2 kg/cm.
”, operated at a distillation temperature of 50-60°C.
受器９に貯えられたクロロプレンを含有するＥＤＣの一
部は低沸物分離塔２の塔頂に還流される（これを還流液
という）。残部はライン２０を経て加熱器１１に供給さ
れ、所定の温度を維持するように調整される。この残部
は熱処理槽１２に供給され、所定時間滞留した後、再び
受器９に還流される。A part of the EDC containing chloroprene stored in the receiver 9 is refluxed to the top of the low boiling point separation column 2 (this is referred to as reflux liquid). The remainder is supplied to the heater 11 via line 20 and adjusted to maintain a predetermined temperature. The remainder is supplied to the heat treatment tank 12, where it remains for a predetermined period of time, and then refluxed to the receiver 9 again.
この過程でＥＤＣ中のクロロプレンは加熱処理され、そ
の結果としてクロロプレンの減少及びＥＤＣの増加が認
められる。In this process, chloroprene in EDC is heat-treated, and as a result, a decrease in chloroprene and an increase in EDC are observed.
加熱器１１にスチーム等を供給することにより、熱処理
槽１２内のクロロプレンを含有するＥＤＣの温度が所定
の熱処理温度になるように調節される。熱処理温度は好
ましくは１００〜２５０℃であり、更に好ましくは１０
０〜１５０℃である。熱処理時間は好ましくは３０分〜
１５時間であるが、更に好ましくは１〜１０時間である
。熱処理時間は処理量、熱処理槽の容積、熱処理温度に
より設定される。熱処理槽内の圧力は２〜１５ｋｇｆ／
ｃｍ”程度となっている。加熱処理の方法としては加熱
器１１のような前段加熱方式、熱処理槽において加熱を
行う直接加熱方式、及び外部に設けた加熱器と熱処理槽
との間てポンプ循環を行う外部加熱方式等がある。By supplying steam or the like to the heater 11, the temperature of the EDC containing chloroprene in the heat treatment tank 12 is adjusted to a predetermined heat treatment temperature. The heat treatment temperature is preferably 100 to 250°C, more preferably 10
The temperature is 0 to 150°C. Heat treatment time is preferably 30 minutes ~
It is 15 hours, more preferably 1 to 10 hours. The heat treatment time is set based on the amount of treatment, the volume of the heat treatment tank, and the heat treatment temperature. The pressure inside the heat treatment tank is 2 to 15 kgf/
cm". Heat treatment methods include pre-heating methods such as the heater 11, direct heating methods in which heating is performed in the heat treatment tank, and pump circulation between the external heater and the heat treatment tank. There are external heating methods that perform this.
ここで、残部と還流液との比は概ね１．１０〜１：３０
程度でよい。残部の量が少なすぎれば加熱処理によるク
ロロプレンの熱分解の効果か小さく、多すぎればエネル
ギーの無駄となる。Here, the ratio of the remainder to the reflux liquid is approximately 1.10 to 1:30.
A certain amount is enough. If the amount of the remainder is too small, the effect of thermal decomposition of chloroprene by heat treatment will be small, and if it is too large, it will be a waste of energy.
一方、熱処理槽１２から受器９へ還流させず直接、塔頂
へ還流液として供給する態様としてもよい。この場合、
同一の加熱処理条件であればクロロプレンの熱分解はよ
り促進され塔頂への還流液中のクロロプレン濃度はより
低減するが、前記受器９へ還流させる態様と比較し熱処
理槽でクロロプレンが重合した場合、直接蒸留塔に影響
を与える可能性がある。On the other hand, an embodiment may be adopted in which the reflux liquid is not refluxed from the heat treatment tank 12 to the receiver 9 but is directly supplied to the top of the tower as a reflux liquid. in this case,
If the heat treatment conditions are the same, the thermal decomposition of chloroprene will be further promoted and the concentration of chloroprene in the reflux liquid to the top of the column will be further reduced. If so, it may directly affect the distillation column.
更に、別の態様として、受器９から出る留出液全量を加
熱処理し、その全量を還流液として塔頂へ供給してもよ
い。この場合は加熱後再度冷却する必要があり熱効率が
低下する。Furthermore, as another embodiment, the entire amount of the distillate discharged from the receiver 9 may be heat-treated and the entire amount may be supplied to the top of the column as a reflux liquid. In this case, it is necessary to cool down again after heating, resulting in a decrease in thermal efficiency.
いずれの態様においても留出液の一部または全部を加熱
処理するこの段階で留出液中のクロロプレン量を著しく
減少させることができるため、塔頂への還流液中のクロ
ロプレン量を大幅に減少し２〜４ｗｔ％までになり、こ
の結果塔頂における留出物中のクロロプレン濃度は５ｗ
ｔ％以下に維持される。したがって、還流比（還流量／
供給量）も従来と比べ、小さくても充分なりロロフッン
分離効果を得ることができる。In either embodiment, the amount of chloroprene in the distillate can be significantly reduced at this stage in which part or all of the distillate is heat-treated, so the amount of chloroprene in the reflux to the top of the column can be significantly reduced. As a result, the concentration of chloroprene in the distillate at the top of the column is 5w.
Maintained below t%. Therefore, the reflux ratio (reflux amount/
Compared to the conventional method, even if the supply amount is smaller than that of the conventional method, it is possible to obtain the Rolofluorine separation effect.
次に、クロロプレン及びその他の低沸点物が分離された
ＥＤＣ（缶出液）中のクロロプレン濃度はすでにほぼ１
１００ｐｐ以下となっているが、相当量の高沸点物を含
有している。このＥＤＣは低沸物分離塔２の塔底より抜
き出され、ライン１５を経て高沸物分離塔３に供給され
る。このＥＤＣは高沸点物が分離され、精製ＥＤＣとし
て抜き出しライン１７を経て熱分解炉に供給される。す
なわち、精製ＥＤＣの一部は未反応ＥＤＣだったので、
再利用されることになる。高沸点物はライン１８を経て
Ｍｆｆｉとして排出される。このようにして１１００ｐ
ｐ以下のクロロプレンを含有する精製ＥＤＣが得られる
。その結果として、熱分解炉の分解管のコーキング促進
及び分解反応の抑制が防止される。Next, the chloroprene concentration in EDC (bottoms) from which chloroprene and other low-boiling substances have been separated is already approximately 1.
Although it is less than 100 pp, it contains a considerable amount of high boiling point substances. This EDC is extracted from the bottom of the low boiling point separation column 2 and supplied to the high boiling point separation column 3 via a line 15. High boiling point substances are separated from this EDC, and purified EDC is supplied to a thermal decomposition furnace via an extraction line 17. In other words, some of the purified EDC was unreacted EDC, so
It will be reused. High boilers are discharged via line 18 as Mffi. In this way 1100p
A purified EDC containing less than p chloroprene is obtained. As a result, promotion of coking in the cracking tube of the pyrolysis furnace and suppression of the cracking reaction are prevented.
以下の実施例により本発明を更に説明する。ただし本発
明は以下の実施例によって限定されるものではない。The invention is further illustrated by the following examples. However, the present invention is not limited to the following examples.
実施例１
まず、第１図の装置を加熱処理を行うことなく操作した
場合の物質収支を第１表に示す。Example 1 First, Table 1 shows the material balance when the apparatus shown in FIG. 1 is operated without heat treatment.
この結果、還流液中のクロロプレン濃度は８．５ｗｔ％
であり、低沸物分離塔での高いクロロプレン精留効果が
認められた。As a result, the chloroprene concentration in the reflux liquid was 8.5 wt%.
, and a high chloroprene rectification effect was observed in the low boiling point separation column.
これにより精製ＥＤＣ中のクロロプレン濃度は９０ｐｐ
ｍ程度と低減していたが、この状態での長期間運転は低
沸物分離塔の閉塞を招く可能性がある。As a result, the chloroprene concentration in purified EDC was 90 pp.
However, long-term operation under this condition may lead to clogging of the low boiling point separation tower.
次に本発明に基づき低沸物分離塔の留出液を加熱処理し
た結果を第２表に示す。Next, Table 2 shows the results of heat treating the distillate from the low boiling point separation column according to the present invention.
低沸物分離塔の条件は以下のとおりである。The conditions of the low boiling point separation column are as follows.
塔 内 径 １．５ｍφ
塔 高 ３５ｍ
塔内圧力 １．２ｋｇ／ｃｍ２
留出温度 ６０℃
塔底温度１００℃
還 流 比 ０．６
第 １ 表
第
表
ＣＰ：クロロプレン
ｅｔｃ：その他の塩素化炭化水素
ＣＰ：クロロプレン
ｅｔｃ：その他の塩素化炭化水素
実施例２
第１図の装置を低沸物分離塔の操作条件を以下のとおり
設定して操作した場合の物質収支を第３表に示す。更に
、３３５日間操作を続行したカイ、塔の閉塞は認められ
なかった。還流液中のクロロプレン濃度は４ｗｔ％であ
り、精製ＥＤＣ中のそれは９０ｐｐｍと良好であった。Column inner diameter 1.5 mφ Column height 35 m Column pressure 1.2 kg/cm2 Distillation temperature 60°C Column bottom temperature 100°C Reflux ratio 0.6 Table 1 CP: Chloroprene etc.: Other chlorinated hydrocarbons CP :Chloroprene, etc.:Other chlorinated hydrocarbons Example 2 Table 3 shows the material balance when the apparatus shown in FIG. 1 was operated with the operating conditions of the low boiling point separation column set as follows. Furthermore, no blockage of the tower was observed after 335 days of continuous operation. The chloroprene concentration in the reflux liquid was 4 wt%, and the concentration in purified EDC was 90 ppm, which was good.
塔内圧力 １．２ｋｇ／ｃｍ” 留出温度 ５７℃ 塔底温度１００℃ 還 流 比 ０． ６ 加熱処理１５０℃ ただし留出液の約３ｗｔ％だけ加熱処理を行った。Inner tower pressure 1.2kg/cm” Distillation temperature 57℃ Tower bottom temperature 100℃ Return flow ratio 0. 6 Heat treatment 150℃ However, only about 3 wt% of the distillate was subjected to heat treatment.
第 ３ 表
（以下余白）
ＣＰ：クロロプレン
ｅｔｃ：その他の塩素化炭化水素
比較例１
第１図の装置を加熱処理なしで低沸物分離塔の操作条件
を以下のとおり設定して操作した場合の物質収支を第４
表に示す。還流液中のクロロプレン濃度は１１ｗｔ％と
高く、精留効果は高く精製ＥＤＣ中の該濃度は９０ｐｐ
ｍと良好であったが、更に、６７日間操作を続行したと
ころ、塔の閉塞が認められたため操作を中断した。流液
中のクロロプレン濃度が高過ぎたためである。Table 3 (blank below) CP: Chloroprene, etc.: Other chlorinated hydrocarbons Comparative Example 1 When the apparatus in Figure 1 was operated without heat treatment and the operating conditions of the low boiling point separation column were set as follows. The material balance is the fourth
Shown in the table. The concentration of chloroprene in the reflux liquid is as high as 11 wt%, and the rectification effect is high, and the concentration in purified EDC is 90 pp.
However, after continuing the operation for a further 67 days, clogging of the tower was observed, so the operation was discontinued. This is because the concentration of chloroprene in the fluid was too high.
塔内圧力 １．２ｋｇ／ｃｍ２
留出温度 ５７℃
塔底温度１００℃
還 流 比 ０．８
加熱処理 なし
第
表
（以下余白）
ＣＰ：クロロプレン
ｅｔｃ：その他の塩素化炭化水素
＊：還流液中
［産業上の利用可能性］
以上説明したように、本発明のクロロプレン除去方法は
、クロロプレンが不純物としてＥＤＣ中に含有されてい
る系について適用できるものであり、従来の塩素化法等
に代え、技術の豊富化という観点から、塩素化法等が採
用されている産業のほとんどの分野において、本発明の
利用が可能である。Column pressure 1.2 kg/cm2 Distillation temperature 57°C Column bottom temperature 100°C Reflux ratio 0.8 Heat treatment None Table (blank below) CP: Chloroprene, etc.: Other chlorinated hydrocarbons *: In the reflux liquid [ Industrial Applicability] As explained above, the chloroprene removal method of the present invention can be applied to systems in which chloroprene is contained as an impurity in EDC, and can be applied to systems in which chloroprene is contained as an impurity in EDC. The present invention can be used in most fields of industry in which chlorination methods and the like are employed from the viewpoint of enriching the chlorination process.
特に、熱分解法により塩化ビニルをＥＤＣから製造する
技術分野において本発明を好適に適用でき、塩化ビニル
の生産安定性を向上させ、また未反応ＥＤＣも有効に原
料として用い得ることから生産経済性も高めることがで
きる。In particular, the present invention can be suitably applied to the technical field of producing vinyl chloride from EDC by a thermal decomposition method, improving the production stability of vinyl chloride, and improving production economy since unreacted EDC can also be effectively used as a raw material. can also be increased.
［要 約１
クロロプレンを含有する１、２−ジクロルエタンを１．
２−ジクロルエタンの沸点（８５℃）以上かつ熱分解温
度（３００℃）以下の温度範囲で加熱処理することによ
り、クロロプレンを除去する方法であって、特に塩化ビ
ニルの原料となる１、２−ジクロルエタンを精留塔を用
いて精製する工程において低沸物分離塔からの留出液を
対象として好適に適用できる方法である。[Summary 1 1,2-dichloroethane containing chloroprene is added to 1.
A method for removing chloroprene by heat treatment in a temperature range above the boiling point (85°C) of 2-dichloroethane and below the thermal decomposition temperature (300°C), in particular from 1,2-dichloroethane, which is a raw material for vinyl chloride. This is a method that can be suitably applied to the distillate from a low boiling point separation column in the process of refining using a rectification column.
第１図は本発明に方法によるＥＤＣの精製工程の一実施
例を示すフローチャートである。１は脱水塔、２は低沸
物分離塔、３は高沸物分離塔、１３は粗ＥＤＣ装入ライ
ン、１７は精製ＥＤＣ排出ライン、１１は加熱器、１２
は熱処理槽、４から７はコンデンサーであり、８から１
０は受器である。
特許出願人 三井東圧化学株式会社FIG. 1 is a flowchart showing one embodiment of the EDC purification process according to the method of the present invention. 1 is a dehydration tower, 2 is a low-boiling substance separation column, 3 is a high-boiling substance separation column, 13 is a crude EDC charging line, 17 is a purified EDC discharge line, 11 is a heater, 12
is a heat treatment tank, 4 to 7 are condensers, and 8 to 1 are condensers.
0 is the receiver. Patent applicant Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.
Claims (1)
、１，２−ジクロルエタンの沸点以上かつ熱分解温度以
下の温度範囲で加熱処理し、クロロプレンを熱分解する
ことにより除去することを特徴とする１，２−ジクロル
エタン中のクロロプレン除去方法。 ２、加熱処理の温度範囲が１００〜２５０℃である請求
項１に記載の方法。 ３、加熱処理に要する時間が３０分〜１５時間である請
求項１に記載の方法。 ４、精留塔によりクロロプレンを含有する１，２−ジク
ロルエタンを蒸留して低沸点物を除去するに際し、塔頂
からの留出液の少なくとも一部を、１，２ジクロルエタ
ンの沸点以上にかつ熱分解温度以下の温度範囲で加熱処
理し、その少なくとも一部を精留塔に還流することを特
徴とする１，２−ジクロルエタン中のクロロプレン除去
方法。 ５、加熱処理の温度範囲が１００〜２５０℃である請求
項４に記載の方法。 ６、加熱処理に要する時間が３０分〜１５時間である請
求項４に記載の方法。 ７、加熱処理した留出液を加熱処理前の留出液へ還流さ
せる請求項４に記載の方法。 ８、精留塔からの留出物中に含有されるクロロプレン濃
度が５重量％以下である請求項４に記載の方法。[Claims] 1. Heat treating 1,2-dichloroethane containing chloroprene in a temperature range above the boiling point of 1,2-dichloroethane and below the thermal decomposition temperature to remove chloroprene by thermally decomposing it. A method for removing chloroprene from 1,2-dichloroethane, characterized by: 2. The method according to claim 1, wherein the temperature range of the heat treatment is 100 to 250°C. 3. The method according to claim 1, wherein the time required for the heat treatment is 30 minutes to 15 hours. 4. When distilling 1,2-dichloroethane containing chloroprene using a rectification column to remove low-boiling substances, at least a portion of the distillate from the top of the column is heated to a temperature higher than the boiling point of 1,2-dichloroethane and heated. 1. A method for removing chloroprene from 1,2-dichloroethane, which comprises performing a heat treatment in a temperature range below the decomposition temperature and refluxing at least a portion of the heat treatment to a rectification column. 5. The method according to claim 4, wherein the temperature range of the heat treatment is 100 to 250°C. 6. The method according to claim 4, wherein the time required for the heat treatment is 30 minutes to 15 hours. 7. The method according to claim 4, wherein the heat-treated distillate is refluxed to the distillate before the heat treatment. 8. The method according to claim 4, wherein the concentration of chloroprene contained in the distillate from the rectification column is 5% by weight or less.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19067990A JPH0477440A (en) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | Removal of chloroprene from 1,2-dichloroethane |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19067990A JPH0477440A (en) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | Removal of chloroprene from 1,2-dichloroethane |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0477440A true JPH0477440A (en) | 1992-03-11 |
Family
ID=16262082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19067990A Pending JPH0477440A (en) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | Removal of chloroprene from 1,2-dichloroethane |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0477440A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9442562B2 (en) | 2011-05-27 | 2016-09-13 | Dolby Laboratories Licensing Corporation | Systems and methods of image processing that adjust for viewer position, screen size and viewing distance |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02286629A (en) * | 1989-04-28 | 1990-11-26 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Method for removing chloroprene in 1,2-dichloroethane |
-
1990
- 1990-07-20 JP JP19067990A patent/JPH0477440A/en active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02286629A (en) * | 1989-04-28 | 1990-11-26 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Method for removing chloroprene in 1,2-dichloroethane |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9442562B2 (en) | 2011-05-27 | 2016-09-13 | Dolby Laboratories Licensing Corporation | Systems and methods of image processing that adjust for viewer position, screen size and viewing distance |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1762556A1 (en) | Process for producing dichloropropanol from glycerol | |
| JPH1112222A (en) | Recovery of acrylic acid | |
| JP4612041B2 (en) | Acrylic acid recovery method | |
| JP5476774B2 (en) | Method for recovering (meth) acrylonitrile | |
| JPH0269425A (en) | Production of pure tetrafluoroethylene | |
| US20100036180A1 (en) | Method of obtaining 1,2-dichloroethane by direct chlorination with a step of separation from the catalyst by direct evaporation, and facility for the implementation thereof | |
| US5122235A (en) | Process for the removal of chloroprene from, 1,2-dichloroethane | |
| JPH0477440A (en) | Removal of chloroprene from 1,2-dichloroethane | |
| JPH0235729B2 (en) | ||
| JPH0345050B2 (en) | ||
| JP5350228B2 (en) | Separation and / or recovery of propyl bromide | |
| US4060460A (en) | Removal of chloroprenes from ethylene dichloride | |
| US3079230A (en) | Manufacture of hydrochloric acid utilizing aluminum chloride or aluminum-chloride-fluoride complex as a depressant agent | |
| US6441257B1 (en) | Process for the treatment of a cracking gas from the cracking of 1,2-dichloroethane | |
| SK892000A3 (en) | Process for the separation of hydroxy acetone from a phenol containing the same | |
| JP2001261581A (en) | Method for distilling vinyl chloride from thermal decomposition product of 1,2-dichloroethane | |
| JP4432187B2 (en) | Method for recovering 1,2-dichloroethane | |
| NO822994L (en) | PROCEDURE FOR THE PREPARATION OF VINYL CHLORIDE. | |
| JP4061770B2 (en) | Purification method of ethane dichloride | |
| JPH1121562A (en) | Process for decomposing phenol tar | |
| KR102046054B1 (en) | Preparation method of (meth)acrylic acid | |
| KR102079772B1 (en) | Method for continuously recovering (meth)acrylic acid | |
| JP4691771B2 (en) | Method for recovering high purity 1,2-dichloroethane | |
| US3100233A (en) | Purification of acetylene tetrachloride containing chlorine impurity | |
| JP2002510663A (en) | Method for treating gas generated by decomposition of 1,2-dichloroethane |