JPH0466895A - 6自由度微動ステージ - Google Patents

6自由度微動ステージ

Info

Publication number
JPH0466895A
JPH0466895A JP2179180A JP17918090A JPH0466895A JP H0466895 A JPH0466895 A JP H0466895A JP 2179180 A JP2179180 A JP 2179180A JP 17918090 A JP17918090 A JP 17918090A JP H0466895 A JPH0466895 A JP H0466895A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
actuator
actuators
freedom
displacement
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2179180A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshiyuki Tomita
良幸 冨田
Fumiaki Sato
文昭 佐藤
Kazuhiro Ito
一博 伊藤
Yasushi Kobarigawa
靖 小梁川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Heavy Industries Ltd filed Critical Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority to JP2179180A priority Critical patent/JPH0466895A/ja
Publication of JPH0466895A publication Critical patent/JPH0466895A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はステージ装置に関し、特に高精度、多自由度の
ステージ装置に間する。
「従来の技術」 従来、多自由度のステージ装置の多くは低自由度のステ
ージの積み重ねによって構成されていた。
たとえば、Xステージの上にYステージを載せ、さらに
その上にθ2ステージを載せてXYθ2ステージ装置を
構成する。これに、さらにZ−θX−θyの自由度を追
加する時は、たとえばXステージを3ケ所で2方向のア
クチュエータで保持する。
これら各ステージの駆動は、たとえば、DCモータとポ
ールネジを組合わせたアクチュエータによって行なわれ
る。
近年、たとえば半導体装置の分野において集積度の向上
と共に益々高い加工精度が要求されている。たとえば、
半導体露光装置のステージは、約0.1μm以上の精度
が要求されるようになった。
このような高精度のステージを、上述のような構成のス
テージで実現することは極で難しい、動力伝達機構を用
いると、力りやバックラッシュを避けることが難しく、
約0.1μmが精度限界となってしまう。
たとえば、0.01μm以上という超高精度を実現する
には、たとえば、粗動ステージの上に微動ステージを重
h−m動ステージの精度を向上することか必要となる。
このような微動ステージとしても、上述のような積み上
げ式の構成を用いると、各段の間にバックラッシュか生
じたり、摩擦による歪が生じたりする。
微動ステージとして高精度を達成しゃすい構成の1つと
して、ステージに直接多数のアクチュエータを結合する
パラレルリンク式ステージかある。
たとえば、十分剛性の高い1つのステージに6つのアク
チュエータを結合し、6自由度の運動を行なうものであ
る。各アクチュエータを直接ステージと結合することに
より、ステージの運動をモニタし、各アクチュエータに
フィードバックすることによって、ステージの位置を高
精度に制御することかできる6 ε発明が解決しようとする課題] しかしながら、1つのステージを複数のアクチュエータ
で駆動する場合、自由度間の干渉が問題となる。たとえ
ば、ステージをX方向に駆動した時、ステージのY方向
にも変位してしまうという問題である。X方向の駆動で
あるから、X方向位置のみをモニタし、X方向アクチュ
エータにフィードバックをしていても、Y方向の変位な
いし振動はなかなか滅哀しないこともある。このような
干渉は低周波領域では、制御的手段により、それを補正
することは容易であるなめ、さほど問題ではないか、高
周波領域になるにしたかって問題となり、ステージ自体
の安定化か困難となり、精度劣化につながるようになる
。ステージを高速で移動しようとすると、高周波領域を
用いることを避ける訳にはいかず、多モード間の干渉を
解決する必要か生じる。 本発明の目的は、高応答、高
精度な多自由度微動ステージを提供することである。
「課題を解決するための手段] 本発明は、多自由度ステージ装置の振動モード間の干渉
を低減する。
本発明のステージは、6自由度のステージ部材に6組の
アクチュエータを直接結合して駆動する6自由度微動ス
テージであって、各アクチュエータは、1軸方向の削性
が窩く、他の方向には弾性変形が可能なヒンジを介して
ステージ部材に結合され、ステージ部材の慣性主軸方向
をX、Y、Zとした時、1つのアクチュエータかX方向
の変位を(α1、β1、γ1)に配置されたヒンジを介
してステージ部材に与え、2つのアクチュエータかY方
向の変位を(α2、β2、γ2)、−(α3、β3、γ
3)に配置されなヒンジを介してステージ部材に与え、
3つのアクチュエータか2方向の変位を(α4−β4、
γ4)、(α5、β5、γ5)、(α6、β6、γ6)
に配置されたヒンジを介してステージ部材に与え、 γ1=γ2=γ3=0 β1=0 α2+α3=0 (α5+α6)(β5+β6) (α6β5+α5β6)/2 を満足する。
F作用〕 1つのステージに多数のアクチュエータを直接結合し、
多自由度の運動をさせるために、各アクチュエータは1
軸方向に剛性が高く、他の方向には弾性変形が可能なヒ
ンジを有する。このような構成とすることにより、1つ
のステージに多数のアクチュエータを結合しても、各ア
クチュエータはそれぞれ所定の駆動を行なうことか可能
となる。
さらに、各アクチュエータの特性を、変位に比例する弾
性特性と、変位の時間微分に比例する減衰特性とによっ
て近似し、アクチュエータ変位とステージ変位との干渉
を低減する条件を求めることにより得られた上述の条件
を満足するようにすると、各自由度についての運動方程
式かそれぞれ独立のものとなり、干渉か防止される。
[実施例] 第1図に本発明によるステージのモデルを示す。
十分同性の高いステージ部材10は、たとえば、図示の
ように直方体状の形状を有する。このステージ部材の重
心Gを図示のようにとり、この重心を原点として座標形
XYZを慣性主軸の方向にとる。このステージ部材lを
駆動するために6つのアクチュエータ1〜6か設けられ
、それぞれ、Pl (α1、β1、γ1)ゝP6(α6
、β6、γ6)の点でステージ部材10に結合されてい
る。
Xアクチュエータ1は、結合点P1でX方向の力をステ
ージ部材10に作用させる。2つのYアクチュエータ2
.3は、それぞれ点P2、P3でY方向の力をステージ
部材10に作用させる。′iな、3つのZアクチュエー
タ4.5.6は、それぞれ点Pa−Ps、P6て゛ステ
ージ10にX方向の力を作用させる。これらの6つの力
により、ステージ部材10はx−y、z、φX、φy、
φZの6自由度の変位を行なう。
各アクチュエータの特性を、第2図(A)に示すように
、変位発生源11にバネ13とダッシュボット14との
並列接続系か結合された構造で近似する。すなわち、ア
クチュエータが与える力は、バネ13の変位に比例する
量と、ダッシュボット14における変位の時間微分に比
例する量との和になる。
このようなアクチュエータモデルは、たとえば第2図(
B)に示すような構造例で実現される。
すなわち、積層ピエゾ素子16の両端に球面ヒンジ18
.19が結合され、積層ピエゾ素子16の与える軸方向
の変位を球面ヒンジ両側に伝達する。
球面ヒンジ18.19は、両側から次第に半径を絞り込
んだ構造を有し、軸方向に高い剛性を有するか、それに
直交する方向、あるいはヒンジ中心に対する曲げには弾
性変形か可能なヒンジである。
第1図のステージ系の運動方程式を以下のように表わす
IM x+ ID x + IK X = IK JT
 IA IE + ID JT IA +aここで、X
はステージ部材10中心の並進、回転変位ベクトルであ
り、 X= (x+y+z+dzx、φy1φ2)で表わされ
る。また、ドツトは時間微分を表わす。
IEは、アクチュエータへの入力ベクトルを表わし、l
E= (e 1 、e 2−e 6 )で表わされる。
 IMは、ステージ部材10の慣性マトリクスであり、 1M=d i  ag  (m、m、m、  I  x
、 I、y、Iz)て表わされる。:iな、IDはアク
チュエータとステージ系の減衰マトリクスであり、IK
はアクチュエータとステージ系の剛性マトリクスであり
、Jはアクチュエータ変位量とステージ変位量のヤコし
アンマトリクスであり、IAは単位入力当りのアクチュ
エータ変位量のゲインマトリクスである。
ここで各アクチュエータ1〜6の機械特性である剛性お
よび減衰係数が、全アクチュエータについてそれぞれ等
しいとすると、IKおよびIDはそれぞれ次式によって
表わされる。
1K = k・IR・・・(2) lD=d・IR・・・(3) ここでkはアクチュエータ剛性、dはアクチュエータ減
衰係数である。
IRは、アクチュエータの配置位置(駆動点座標)によ
って定まるマトリクスであり、式(4)で表わされる。
なお、各アクチュエータの作用点Pi  い=1〜6)
の座標を(α1、βi、γ1)とすると、式(4)の中
の係数RI」は、次のように表わされる。
R42=−(γ2+γ3) R43−β4士β5+β6 R51=γ 1 R53=−(αd十αδ十α6) R54=−(α4β4+α5β5+α6β6)R61=
−β 1 R62=α2+α3 R64=−(α2γ2+α3γ3 ) R65=−β 1 γ 1 R44=γ22+γ32+β42+β52+β 62 R55−γ12+α42+α52+α62R66−β1
2+α22+α32 式(1)において、ヤコビアンマトリクスJは一般に非
対角行列である。このため、各アクチュエータ変位量と
ステージ変位量間には干渉か存在する。すなわち、アク
チュエータが与えた変位と異なる自由度に変位か生じる
。このような干渉を避けるなめに、まず次のようにアク
チュエータへの入力を制御する。
1E−IA−IJr−1y、r          −
(5)ここで、xrはoxyz座標系の目標変位量であ
る。式(5)を式(1)に代入すると、IM 父+ I
D x + IK X = IKJr IAIA−I Jr −I X r+ 
ID JT IA IA−1JT −’ x r=lK
Xr+lDgr ・・・ (6) となる。
ステージの運動は広い周波数領域において、Xを各成分
ごとに独立に駆動制御できることか望ましい0式(6)
の定常解は、時間微分を含まない項として、 IKX=lKX r 、 X=X r        
−(7)を含む。時間微分かOとみなせる低い周波数領
域では、上記の式を満足するように設定すればよい。
しかしながら、高い周波数領域ではこ゛の条件のみでは
不十分である。すなわち、速い応答を行なう場合には、
変位の時間微分が無視できない量となる。この時、慣性
の存在によって振動モードの影響がでるか、各運動方向
(x−y−z、φX、φy、φZ)間に干渉か存在する
と、その干渉を含めて補償制御することは非常に困誼と
なる。そこで各自由度間に干渉か生じない条件を求める
式(6)において、IMは対角マトリクスであり、Kお
よびIDは式(2)〜(4)により表わされる。
すなわち、非対角項はIRの非対角項を考慮すればよい
、非対角項をOとする必要十分条件を求めると、以下の
ようになる。
γ1−γ2−γ3−0          ・・・ (
8)β 1−0                  
 ・・・ (9)α2+α3=0          
・・・(10)(α5+α6) (β5+β6 ) (α6β5+α5β6)/2   ・・・ (11)非
対角項かOとなると、マトリクスで表記した式が簡単に
表わせ、式(6)は次のような独立した方程式に分離で
きる。
mM+d 1大十に1x=kixr+dI大rm9±d
2y+に2y=に2yr+d2yrm2+da之+ka
z=に3zr十d3之rIxix+d4#x+に4φx
=に4φxr+d4るxr I yiy+d5 #y+ksφ3’=に5φyr+a
5委yr Iziz+dsiz+kaφz=kaφzr+a6ゐz
r ・・・ (12) すなわち、第1図に示す構成において、図中下方に示す
4つの条件を満足する時1図示の6つのアクチュエータ
はそれぞれ干渉のない独立したアクチュエータとして取
り扱うことかできる。
上述の式(8)は、XアクチュエータおよびYアクチュ
エータのそれぞれのZ座標か0であることを示し、3つ
のアクチュエータか重心と同一のX7面に配置されるこ
とを表わす、また、式(9)はXアクチュエータのY座
標か0であることを表わし、Xアクチュエータは慣性座
標のY軸と同一軸上に配置されることを示す、また、式
(10)は、2つのYアクチュエータのX座標が符号か
逆で大きさか等しいことを示し、2つのYアクチュエー
タは慣性主軸のY軸に対して対称位置に配置されること
を示す。
式(11)は、上述の3つの式と比べ、幾何学的な意味
を簡明に表現することはできないか、この関係を満足す
る配置の一例は、第3図に示す実施例のように、3つの
Xアクチュエータを正三角形の頂点に配置する構成であ
る。
第3図は本発明の実施例によるステージ装置を示す斜視
図である。第4図は、第3図の微動ステージ装置のY方
向からの側面図を示す。
ステージ部材27は鉄等で形成され、十分高い剛性を有
する。このステージ部材21の重心の位置を原点とし、
慣性主軸の方向にXYZ軸をとる。
Y軸に沿ってXアクチュエータ21か配置され、ステー
ジ部材21と点P1で結合する0図示の構成においては
、ステージ部材21に取付けた固定部材28に球面ヒン
ジの一端か結合されている。
アクチュエータ21は両端に球面ヒンジを有する。
この固定部材28に一方のYアクチュエータ23か結合
されている。Yアクチュエータ23も両端に球面ヒンジ
を有し、その一方の球面ヒンジの中心点P3か結合部材
28側に配置されている。
Y軸に対照的な位置に、固定部材28と対照的な固定部
材29か配置され、この固定部材29にアクチュエータ
22の球面ヒンジの中心点P2が結合されている。また
、ステージ部材27の下面において、原点0の射影を重
心に配置した正三角形か想定され、その頂点に3つのX
アクチュエータ24.25.26一端の球面ヒンジが結
合される。
すなわち、球面ヒンジの中心点Pa−P5、P6は、Z
軸を重心に配置した正三角形の頂点に配置される。
ここで用いた6つのアクチュエータはそれぞれ第2図(
B)に示すような、積層ピエゾ素子両端に球面ヒンジを
設けたもので構成できる。
第4図は、第3図の微動ステージ装置のY方向からの側
面図を示す。
一方向に伸縮するアクチュエータの両端にその伸び方向
以外の同性の低い構造を設けると、各アクチュエータの
伸び量の組合わせによってステージの変位量か決定され
る。たとえば、第3図および第4図に示す構成において
、Xアクチュエータ21の伸縮により、ステージ27は
X軸方向に並進運動を行なう、また、2つのYアクチュ
エータ22.23を同一方向に同一量伸縮させることに
よって、Y軸方向に並進させることができる。また、2
つのYアクチュエータを逆方向に伸縮させると、Z軸回
りの回転運動θZを行なう、また、3つのXアクチュエ
ータ24.25.26を同一方向に同一量伸縮させるこ
とによって、Z方向並進運動を行なうことかできる。ま
た、Xアクチュエータを適当な組合わせによって、異な
る量駆動すると−X軸回り、Y軸回りの回転運動を行な
うことかできる。
ステージ部材27(およびそれに固定された部品を含む
)の重心Gと、各アクチュエータの駆動点P1〜P6を
前述の条件に適合するように選択することにより、振動
モード間の干渉がなくなり、各自由度について独立の運
動を行なわせることかできる。このため、各自由度につ
いてモニタを行ないフィードバックすることにより、有
効な制御を行なうことができる。このようにして高精度
、高応答のステージ装置か得られる。各自由度ごとに独
立の制御とすることができるため、制御装置全体の構成
か簡単になり、かつ精度、応答性を確保することができ
る。
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれ
らに制限されるものではない、たとえば、半導体製遣装
置のみでなく、工作機械等、広く精度を要するステージ
装置に適用することかできる。  を概略的に示す斜視
図、その他、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能 
  第4図は、第3図のステージ装置をY方向がらなこ
とは当業者に自明であろう、          見た
時の側面図である。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、ステージ装置に
直接6自由度のアクチュエータを結合したパラレルリン
ク式微動ステージにおいて、各振動モード間の干渉を低
減することかできる。
干渉の低減により、系全体の安定度が増大し、精度を向
上することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明によるステージのモデルを示す概略斜
視図、 第2図(A)、(B)は、アクチュエータを説明するた
めの図であり、第2図(A)はアクチュエータの機械的
モデルを示す概略図、第2図(B)は構造例を示す概略
図、 第3図は、本発明の実施例によるステージ装置図におい
て、 1〜6 18.19 21〜26 28.29 アクチュエータ ステージ部材 変位発生源 バネ ダッシュポット 積層ピエゾ素子 球面ヒンジ アクチュエータ ステージ部材 固定部材 ヒンジの中心位置 特許出願人  住友重機械工業株式会社復代理人 弁理
士 高橋 敬四部 F=kx+d (dx/dt) (A)モデル Pi(αl、β1γ1) γl:γ22γ3=0 β1−0 ’2+t!コ=O (α5+α6)・(β5+β6)−(α6β5+α5β
6)/21〜6;アクチュエータ  10:ステージ部
材本発明によるステージのモデル 第1図 <Be1t造例 アクチュエータ 第2図 第3図のステージ装置の側面図 第4図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)、6自由度のステージ部材に6組のアクチュエー
    タを直接結合して駆動する6自由度微動ステージであっ
    て、 各アクチュエータは、1軸方向の剛性が高く、他の方向
    には弾性変形が可能なヒンジを介してステージ部材に結
    合され、 ステージ部材の慣性主軸方向をX、Y、Zとした時、1
    つのアクチュエータがX方向の変位を(α_1、β_1
    、γ_1)に配置されたヒンジを介してステージ部材に
    与え、2つのアクチュエータがY方向の変位を(α_2
    、β_2、γ_2)、(α_3、β_3、γ_3)に配
    置されたヒンジを介してステージ部材に与え、3つのア
    クチュエータがZ方向の変位を(α_4、β_4、γ_
    4)、(α_5、β_5、γ_5)、(α_6、β_6
    、γ_6)に配置されたヒンジを介してステージ部材に
    与え、 γ_1=γ_2=γ_3=0 β_1=0 α_2+α_3=0 (α_5+α_6)(β_5+β_6) =(α_6β_5+α_5β_6)/2 を満足する6自由度微動ステージ装置。
JP2179180A 1990-07-06 1990-07-06 6自由度微動ステージ Pending JPH0466895A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2179180A JPH0466895A (ja) 1990-07-06 1990-07-06 6自由度微動ステージ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2179180A JPH0466895A (ja) 1990-07-06 1990-07-06 6自由度微動ステージ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0466895A true JPH0466895A (ja) 1992-03-03

Family

ID=16061339

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2179180A Pending JPH0466895A (ja) 1990-07-06 1990-07-06 6自由度微動ステージ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0466895A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002517910A (ja) * 1998-06-09 2002-06-18 ヘッセ・ウント・クニップス・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング 部品を動かす送りユニット
JP2006024919A (ja) * 2004-06-14 2006-01-26 Asml Netherlands Bv 位置決め装置及びデバイス製造方法
JP2009076521A (ja) * 2007-09-19 2009-04-09 Yaskawa Electric Corp 精密微動位置決め装置およびそれを備えた微動位置決めステージ、露光装置、検査装置
JPWO2014208634A1 (ja) * 2013-06-28 2017-02-23 株式会社ニコン 移動体装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法
JP2019179250A (ja) * 2010-09-07 2019-10-17 株式会社ニコン 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0134746B2 (ja) * 1983-01-10 1989-07-20 Hitachi Ltd
JPH029550A (ja) * 1988-12-21 1990-01-12 Hitachi Ltd 6自由度微動ステージの駆動装置
JPH0222594A (ja) * 1988-07-11 1990-01-25 Mitsubishi Kasei Corp 多自由度微動装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0134746B2 (ja) * 1983-01-10 1989-07-20 Hitachi Ltd
JPH0222594A (ja) * 1988-07-11 1990-01-25 Mitsubishi Kasei Corp 多自由度微動装置
JPH029550A (ja) * 1988-12-21 1990-01-12 Hitachi Ltd 6自由度微動ステージの駆動装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002517910A (ja) * 1998-06-09 2002-06-18 ヘッセ・ウント・クニップス・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング 部品を動かす送りユニット
JP2006024919A (ja) * 2004-06-14 2006-01-26 Asml Netherlands Bv 位置決め装置及びデバイス製造方法
JP2009076521A (ja) * 2007-09-19 2009-04-09 Yaskawa Electric Corp 精密微動位置決め装置およびそれを備えた微動位置決めステージ、露光装置、検査装置
JP2019179250A (ja) * 2010-09-07 2019-10-17 株式会社ニコン 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JPWO2014208634A1 (ja) * 2013-06-28 2017-02-23 株式会社ニコン 移動体装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6022005A (en) Semi-active vibration isolator and fine positioning mount
US7898204B2 (en) High-speed substrate manipulator
US7075624B2 (en) Positioning apparatus and method for manufacturing same
KR20030076275A (ko) 케이블 항력이 스테이지에 작용하는 것을 방지할 수 있는위치결정 시스템과 스테이지 시스템, 및 케이블 항력이스테이지에 작용하는 것을 방지하는 방법
KR100766059B1 (ko) 리소그래피 시스템에서 반작용 부하를 관리하기 위한 시스템 및 장치
US6484602B1 (en) Six-degree of freedom micro-positioner
Kim et al. Dual servo stage without mechanical coupling for process of manufacture and inspection of flat panel displays via modular design approach
KR20130022253A (ko) 초정밀 이송 시스템
JPH0466895A (ja) 6自由度微動ステージ
US9222544B2 (en) Device for mechanical vibration decoupling
CN112984044B (zh) 精密设备搭载用除振装置
TW200427546A (en) Minute movement stage device
JP3159023B2 (ja) 精密除振装置
JP2001193879A (ja) 除振継ぎ手
JP3013741B2 (ja) 振動軽減装置
JPH06262583A (ja) マニピュレータ用振動防止装置
US6533256B1 (en) High precision vibration damping system
JP2000012435A (ja) 除振装置および露光装置
KR102512821B1 (ko) 면외 3자유도 정밀 모션 구현을 위한 유연 기구
JP2886053B2 (ja) アクティブ除振装置およびその制御方法
JPS5989849A (ja) 振動制御装置
Ogawa et al. Development of Precise Control System for Compact Magnetic-levitation Stage System
Chen et al. Design of a Voice Coil Motor-Driven Multi-DOF Parallel Micropositioning Stage
JP2002367553A (ja) 試料ステージ
JP5430916B2 (ja) 反力処理機構、その反力処理機構を備えたステージ装置、及びそのステージ装置を備えた半導体検査装置