JPH0476430A - Differential pressure measuring device - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、ベローズを使用した、簡易、低コス１〜の過
大圧保護機槽を有する差圧測定装置に関するものである
。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to a differential pressure measuring device using a bellows and having a simple, low-cost overpressure protector tank.
〈従来の技術〉
第７図は従来より一般に使用されている従来例の構成説
明図で、例えば、ＵＳＰ４１３５４０７号に示されてい
る。<Prior Art> FIG. 7 is a diagram illustrating the configuration of a conventional example that has been commonly used, and is shown in, for example, US Pat. No. 4,135,407.
図において、ハウジング１の両側に高圧側フランジ２、
低圧ｍ］フランジ３が溶接等によって固定されており、
両フランジ２．３には測定せんとする圧力ＰＨの高圧流
体の導入［１４、圧力ＰＬの低圧流体の導入口５が設け
られている。ハウジング１内に圧力測定室６が形成され
ており、この圧力測定室６内にベロース機構７とシリコ
ンタイアフラム８が設けられている。ベローズ機構７と
シリコンタイアフラム８はそれぞれ別個に圧力測定室６
の壁に固定されており、ベローズｌ［７とシリコンダイ
アフラム８の両者でもって圧力測定室６を２分している
。In the figure, high pressure side flanges 2 are on both sides of the housing 1,
Low pressure m] The flange 3 is fixed by welding etc.
Both flanges 2.3 are provided with an inlet 14 for introducing high-pressure fluid at a pressure PH to be measured and an inlet 5 for introducing a low-pressure fluid at a pressure PL. A pressure measurement chamber 6 is formed within the housing 1, and a bellows mechanism 7 and a silicone tire phragm 8 are provided within the pressure measurement chamber 6. The bellows mechanism 7 and the silicone tire phragm 8 are each separated into pressure measurement chambers 6.
The pressure measurement chamber 6 is divided into two by both the bellows 7 and the silicon diaphragm 8.
ベローズａ梢７は、第８図に示す如く、ベロズ７１と、
ベローズ７１の自由端に一端が接続され他端にストッパ
ー７２が取付けられた移動棒７３と、ストッパー７２’
ｎａＪの移動棒７３に摺動自由に取付けられたスリーブ
７４と、スリーブ７４とストッパー７２を介してベロー
ズ７１に圧縮力を加えるスプリング７５とよりなる。As shown in FIG. 8, the bellows a-tree 7 has a bellows 71,
A moving rod 73 having one end connected to the free end of the bellows 71 and a stopper 72 attached to the other end, and a stopper 72'
It consists of a sleeve 74 that is slidably attached to the moving rod 73 of naJ, and a spring 75 that applies a compressive force to the bellows 71 via the sleeve 74 and the stopper 72.
シリコンダイアフラム８は全体が単結晶のシリコン基板
から形成されている。シリコン基板の一方の面にボロン
等の不純物を選択拡散して４つのストレイゲージ８０を
形成し、他方の面を機械加１、エツチングし、全体が凹
形のダイアフラムを形成する。４つのストレインゲージ
８０は、シリコンタイアフラム８が差圧ΔＰを受けてた
わむ時、２つか引張り、２つが圧縮を受けるようになっ
ており、これらがホイートストン・ブリッジ回路に接続
され、抵抗変化が差圧ΔＰの変化として検出される。The silicon diaphragm 8 is entirely formed from a single-crystal silicon substrate. Four stray gauges 80 are formed by selectively diffusing impurities such as boron on one side of the silicon substrate, and the other side is machined and etched to form a diaphragm having a concave shape as a whole. The four strain gauges 80 are designed so that when the silicone tire phragm 8 deflects due to the differential pressure ΔP, two are in tension and two are in compression, and these are connected to a Wheatstone bridge circuit so that the resistance change is caused by a difference. It is detected as a change in pressure ΔP.
支持体９は、ハーメチック端子を備えており、支持体９
の圧力測定室６１Ｉ！Ｉ端面に低融点ガラス接続等の方
法でシリコンダイアフラム８が接着固定されている。The support body 9 is equipped with a hermetic terminal, and the support body 9
Pressure measurement chamber 61I! A silicon diaphragm 8 is adhesively fixed to the I end face by a method such as low melting point glass bonding.
ハウジング１と高圧側フランジ２、および低圧側フラン
ジ３との間に、圧力導入室１０．１１か形成されている
。この圧力導入室１０．１１内に隔液ダイアフラム１２
．１３を設け、この隔液ダイアフラム１２，１３と対向
するハウジング１の壁１０Ａ、ＩＩＡに隔液ダイアフラ
ム１２，１３と類似の形状のバックプレートが形成され
ている。A pressure introduction chamber 10.11 is formed between the housing 1, the high pressure side flange 2, and the low pressure side flange 3. A separating liquid diaphragm 12 is installed in this pressure introduction chamber 10.11.
．． 13, and a back plate having a similar shape to the liquid separation diaphragms 12, 13 is formed on the walls 10A, IIA of the housing 1 facing the liquid separation diaphragms 12, 13.
隔液ダイアフラム１２．１３とバックプレート１ＯＡ、
ＩＩＡとで形成される空間と、圧力測定室６は、連通孔
１４．１５を介して導通している。Liquid diaphragm 12.13 and back plate 1OA,
The space formed by IIA and the pressure measurement chamber 6 are in communication with each other via communication holes 14 and 15.
而して、連通孔１４はベローズ７１の外側に連通され、
連通孔１５はベローズ７１の内側に連通されている。そ
して、隔液ダイアフラム１２，１３間にシリコンオイル
等の封入１１０１，１０２が渦たされ、この封入液がシ
リコンダイアフラム８の上下面にまで至っている、封入
１１０１，１０２はベローズ機構７とシリコンダイアフ
ラム８とによって２分されているが、その量が、はぼ均
等になるように配慮されている。Thus, the communication hole 14 is communicated with the outside of the bellows 71,
The communication hole 15 communicates with the inside of the bellows 71. Enclosures 1101 and 102 such as silicone oil are swirled between the liquid separation diaphragms 12 and 13, and this enclosed liquid reaches the upper and lower surfaces of the silicon diaphragm 8. Although it is divided into two parts, care has been taken to ensure that the amounts are approximately equal.
以上の構成において、高圧側から圧力か作用した場合、
隔液ダイアフラム１２に作用する圧力が封入液１０１に
よってシリコンダイアフラム８に伝達される。In the above configuration, if pressure is applied from the high pressure side,
The pressure acting on the liquid diaphragm 12 is transmitted to the silicon diaphragm 8 by the sealed liquid 101.
一方、低圧側から圧力が作用した場合、隔液ダイアフラ
ム１３に作用する圧力が封入液１０２によってシリコン
ダイアフラム８に伝達される。On the other hand, when pressure is applied from the low pressure side, the pressure acting on the liquid partition diaphragm 13 is transmitted to the silicon diaphragm 8 by the sealed liquid 102.
この結果、高圧側と低圧側との圧力差に応じてシリコン
ダイアフラム８が歪み、この歪み量がストレインゲージ
８０に因って電気的に取出され、差圧の測定が行なわれ
る。As a result, the silicon diaphragm 8 is distorted in accordance with the pressure difference between the high pressure side and the low pressure side, and the amount of this distortion is electrically extracted by the strain gauge 80 to measure the pressure difference.
この場合、Ｗ＋定範囲ではベローズ７１には所定の圧縮
力か加えられているので、ベローズ７１は変位しない。In this case, since a predetermined compressive force is applied to the bellows 71 in the W+certain range, the bellows 71 is not displaced.
高圧側から過大圧力が作用した場合、第９図に示す如く
、ベローズ７１はスプリング７５の力に打勝って縮み、
隔液ダイアフラム１２側の封入液１０１を吸収し、隔液
ダイアフラム１２がバックプレー ト１０Ａに当たって
、これ以上の過大圧力は加わらない。When excessive pressure is applied from the high pressure side, the bellows 71 overcomes the force of the spring 75 and contracts, as shown in FIG.
The liquid diaphragm 12 absorbs the sealed liquid 101 on the side of the liquid separation diaphragm 12, and the liquid separation diaphragm 12 hits the back plate 10A, so that no further excessive pressure is applied.
低圧−ｊから過大圧力が作用した場合、第１０図に示ず
々１１＜、ベローズ７１は伸び、隔液ダイアフラム１３
側の封入液１０２を吸収し、隔液ダイアフラム１３がバ
ックプレートＩＩＡに当たって、これ以上の過大圧力は
加わらない。When excessive pressure is applied from the low pressure -j, the bellows 71 expands and the liquid separating diaphragm 13
The liquid diaphragm 13 contacts the back plate IIA, and no more excessive pressure is applied.
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、この様な装置においては、過大圧保護１
１桶としてのベローズＲＩｌＩ７の機能が満足に動作す
る為には、ベローズ７１は、隔液ダイアスラム１２．１
３とバックプレートＩＯＡ、１１Ａの間の容積を全部吸
収出来るように変位量を大きく設計しなくてはならない
。<Problem to be solved by the invention> However, in such a device, overpressure protection 1
In order for the bellows RIlI7 to function satisfactorily as a tank, the bellows 71 must be connected to the liquid diaphragm 12.1.
3 and the back plates IOA and 11A must be designed to have a large displacement so that the entire volume between them can be absorbed.
しかし、例えば、１００Ｋｇ／ｃｍ２を越える差圧測定
装置の場合、ベロースフ１はこの圧力に絶えられなけれ
ばならない。この為、ベローズ７１の直径が小さく、板
厚が厚くなり上記容積を吸収することが出来なくなる。However, for example, in the case of a differential pressure measuring device exceeding 100 kg/cm2, the bellows 1 must be able to withstand this pressure. For this reason, the bellows 71 has a small diameter and a thick plate, making it impossible to absorb the above-mentioned volume.
一方、低圧側はシリコンタイアフラム８の１ｍ上、支持
体９への接合力の制約から、例えば、ＩＫ ｇ ／ ｃ
ｍ ２以上の過大圧は加えられる事が出来ない。On the other hand, the low pressure side is 1 m above the silicon tire flammable 8, and due to constraints on the bonding force to the support 9, for example, IK g/c
Overpressure of more than m 2 cannot be applied.
本発明は、この問題点を、解決するものである。The present invention solves this problem.
本発明の目的は、ベローズを使用した、簡易、低コスト
の過大圧保護Ｒ梢を有する差圧測定装置を提供するにあ
る。An object of the present invention is to provide a simple, low-cost differential pressure measuring device having an overpressure protection radius using bellows.
く問題を解決するための手段〉
この目的を達成するために、本発明は、内部に封入液が
満たされたハウジングと、該ハウジングの両側面に設け
られ前記封入液と高圧側測定流体と低圧側Ｊｌ定流体と
をそれぞれ分離する隔液ダイアフラムと、前記ハウジン
グ内に設けられたベロスと、前記ハウジング内に設けら
れ該ベローズともに前記封入液を２分するように設けら
れた圧力−電気信号変換素子とを具備する差Ｆｆ：、測
定装置において、
ダイアフラムの変位が一定以上変位しないように設けら
れた変位制御手段を持つシリ：１ンのセンサチップと前
記ダイアフラムに設けられた機械−電気信号変換素子と
を備える圧力−電気信号変換素子と、前記ハウジング内
に設けられたベローズと、前記ハウジング内に設けられ
前記高圧側測定流体圧力を前記第１室の外側と該ベロー
ズの外側に連通ずる第１連通孔と、前記ハウジング内に
設けられ前記低圧側測定流体圧力を前記第１室とｍｌ記
ベローズの内側に連通ずる第２連通孔と、前記ハウジン
グ内に設けられ前記ベローズに所定の圧縮力を加えるス
プリングとを具備したことを特徴とする差圧測定装置を
構成したものである。Means for Solving the Problems> To achieve this object, the present invention includes a housing filled with a sealed liquid, and a housing provided on both sides of the housing to connect the sealed liquid, a high-pressure side measurement fluid, and a low-pressure side fluid. A liquid separation diaphragm that separates the side Jl constant fluid, a bellows provided in the housing, and a pressure-to-electrical signal converter provided in the housing so that both the bellows divide the sealed liquid into two. A measuring device comprising a sensor chip having a displacement control means provided so that the displacement of the diaphragm does not exceed a certain level, and a mechanical-electrical signal converter provided on the diaphragm. a pressure-to-electrical signal converting element comprising: a bellows provided in the housing; a second communication hole provided in the housing for communicating the low-pressure side measured fluid pressure with the first chamber and the inside of the bellows; and a second communication hole provided in the housing to apply a predetermined compression force to the bellows. This is a differential pressure measuring device characterized in that it is equipped with a spring that applies .
く作用〉
以上の構成において、高圧側から圧力が作用した場合、
隔液ダイアフラムに作用する圧力が封入液によってシリ
コンダイアフラムに伝達される。In the above configuration, when pressure is applied from the high pressure side,
The pressure acting on the liquid diaphragm is transmitted to the silicon diaphragm by the fill liquid.
一方、低圧側から圧力が作用した場合、隔液ダイアフラ
ムに作用する圧力が封入液によってシリコンダイアフラ
ムに伝達される。On the other hand, when pressure is applied from the low pressure side, the pressure acting on the liquid separating diaphragm is transmitted to the silicon diaphragm by the sealed liquid.
この場合、測定範囲ではベローズには所定の圧縮力が加
えられ各ひ殆んど密着線ばかりに縮んでいるので、ベロ
ーズは変位しない。In this case, in the measurement range, a predetermined compressive force is applied to the bellows and the bellows are contracted almost to the line of contact, so the bellows do not displace.
而して、高圧側と低圧側との圧力差に応じてシリコンダ
イアフラムが歪み、この歪み量が圧力−電気信号変換素
子に因って電気的に取出され、差圧の測定が行なわれる
。Thus, the silicon diaphragm is distorted in accordance with the pressure difference between the high pressure side and the low pressure side, and the amount of this distortion is electrically extracted by the pressure-electrical signal conversion element, and the differential pressure is measured.
高圧側から過大圧力が作用した場合、ダイアフラムは浅
い凹部の深さの分のみ変位し、基板に接する事によって
、それ以上の過大圧力が印加されても破損することなく
保護される。When excessive pressure is applied from the high-pressure side, the diaphragm is displaced by the depth of the shallow recess, and by contacting the substrate, it is protected from damage even if more excessive pressure is applied.
一方、ベローズは、すでに各ひだが殆んど密着せんばか
りまで縮んでいるので、最大圧力が印加してもそれ以上
変位しない。On the other hand, since the bellows has already shrunk to the point where each pleat is almost in close contact with each other, the bellows will not be displaced any further even if the maximum pressure is applied.
低圧側から過大圧力が作用した場合、ベローズは仲ひ、
隔液ダイアフラム側の封入液を吸収し、隔液ダイアフラ
ムがバックブレート
これ以−ヒの過大圧力は加わらない。If excessive pressure is applied from the low pressure side, the bellows will close,
The sealed liquid on the side of the liquid diaphragm is absorbed, and the liquid diaphragm backblades so that no excessive pressure is applied.
以下、実施例に基づき詳細に説明する。Hereinafter, a detailed explanation will be given based on examples.
〈実施例〉 第１図は本発明の一実施例の要部構成説明図である。<Example> FIG. 1 is an explanatory diagram of the main part of an embodiment of the present invention.
図において、第７図と同一記号の構成は同一機能を表わ
す。In the figure, configurations with the same symbols as in FIG. 7 represent the same functions.
以下、第７図と相違部分のみ説明する。Hereinafter, only the differences from FIG. 7 will be explained.
２１は、センサチップ２１１と基板２１２と機械−電気
信号変換素子２１３とを有する圧カー電気信す°変換素
子である。Reference numeral 21 denotes a pressure car electric signal converting element having a sensor chip 211, a substrate 212, and a mechanical-electrical signal converting element 213.
センサチップ２１１は、ダイアフラムの変位が少なくな
るように深さの極めて浅い四部２１１１により形成され
たダイアフラム２１１２を有し、シリコン材よりなる。The sensor chip 211 has a diaphragm 2112 formed by four portions 2111 with extremely shallow depths so that displacement of the diaphragm is small, and is made of silicon material.
基板２１２は、センサチップ２１１に一面が接続され、
センサチップ２１１の凹部２１１１と第１室２１４を構
成する
機械−電気信号変換素子２１３は、ダイアフラム２１１
２に設けられている。この場合は、ストレインゲージが
ｆ重用されている。The substrate 212 is connected to the sensor chip 211 on one side,
The mechanical-electrical signal conversion element 213 that constitutes the recess 2111 of the sensor chip 211 and the first chamber 214 is connected to the diaphragm 211.
It is provided in 2. In this case, strain gauges are heavily used.
２２は、ハウジング１内に設けられたベローズである。22 is a bellows provided within the housing 1.
ベローズ２２は、第３図、第４図に示す如く、ドナツ盤
状の薄板２２１，２２２，２２３゜２２４の内周縁と外
周縁とを互いに溶接Ａして形成する。As shown in FIGS. 3 and 4, the bellows 22 is formed by welding the inner and outer edges of donut-shaped thin plates 221, 222, 223, 224 to each other.
２３は、ハウジング１内に設けられ高圧側Ｊｌ定流体圧
力を第１室２１４の外側とベローズ２２の外側に連通ず
る第１連通孔である。A first communication hole 23 is provided in the housing 1 and communicates the high-pressure side Jl constant fluid pressure with the outside of the first chamber 214 and the outside of the bellows 22.
２４は、ハウジング１内に設けられ低圧側測定流体圧力
を第１室２１４とベローズ２２の内ｍｌに連通ずる第２
連通孔である。A second chamber 24 is provided in the housing 1 and communicates the low-pressure side measured fluid pressure with the first chamber 214 and the inner ml of the bellows 22.
It is a communicating hole.
２５はハウジング１内に設けられベローズ２２に所定の
圧縮力を加えるスプリングである。A spring 25 is provided within the housing 1 and applies a predetermined compressive force to the bellows 22.
以上の構成において、高圧側から圧力が作用した場合、
隔液ダイアフラム１２に作用する圧力が封入液１０１に
よってシリコンタイアフラム２１１２ｔこｆ公達される
。In the above configuration, if pressure is applied from the high pressure side,
The pressure acting on the liquid-separating diaphragm 12 is distributed by the sealed liquid 101 to the silicon tire diaphragm 2112t.
一方、低圧（ｍから圧力が作用した場合、隔液ダイアフ
ラム１３に作用する圧力が封入液１０２によってシリコ
ンタイアフラム２１１２に伝達される。On the other hand, when pressure is applied from low pressure (m), the pressure acting on the liquid partition diaphragm 13 is transmitted to the silicone tire phragm 2112 by the sealed liquid 102.
この場合、測定範囲ではベローズ２２には所定のりｉ縮
力かスプリング５により加えられているので、ベローズ
２２は変位しない。In this case, the bellows 22 is not displaced because a predetermined compression force is applied to the bellows 22 by the spring 5 in the measurement range.
而して、高圧側と低圧側との圧力差に応じてシリコンタ
イアフラム２１１２が歪み、この歪み量が機械−電気信
号変換素子２１３に因って電気的に取出され、差圧の制
定が行なわれる。Thus, the silicon tire phragm 2112 is distorted according to the pressure difference between the high pressure side and the low pressure side, and the amount of this distortion is electrically extracted by the mechanical-electrical signal conversion element 213, and a differential pressure is established. It will be done.
高圧側から過大圧力か作用した場合、ダイアフラム２１
１２は浅い凹部２Ｊ１１の深さの分のみ変位し、基板に
接する事によって、それ以上の過大圧力か印加されても
破損することなく保護される。If excessive pressure is applied from the high pressure side, the diaphragm 21
12 is displaced by the depth of the shallow recess 2J11, and by contacting the substrate, it is protected without being damaged even if more excessive pressure is applied.
一方、第５図に示す如く、ベローズ２２は各ひだが殆ん
ど密着ぜんばがりまで縮んでいるので、それ以上、過大
圧が印加しても、変位することなく、また、高圧にも耐
え、塑性変形する事がない。On the other hand, as shown in FIG. 5, each fold of the bellows 22 has contracted to almost a tight-fitting vertex, so even if excessive pressure is applied, the bellows 22 will not be displaced and will withstand high pressure. , there is no plastic deformation.
低圧側から過大圧力が作用した場合、第６図に示す如く
、ベローズ２２は伸び、隔液ダイアフラム１３側の封入
液１０２を吸収し、隔液ダイアフラム１３かバックプレ
ートＩＩＡに当たって、これ以上の過大圧力は加わらな
い。When excessive pressure is applied from the low pressure side, as shown in Fig. 6, the bellows 22 expands, absorbs the liquid 102 on the liquid separation diaphragm 13 side, and hits the liquid separation diaphragm 13 or the back plate IIA, causing no further excessive pressure. is not added.
この結果、高圧側からの大きな過大圧に対しては、シリ
コンタイアフラムの変位を基板で止めて保護し、低圧側
からの過大圧に対しては、ベロズ２２が大きく伸びて、
確実に過大圧を保護出来、過大圧保護Ｒ椙の構成要素は
少なくて済むので、安価な機構が得られる。As a result, the substrate protects the silicon tire flammable against large overpressure from the high pressure side, and the bellows 22 extends greatly against excessive pressure from the low pressure side.
Since overpressure can be reliably protected and the number of components required for overpressure protection is small, an inexpensive mechanism can be obtained.
なお、前述の実施例においては、センサは半導体センサ
のものについて説明したが、これに限ることはなく、ま
た、検出方式は、抵抗式、振動式、容量式のいずれでも
良いことは勿論である。In the above embodiments, the sensor is a semiconductor sensor, but the sensor is not limited to this, and the detection method may of course be a resistive type, a vibration type, or a capacitive type. .
また、スプリング２５は無くても良いことは勿論である
。Further, it goes without saying that the spring 25 may be omitted.
〈発明の効果〉
以上説明したように、本発明は、内部に封入液か満たさ
れたハウジングと、該ハウジングの両側面に設けられ前
記封入液と高圧側測定流体と低圧側測定流体とをそれぞ
れ分雛する隔液ダイアフラムと、前記ハウジング内に設
けられたベローズと、前記ハウジング内に設けられ該ベ
ローズともに前記封入液を２分するように設けられた圧
力−電気信号変換素子とを具備する差圧測定装置におい
て、ダイアフラムの変位か一定以上変位しないように設
けられた変位制御手段を持つシリコンのセンサチッグと
前記ダイアフラムにＢＬｊちれた機械−電気信号変換素
子とを備える圧力−電気信号変換素子と、前記ハウジン
グ内に設けられたベローズと、前記ハウジング内に設け
られ前記高圧側測定流体圧力を前記第１室の外側と該ベ
ローズの外側に連通ずる第１連通孔と、前記ハウジング
内に設けられ前記低圧側測定流体圧力を前記第１室と前
記ベローズの内側に連通ずる第２連通孔と、前記ハウジ
ング内に設けられ前記ベローズに所定の圧縮力を加える
スプリングとを具備したことを特徴とする差圧測定装置
を構成した。<Effects of the Invention> As explained above, the present invention includes a housing filled with a sealed liquid, and a housing provided on both sides of the housing to connect the filled liquid, a high-pressure side measurement fluid, and a low-pressure side measurement fluid, respectively. A differential comprising a liquid separating diaphragm that divides the liquid, a bellows provided in the housing, and a pressure-electrical signal converting element provided in the housing such that both the bellows divide the sealed liquid into two. A pressure-to-electrical signal converting element in a pressure measuring device, comprising a silicon sensor chip having a displacement control means provided so that the displacement of a diaphragm does not exceed a certain level, and a mechanical-to-electrical signal converting element disposed on the diaphragm. , a bellows provided in the housing, a first communication hole provided in the housing and communicating the high pressure side measured fluid pressure with the outside of the first chamber and the outside of the bellows, and a first communication hole provided in the housing. It is characterized by comprising a second communication hole that communicates the low-pressure side measured fluid pressure with the first chamber and the inside of the bellows, and a spring that is provided in the housing and applies a predetermined compressive force to the bellows. A differential pressure measuring device was constructed.
この結果、高圧側からの大きな過大圧に対しては、シリ
コンダイアフラムが基板に＠座することによって保護し
、低圧側からの過大圧に対しては、ベローズが大きく伸
びて、シリコンセンサに一定以上の圧力印加しない為、
研実に過大圧を保護出来、過大圧保護機構の構成要素は
少なくて済むので、安価な機構か得られる。As a result, the silicon diaphragm sits on the substrate to protect against large overpressures from the high pressure side, and the bellows extends greatly against excessive pressures from the low pressure side, causing the silicon sensor to over a certain level. Because no pressure is applied,
Since overpressure can be effectively protected and the number of components of the overpressure protection mechanism is small, an inexpensive mechanism can be obtained.
従って、本発明によれば、ベローズを使用した、簡易、
低コストの過大圧Ｃ１，護機梢を有する差圧測定装置を
実現することが出来る。Therefore, according to the present invention, a simple,
It is possible to realize a low-cost differential pressure measuring device having an overpressure C1 and a protective shield.
第１図は本発明の一実施例の要部構成説明図、第２図、
第３図、第４図は第１図の部品説明図、第５図、第６図
は第１図の動作説明図、第７図は従来より一般に使用さ
れている従来例の構成説明図、第８図、第９図、第１０
図は第７図の動作説明図である。
１・・・ハウジング、２・・・高圧側フランジ、３・・
・低圧側フランジ、４，５・・・導入口、６・・・圧力
測定室、７・・・ベローズ機構、９・・・支持体、１０
．１１・・・圧力導入室、１０Ａ、１１Ａ・・・バック
プレート、１２．１３・・・隔液タイアフラム、２１・
・・カバー、２１１・・・センサチンプ、２１１１・・
・凹部、２１１２・・・タイアフラム、２１２・・・基
板、２１３・・・機織電気信号変換素子、２１４・・・
第１室、２２・・・ベロス、２２１，２２２，２２３，
２２４，２２５・・・薄板、２３．２４・・・連通孔、
２５・・・スプリング。FIG. 1 is an explanatory diagram of the main part configuration of an embodiment of the present invention, FIG.
3 and 4 are explanatory diagrams of the parts of FIG. 1, FIGS. 5 and 6 are explanatory diagrams of the operation of FIG. 1, and FIG. 7 is an explanatory diagram of the configuration of a conventional example commonly used, Figure 8, Figure 9, Figure 10
The figure is an explanatory diagram of the operation of FIG. 7. 1...Housing, 2...High pressure side flange, 3...
-Low pressure side flange, 4, 5...Inlet, 6...Pressure measurement chamber, 7...Bellows mechanism, 9...Support, 10
．． 11... Pressure introduction chamber, 10A, 11A... Back plate, 12.13... Separate liquid tire phragm, 21.
...Cover, 211...Sensor Chimp, 2111...
- Recessed part, 2112... Tire flammable part, 212... Substrate, 213... Weaving electric signal conversion element, 214...
1st room, 22... Belos, 221, 222, 223,
224, 225... Thin plate, 23.24... Communication hole,
25...Spring.
Claims (1)
定流体と低圧側測定流体とをそれぞれ分離する隔液ダイ
アフラムと、 前記ハウジング内に設けられたベローズと、前記ハウジ
ング内に設けられ該ベローズともに前記封入液を２分す
るように設けられた圧力−電気信号変換素子と を具備する差圧測定装置において、 ダイアフラムの変位が一定以上変位しないように設けら
れた変位制御手段を持つシリコンのセンサチップと 前記ダイアフラムに設けられた機械−電気信号変換素子
と を備える圧力−電気信号変換素子と、 前記ハウジング内に設けられたベローズと、前記ハウジ
ング内に設けられ前記高圧側測定流体圧力前記圧力−電
気信号変換素子の外側と該べローズの外開に連通する第
１連通孔と、 前記ハウジング内に設けられ前記低圧側測定流体圧力を
前記圧力−電気信号変換素子の内側の室と前記ベローズ
の内側に連通する第２連通孔と、前記ハウジング内に設
けられ前記ベローズに所定の圧縮力を加えるスプリング
と を具備したことを特徴とする差圧測定装置。[Scope of Claims] A housing whose inside is filled with a sealed liquid; a liquid separation diaphragm provided on both sides of the housing to separate the sealed liquid from a high-pressure side measurement fluid and a low-pressure side measurement fluid, respectively; and the housing. In the differential pressure measuring device, the displacement of the diaphragm is constant. a pressure-to-electrical signal conversion element comprising a silicon sensor chip having a displacement control means provided to prevent the displacement from exceeding the diaphragm; and a bellows provided in the housing; , a first communication hole provided in the housing and communicating with the outside of the pressure-electrical signal conversion element and the outer opening of the bellows for the high-pressure side measured fluid pressure; and a first communication hole provided in the housing and connected to the low-pressure side measured fluid pressure. a second communication hole that communicates with the inner chamber of the pressure-electrical signal conversion element and the inner side of the bellows; and a spring that is provided in the housing and applies a predetermined compressive force to the bellows. Differential pressure measuring device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18995890A JPH0476430A (en) | 1990-07-18 | 1990-07-18 | Differential pressure measuring device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18995890A JPH0476430A (en) | 1990-07-18 | 1990-07-18 | Differential pressure measuring device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0476430A true JPH0476430A (en) | 1992-03-11 |
Family
ID=16250040
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18995890A Pending JPH0476430A (en) | 1990-07-18 | 1990-07-18 | Differential pressure measuring device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0476430A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0662344U (en) * | 1993-02-05 | 1994-09-02 | 横河電機株式会社 | Semiconductor pressure gauge |
| CN110332973A (en) * | 2019-01-29 | 2019-10-15 | 荆门宏图延晟机械制造有限公司 | A kind of high static pressure overload protection bullet differential pressure levelmeter |
-
1990
- 1990-07-18 JP JP18995890A patent/JPH0476430A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0662344U (en) * | 1993-02-05 | 1994-09-02 | 横河電機株式会社 | Semiconductor pressure gauge |
| CN110332973A (en) * | 2019-01-29 | 2019-10-15 | 荆门宏图延晟机械制造有限公司 | A kind of high static pressure overload protection bullet differential pressure levelmeter |
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