JPH0472088A - Aluminum plating bath - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、常温で使用できる電気アルミニウムめっき浴
に関するものであり、特に、装飾用または腐食防止のた
めの一般的な表面処理として利用できる光沢のあるアル
ミニウムめっき層を形成するための電気アルミニウムメ
ツキ浴に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to an electrolytic aluminum plating bath that can be used at room temperature, and in particular to a bright aluminum plating bath that can be used as a general surface treatment for decoration or corrosion prevention. The present invention relates to an electric aluminum plating bath for forming a certain aluminum plating layer.
［従来技術］
アルミニウム金属材が優れた耐食性を有していることは
良く知られている。しかし、アルミニウムは酸素に対す
る親和力が大きく、また電位が水素より卑であるため、
水溶液からの電析は困難である。そのため従来からアル
ミニウム電気めっきは、有機溶媒系めっき浴や溶融塩浴
にて行なわれている。[Prior Art] It is well known that aluminum metal materials have excellent corrosion resistance. However, aluminum has a large affinity for oxygen and its potential is less noble than hydrogen, so
Electrodeposition from aqueous solutions is difficult. Therefore, aluminum electroplating has conventionally been carried out in an organic solvent-based plating bath or a molten salt bath.
ここで有機溶媒系のめっき浴としては、ＡＩ！、（、ｅ
ｉとＬｉＡｌ！Ｈａまたは、ＬｉＨとをエーテルにン容
解したものや、テトラヒドロフランに溶解したもの、Ｎ
ａＦ・２＾１（ＣＪＳ）３のトルエン溶液が代表的であ
る。しかし、これらの浴は、空気や水と接触した場合に
爆発する危険性があり、取り扱いにくい。Here, as an organic solvent-based plating bath, AI! ,(,e
i and LiAl! Ha or LiH dissolved in ether, tetrahydrofuran, N
A typical example is a toluene solution of aF.2^1(CJS)3. However, these baths pose a risk of explosion if they come into contact with air or water and are difficult to handle.
そこで、爆発の危険性がない浴として、アルミニウムハ
ロゲン化物とアルキルピリジニウムハロゲン化物の混合
溶融塩浴も提案されている（特開昭６２−７０５９２．
６２−７０５９３号公報）。Therefore, a mixed molten salt bath of aluminum halide and alkylpyridinium halide has been proposed as a bath without the risk of explosion (Japanese Patent Application Laid-Open No. 70592/1983).
62-70593).
しかしながら、このめっき浴からのめっき状態は光沢が
なく、平滑で緻密なめっき皮膜を得ることは困難である
。However, the plating from this plating bath lacks luster, making it difficult to obtain a smooth and dense plating film.
［発明が解決しようとする課題］
本発明は、空気や水と接触した場合にも爆発の危険がな
く、かつ光沢があり、平滑で緻密なめっき皮膜を得るこ
とができる電気アルミニウムめっき浴を提供することを
目的とする。[Problems to be Solved by the Invention] The present invention provides an electrolytic aluminum plating bath that is free from the danger of explosion even when it comes into contact with air or water, and can provide a glossy, smooth, and dense plating film. The purpose is to
［課題を解決するための手段］
本発明はアルミニウムハロゲン化合物とピリジニウム塩
などの溶融混合物に特定の光沢剤を添加すると上記課題
を有効に達成し得るとの知見に基づいてなされたのであ
る。[Means for Solving the Problems] The present invention was made based on the knowledge that the above problems can be effectively achieved by adding a specific brightener to a molten mixture of an aluminum halide compound and a pyridinium salt.
すなわち、本発明は、（Ａ）アルミニウムハロゲン化物
と（Ｂ）モノアルキルピリジニウムハロゲン化物、ジア
ルキルピリジニウムハロゲン化物、１−アルキルイミダ
ゾリウムハロゲン化物及び１゜３−ジアルキルイミダゾ
リウムハロゲン化物からなる群より選ばれる少なくとも
１種の化合物とを、１：１〜３：１のモル比で混合溶融
してなるめっき浴に対して、カルボニル化合物、アミド
化合物、ヒドラジド化合物、アセチルアルコール化合Ｔ
ｈ及び窒素複素環化合物からなる群より選ばれる少なく
とも１種の化合物を０．１〜１５ｇ／ｌ含有することを
特徴とする電気アルミニウムめっき浴を提供する。That is, the present invention provides a compound selected from the group consisting of (A) aluminum halide and (B) monoalkylpyridinium halide, dialkylpyridinium halide, 1-alkylimidazolium halide, and 1°3-dialkylimidazolium halide. A carbonyl compound, an amide compound, a hydrazide compound, an acetyl alcohol compound T
Provided is an electrolytic aluminum plating bath characterized by containing 0.1 to 15 g/l of at least one compound selected from the group consisting of h and nitrogen heterocyclic compounds.
本発明のアルミニウムハロゲン化物は、／ｌＸ。The aluminum halide of the present invention is /lX.
で表わされ、Ｘは塩素などのハロゲンである。It is represented by , and X is a halogen such as chlorine.
また、本発明で用いられるモノアルキルピリジニウムハ
ロゲン化物は、次の式（Ｉ）で表わされる。Furthermore, the monoalkylpyridinium halide used in the present invention is represented by the following formula (I).
（式中、Ｒ１は炭素数１〜１２のアルキル基、Ｘはハロ
ゲンである。）
サラに、本発明のジアルキルピリジニウムハロゲン化合
物は次の式（ｆｆ）で表わされる。(In the formula, R1 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and X is a halogen.) In general, the dialkylpyridinium halogen compound of the present invention is represented by the following formula (ff).
（式中、Ｒ１は、炭素数１〜１２のアルキル基、Ｒ２は
、炭素数１〜６のアルキル基、Ｘ：ハロゲンである。）
さらに本発明に用いられる１−アルキルイミダゾリウム
ハロゲン化合物は、式（Ｉ［［）で表わされる。(In the formula, R1 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and X is a halogen.) Furthermore, the 1-alkylimidazolium halogen compound used in the present invention is: It is represented by the formula (I[[).
（式中、Ｒ３は炭素数１〜１２のアルキル基、Ｘはハロ
ゲンである。）
また、本発明の１．３−ジアルキルイミダゾリウムハロ
ゲン化物は、式（ＩＶ）で表わされる。(In the formula, R3 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and X is a halogen.) Furthermore, the 1,3-dialkylimidazolium halide of the present invention is represented by formula (IV).
（式中、Ｒ３は炭素数１〜１２のアルキル基、Ｒ４は炭
素数１〜６のアルキル基、Ｘはハロゲンである。）
本発明の良好なめっき皮膜・を得るための溶融浴は、（
Ａ）成分と（Ｂ）成分とを１：１〜３：１、好ましくは
２：１のモル比で使用して溶融塩を形成する。(In the formula, R3 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R4 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and X is a halogen.) The melt bath for obtaining a good plating film of the present invention is (
Components A) and (B) are used in a molar ratio of 1:1 to 3:1, preferably 2:1 to form a molten salt.
これは、アルミニウムハロゲン化物が１：１より少ない
とピリジニウムおよびイミダゾリウムカチオンの分解と
思われる反応が起こり、また、３：１より多い場合には
めっき浴の粘度が上昇するため、浴の劣化及びめっき不
良となり好ましくないからである。This is because if the aluminum halide content is less than 1:1, a reaction that appears to decompose pyridinium and imidazolium cations occurs, and if it is more than 3:1, the viscosity of the plating bath increases, resulting in bath deterioration and This is because it causes poor plating, which is not preferable.
本発明では、上記溶融塩に下記（ｉ）及び／又は（ｉｉ
）の光沢付与剤を添加することによって電析において、
結晶を緻密化し、かつ光沢効果を得ることができる。In the present invention, the following (i) and/or (ii) is added to the molten salt.
) in electrodeposition by adding a brightening agent,
It is possible to densify the crystal and obtain a glossy effect.
（ｉ） ヒドラジド化合物、芳香族スルホンアミド、
芳香族スルホンイミドから選ばれる化合物、これらの化
合物は、単独で光沢（緻密）化効果があり、密着性も良
好である。(i) hydrazide compound, aromatic sulfonamide,
Compounds selected from aromatic sulfonimides, these compounds alone have a gloss (densification) effect and have good adhesion.
（ｉｉ ） 脂肪族アルデヒド、芳香族アルデヒド、
芳香族ケトン、アセチレンアルコール化合物または窒素
複素環化合物から選ばれる化合物。これらの化合物は、
単独で光沢（緻密）化効果がある。(ii) aliphatic aldehyde, aromatic aldehyde,
A compound selected from aromatic ketones, acetylene alcohol compounds, or nitrogen heterocyclic compounds. These compounds are
It alone has a gloss (densification) effect.
本発明では、上記（ｉｉ）の化合物を用いる場合に、カ
ルボキシル基を有する芳香族炭化水素、不飽和シクロス
ルホン化合物から選ばれる化合物又はスルファミド、ス
ルフィミド化合物を併用すると、外観の均一性と密着性
とを向上させることができる。In the present invention, when using the compound (ii) above, if a compound selected from an aromatic hydrocarbon having a carboxyl group, an unsaturated cyclosulfone compound, or a sulfamide or sulfimide compound is used in combination, uniformity of appearance and adhesion can be improved. can be improved.
次に、各光沢付与剤について詳しく説明する。Next, each gloss imparting agent will be explained in detail.
本発明のカルボニル化合物として、アルデヒド、ケトン
及びラクトンを挙げることができる。ここで、アルデヒ
ドとしては、炭素数２〜１２の脂肪族アルデヒド、例え
ば、トリブロモアセトアルデヒド、ｎ−ブチルアルデヒ
ド、メタアルデヒド、２−エチルヘキシルアルデヒド、
ラウリルアルデヒド等を使用でき、また芳香族アルデヒ
ド、例えばベンズアルデヒド、０−クロルベンズアルデ
ヒド、Ｐ−トルアルデヒド、アニスアルデヒド、０−ベ
ンズアルデヒドスルホン酸、Ｐ−ジメチルアミノベンズ
アルデヒド、テレフタルアルデヒド等を使用することが
できる。さらに、ケトンとしては、例えば、ベンザール
アセトン、アセトフェノン、ベンジルアセトンを使用す
ることができ、またラクトンとしては、クマリン、７−
シエチルアミノー４−メチルクマリン等を使用すること
ができる。As carbonyl compounds according to the invention, mention may be made of aldehydes, ketones and lactones. Here, the aldehyde is an aliphatic aldehyde having 2 to 12 carbon atoms, such as tribromoacetaldehyde, n-butyraldehyde, metaldehyde, 2-ethylhexylaldehyde,
Laurylaldehyde, etc. can be used, and aromatic aldehydes such as benzaldehyde, 0-chlorobenzaldehyde, P-tolualdehyde, anisaldehyde, 0-benzaldehyde sulfonic acid, P-dimethylaminobenzaldehyde, terephthalaldehyde, etc. can be used. Further, as the ketone, for example, benzyl acetone, acetophenone, benzyl acetone can be used, and as the lactone, coumarin, 7-
Ethylamino-4-methylcoumarin and the like can be used.
アミド化合物としては、芳香族スルホンアミドおよびス
ルホンイミドを挙げることができ、例えば０−スルホベ
ンズイミド、ジベンゼンスルホンイミド、Ｎ−ベンゾイ
ルベンゼンスルファミド、チオサッカリン、ジアリルス
ルファミド等があげられる。Examples of the amide compound include aromatic sulfonamides and sulfonimides, such as 0-sulfobenzimide, dibenzenesulfonimide, N-benzoylbenzenesulfamide, thiosaccharin, diallylsulfamide, and the like.
さらに、ヒドラジドとしては、例えば、マレイン酸ヒド
ラジド、イソニコチン酸ヒドラジド、フタル酸ヒドラジ
ド等が、アセチレンアルコール化合物としては、プロパ
ギルアルコール、２−ブチル−１，４−ジオール、２−
メチル−３−ブチンジオール等があげられる。Further, examples of the hydrazide include maleic acid hydrazide, isonicotinic acid hydrazide, phthalic acid hydrazide, etc., and examples of the acetylene alcohol compound include propargyl alcohol, 2-butyl-1,4-diol, 2-butyl-1,4-diol, and the like.
Examples include methyl-3-butynediol.
窒素複素環化合物としては、ピリジン、ピリミジン、イ
ミダゾールの各誘導体から選ばれる化合物、例えば、ピ
リジンスルホン酸、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、ウ
ラシル、チオウラシル、Ｎメチルイミダゾール、チオニ
コチン酸アミド等があげられる。Examples of the nitrogen heterocyclic compound include compounds selected from pyridine, pyrimidine, and imidazole derivatives, such as pyridine sulfonic acid, nicotinic acid, nicotinic acid amide, uracil, thiouracil, N-methylimidazole, and thionicotinic acid amide.
上記（ｉｉ）の光沢付与剤と併用す企のが好ましいカル
ボキシル基を有する芳香族炭化水素は、式（Ｖ）を有す
る化合物である。The aromatic hydrocarbon having a carboxyl group which is preferably used in combination with the gloss imparting agent (ii) above is a compound having the formula (V).
Ｃｏｏ）！
Ｒ６
（式中、
Ｒ５，Ｒ，はそれぞれ独立に −ＯＨ，−ＣＯＯＨ，−
Ｈ。Coo)! R6 (wherein R5, R, each independently -OH, -COOH, -
H.
−ＣＨｚ、−ＣＪｓ、−０ＣＨ３，−０ＣＪｓまたはハ
ロゲンである。）
具体的には、安息香酸、テレフタル酸、サリチル酸、レ
ゾルシン、アニス酸等などがあげられる。-CHz, -CJs, -0CH3, -0CJs or halogen. ) Specific examples include benzoic acid, terephthalic acid, salicylic acid, resorcinol, anisic acid, and the like.
また、不飽和シクロスルホンは式（ＶＩ）を有する化合
物である。Moreover, unsaturated cyclosulfone is a compound having formula (VI).
（式中、
Ｒ？、 Ｒ８，Ｒ’、 ＲＩＯハソｈツレ独立ニーＨ，
−０１ｌ。(In the formula, R?, R8, R', RIO has independent knee H,
-01l.
−Ｃ１，である、）
具体的には、スルホレン、２．４−ジメチルスルホレン
、３−メチルスルホレン及び２−ヒドロキシスルホレン
等などがあげられる。-C1, ) Specific examples include sulfolene, 2,4-dimethylsulfolene, 3-methylsulfolene, and 2-hydroxysulfolene.
さらに、スルファミド、スルフィミド化合物としては、
例えば、０−スルホベンズイミド、ベンゼンスルファミ
ドなどがあげられる。Furthermore, as sulfamide and sulfimide compounds,
Examples include 0-sulfobenzimide and benzenesulfamide.
前記（ｉ）又は（ｉｉ）の光沢付与剤の添加濃度は、（
Ａ）成分と（Ｂ）成分混合溶融しためつき浴に対し、０
．１〜１５ｇ／ｊ２好ましくは、１〜５ｇ／ｌである。The concentration of the gloss imparting agent (i) or (ii) above is (
For the mixing bath of A) and (B) components, 0
．． 1 to 15 g/j2, preferably 1 to 5 g/l.
これは、濃度が０．１ｇ／ｉ未満では、光沢効果はなく
、１５ｇ／ｆを超えると、高電流密度でめっきを実施し
た場合黒色スマット状析出となり、良好なアルミニウム
被膜が得られないからである。This is because if the concentration is less than 0.1 g/i, there will be no gloss effect, and if it exceeds 15 g/f, black smut-like precipitation will occur when plating is performed at a high current density, making it impossible to obtain a good aluminum coating. be.
また、前記光沢めっき浴にカルボキシル基を有する芳香
族炭化水素を０．５〜１０ｇ／Ｑ、好ましくは１〜５ｇ
／Ｉ！、不飽和シクロスルホンは０．５〜１０ｇ／ｌ、
好ましくは、１〜５ｇ／ｌ、さらに、スルファミド、ス
ルフィミド化合物を０．１〜８ｇ／Ｉｌ好ましくは、０
．２〜２ｇ／ｌ併用することにより、密着性がさらに向
上する。Further, 0.5 to 10 g/Q, preferably 1 to 5 g of an aromatic hydrocarbon having a carboxyl group is added to the bright plating bath.
/I! , unsaturated cyclosulfone 0.5-10 g/l,
Preferably 1 to 5 g/l, and further 0.1 to 8 g/l of sulfamide or sulfimide compound, preferably 0
．． By using 2 to 2 g/l in combination, the adhesion is further improved.
ここで、添加濃度が条件濃度未満では効果が小さく、条
件濃度を超えると高電流密度でめっきを実施した場合、
黒色スマット析出となり、良好なアルミニウム皮膜が得
られない。Here, if the additive concentration is less than the conditional concentration, the effect will be small, and if it exceeds the conditional concentration, when plating is performed at a high current density,
Black smut precipitation occurs and a good aluminum film cannot be obtained.
電気めっきは、直流もしくはパルス電流により、浴温２
５〜８０°Ｃ好ましくは４０〜６０℃で、電流密度０．
１〜１０＾／ｄＩＩ１２、好ましくは０．５〜２、ＯＡ
／ｄｍ”の電解条件で行うのがよい。なお、本発明のめ
っき浴は酸素や水分に触れても安全であるが、めっき浴
の安定性維持およびめっき性状などの点から、乾燥無酸
素雰囲気中（乾燥Ｎ２やＡｒ中）で行なうのが望ましい
。Electroplating is performed using direct current or pulsed current at a bath temperature of 2.
5-80°C, preferably 40-60°C, current density 0.
1-10^/dII12, preferably 0.5-2, OA
The plating bath of the present invention is safe even if it comes into contact with oxygen or moisture, but from the viewpoint of maintaining the stability of the plating bath and the plating properties, it is preferable to carry out the electrolysis under a dry oxygen-free atmosphere. It is preferable to carry out the process in a medium (dry N2 or Ar).
また、めっきを実施する場合は、液の撹拌または被めっ
き物の揺動が必要である。ジェット噴流や超音波撹拌等
を使用すれば、電流密度をさらに高くすることができる
。ただし、形状部品をめっきする場合は、つき回り性を
良くするために撹拌を弱くし、低電流密度で時間をかけ
て処理することが望ましい。Furthermore, when performing plating, it is necessary to stir the liquid or shake the object to be plated. The current density can be further increased by using a jet stream, ultrasonic stirring, or the like. However, when plating a shaped part, it is desirable to weaken the agitation and process at a low current density over a long period of time in order to improve the throwing power.
陽極としては、Ａｌ板が好ましいが不溶性陽極でもかま
わない。ただし、この場合は、へ２塩を補給して浴組成
を一定に保持する必要がある。As the anode, an Al plate is preferable, but an insoluble anode may also be used. However, in this case, it is necessary to maintain the bath composition constant by replenishing the salt.
［発明の効果］
本発明のめっき浴は、爆発や発火の危険性がなく、平滑
で緻密な光沢表面を呈するアルミニウム被膜を常温もし
くは低温（４０〜６０°Ｃ）にて得ることができるため
、作業性が良く工業化も有利である。[Effects of the Invention] The plating bath of the present invention has no danger of explosion or ignition, and can produce an aluminum coating exhibiting a smooth, dense, and glossy surface at room temperature or low temperature (40 to 60°C). It has good workability and is advantageous for industrialization.
よって、本発明のめっき浴を使用することにより、装飾
性や耐食性が要求される電気部品、自動車、航空機、船
舶部品等に容易にアルミニウムめっきを提供できる。Therefore, by using the plating bath of the present invention, aluminum plating can be easily applied to electrical parts, automobiles, aircraft, ship parts, etc. that require decorative properties and corrosion resistance.
次に本発明を実施例によってさらに詳しく説明する。Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
［実施例］
実施例１
ＡｆＣｊ！２と１−メチル−３−ブチルイミダゾリウム
ブロマイドとを２：１のモル比に混合溶融してなる浴に
、安息香酸２ ｇ／１．、Ｏ−クロルベンズアルデヒド
４ ｇ／ｌ添加して、めっき浴を調製した。次に、陰極
として用いる銅板（板厚３０）に対し、前処理として、
アルカリ脱脂、電解洗浄及び酸洗を行い、水洗後、アル
コール洗浄し乾燥を行なった。[Example] Example 1 AfCj! 2 and 1-methyl-3-butylimidazolium bromide in a molar ratio of 2:1, 2 g/1. , O-chlorobenzaldehyde (4 g/l) was added to prepare a plating bath. Next, as a pretreatment for the copper plate (thickness 30) used as the cathode,
Alkaline degreasing, electrolytic cleaning, and pickling were performed, followed by water washing, alcohol washing, and drying.
電解めっきは、前記銅板を陰極、アルミニウム板（純度
９９．９９重量％）を陽極として、４０°Ｃに保った前
記めっき浴に浸漬し、窒素ガス（乾燥）雰囲気中で直流
電流２ Ａ／ｄｍ”で２０分間行なった。なお、めっき
浴はスターラーで撹拌した。Electrolytic plating was performed by immersing the copper plate as a cathode and the aluminum plate (purity 99.99% by weight) as an anode in the plating bath maintained at 40°C, and applying a direct current of 2 A/dm in a nitrogen gas (dry) atmosphere. The plating bath was stirred with a stirrer.
これにより得られたアルミニウムめっき皮膜は、結晶が
密で金属光沢があり、このめっき重量は１９０■／ ｄ
ｍ ！であり、光沢度は４６０グロスであった。The resulting aluminum plating film has dense crystals and metallic luster, and the plating weight is 190 cm/d.
M! The glossiness was 460 gloss.
なお、光沢度は（株式会社）村上色彩技術研究所製デジ
タル光沢度計（ＧＭ−２６型）角度２０゜で測定した。The glossiness was measured using a digital glossmeter (Model GM-26) manufactured by Murakami Color Research Institute (Co., Ltd.) at an angle of 20°.
また、めっき重量は、（被めっき物のめつき後型量−被
めっき物のめっき前重量）÷表面積（ｄａｄ２）で換算
したものである。Moreover, the plating weight is calculated by (the post-plating mold weight of the plating object - the pre-plating weight of the plating object)/surface area (dad2).
実施例２
ＡＩＣｌｍ：Ｉとブチルピリジニウムクロライドとを２
＝１のモル比に混合溶融してなる浴に、０−スルホベン
ズイミド１．６ｇ／ｌを添加し、Ｉ Ａ／ｄｍ”とした
ほかは、実施例１と同じ方法でめっきを行なった。Example 2 AIClm:I and butylpyridinium chloride
Plating was carried out in the same manner as in Example 1, except that 1.6 g/l of 0-sulfobenzimide was added to the bath formed by mixing and melting at a molar ratio of 1 to give an IA/dm''.
これにより、緻密で光沢のあるアルミニウム皮膜が得ら
れた。めっき重量は９０■／ｄｍ”であり、光沢度は２
７０グロスであった。As a result, a dense and shiny aluminum film was obtained. The plating weight is 90μ/dm” and the gloss is 2.
It was 70 gross.
実施例３
＾ｐ−ｃｐ−ｘと１−メチル−３−ブチルイミダゾリウ
ムブロマイドとを２：１のモル比に混合溶融してなる浴
に、マレイン酸ヒドラジドを４ｇ／ｌ添加し、電流密度
１＾／ｄＩｌ！としたほかは、実施例１と同じ方法でめ
っきを行なった。Example 3 4 g/l of maleic acid hydrazide was added to a bath prepared by mixing and melting ^p-cp-x and 1-methyl-3-butylimidazolium bromide at a molar ratio of 2:1, and a current density of 1 ^/dIl! Plating was carried out in the same manner as in Example 1, except for the following.
これにより、緻密で光沢のあるアルミニウム皮膜を得た
。めっき重量は、９０■／ｄｍ”であり、光沢度は３７
０グロスであった。As a result, a dense and glossy aluminum film was obtained. The plating weight is 90μ/dm" and the gloss is 37
It was 0 gross.
実施例４
ＡｆＩＣｆｓとＮ−ブチルイミダゾリウムブロマイドを
２：ｌのモル比で混合溶融してなる浴に、プロパギルア
ルコール２ｇ／ｌ、０−カルボキシベンズアルデヒド４
ｇ／ｌを添加し、電流密度ＩＡ／ｄｍ”としたほかは、
実施例１と同じ方法でめっきを行なった。Example 4 In a bath prepared by mixing and melting AfICfs and N-butylimidazolium bromide at a molar ratio of 2:l, 2 g/l of propargyl alcohol and 4 g/l of 0-carboxybenzaldehyde were added.
g/l was added to make the current density IA/dm''.
Plating was performed in the same manner as in Example 1.
これにより、密着性の良い緻密で光沢のあるアルミニウ
ム皮膜を得た。めっき重量は９０■／ｄＩｌｌ！であり
、光沢度は３００グロスであった。As a result, a dense and glossy aluminum film with good adhesion was obtained. Plating weight is 90■/dIll! The gloss level was 300 gloss.
実施例５
ＡＩＣｌｍと１−メチル−３−ブチルイミダゾリウムブ
ロマイドを２：ｌのモル比に混合溶融してなる浴に、ベ
ンズアルデヒド２．５ ｇ ／ ｌを添加し電流密度２
Ａ／ｄｍ”としたほがは、実施例１と同じ方法でめっ
きを行った。Example 5 2.5 g/l of benzaldehyde was added to a bath prepared by mixing and melting AIClm and 1-methyl-3-butylimidazolium bromide at a molar ratio of 2:l, and the current density was 2.
A/dm'' was plated in the same manner as in Example 1.
これにより、緻密で光沢のあるアルミニウム皮膜を得た
。めっき重量は２００■／ ｄ ｍ Ｚであり、光沢度
は４８０グロスであった。As a result, a dense and glossy aluminum film was obtained. The plating weight was 200 cm/dmZ, and the gloss was 480 gloss.
実施例６
Ａｊ２Ｃ！、と１−メチル−３−ブチルイミダゾリウム
ブロマイドを２＝１のモル比に混合溶融してなる浴に、
ベンズアルデヒド２ｇ／ｌ、マレイン酸ヒドラジン２
ｇ／Ｉｔ添加し、Ｉ Ａ／ｄａ＋” 、２Ａ／ｄｍ”
の２とおりの電流密度としたほかは、実施例１と同じ方
法でめっきを行なった。Example 6 Aj2C! , and 1-methyl-3-butylimidazolium bromide in a molar ratio of 2=1,
Benzaldehyde 2g/l, hydrazine maleate 2
g/It added, I A/da+", 2A/dm"
Plating was carried out in the same manner as in Example 1, except that two current densities were used.
これにより緻密で光沢のあるアルミニウム皮膜を得た。As a result, a dense and glossy aluminum film was obtained.
めっき重量はそれぞれ９０，１９０■／ｄａｄ”であり
、光沢度はそれぞれ３８５．４６５グロスであった。The plating weight was 90,190 ./dad'', and the gloss was 385.465 gloss.
実施例７
ＡｊＩＣ／ｌ、と１−メチル−３−ブチルイミダゾリウ
ムブロマイドを２二１のモル比に混合溶融してなる浴に
、プロパギルアルコール２ｇ／ｊ２添加し、２ Ａ／ｄ
ｍ”としたほかは、実施例１と同じ方法で、めっきを行
なった。Example 7 To a bath prepared by mixing and melting AjIC/l and 1-methyl-3-butylimidazolium bromide at a molar ratio of 221, 2 g/j2 of propargyl alcohol was added, and 2 A/d was added.
Plating was performed in the same manner as in Example 1, except that the thickness was changed to m''.
これにより、緻密で光沢のあるアルミニウム皮膜を得た
。めっき重量は１９０■／ｄｍ２であり、光沢度は４０
０グロスであった。As a result, a dense and glossy aluminum film was obtained. The plating weight is 190■/dm2, and the gloss level is 40
It was 0 gross.
実施例８
ＡＩＣｆ３とブチルピリジニウムクロライドを２：１の
モル比に混合溶融してなる浴に、ピリジン３−スＪＬ／
ホン酸６ ｇ／ｌを添加し、３ Ａ／ｄｍ”で１０分間
としてほかは、実施例１と同じ方法でめっきを行なった
。Example 8 Pyridine 3-su JL/
Plating was carried out in the same manner as in Example 1, except that 6 g/l of fonic acid was added and 3 A/dm'' for 10 minutes.
めっき重量は１４５■／ｄｍ”であり、光沢度は２００
グロスを示した。The plating weight is 145■/dm" and the gloss is 200
Showed gross.
実施例９
ＡｊＩＣＩｌｚとＮ−ブチルイミダゾリウムブロマイド
を２：１のモル比に混合溶融してなる浴に、ベンズアル
デヒド２ｇ／ｌ、トリブロモアセトアルデヒド３ ｇ／
ｆ、スルホレン３ｇ／ｆを添加し、２ Ａ／ｄｍ”とし
たほかは、実施例１と同じ方法でめっきを行なった。Example 9 2 g/l of benzaldehyde and 3 g/l of tribromoacetaldehyde were added to a bath prepared by mixing and melting AjICIlz and N-butylimidazolium bromide at a molar ratio of 2:1.
Plating was carried out in the same manner as in Example 1, except that 3 g/f of sulfolene was added to give an amount of 2 A/dm''.
これにより、緻密で光沢のあるアルミニウム皮膜が得ら
れた。めっき重量は１９０■／ ｄ ｍ ”であり、光
沢度は４５０グロスであった。As a result, a dense and shiny aluminum film was obtained. The plating weight was 190 cm/dm'' and the gloss was 450 gloss.
実施例１０
ＡｌＣ１，３と１−メチル−３−ブチルイミダゾリウム
を２：１のモル比に混合してなる浴に、ベンズアルデヒ
ド２ｇ／ｌ、Ｏ−スルホベンズイミド０．８ｇ／ｆを添
加し、電流密度ＩＡ／ｄｍ”とした他は実施例１と同じ
方法でめっきを行なった。Example 10 2 g/l of benzaldehyde and 0.8 g/f of O-sulfobenzimide were added to a bath formed by mixing AlC1,3 and 1-methyl-3-butylimidazolium in a molar ratio of 2:1, Plating was carried out in the same manner as in Example 1 except that the current density was changed to IA/dm''.
これにより、緻密で光沢のあるアルミニウムめっき皮膜
を得た。めっき重量は９０■／ｄｍ”であり、光沢度は
１２０グロスであった。As a result, a dense and glossy aluminum plating film was obtained. The plating weight was 90 μ/dm'' and the gloss was 120 gloss.
比較例Ｉ
ＡｆＣｊ２ｚとブチルピリジニウムクロライドとを２：
１のモル比に混合溶融してなるめっき浴としたほかは、
実施例１と同し方法でめっきを行なった。Comparative Example I AfCj2z and butylpyridinium chloride 2:
In addition to using a plating bath formed by mixing and melting at a molar ratio of 1,
Plating was performed in the same manner as in Example 1.
これにより得られたアルミニウムめっき皮膜は白色無光
沢を示し、結晶も粗かった。このときのめっき重量は２
００■／ｄｍ”であり、光沢度は２グロスであった。The aluminum plating film thus obtained was white and matte, and the crystals were coarse. The plating weight at this time is 2
00■/dm'', and the gloss level was 2 gloss.
比較例２
ＡｆＩＣｊ！３と１−メチル−３−ブチルイミダゾリウ
ムブロマイドとを２：１のモル比で混合溶融してなる浴
としたほかは、実施例１と同じ方法でめっきを行なった
。Comparative example 2 AfICj! Plating was carried out in the same manner as in Example 1, except that a bath was prepared by mixing and melting 3 and 1-methyl-3-butylimidazolium bromide at a molar ratio of 2:1.
これにより得られたアルミニウムめっき皮膜は白色無光
沢を示し、結晶も粗かった。このときのめっき重量は２
００■／ｄｎ＋”であり、光沢度は３グロスであった。The aluminum plating film thus obtained was white and matte, and the crystals were coarse. The plating weight at this time is 2
00■/dn+", and the gloss level was 3 gloss.
実施例と比較例の組成及び結果を第１表にまとめた。The compositions and results of Examples and Comparative Examples are summarized in Table 1.
第 １
表
注）４茗漁イ阜１，４こＵマ２−８箔室就ｆ７１Ｊ’７
”７°“°゛Table 1 Note) 4 Myo fishing I 1, 4 Koma 2-8 Haku chamber f71J'7
”7°”°゛
第１図は、本発明のアルミニウムめっき浴を用いて得ら
れためっき（実施例１）表面の金属組織を示す電子顕微
鏡写真（１、０００倍）であり、第２図は、比較用のめ
っき浴を用いて得られためっき（比較例２）表面の金属
組織を示す電子顕微鏡写真（１，０００倍）である。
第１図
第２図Figure 1 is an electron micrograph (1,000x magnification) showing the metal structure of the surface of the plating (Example 1) obtained using the aluminum plating bath of the present invention, and Figure 2 is a photograph of the plating for comparison. This is an electron micrograph (1,000x magnification) showing the metal structure of the surface of the plating (Comparative Example 2) obtained using the bath. Figure 1 Figure 2
Claims (6)
ルキルピリジニウムハロゲン化物、ジアルキルピリジニ
ウムハロゲン化物、１−アルキルイミダゾリウムハロゲ
ン化物及び１，３−ジアルキルイミダゾリウムハロゲン
化物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物と
を、１：１〜３：１のモル比で混合溶融してなるめっき
浴に対して、カルボニル化合物、アミド化合物、ヒドラ
ジド化合物、アセチレンアルコール化合物及び窒素複素
環化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合
物を０．１〜１５ｇ／ｌ含有することを特徴とする電気
アルミニウムめっき浴。(1) (A) aluminum halide and (B) at least one member selected from the group consisting of monoalkylpyridinium halide, dialkylpyridinium halide, 1-alkylimidazolium halide, and 1,3-dialkylimidazolium halide selected from the group consisting of carbonyl compounds, amide compounds, hydrazide compounds, acetylene alcohol compounds, and nitrogen heterocyclic compounds. An electrolytic aluminum plating bath characterized in that it contains 0.1 to 15 g/l of at least one compound.
クトンである請求項（１）記載の電気アルミニウムめっ
き浴。(2) The electrolytic aluminum plating bath according to claim (1), wherein the carbonyl compound is an aldehyde, ketone or lactone.
ある請求項（２）記載の電気アルミニウムめっき浴。(3) The electrolytic aluminum plating bath according to claim (2), wherein the amide compound is an amide, an imide, or a lactam.
〜１０ｇ／ｌ含有する請求項（１）〜（３）のいずれか
１項記載の電気アルミニウムめっき浴。(4) 0.5 aromatic hydrocarbons having a carboxyl group
The electrolytic aluminum plating bath according to any one of claims (1) to (3), containing ~10 g/l.
有する請求項（１）〜（３）のいずれか１項記載の電気
アルミニウムめっき浴。(5) The electrolytic aluminum plating bath according to any one of claims (1) to (3), containing 0.5 to 10 g/l of unsaturated cyclosulfonic acid.
２ｇ／ｌ含有する請求項（１）〜（３）のいずれか１項
記載の電気アルミニウムめっき浴。(6) Sulfamide and/or sulfimide from 0.2 to
The electrolytic aluminum plating bath according to any one of claims (1) to (3), containing 2 g/l.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18496590A JPH0472088A (en) | 1990-07-12 | 1990-07-12 | Aluminum plating bath |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18496590A JPH0472088A (en) | 1990-07-12 | 1990-07-12 | Aluminum plating bath |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0472088A true JPH0472088A (en) | 1992-03-06 |
Family
ID=16162451
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18496590A Pending JPH0472088A (en) | 1990-07-12 | 1990-07-12 | Aluminum plating bath |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0472088A (en) |
-
1990
- 1990-07-12 JP JP18496590A patent/JPH0472088A/en active Pending
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